JPH0695338B2 - パターン露光装置用データ作成方法 - Google Patents
パターン露光装置用データ作成方法Info
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- JPH0695338B2 JPH0695338B2 JP25866788A JP25866788A JPH0695338B2 JP H0695338 B2 JPH0695338 B2 JP H0695338B2 JP 25866788 A JP25866788 A JP 25866788A JP 25866788 A JP25866788 A JP 25866788A JP H0695338 B2 JPH0695338 B2 JP H0695338B2
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- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 11
- 230000003252 repetitive effect Effects 0.000 claims description 7
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 6
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 5
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 14
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000005192 partition Methods 0.000 description 2
Landscapes
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は半導体基板等における半導体集積回路パターン
を形成するパターン露光装置用のデータ作成方法に関
し、特にビットマップ式パターンデータ作成方法に関す
る。
を形成するパターン露光装置用のデータ作成方法に関
し、特にビットマップ式パターンデータ作成方法に関す
る。
従来、この種のデータ作成方法は複数の繰り返しパター
ンに関係なく、一度ある種のフォーマット（例えば、Ca
lma GDS II Stream format）で中間データを作成した
後、パターン露光装置用データに変換している。すなわ
ち、繰り返しパターンがあってもこのパターンが展開さ
れてしまい、データ量が非常に大きくなり、変換処理時
間がかかっている。
ンに関係なく、一度ある種のフォーマット（例えば、Ca
lma GDS II Stream format）で中間データを作成した
後、パターン露光装置用データに変換している。すなわ
ち、繰り返しパターンがあってもこのパターンが展開さ
れてしまい、データ量が非常に大きくなり、変換処理時
間がかかっている。
第７図はかかる従来の一例を説明するためのデータフロ
ー図である。
ー図である。
第７図に示すように、ビットファイルデータはまずCAD/
CAMシステムによるアートワークデータ12に一旦変換さ
れ、あるフォーマットのアートワークデータとして時期
テープ13もしくは磁気ドラム14に記録される。次に、こ
の記録されたデータからパターン露光装置用データ５へ
の変換が行われる。しかる後、この変換データを磁気デ
ープ６あるいは磁気ドラム７に再び記憶し、最終的にパ
ターン露光装置８を駆動している。
CAMシステムによるアートワークデータ12に一旦変換さ
れ、あるフォーマットのアートワークデータとして時期
テープ13もしくは磁気ドラム14に記録される。次に、こ
の記録されたデータからパターン露光装置用データ５へ
の変換が行われる。しかる後、この変換データを磁気デ
ープ６あるいは磁気ドラム７に再び記憶し、最終的にパ
ターン露光装置８を駆動している。
かかるデータ変換を行うにあたり、同一形状の繰り返し
パターンがあっても、これをそのまま実行したり、ある
いはデータ作成を行ったりしている。
パターンがあっても、これをそのまま実行したり、ある
いはデータ作成を行ったりしている。
上述した従来のパターン露光装置用データ作成方法は、
例えば、ROMやRAMのような同一形状の繰り返しパターン
の場合も前述のビットファイルをもとに一つ一つある種
の中間アートワークデータを作成し、しかる後パターン
露光装置用データに変換している。従って、1MBitや4MB
itのROM/RAMのような大規模なメモリICにおいては、中
間アートワークデータのデータ量が大きくなり、且つパ
