JPH0695508B2 - 基板の両面洗浄装置 - Google Patents

基板の両面洗浄装置

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JPH0695508B2 JP61285395A JP28539586A JPH0695508B2 JP H0695508 B2 JPH0695508 B2 JP H0695508B2 JP 61285395 A JP61285395 A JP 61285395A JP 28539586 A JP28539586 A JP 28539586A JP H0695508 B2 JPH0695508 B2 JP H0695508B2
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Description

【発明の詳細な説明】 《産業上の利用分野》 本発明は例えば半導体基板、フォトマスク用ガラス基板
等（以下単に基板と称する）の両面洗浄装置に関するも
のである。
《従来技術》 この種の両面洗浄装置としては従来より例えば第２図に
示すものが知られている（実公昭59−8352号公報）。
それは、円板状の払拭部材103を対面させて回転可能に
設けた一対の洗浄盤102・102と、基板収容カセット100
から基板101を一枚づつ挟持して払拭部材103の対面間に
搬入し及び搬出する基板挟持手段118・118とを具備して
成り、払拭部材103をスポンジ材料で構成するとともに
対向面の中央部より円周方向に向かう放射状の螺旋状の
溝103aを形成し、各洗浄盤102の回転軸107を介して洗浄
液をこの螺旋状の溝103aに供給するとともに、洗浄盤10
2を回転させながら基板挟持手段118で保持した基板１を
払拭部材103の対面間に差し込んでその両面を同時に洗
浄するように構成したものである。
《発明が解決しようとする問題点》 しかしながら、上記従来例のものは、基板挟持手段108
で基板を保持したまま払拭部材103の対面間に基板１を
差し込んでその両面を洗浄するように構成されており、
基板１の挟持部分1aが洗浄されないで残ってしまうとい
う問題があった。
《問題点を解決するための手段》 上記問題点を解決するために本発明に係る基板の両面洗
浄装置は次のように構成される。
即ち、多孔性弾性材料で形成した一対の円板状払拭部材
を上下に近接対面させ、一方の払拭部材を他方の払拭部
材に対して、その中心が回転中心となるように同心状に
相対回転可能に支持する上下一対の洗浄盤と、 前記各払拭部材に洗浄液を供給する各々の液路を洗浄液
供給源に対して交互に選択的に接続する切り替え手段を
有し、払拭部材の対面間に装填した基板の表裏各面に、
前記液路より払拭部材を介して洗浄液を交互に選択的に
供給する洗浄液供給手段とを備えてなり、 洗浄液を供給しない方の払拭部材によって、他方の払拭
部材に対して基板を相対回転させることにより、基板の
両面を交互に洗浄するように構成したことを特徴とする
ものである。
ここで、相対回転とは、いずれか一方の払拭部材が回転
して他方の払拭部材が停止している場合、両方の払拭部
材が互いに異なる方向に回転する場合、及び両方の払拭
部材が同一方向に互いに異なる速度で回転する場合を指
す。
《作用》 本発明では、洗浄液を供給した方の払拭部材と基板との
間の摩擦力は、洗浄液を供給しない方の払拭部材と基板
との間の摩擦力より小さくなることを利用したもので、
上下一対の払拭部材間に基板を装填し、一方の払拭部材
を他方の払拭部材に対して相対回転させるとともに、払
拭部材を介して各払拭部材に交互に選択的に洗浄液を供
給することによって、基板の両面を交互に洗浄するよう
にしている。
以下さらに詳しく説明する。
近接対面して配置された払拭部材の対面間に基板を装填
してその両面を洗浄するには次のようにして行う。
先ず洗浄液供給手段により基板の一方の面のみに洗浄液
を供給するとともに、一対の洗浄盤を相対回転する。そ
うすると、払拭部材が多孔性弾性材料で形成されている
ことから、洗浄液を供給しない基板の他方の面はこれと
接触する払拭部材との摩擦抵抗により保持されつつ、基
板の当該一方の面は洗浄液を受けながら払拭部材によっ
て払拭・洗浄される。
次に基板の他方の面を洗浄するには、洗浄液供給手段に
より洗浄液の供給を切り換えればよい。すると上記と同
様の作用により、洗浄液を供給しない方の払拭部材によ
って基板が保持され、当該他方の面は洗浄液を受けなが
ら払拭部材によって払拭・洗浄される。
《実施例》 第１図は本発明に係る基板の両面洗浄装置の要部を縦断
して示す概要図である。
この両面洗浄装置は、円板状の払拭部材３・３を近接対
面させて相対回転可能に設けた上下一対の洗浄盤２・２
と、払拭部材３・３の対面間に装填した基板１の表裏両
面に洗浄液を交互に選択的に供給する洗浄液供給手段12
と、洗浄液供給手段12に併設され基板１の両面に選択的
に負圧を負荷する減圧手段15とを備えて成る。各洗浄盤
２は対向面側を凹ませて洗浄液の連通室５を形成した台
盤４と、台盤４の連通室を覆うようにして設けた多孔板
６と、多孔性スポンジ材料で形成され多孔板６の表面に
固着した払拭部材３と、洗浄液を連通室５へ導入する液
路８を有し台盤４を枢支する支軸７とを備え、一方の支
軸７に駆動モータ10を連結して一対の洗浄盤２・２を相
対回転可能に構成してある。なお符号11は支軸７の液路
８に洗浄液を導入する液導入用の継手である。
洗浄液供給手段12は、純水等の洗浄液供給源13と、上記
一対の継手11・11を洗浄液供給源13に交互に選択的に接
続する電磁切換弁14とを備え払拭部材３・３の対面間に
装填した基板１の表裏各面に洗浄液を交互に選択的に供
給するように構成してある。
減圧手段15は真空ポンプ等の負圧源16と、上記一対の継
手11・11は排液ドレイン17を介して負圧源16に交互に選
択的に接続する上記電磁切換弁14を具備して成り、払拭
部材３・３の対面間に装填した基板１の一方の面に洗浄
液を供給する場合には、他方の面に負圧を作用させて対
応する払拭部材によって基板１を吸着保持するように構
成してある。
以下上記両面洗浄装置の動作について説明する。
先ず基板挟持手段18で基板１を払拭部材３・３の対面間
の装填する。次いで洗浄液供給手段12の電磁切換弁14を
第１図のように位置させ、上方の洗浄盤２の払拭部材３
を介して基板１の上面へ洗浄液を供給するとともに、下
方の洗浄盤２の払拭部材３を介して基板１の下面を吸着
保持する。次いで、駆動モータを作動させて下方の洗浄
盤２を回転することにより基板１の上面は払拭・洗浄さ
れる。
基板１の上面の洗浄が終了すると、電磁切換弁14を切換
えて下方の洗浄盤２の払拭部材３を介して基板１の下面
へ洗浄液を供給するとともに、上方の洗浄盤２の払拭部
材を介して基板１の上面を吸着保持する。すると下方の
洗浄盤２が回転しているので基板１の下面が払拭・洗浄
される。
次に基板挟持手段18により基板１を払拭部材３・３より
取出し、新しい基板を払拭部材３・３間に装填して、前
記動作を繰り返すことにより多数の基板を連続して枚葉
式に処理できる。
《変形実施例》 本発明は上記実施例に限られるものではなく多くの変形
例が考えられる。
例えば、基板が小サイズ軽量のものである場合には必ず
しも減圧手段は必要でない。洗浄液を供給しない方の払
拭部材のみでも摩擦による保持力で基板を保持しうるか
らである。
また、基板の脱落を防止するものとして、減圧手段に代
えて脱落防止リングを洗浄液の外側に遊嵌状に設けても
よい。
また、洗浄液供給手段の電磁切換弁に代えて、各継手と
洗浄液供給源との間に個別に開閉弁を設け、それぞれ開
閉切換するようにしてもよい。また、払拭部材３・３間
の間隔を拡げられるようにしておき、前記基板挟持手段
以外の搬送手段にて、基板１を払拭部材間に装填するよ
うにしてもよい。さらに、第１図にて上方の払拭部材３
用に駆動モータを設置し、両方の払拭部材３・３を互い
に逆向きに回転駆動するようにしてもよい。
《発明の効果》 以上の説明から明らかなように、本発明によれば一対の
洗浄盤を相対回転可能に設け、洗浄盤の払拭部材の対面
間に充填した基板の両面に洗浄液を交互に選択的に供給
するように構成し、洗浄液を供給しない方の払拭部材に
よって基板を保持させて基板の両面を交互に洗浄するよ
うにしたから、従来例のように洗浄中に基板を挟持手段
で保持する必要がなく従って挟持部分の洗い残しの問題
を解消することができる。
なお実施例装置のように減圧手段を設け洗浄液を供給し
ない方の払拭部材によって基板を吸着保持するように構
成した場合には基板の保持力を強化することができるの
で好都合である。
【図面の簡単な説明】
第１図は本発明に係る基板の両面洗浄装置の一実施例を
示す要部縦断概要図、第２図は従来例を示す概要図であ
る。 １……基板、２……洗浄盤、３……払拭部材、10……駆
動モータ、12……洗浄液供給手段、13……洗浄液供給
源、14……電磁切換弁、15……減圧手段、16……負圧
源。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】多孔性弾性材料で形成した一対の円板状払
    拭部材を上下に近接対面させ、一方の払拭部材を他方の
    払拭部材に対して、その中心が回転中心となるように同
    心状に相対回転可能に支持する上下一対の洗浄盤と、 前記各払拭部材に洗浄液を供給する各々の液路を洗浄液
    供給源に対して交互に選択的に接続する切り替え手段を
    有し、払拭部材の対面間に装填した基板の表裏各面に、
    前記液路より払拭部材を介して洗浄液を交互に選択的に
    供給する洗浄液供給手段とを備えて成り、 洗浄液を供給しない方の払拭部材によって、他方の払拭
    部材に対して基板を相対回転させることにより、基板の
    両面を交互に洗浄するように構成したことを特徴とする
    基板の両面洗浄装置。
  2. 【請求項２】前記洗浄液供給手段と接続されていない液
    路と負圧源とを接続することにより、基板の両面に、前
    記液路より払拭部材を介して、選択的に負圧を供給する
    減圧手段を洗浄液供給手段に併設し、洗浄液を供給しな
    い方の払拭部材によって基板を吸着するように構成した
    特許請求の範囲第１項に記載の基板の両面洗浄装置。
JP61285395A 1986-11-28 1986-11-28 基板の両面洗浄装置 Expired - Lifetime JPH0695508B2 (ja)

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