JPH0695399B2 - 光ディスク欠陥位置検索方法 - Google Patents
光ディスク欠陥位置検索方法Info
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- JPH0695399B2 JPH0695399B2 JP30079086A JP30079086A JPH0695399B2 JP H0695399 B2 JPH0695399 B2 JP H0695399B2 JP 30079086 A JP30079086 A JP 30079086A JP 30079086 A JP30079086 A JP 30079086A JP H0695399 B2 JPH0695399 B2 JP H0695399B2
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- JP
- Japan
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- defect
- optical
- optical disk
- optical system
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Links
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims description 42
- 230000007547 defect Effects 0.000 title claims description 37
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 11
- 230000005415 magnetization Effects 0.000 claims description 5
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 20
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 6
- 238000001000 micrograph Methods 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
Landscapes
- Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は、光ディスクの欠陥位置を検索する方法に関す
るものである。
るものである。
（従来の技術） 光ディスクの重要な性能の一つである欠陥発生率は、可
能な限り低いことが望まれる。従って、欠陥発生率を低
下するために欠陥発生原因を知る必要が有り、欠陥部分
を顕微鏡（光学顕微鏡や電子顕微鏡等）を用いて観察す
る事が重要な手段の一つになる。
能な限り低いことが望まれる。従って、欠陥発生率を低
下するために欠陥発生原因を知る必要が有り、欠陥部分
を顕微鏡（光学顕微鏡や電子顕微鏡等）を用いて観察す
る事が重要な手段の一つになる。
光ディスクの欠陥部分の判定には、再生光学系を用いて
再生信号処理し、エラー発生の有無により行う。従来
は、このときの欠陥発生位置を次のように観測してい
る。トラックアドレス情報やセクターアドレス情報がす
でに光ディスク上に記録されている場合には、各々のア
ドレス情報を欠陥観測時に読み取る。また、光ディスク
上にアドレス情報がない場合には、再生光学系の再生半
径位置読み取り機構及び光ディスク回転軸上に回転角読
み取り機構を取り付け、欠陥観測時に再生半径及びディ
スク回転角を読み取る。以上のように欠陥発生位置を読
み取ったディスクの欠陥部分を顕微鏡を用いて観測する
場合には、欠陥観測時に読み取った前述のディスク半径
位置及び回転角位置付近を観測して欠陥部分を捜す。
再生信号処理し、エラー発生の有無により行う。従来
は、このときの欠陥発生位置を次のように観測してい
る。トラックアドレス情報やセクターアドレス情報がす
でに光ディスク上に記録されている場合には、各々のア
ドレス情報を欠陥観測時に読み取る。また、光ディスク
上にアドレス情報がない場合には、再生光学系の再生半
径位置読み取り機構及び光ディスク回転軸上に回転角読
み取り機構を取り付け、欠陥観測時に再生半径及びディ
スク回転角を読み取る。以上のように欠陥発生位置を読
み取ったディスクの欠陥部分を顕微鏡を用いて観測する
場合には、欠陥観測時に読み取った前述のディスク半径
位置及び回転角位置付近を観測して欠陥部分を捜す。
（発明が解決しようとする問題点） 以上のような方法で欠陥を検索して欠陥観察をすると、
観察対称の欠陥の大きさが１μｍ程度の場合には次のよ
うな問題がある。欠陥観測時に読み取ったディスク半径
位置及び回転角位置付近を顕微鏡観察して欠陥部分を検
索しても、顕微鏡倍率を上げた場合には観察視野が狭く
なるため欠陥部分の検索が困難になり、顕微鏡倍率を下
げた場合には欠陥そのものが見えなくなる。このためな
かなか欠陥部分の検索が出来ない。また欠陥部分と予想
される位置を見つけても、再生光学系で欠陥と判定した
部分かどうかの判断が出来ない。
観察対称の欠陥の大きさが１μｍ程度の場合には次のよ
うな問題がある。欠陥観測時に読み取ったディスク半径
位置及び回転角位置付近を顕微鏡観察して欠陥部分を検
索しても、顕微鏡倍率を上げた場合には観察視野が狭く
なるため欠陥部分の検索が困難になり、顕微鏡倍率を下
げた場合には欠陥そのものが見えなくなる。このためな
かなか欠陥部分の検索が出来ない。また欠陥部分と予想
される位置を見つけても、再生光学系で欠陥と判定した
部分かどうかの判断が出来ない。
本発明の目的は、上記のような問題点を解決し、光ディ
スクの欠陥位置を効率的に検索する光ディスク欠陥位置
検索方法を提供することにある。
スクの欠陥位置を効率的に検索する光ディスク欠陥位置
検索方法を提供することにある。
（問題点を解決するための手段） 本発明の要旨とするところは、光ディスクの欠陥位置を
検索する方法において、光ディスクの再生光学系で検出
される欠陥位置の近傍に、所定の長さの形状変化領域や
光学定数変化領域もしくは磁化方向の異なる領域を、再
生光学系あるいは再生光学系から独立した光学系を用い
て光ディスク上に記録し、前記欠陥位置の近傍の形状変
化領域や光学定数変化領域もしくは磁化方向の異なる領
域を顕微鏡で検索し欠陥位置を検索することを特徴とす
る光ディスク欠陥位置検索方法である。
検索する方法において、光ディスクの再生光学系で検出
される欠陥位置の近傍に、所定の長さの形状変化領域や
光学定数変化領域もしくは磁化方向の異なる領域を、再
生光学系あるいは再生光学系から独立した光学系を用い
て光ディスク上に記録し、前記欠陥位置の近傍の形状変
化領域や光学定数変化領域もしくは磁化方向の異なる領
域を顕微鏡で検索し欠陥位置を検索することを特徴とす
る光ディスク欠陥位置検索方法である。
なお、前記領域の長さは１μｍより長く、望ましくは10
μｍ以上10cm程度までがよい。
μｍ以上10cm程度までがよい。
（作用） 以下図面を参照して、本発明を詳細に説明する。
また以下の説明では、光ディスクの再生光学系で検出さ
れる欠陥位置の近傍に記録する形状変化領域や光学定数
変化領域もしくは磁化方向の異なる領域のことを、マー
キング領域と称する。
れる欠陥位置の近傍に記録する形状変化領域や光学定数
変化領域もしくは磁化方向の異なる領域のことを、マー
キング領域と称する。
第１図に、欠陥部分１とマーキング領域２の配置の模式
図を示す。光ディスク再生光学系で、光ディスクの欠陥
部分１を検出直後に、ある一定期間記録を行いマーキン
グ領域２を作成する。欠陥位置の検索をするときには、
先ずマーキング領域２を検索し、マーキング領域を記録
方向と逆方向にさかのぼることにより、容易に欠陥部分
１を見つけることができ、欠陥観察の効率を向上させる
事が出来る。
図を示す。光ディスク再生光学系で、光ディスクの欠陥
部分１を検出直後に、ある一定期間記録を行いマーキン
グ領域２を作成する。欠陥位置の検索をするときには、
先ずマーキング領域２を検索し、マーキング領域を記録
方向と逆方向にさかのぼることにより、容易に欠陥部分
１を見つけることができ、欠陥観察の効率を向上させる
事が出来る。
（実施例１） 本発明の欠陥位置検索方法を用いて記録ビットの抜けの
欠陥部分を検索した顕微鏡写真の模式図を第２図、第３
図に示す。第２図は倍率100倍の光学顕微鏡で観察した
マーキング領域の模式図で、マーキング領域の先端に欠
陥部分があるが、この倍率では欠陥部分は見えない。第
３図は、第２図のマーキング領域の先端部分を拡大し倍
率2000倍にした時の模式図である。この倍率では、欠陥
部分が観察できるようになる。
欠陥部分を検索した顕微鏡写真の模式図を第２図、第３
図に示す。第２図は倍率100倍の光学顕微鏡で観察した
マーキング領域の模式図で、マーキング領域の先端に欠
陥部分があるが、この倍率では欠陥部分は見えない。第
３図は、第２図のマーキング領域の先端部分を拡大し倍
率2000倍にした時の模式図である。この倍率では、欠陥
部分が観察できるようになる。
（実施例２） 本発明の欠陥位置検索方法を用いてエキストラ欠陥部分
を検索した顕微鏡写真の模式図を第４図に示す。第４図
は、第３図と同様にマーキング領域の先端を拡大した
（倍率1000倍）模式図である。この倍率では、欠陥部分
が観察できるようになる。
を検索した顕微鏡写真の模式図を第４図に示す。第４図
は、第３図と同様にマーキング領域の先端を拡大した
（倍率1000倍）模式図である。この倍率では、欠陥部分
が観察できるようになる。
（発明の効果） 以上詳細に説明したように、本発明による光ディスク欠
陥位置検索方法を用いることにより、低倍率で欠陥を検
索でき、光ディスクの欠陥観察のスピードアップが計ら
れ、欠陥観察の効率を向上させる事が出来る。
陥位置検索方法を用いることにより、低倍率で欠陥を検
索でき、光ディスクの欠陥観察のスピードアップが計ら
れ、欠陥観察の効率を向上させる事が出来る。
第１図は欠陥部分とマーキング領域の配置を示す線図、
第２、３、４図は欠陥部分とマーキング領域の顕微鏡写
真を模式的に示した線図である。 図中、１は欠陥部分、２はマーキング領域である。
第２、３、４図は欠陥部分とマーキング領域の顕微鏡写
真を模式的に示した線図である。 図中、１は欠陥部分、２はマーキング領域である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭63−152038（ＪＰ，Ａ) 特開 昭63−152039（ＪＰ，Ａ) 特開 昭63−117245（ＪＰ，Ａ) 特開 昭63−152040（ＪＰ，Ａ)
Claims (1)
- 【請求項１】光ディスクの欠陥位置を検索する方法にお
いて、光ディスクの再生光学系で検出される欠陥位置の
近傍に、所定の長さの形状変化領域や光学定数変化領域
もしくは磁化方向の異なる領域を、再生光学系あるいは
再生光学系から独立した光学系を用いて光ディスク上に
記録し、前記欠陥位置の近傍の形状変化領域や光学定数
変化領域もしくは磁化方向の異なる領域を顕微鏡で検索
し欠陥位置を検索することを特徴とする光ディスク欠陥
位置検索方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30079086A JPH0695399B2 (ja) | 1986-12-16 | 1986-12-16 | 光ディスク欠陥位置検索方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30079086A JPH0695399B2 (ja) | 1986-12-16 | 1986-12-16 | 光ディスク欠陥位置検索方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63152041A JPS63152041A (ja) | 1988-06-24 |
| JPH0695399B2 true JPH0695399B2 (ja) | 1994-11-24 |
Family
ID=17889124
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP30079086A Expired - Lifetime JPH0695399B2 (ja) | 1986-12-16 | 1986-12-16 | 光ディスク欠陥位置検索方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0695399B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0245739A (ja) * | 1988-08-06 | 1990-02-15 | Mitsubishi Electric Corp | 表面欠陥検査装置 |
-
1986
- 1986-12-16 JP JP30079086A patent/JPH0695399B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS63152041A (ja) | 1988-06-24 |
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