ターン露光装置用データへの変換時間が非常にかかると
いう欠点がある。
例えば、ROMやRAMのような同一形状の繰り返しパターン
の場合も前述のビットファイルをもとに一つ一つある種
の中間アートワークデータを作成し、しかる後パターン
露光装置用データに変換している。従って、1MBitや4MB
itのROM/RAMのような大規模なメモリICにおいては、中
間アートワークデータのデータ量が大きくなり、且つパ
ターン露光装置用データへの変換時間が非常にかかると
いう欠点がある。
本発明の目的は、中間アートワークデータのデータ量を
大幅に削減し、且つパターン露光装置用データへの変換
時間を大幅に縮小するパターン露光装置用データ作成方
法を提供することにある。
大幅に削減し、且つパターン露光装置用データへの変換
時間を大幅に縮小するパターン露光装置用データ作成方
法を提供することにある。
本発明のパターン露光装置用データ作成方法は、半導体
基板上あるいはマスク上に半導体集積回路のパターンを
形成するパターン露光装置の露光データ作成方法におい
て、基本セル単位で同一データを繰り返すROMあるいはR
AMのメモリデータに対し、データがあるかないかの情報
であるビットデータファイルと、繰り返しのパターン形
状を定義するカード，パターン繰返しの原点を定義する
カードおよびパターン繰り返しのアレイ形状を定義する
データカードとを入力してデータの変換を行なった後、
繰り返しパターン形状，新たな繰り返し基準座標，二次
元の繰り返し表現形状およびそれに相対するビットマッ
プデータを出力するように構成される。
基板上あるいはマスク上に半導体集積回路のパターンを
形成するパターン露光装置の露光データ作成方法におい
て、基本セル単位で同一データを繰り返すROMあるいはR
AMのメモリデータに対し、データがあるかないかの情報
であるビットデータファイルと、繰り返しのパターン形
状を定義するカード，パターン繰返しの原点を定義する
カードおよびパターン繰り返しのアレイ形状を定義する
データカードとを入力してデータの変換を行なった後、
繰り返しパターン形状，新たな繰り返し基準座標，二次
元の繰り返し表現形状およびそれに相対するビットマッ
プデータを出力するように構成される。
次に、本発明の実施例について図面を参照して説明す
る。
る。
第１図は本発明の一実施例を説明するためのデータフロ
ー図である。
ー図である。
第１図に示すように、本実施例は二種類の情報を使用
し、一つの情報としては、ビットファイルデータがあ
る。これは基本図形が並べられたアレイのどのデータを
出力するかを順番に定義したものであり、１ビットが１
つのデータに対応する。すなわち、ビットオンの時にデ
ータを出力し、ビットオフの時にはデータを出力しない
ようにしている。
し、一つの情報としては、ビットファイルデータがあ
る。これは基本図形が並べられたアレイのどのデータを
出力するかを順番に定義したものであり、１ビットが１
つのデータに対応する。すなわち、ビットオンの時にデ
ータを出力し、ビットオフの時にはデータを出力しない
ようにしている。
また、一方もう一つの情報としては三つカードデータ２
〜４からなり、くり返しのパターン形状を定義するカー
ド（PATANカード）２とパターン形状の原点を定義する
カード（BASEカード）３とパターン形状のアレイ定義す
るカード（ARRAYカード）４とを有している。
〜４からなり、くり返しのパターン形状を定義するカー
ド（PATANカード）２とパターン形状の原点を定義する
カード（BASEカード）３とパターン形状のアレイ定義す
るカード（ARRAYカード）４とを有している。
次に、これらビットファイルデータ１とカードデータ２
〜４に基づいて作成されるパターン露光装置用データ５
はビットマップ形式のデータを想定している。すなわ
ち、パターンが形成される面の基準位置を示す座標X,Y
の各スタートアドレスと単位区画の間隔を示すピッチ情
報および作成された各区画でこれに対応するビット情報
とが必要になる。
〜４に基づいて作成されるパターン露光装置用データ５
はビットマップ形式のデータを想定している。すなわ
ち、パターンが形成される面の基準位置を示す座標X,Y
の各スタートアドレスと単位区画の間隔を示すピッチ情
報および作成された各区画でこれに対応するビット情報
とが必要になる。
以下、この詳細な動作について、第２図〜第６図を参照
して説明する。
して説明する。
第２図は第１図に示す入力データとしてビットファイル
データの構成図である。また、以下に示す第１表は三つ
のカードの入力データ、すなわち、PATANカード、BASE
カード、ARRAYカードのデータフォーマットを示してい
