JPH0660437A - 現像装置及びその現像方法 - Google Patents

現像装置及びその現像方法

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JPH0660437A
JPH0660437A JP22480992A JP22480992A JPH0660437A JP H0660437 A JPH0660437 A JP H0660437A JP 22480992 A JP22480992 A JP 22480992A JP 22480992 A JP22480992 A JP 22480992A JP H0660437 A JPH0660437 A JP H0660437A
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JP
Japan
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developing
glass master
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developing solution
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JP22480992A
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English (en)
Inventor
Yuichi Kunitake
勇一 国武
Kenji Furuta
賢治 古田
Shinichi Ando
信一 安藤
Masakazu Yamazaki
勝和 山崎
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Victor Company of Japan Ltd
Original Assignee
Victor Company of Japan Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 スピン方式における現像の内外周差を低減し
て現像の均一度の向上を図る。 【構成】 外部から供給された現像液は、ノズル30の
堰34及びガイド36の作用によって円周方向の速度成
分をもって矢印F2方向に吐出される。他方、現像対象
のガラス原盤の回転方向は現像液の吐出方向と一致して
いる。従って、現像液はガラス原盤の表面を螺旋状に進
行するようになり、結果的に現像液は均一にガラス原盤
の外周側に流れるようになる。また、現像液がガラス原
盤の全域に行き渡った時点でターンテーブルの回転が一
端停止される。これによって、いわゆるバッチ処理に近
い状態が作り出され、レジスト膜の現像の進行が一層均
一化される。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、スピン方式による現像
装置及びその現像方法にかかり、更に具体的には、CD
(コンパクトディスク)などのディスク媒体を製造する
ガラス原盤などのような比較的面積の大きいものに対し
て現像を行う現像装置及びその現像方法の改良に関す
る。
【0002】
【従来の技術】音楽メディアとして急速に普及したCD
の製造にあたっては、まず、情報信号としてのピット列
が刻まれたレジスト原盤が作製される。すなわち、よく
研磨したガラス板の主面上にフォトレジストを塗布し、
このレジスト原盤にレーザビームを用いた光ディスク原
盤記録装置によってピット列の露光記録が行なわれる。
そしてその後、現像装置によってピット列の現像処理が
行われ、更にメッキ工程を経てディスクを複製成形する
ための金属原盤(スタンパ)ができ上がる。
【0003】ところで、上述したガラス原盤の露光後の
現像装置としては、例えば図5(A)に示すものがあ
る。この現像装置は、矢印FA方向に回転するガラス原
盤上に現像液を吐出するいわゆるスピン現像方式のもの
である。同図において、ガラス原盤10は、現像装置上
部の洗浄槽12内の略中央にはターンテーブル14が設
けられている。このターンテーブル14の近傍には、超
純水用ノズル及び窒素用ノズルを有する純水・窒素用ア
ーム16,現像液用ノズルを有する現像液用アーム18
が各々設けられており、それぞれ矢印FB,FC方向に
回転移動可能となっている。更に、現像装置側面には、
シーケンスを制御するための制御盤20が設けられてい
る。
【0004】次に、このような現像装置による現像処理
の概略のシーケンスを説明する。まず、露光記録が行わ
れたガラス原盤10をターンテーブル14上に設置す
る。そして、制御盤20上のスタートスイッチ(図示せ
ず)をONとすると、ターンテーブル14が回転すると
ともに、純水・窒素用アーム16が旋回してガラス原盤
10の内周位置となる。この状態で、ノズルから超純水
の噴出が開始されるとともに、純水・窒素用アーム16
は徐々にガラス原盤10の外周側に向って旋回する。こ
の動作によってガラス原盤超10上に純水が噴出され、
そのレジストが塗布されている主面の洗浄が行われる。
そして、純水・窒素用アーム16が外周位置となった時
点で純水の噴出が停止する。
【0005】次に現像液用アーム18が旋回を開始し、
同様にガラス原盤10の内周位置となった時点で現像液
の噴出が開始される。図5(B)には、この現像時の装
置の状態が示されている。ガラス原盤10の中央の穴に
ターンテーブル14のセンタピン22がはまり込んでお
り、これによって、ターンテーブル14の回転によりガ
ラス原盤10のターンテーブル14上からの滑り落ちが
防止されている。現像液用アーム18のノズルからガラ
ス原盤10上に吐出した現像液LAは、回転による遠心
力でガラス原盤10の外周部へ行き渡り、更には液つぶ
となって飛ばされる。このような現像液LAの塗布によ
って、ガラス原盤10上のレジストに対する現像が進行
し、ピット列パターンが形成されるようになる。
【0006】そして、予め設定された現像時間が経過す
ると、現像液LAの供給が停止されるとともに、現像液
用アーム18はガラス原盤10の外周側へと旋回する。
他方、純水・窒素用アーム16が再び旋回してガラス原
盤10の内周位置へ到達すると、今度は窒素が噴出され
る。純粋・窒素用アーム16は窒素を噴出しながらガラ
ス原盤10の外周側に旋回し、徐々にガラス原盤10の
乾燥が行われる。そして、純粋・窒素用アーム16が外
周位置へ旋回した時点で窒素の噴出を停止するととも
に、ターンテーブル14の回転も停止して現像作業が終
了する。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、以上の
ような従来の現像装置では、図5(B)に示すように現
像液LAはガラス原盤10の内周側から外周側に向って
流れるものの、ガラス原盤10の面積が大きいために、
現像の進行度合いがガラス原盤10の全体にわたって必
ずしも均一とはならない。すなわち、現像液LAが吐出
した位置が最も現像の進行が速い。そして、外周側に行
くに従って現像液LAの液層が薄くなり、また内周側に
おいて現像を終了した現像液LAが外周側に流れてく
る。このような関係上必然的に、ガラス原盤10の外周
側へ行くほど現像の進行が遅くなる。その結果、ガラス
原盤10上のレジスト現像に内外周差が発生することに
なる。図4のグラフGAにはその一例が示されており、
現像進行度はガラス原盤10の内周側と外周側とで大き
く異なる。
【0008】このような現像の内外周差は、その後のメ
ッキ工程においてもそのまま保存され、最終的に成形さ
れたディスクの再生信号特性にも内外周差が生ずること
になる。本発明は、これらの点に着目したもので、現像
対象の面積が大きい場合でも、現像の内外周差を低減し
て現像の均一度の向上を図ることができる簡便な現像装
置及びその現像方法を提供することを目的とするもので
ある。
【0009】
【課題を解決するための手段】本発明による現像装置
は、ターンテーブル上の現像対象面に現像液を吐出する
ノズルが、現像液を現像対象面に沿って吐出するための
堰と、現像液を現像対象面の回転方向に沿った周速度を
もって吐出するガイドとを備えたことを特徴とする。本
発明による現像方法は、前記現像装置による現像処理中
にターンテーブルの回転を一旦停止するステップを含む
ことを特徴とする。
【0010】
【作用】本発明によれば、現像液を吐出するノズルに堰
とガイドが設けられており、現像液は、現像対象の回転
方向に対応する周速度をもって吐出される。このため、
回転に伴って均一に拡るようになり、現像の内外周差が
低減される。また、本発明によれば、現像処理中に現像
対象の回転が一旦停止され、いわゆるバッチ処理的に現
像が行われる。これによっても現像の内外周差が低減さ
れる。
【0011】
【実施例】以下、本発明による現像装置及びその現像方
法の一実施例について、添付図面を参照しながら説明す
る。なお、上述した従来例と同様の構成部分又は従来例
と対応する構成部分については、同一の符号を用いる。
図1には、本実施例の現像装置の主要部が示されてい
る。本実施例の現像装置は、前記図5の装置の現像液用
アーム18の先端に図1に示すノズルが装着される。図
1中、(A)は平面図,(B)は側面図,(C)は一部
分を拡大して示す斜視図である。
【0012】これらの図において、ノズル30は、軸部
32と、その一方に設けられた円板状の堰34と、それ
らの間を結ぶガイド36とを有している。軸部32のア
ーム側には凹部38が設けられており、これが現像液用
アーム18に嵌合することで、ノズル30の取付けが行
われるようになっている。また、現像液用アーム18か
らの現像液LAも、この凹部38の部分を介して供給さ
れるようになっている。堰34は、現像液を矢印F2方
向に送り出すためのもので、この堰34と前記軸部32
との間に、略三角形状の仕切りを螺旋状に変形したガイ
ド36が複数設けられている。また、堰34の直径は、
ガラス原盤10の中心径よりも多少大きい設定となって
いる。このようなノズル30は、現像液用アーム18
(図5参照)の先端に取り付けられる。
【0013】次に、図2及び図3を参照しながら本実施
例による現像方法について説明する。図2は現像液吐出
時の様子を示しており、図3のフローチャートは現像方
法の手順を示している。ガラス原盤10のセットから洗
浄に至る動作は、上述した従来例と同様である。すなわ
ち、露光記録が行われたガラス原盤10をターンテーブ
ル14上に設置し、制御盤20を操作してターンテーブ
ル14の回転を開始する(ステップS1)。このとき、
ガラス原盤10の中央の穴にターンテーブル14のセン
タピン22がはまり込み、ターンテーブル14の回転に
よるガラス原盤10の滑り落ちが防止される。次に、純
水・窒素用アーム16を旋回して、超純水によるガラス
原盤10の洗浄を行う(ステップS2)。
【0014】次に、現像液用アーム18をガラス原盤1
0の中心位置まで旋回する(ステップS3)。上述した
実施例では、ガラス原盤10の内周位置としたが、本実
施例では中心位置まで現像液用アーム18を旋回させて
現像液LAの吐出を開始する(ステップS3)。上述し
たように、本実施例では、現像液用アーム18の先端に
図1に示したノズル30が取り付けられている。このた
め、現像液LAは、ガイド36に沿って螺旋状に進行
し、矢印F2で示すように扇状に拡ってガラス原盤10
上に吐出するようになる。
【0015】次に、現像液LAは、図2に示すように回
転による遠心力でガラス原盤10の外周部へ行き渡る。
このとき、現像液LAは、ノズル30のガイド36の作
用によって円周方向の速度成分を持っている。そして、
ガラス原盤10の回転方向は現像液LAの吐出方向と一
致している。従って、現像液LAはガラス原盤10の表
面を螺旋状に進行するようになり、結果的に現像液LA
は均一にガラス原盤10の外周側に流れるようになる。
このため、従来技術と比較して現像液LAの滴下位置の
みにおいて極端に現像が進行するというような不都合が
改善される。ガラス原盤10の外周位置に達した現像液
LAは、更に液つぶとなって飛ばされる。
【0016】次に、現像液LAがガラス原盤10の全域
に行き渡った時点で(ステップS4)、本実施例では制
御盤20の操作によってターンテーブル14の回転が一
端停止される(ステップS5)。なお、現像液LAの吐
出はそのまま続けられる。これによって、いわゆるバッ
チ処理に近い状態が作り出され、レジスト膜の現像の進
行が一層均一化されるようになる。所定時間(例えば2
0〜25秒)の停止の後、再びターンテーブル14の回
転が開始される(ステップS6)。そして、更に所定時
間の後、つまり予め設定された現像開始当初からの現像
時間が経過した時点で現像が終了する(ステップS
7)。全体の現像時間は、前記回転停止時間も含めて例
えば25〜30秒である。現像終了時には、現像液LA
の吐出が停止するとともに、現像液用アーム18がガラ
ス原盤10の外周側に旋回する。
【0017】このように、ノズル30を用いるととも
に、ターンテーブル14の回転の一旦停止を行って現像
液LAの塗布が行われ、ガラス原盤10上のレジストに
対する現像が進行し、ピット列パターンが形成されるよ
うになる。次に、純水・窒素用アーム16が再び旋回し
てガラス原盤10の内周位置へ到達すると、今度は窒素
が噴出してガラス原盤10の乾燥が行われる(ステップ
S8)。この動作は、上述した従来技術と同様である。
乾燥終了後、ターンテーブル14の回転も停止して現像
作業が終了する(ステップS9)。
【0018】次に、図4を参照しながら、本実施例によ
る現像処理の効果について説明する。同図には、ガラス
原盤10の中心からの半径位置の値(単位はmm)と、
現像進行の程度との関係が示されている。グラフGA
は、前記従来の装置によって現像処理を行った場合の特
性を示すものである。半径値が小さい内周側ほど現像進
行度は高く、外周にいくに従って現像進行度は低下す
る。特に、約36mmより小さい内周側の領域の現像進
行度は、その外周側よりも相当大きい。
【0019】グラフGBは、図1に示したノズル30を
用いるものの、ターンテーブル14の一旦停止は行わな
いようにして現像処理を行った場合の特性を示すもので
ある。半径値が約36mm以下の内周側における現像進
行度はグラフGAの場合よりも低下しており、現像の程
度が均一化されている。グラフGCは、前記実施例にお
ける特性を示すもので、ノズル30を用いるとともに、
ターンテーブルの一旦停止を行う場合である。同図に示
すように、半径値が約36mm以下の内周側における現
像進行度は更に効果的に均一化されている。また、36
mm以上の外周側でも良好な現像進行度の均一性が得ら
れている。
【0020】このように、本実施例によれば、現像液を
ガラス原盤に対して扇状に吐出するノズルを用いるとと
もに、現像中にターンテーブルの一旦停止を行うように
したので、簡便な構成でありながら、現像の内外周差は
大幅に低減される。この結果、成形後のディスクの特性
においても内外周で均一度の高いものが実現できる。ま
た、現像時に、ノズル30によってガラス盤10の中心
が蓋をされた状態となる。このため、中心部の孔から漏
れた現像液LAがガラス盤10の裏面へ回ってガラス盤
10に汚れ等を付着させるというような心配もなくな
る。
【0021】なお、本発明は、何ら上記実施例に限定さ
れるものではなく、例えば次のようなものも含まれる。 (1)ノズル30の構造や形状は、現像液が周方向の速
度成分をもって吐出できるように種々変更可能である。
例えば、ガイド36の数を増減したり、図1(A)に点
線GDで示すようにガイド36を螺旋状ではなく単に斜
方向に形成するなどである。
【0022】(2)また、現像液用アーム18に対する
ノズル30の取付構造も任意であり、凹凸の嵌合,ネジ
式,あるいは両者を一体に構成するなど必要に応じて適
宜設計してよい。しかし、着脱自在とすることで従来の
装置にも本発明を簡単に適用できる。 (3)本発明の適用対象としては、CD作製用のガラス
原盤などが好適な例であるが、比較的面積の大きいもの
に対してスピン方式で現像を行う場合にはどのようなも
のにも適用可能である。
【0023】
【発明の効果】以上説明したように、本発明による現像
装置及びその現像方法によれば、次のような効果があ
る。 (1)現像液を周方向の速度成分を有するように吐出さ
せるノズルを用いるとともに、現像対象の回転方向を現
像液の吐出方向と一致させることとしたので、現像液L
Aが均一に現像対象面上を流れるようになり、現像の内
外周差が低減される。 (2)前記ノズルによる現像開始後、一旦現像対象の回
転を停止して現像を行うこととしたので、現像の内外周
差が更に低減される。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明による現像装置の一実施例におけるノズ
ルを示す説明図である。
【図2】本発明の実施例における現像時の状態を示す説
明図である。
【図3】本発明の実施例における現像方法の手順を示す
フローチャートである。
【図4】本発明の実施例と従来技術の現像特性を示すグ
ラフである。
【図5】従来の現像装置の一例を示す説明図である。
【符号の説明】
10…ガラス原盤(現像対象)、12…洗浄槽、14…
ターンテーブル、16…純水・窒素用アーム、18…現
像液用アーム、20…制御盤、22…センタピン、30
…ノズル、32…軸部、34…堰、36…ガイド、38
…凹部、FA〜FC,F1〜F2…矢印、LA…現像
液。
フロントページの続き (72)発明者 安藤 信一 神奈川県横浜市神奈川区守屋町3丁目12番 地 日本ビクター株式会社内 (72)発明者 山崎 勝和 神奈川県横浜市神奈川区守屋町3丁目12番 地 日本ビクター株式会社内

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 ターンテーブル上の現像対象面に、ノズ
    ルから現像液を吐出して記録情報の現像を行う現像装置
    において、前記ノズルは、現像液を現像対象面に沿って
    吐出するための堰と、現像液を現像対象面の回転方向に
    沿った周速度をもって吐出するガイドとを備えたことを
    特徴とする現像装置。
  2. 【請求項2】 請求項1記載の現像装置を用いる現像方
    法において、前記ノズルを用いた現像処理中にターンテ
    ーブルの回転を一旦停止するステップを含むことを特徴
    とする現像方法。
JP22480992A 1992-07-31 1992-07-31 現像装置及びその現像方法 Pending JPH0660437A (ja)

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