る。
データの構成図である。また、以下に示す第１表は三つ
のカードの入力データ、すなわち、PATANカード、BASE
カード、ARRAYカードのデータフォーマットを示してい
る。
第２図に示すように、このビットファイルデータ９はそ
の内容をわかりやすくするために番号をつけて表してい
る。すなわち、１がビットオンで あり、０がビットオフである。また、第１表のPATANカ
ードより繰り返しパターンの形状がわかりBASEカードよ
り基準セルの始点がわかる。一方、ARRAYカードとビッ
トファイルデータ９の両方からアレイの形状およびデー
タのオン，オフの状態がわかる。
の内容をわかりやすくするために番号をつけて表してい
る。すなわち、１がビットオンで あり、０がビットオフである。また、第１表のPATANカ
ードより繰り返しパターンの形状がわかりBASEカードよ
り基準セルの始点がわかる。一方、ARRAYカードとビッ
トファイルデータ９の両方からアレイの形状およびデー
タのオン，オフの状態がわかる。
第３図は第１図に示すPATANカードで定義されたパター
ンデータ（基本セル）の座標位置図であり、第４図は第
１表および第２図で定義された基本セルの配列図であ
る。
ンデータ（基本セル）の座標位置図であり、第４図は第
１表および第２図で定義された基本セルの配列図であ
る。
第３図及び第４図に示すように、これらから上述した繰
り返しパターンの形状と、基本セルの始点とアレイの形
状およびデータのオン，オフ状態とがわかる。すなわ
ち、第４図において、Δの部分はピッチを固定するため
に加えたダミービットであり、Ｆは１を示している。
り返しパターンの形状と、基本セルの始点とアレイの形
状およびデータのオン，オフ状態とがわかる。すなわ
ち、第４図において、Δの部分はピッチを固定するため
に加えたダミービットであり、Ｆは１を示している。
第５図は第１表および第２図より作成したビットマップ
の構成図である。
の構成図である。
すなわち、第５図は第４図に示すデータをビットマップ
データ10として表わしたものである。
データ10として表わしたものである。
第６図はビットマップデータフォーマットの構成図であ
る。
る。
すなわち、第６図に示すかかるフォーマット11は基本図
形，露光スタート位置，繰り返しピッチ，繰り返し回数
およびビットマップから構成されているが、このビット
マップ部分は第５図に示したビットマップデータ10をそ
のまま用いる。
形，露光スタート位置，繰り返しピッチ，繰り返し回数
およびビットマップから構成されているが、このビット
マップ部分は第５図に示したビットマップデータ10をそ
のまま用いる。
次に、ビットマップデータフォーマット上の繰り返し回
数（ａ）は座標x,yそれぞれの方向において次のように
求める。
数（ａ）は座標x,yそれぞれの方向において次のように
求める。
すなわち、ARRAYカード４の繰り返しピッチをRn、その
時の繰り返し数をtnとすると（０＜|R1|＜|R2|…）、第
１表の例ではＸ方向への繰り返し回数は、 となり、Ｙ方向へは２回である。
時の繰り返し数をtnとすると（０＜|R1|＜|R2|…）、第
１表の例ではＸ方向への繰り返し回数は、 となり、Ｙ方向へは２回である。
また、ビットマップデータフォーマット上の繰り返しピ
ッチは|R1|がとられる。
ッチは|R1|がとられる。
最後に露光スタート位置は全てのパターンデータ（ビッ
トオン，オフに関係無く）の左上座標のうち最小のＸ座
標とＹ座標となり、これが新たなくりかえし基準座標X,
Yとなる。
トオン，オフに関係無く）の左上座標のうち最小のＸ座
標とＹ座標となり、これが新たなくりかえし基準座標X,
Yとなる。
要するに、上述した実施例からも解るように、本発明は
データのオン・オフを定義するBitデータと、パターン
形状の定義カード，パターンの原点を定義するカードお
よびパターン形状のアレイ（並び）を定義するカードの
データとからパターン露光装置用データを直接作成する
ことができる。
データのオン・オフを定義するBitデータと、パターン
形状の定義カード，パターンの原点を定義するカードお
よびパターン形状のアレイ（並び）を定義するカードの
データとからパターン露光装置用データを直接作成する
ことができる。
以上説明したように、本発明のパターン露光装置用デー
タ作成方法は、コンピュータを使ってビットファイル及
び複数枚のカードとの入力により、パターン露光装置用
データを直接作成するので、中間アートワークデータも
必要なくなり、またパターン露光装置用データへの変換
時間も大幅に短縮されるという効果がある。従って、パ
ターン露光装置用データ作成の大幅なTAT短縮をはかる
ことができる。
タ作成方法は、コンピュータを使ってビットファイル及
び複数枚のカードとの入力により、パターン露光装置用
データを直接作成するので、中間アートワークデータも
必要なくなり、またパターン露光装置用データへの変換
時間も大幅に短縮されるという効果がある。従って、パ
ターン露光装置用データ作成の大幅なTAT短縮をはかる
ことができる。
第１図は本発明の一実施例を説明するためのデータフロ
ー図、第２図は第１図に示すビットファイルデータの構
成図、第３図は第１図に示すPATANカードで定義された
パターンデータ（基本セル）の座標位置図、第４図は第
１表および第２図で定義された基本セルの配列図、第５
図は同じく第１表および第２図より作成したビットマッ
プ構成図、第６図はビットマップデータフォーマットの
構成図、第７図は従来の一例を説明するためのデータフ
ロー図である。
ー図、第２図は第１図に示すビットファイルデータの構
成図、第３図は第１図に示すPATANカードで定義された
パターンデータ（基本セル）の座標位置図、第４図は第
１表および第２図で定義された基本セルの配列図、第５
図は同じく第１表および第２図より作成したビットマッ
プ構成図、第６図はビットマップデータフォーマットの
構成図、第７図は従来の一例を説明するためのデータフ
ロー図である。
Claims (1)
- 【請求項１】半導体基板上あるいはマスク上に半導体集
積回路のパターンを形成するパターン露光装置の露光デ
ータ作成方法において、基本セル単位で同一データを繰
り返すROMあるいはRAMのメモリデータに対し、データが
あるかないかの情報であるビットデータファイルと、繰
り返しのパターン形状を定義するカード，パターン繰返
しの原点を定義するカードおよびパターン繰り返しのア
レイ形状を定義するデータカードとを入力してデータの
変換を行なった後、繰り返しパターン形状，新たな繰り
返し基準座標，二次元の繰り返し表現形状およびそれに
相対するビットマップデータを出力することを特徴とす
るパターン露光装置用データ作成方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25866788A JPH0695338B2 (ja) | 1988-10-13 | 1988-10-13 | パターン露光装置用データ作成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25866788A JPH0695338B2 (ja) | 1988-10-13 | 1988-10-13 | パターン露光装置用データ作成方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02105259A JPH02105259A (ja) | 1990-04-17 |
| JPH0695338B2 true JPH0695338B2 (ja) | 1994-11-24 |
Family
ID=17323427
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP25866788A Expired - Fee Related JPH0695338B2 (ja) | 1988-10-13 | 1988-10-13 | パターン露光装置用データ作成方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0695338B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0486952A (ja) * | 1990-07-31 | 1992-03-19 | Nec Corp | 計算機援用設計装置 |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5644935A (en) * | 1979-09-18 | 1981-04-24 | Nec Corp | Graphic data selecting circuit |
| JPS6381571A (ja) * | 1986-09-25 | 1988-04-12 | Sony Corp | パタン作成装置に用いるデ−タ処理方法及びデ−タ処理装置 |
-
1988
- 1988-10-13 JP JP25866788A patent/JPH0695338B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH02105259A (ja) | 1990-04-17 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |