JPH0696578B2

JPH0696578B2 - 三還式化合物

Info

Publication number: JPH0696578B2
Application number: JP62227579A
Authority: JP
Inventors: 一輝横瀬; 信夫新間; みや子鎌田; 雅弘青木; 達男大塚
Original assignee: エフ・ホフマン―ラロシユアーゲー
Priority date: 1986-09-12
Filing date: 1987-09-12
Publication date: 1994-11-30
Anticipated expiration: 2009-11-30
Also published as: CA1336905C; KR960002857B1; AT389119B; HU199481B; DZ1124A1; DK173330B1; KR880003954A; AU602534B2; CZ660487A3; ZW16387A1; PT85686A; IE61624B1; FI86428B; IL83814A; FI873940A0; NO169125C; PH23930A; IE872444L; CN1017800B; NO169125B

Description

【発明の詳細な説明】本発明は、新規な三環式化合物、特にピリド［3,2,1−i
j］−1,3,4−ベンゾオキサジアジン誘導体、それらの製
造方法、それらの化合物を含有する製薬学的組成物およ
び製造方法に有用な中間体に関するものである。

さらに詳しくは、本発明は、一般式（Ｉ）、式中、R¹は水素原子またはカルボキシ保護基を示し；R²
は水素原子またはハロゲン原子で置換されていてもよい
低級アルキル基を示し；R³およびR⁴はそれぞれ独立して
水素原子、または水酸基でまたは置換もしくは未置換の
アミノ基で置換されていてもよい低級アルキル基を示
し;Xはハロゲン原子を示し；そしてR⁵及びR⁶はそれぞれ
独立して水素原子、または水酸基、低級アルコキシ基ま
たは置換もしくは未置換のアミノ基で置換されていても
よい低級アルキル基を示し；またはR⁵およびR⁶は隣接す
る窒素原子と一緒になって５〜７員の複素環を形成して
いてもよく、該複素環はその炭素原子において１もしく
はそれ以上の置換基で置換されていてもよく、さらに該
複素環は−NR⁷−、−Ｏ−、−Ｓ−、−SO−、−SO₂−も
しくは−NR⁷−CO−［ここで、R⁷は水素原子、低級アル
ケニル基、置換されていてもよい低級アルキル基もしく
はアラルキル基、または一般式（II）、 −（CH₂)nCOR⁸ （II）（式中、ｎは０〜４であり、R⁸は水素原子、低級アルコ
キシ基、または置換されていてもよいアミノ、低級アル
キルもしくはアリール基である）を示す］を含んでいて
もよい、で表される抗菌剤の有効成分として有用な新規なピリド
［3,2,1−ij］−1,3,4−ベンゾオキサジアジン誘導体お
よびその製薬学的に許容しうる塩、ならびに式（Ｉ）の
化合物およびそれらの塩の水和物または溶媒和物に関す
るものである。

以下、上記式（Ｉ）中の置換基を更に詳細に説明する；
特に断らない限り、用語「低級」は好ましくは炭素数７
個までを含む炭素鎖を意味するものである。

R¹の説明： R¹は、水素原子またはカルボキシ保護基である。

上記において、カルボキシ保護基は、例えばメチル基、
エチル基、ｎ−プロピル基、ｔ−ブチル基等の低級アル
キル基を表わし；他の意味としては、例えば低級アルカ
ノイルオキシアルキル基（例えばアセトキシメチル基、
ピバロイルオキシメチル基、１−アセトキシエチル基お
よび１−ピバロイルオキシエチル基）；低級アルコキシ
カルボニルオキシアルキル基（例えばメトキシカルボニ
ルオキシメチル基、１−エトキシカルボニルオキシエチ
ル基および１−イソプロポキシカルボニルオキシエチル
基）；ラクトニル基（例えばフタリジル基およびチオフ
タリジル基）；低級アルコキシメチル基（例えばメトキ
シメチル基）；ベンジルオキシメチル基；（５−メチル
−２−オキソ−1,3−ジオキソール−４−イル）メチル
基；または低級アルカノイルアミノメチル基（例えばア
セトアミドメチル基）等の生体内で容易に加水分解しう
るカルボキシ保護基を意味する。その他エステルグルー
プ、例えばベンジル基、シアノメチル基、フエナシル
基、フエニル基等も使用しうる。

R²の説明： R²は、水素原子またはハロゲン原子で置換されていても
よい低級アルキル基である。

上記において、低級アルキル基は、好ましくは１〜４の
炭素原子を含み、特にメチル基、エチル基、ｎ−プロピ
ル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基等であり、ハロゲ
ン原子は、フツ素、塩素、臭素、好ましくはフツ素であ
る。

R³およびR⁴は、それぞれ独立して水素原子、または水酸
基でまたは置換もしくは未置換のアミノ基で置換されて
いてもよい低級アルキル基である。

上記において、低級アルキル基は、好ましくは１〜４の
炭素原子を含み、特にメチル基、エチル基、ｎ−プロピ
ル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基等である。置換さ
れたアミノ基は、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基
等のジ低級アルキルアミノ基；メチルアミノ基、エチル
アミノ基等の低級アルキルアミノ基；シクロプロピルア
ミノ基等の低級環状アルキルアミノ基等である。

R⁵およびR⁶の説明： R⁵およびR⁶はそれぞれ独立して水素原子、または水酸
基、低級アルコキシ基または置換もしくは未置換のアミ
ノ基で置換されていてもよい低級アルキル基を示し；ま
たはR⁵およびR⁶は隣接する窒素原子と一緒になって５〜
７員の複素環を形成していてもよく、その複素環は、そ
の炭素原子において１もしくはそれ以上の置換基で置換
されていてもよく、さらに該複素環は、−NR⁷−、−Ｏ
−、−Ｓ−、−SO−、−SO₂−もしくは−NR⁷−CO−［こ
こで、R⁷は、水素原子、低級アルケニル基、置換されて
いてもよい低級アルキル基もしくはアラルキル基、また
は一般式（II）、 −（CH₂)nCOR⁸ （II）（式中、ｎは０〜４であり、R⁸は水素原子、低級アルコ
キシ基、または置換されていてもよいアミノ、低級アル
キルもしくはアリール基である）を示す］を含んでいて
もよい。

以上に示した基を、以下さらに詳細に説明する。

低級アルキル基は、好ましくはメチル基、エチル基、ｎ
−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基等の１〜
４の炭素原子を含む基を表わす。低級アルコキシ基は、
好ましくはメトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ
基、イソプロポキシ基、ｎ−ブトキシ基等の１〜４個の
炭素原子を含む基を表わす。置換されたアミノ基は、ジ
メチルアミノ基、ジエチルアミノ基、エチルメチルアミ
ノ基等のジ低級アルキルアミノ基；メチルアミノ基、エ
チルアミノ基、ｎ−プロピルアミノ基、イソプロピルア
ミノ基等の低級アルキルアミノ基；シクロプロピルアミ
ノ基等の低級環状アルキルアミノ基等を表わす。R⁵およ
びR⁶によつて形成される５〜７員の複素環は、ピペラジ
ニル基、モルホリニル基、チオモルホリニル基、ピペリ
ジル基、ホモピペラジニル基、ピロリジニル基、ピロリ
ニル基、ピロリル基、イミダゾリル基、トリアゾリル基
等を表わす。複素環の炭素原子における置換基の例とし
ては、水酸基；メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキ
シ基等の低級アルコキシ基；アミノ基；メチルアミノ
基、エチルアミノ基、ｎ−プロピルアミノ基、イソプロ
ピルアミノ基等の低級アルキルアミノ基；シクロプロピ
ルアミノ基等の低級環状アルキルアミノ基；ジメチルア
ミノ基、ジエチルアミノ基、エチルメチルアミノ基等の
ジ低級アルキルアミノ基；アセチルアミノ基等の低級ア
ルカノイルアミノ基；任意にニトロ基、アミノ基、ハロ
ゲン原子、水酸基および／または低級アルコキシ基で置
換されていてもよいベンジルアミノ基、例えば（４−ア
ミノベンジル）アミノ基；一般式で表わされる基、（式中、R⁵⁰およびR⁵¹は低級アルキル
基または窒素原子と一緒になつて５〜８員の飽和含窒素
複素環である）、例えば（ジメチルアミノ）メチレンア
ミノ基、（ヘキサヒドロ−1H−アゼピン−１−イル）メ
チレンアミノ基；ベンジルオキシカルボニルアミノ基；
フツ素、塩素、臭素等のハロゲン原子；メチル基、エチ
ル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基等の低級アルキ
ル基；アミノ低級アルキル基、低級アルキルアミノ−低
級アルキル基、低級環状アルキルアミノ−低級アルキル
基、ジ低級アルキルアミノ−低級アルキル基、または低
級アルカノイルアミノ−低級アルキル基であり、これら
の置換基の例としては、アミノメチル基、（メチルアミ
ノ）メチル基、（エチルアミノ）メチル基、（ｎ−プロ
ピルアミノ）メチル基、（イソプロピルアミノ）メチル
基、（シクロプロピルアミノ）メチル基、（ジメチルア
ミノ）メチル基、（ジエチルアミノ）メチル基、（エチ
ルメチルアミノ）メチル基、アセチルアミノメチル基、
２−アミノエチル基、２−（メチルアミノ）エチル基、
２−（エチルアミノ）エチル基、２−（ジエチルアミ
ノ）エチル基、２−（ジメチルアミノ）エチル基、２−
（エチルメチルアミノ）エチル基；ヒドロキシメチル
基、２−ヒドロキシエチル基等のヒドロキシ−低級アル
キル基；任意にアミノ基、ハロゲン原子、水酸基および
／または低級アルコキシ基によつて置換されていてもよ
いフエニル基、例えば４−アミノフエニル基、４−フル
オロフエニル基、４−クロロフエニル基、４−ヒドロキ
シフエニル基、４−メトキシフエニル基；あるいはピロ
リル基、４−メチル−１−ピペラジニル基等の複素環等
である。

R⁷で表わされる低級アルケニル基は、例えばアリル基、
３−メチル−２−ブテニル基、２−ブテニル基、１−メ
チル−２−プロペニル基、３−ブテニル基等である。

R⁷で表わされる置換されたアルキル基は、例えば２−ヒ
ドロキシエチル、３−ヒドロキシブチル等のヒドロキシ
−低級アルキル基;2−メトキシエチル、２−エトキシエ
チル等の低級アルコキシ−低級アルキル基;2−アミノエ
チル、３−アミノブチル等のアミノ−低級アルキル基;2
（メチルアミノ）エチル基、２−（エチルアミノ）エチ
ル基、３−（メチルアミノ）ブチル基、３−（エチルア
ミノ）ブチル基等の低級アルキルアミノ−低級アルキル
基;2−（ジメチルアミノ）エチル基、２−（ジエチルア
ミノ）エチル基、３−（ジメチルアミノ）ブチル基、３
−（ジエチルアミノ）ブチル基等のジ低級アルキルアミ
ノ−低級アルキル基;2−フルオロエチル基、３−フルオ
ロ−ｎ−ブチル基等のハロゲン−低級アルキル基；カル
ボキシメチル基、２−カルボキシエチル基等のカルボキ
シ−低級アルキル基；スルホ−メチル基、２−スルホエ
チル基等のスルホ低級アルキル基等である。

置換されていてもよいアラルキル基R⁷は、例えばベンジ
ル基であり、４−アミノベンジル基、４−ニトロベンジ
ル基、４−（ジメチルアミノ）ベンジル基、４−フルオ
ロベンジル基、４−クロロベンジル基、３−メトキシベ
ンジル基、４−メトキシベンジル基、3,4−ジメトキシ
ベンジル基の様に１以上のアミノ基、ニトロ基、低級ア
ルキルアミノ基、ジ低級アルキルアミノ基、ハロゲン原
子および／または低級アルコキシ基等で置換されていて
もよい。

アミノ基R⁸は、未置換であるか、もしくは、たとえばメ
チルアミノ基、ジメチルアミノ基等の低級アルキル基、
あるいはシクロプロピルアミノ基等の低級環状アルキル
基によつて置換されていてもよい。

低級アルキル基R⁸は、同様に未置換であるか、あるいは
置換されていてもよく、R⁸によつて表わされる置換され
たアルキル基の例としては、２−カルボキシエチル基、
３−カルボキシ−ｎ−プロピル基、２−メトキシカルボ
ニルエチル基、２−エトキシカルボニルエチル基、３−
メトキシカルボニル−ｎ−プロピル基等のカルボキシ基
もしくは低級アルコキシカルボニル基等を含む基であ
る。

R⁸で表わされるアリール基は、好ましくはフエニル基で
あり；置換されたアリール基の例としては、４−フルオ
ロフエニル基、４−クロロフエニル基、４−ブロモフエ
ニル基、４−メトキシフエニル基、２−カルボキシフエ
ニル基、４−ヒドロキシフエニル基、４−ニトロフエニ
ル基、４−アミノフエニル基等の様に一つ以上のハロゲ
ン、低級アルコキシ基、水酸基、ニトロ基および／また
はアミノ基を含んでいることが好ましい。

R⁷で表わされた特に好ましい基は、水素、メチル基、エ
チル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、２−ヒドロ
キシエチル基、２−メトキシエチル基、２−アミノエチ
ル基、３−アミノ−ｎ−ブチル基、２−（メチルアミ
ノ）エチル、２−（エチルアミノ）エチル、２−フルオ
ロエチル基、カルボキシメチル基、スルホメチル基、ア
リル基、４−アミノベンジル基、４−フルオロベンジル
基、ホルミル基、アセチル基、プロピオニル基、ベンゾ
イル基、４−アミノベンゾイル基、２−オキソ−ｎ−プ
ロピル基、２−オキソ−ｎ−ブチル基、３−オキソ−ｎ
−ブチル基、３−オキソ−ｎ−ペンチル基、３−カルボ
キシプロピオニル基、３−エトキシカルボニルプロピオ
ニル基、４−カルボキシ−ｎ−ブチリル基、フエナシル
基、４′−アミノフエナシル基、エトキシカルボニル
基、メトキシカルボニル基、カルバモイル基等である。

式（１）中のR⁵R⁶N−によつて表わされた特に好ましい
基は、１−ピペラジニル基、４−メチル−１−ピペラジ
ニル基、３−メチル−１−ピペラジニル基、３−フエニ
ル−１−ピペラジニル基、3,4−ジメチル−１−ピペラ
ジニル基、４−エチル−１−ピペラジニル基、３−（４
−アミノフエニル）−１−ピペラジニル基、４−ｎ−プ
ロピル−１−ピペラジニル基、４−（２−フルオロエチ
ル）−１−ピペラジニル基、４−アリル−１−ピペラジ
ニル基、４−（２−オキソ−ｎ−プロピル）−１−ピペ
ラジニル基、４−（カルボキシメチル）−１−ピペラジ
ニル基、４−（３−オキソ−ｎ−ブチル）−１−ピペラ
ジニル基、４−（スルホメチル）−１−ピペラジニル
基、４−（４−アミノベンジル）−１−ピペラジニル
基、４−（２−ヒドロキシエチル）−１−ピペラジニル
基、３−オキソ−１−ピペラジニル基、４−フエナシル
−１−ピペラジニル基、４−（３−カルボキシプロピオ
ニル）−１−ピペラジニル基、４−アセチル−１−ピペ
ラジニル基、４−（４−ニトロベンジル）−１−ピペラ
ジニル基、モルホリノ基、２−メチル−４−モルホリニ
ル基、2,6−ジメチル−４−モルホリニル基、４−チオ
モルホリニル基、１−オキシド−４−チオモルホリニル
基、1,1−ジオキシド−４−チオモルホリニル基、４−
（アミノメチル）−１−ピペリジル基、４−［（メチル
アミノ）メチル］−１−ピペリジル基、４−メトキシ−
１−ピペリジル基、４−ヒドロキシ−１−ピペリジル
基、４−（１−ピロリル）−１−ピペリジル基、４−ア
ミノ−１−ピペリジル基、４−（メチルアミノ）−１−
ピペリジル基、４−（エチルアミノ）−１−ピペリジル
基、１−ホモピペラジニル基、４−メチル−１−ホモピ
ペラジニル基、３−アミノ−１−ピロリジニル基、３−
（メチルアミノ）−１−ピロリジニル基、３−（エチル
アミノ）−１−ピロリジニル基、３−（ベンジルオキシ
カルボニルアミノ）−１−ピロリジニル基、３−（アミ
ノメチル）−１−ピロリジニル基、３−アミノ−４−フ
エニル−１−ピロリジニル基、３−アミノ−３−メチル
−１−ピロリジニル基、３−アミノ−４−メチル−１−
ピロリジニル基、３−（４−アミノベンジルアミノ）−
１−ピロリジニル基、３−（４−メチル−１−ピペラジ
ニル）−１−ピロリジニル基、３−［（ジメチルアミ
ノ）メチレンアミノ］−１−ピロリジニル基、３−
［（メチルアミノ）メチル］−１−ピロリジニル基、３
−［（メチルアミノ）メチル］−４−フエニル−１−ピ
ロリジニル基、３−メチル−３−［（メチルアミノ）メ
チル］−１−ピロリジニル基、３−［（エチルアミノ）
メチル］−１−ピロリジニル基、３−（アセチルアミノ
メチル）−１−ピロリジニル基、３−［（ジメチルアミ
ノ）メチル］−１−ピロリジニル基、３−［（エチルメ
チルアミノ）メチル］−１−ピロリジニル基、３−アミ
ノ−４−メトキシ−１−ピロリジニル基、３−メトキシ
−４−（メチルアミノ）−１−ピロリジニル基、３−
（エチルアミノ）−４−メトキシ−１−ピロリジニル
基、３−アミノ−４−クロロ−１−ピロリジニル基、３
−クロロ−４−（メチルアミノ）−１−ピロリジニル
基、３−クロロ−４−（エチルアミノ）−１−ピロリジ
ニル基、３−アミノ−４−フルオロ−１−ピロリジニル
基、３−フルオロ−４−（メチルアミノ）−１−ピロリ
ジニル基、３−（エチルアミノ）−４−フルオロ−１−
ピロリジニル基、３−（アミノメチル）−４−クロロ−
１−ピロリジニル基、３−クロロ−４−［（メチルアミ
ノ）メチル］−１−ピロリジニル基、３−クロロ−４−
［（エチルアミノ）メチル］−１−ピロリジニル基、３
−（アミノメチル）−４−フルオロ−１−ピロリジニル
基、３−フルオロ−４−［（メチルアミノ）メチル］−
１−ピロリジニル基、３−［（エチルアミノ）メチル］
−４−フルオロ−１−ピロリジニル基、３−（アミノメ
チル）−４−メチル−１−ピロリジニル基、３−メチル
−４−［（メチルアミノ）メチル］−１−ピロリジニル
基、３−［（エチルアミノ）メチル］−４−メチル−１
−ピロリジニル基、３−ヒドロキシ−１−ピロリジニル
基、３−メトキシ−１−ピロリジニル基、３−クロロ−
１−ピロリジニル基、３−フルオロ−１−ピロリジニル
基、３−ヒドロキシ−４−メトキシ−１−ピロリジニル
基、１−イミダゾリル基、４−メチル−１−イミダゾリ
ル基、３−アミノ−４−ヒドロキシ−１−ピロリジニル
基、３−（メチルアミノ）−４−ヒドロキシ−１−ピロ
リジニル基、３−（エチルアミノ）−４−ヒドロキシ−
１−ピロリジニル基、３−（ジメチルアミノ）−４−ヒ
ドロキシ−１−ピロリジニル基［２−（ジメチルアミ
ノ）エチル］メチルアミノ基等である。

Ｘの説明：Ｘは、フツ素、塩素あるいは臭素等のハロゲン原子を表
わし、好ましくはフツ素、塩素を表わす。

一般式（Ｉ）の新規なピリド［3,2,1−ij］−1,3,4−ベ
ンゾオキサジアジン誘導体および製薬学的に許容される
塩、およびそれらの水和物、あるいは溶媒和物、は本発
明に従つて次の工程によつて製造される。

（ａ）一般式（III）式中、R¹、R²、R³、R⁴およびＸは式（Ｉ）に述べたと同様
の意味を示し；そしてＸ′はハロゲン原子を示し；式中
のアミノ基、水酸基および／またはカルボキシ基は保護
されていてもよい、で表わされる化合物を一般式（IV）式中、R⁵およびR⁶は、式（Ｉ）に述べたと同様の意味を
示す。

で表わされるアミンと反応させ、所望により保護基を除
去するか、（ｂ）一般式（Ｖ）式中、R¹、R²、R⁵、R⁶およびＸは式（Ｉ）に述べたと同様
の意味を示し；そして式中のアミノ基、水酸基および／
またはカルボキシ基は保護されていてもよい、で表わされる化合物を一般式（VI）式中、R³およびR⁴は、式（Ｉ）に述べたと同様の意味を
示す、で表わされるカルボニル化合物あるいはその重合体、ア
セタール、ケタールもしくはエノールエーテルを反応さ
せ、所望により保護基を除去するか、（ｃ）R⁷が水素原子以外の基である式（Ｉ）の化合物を
製造するため、R⁷が水素原子である式（Ｉ）の化合物を
置換基R⁷⁰（ここでR⁷⁰はR⁷と同様の意味を示すが水素原
子ではない）を生成する試薬とを反応させるか、（ｄ）R⁵および／またはR⁶が低級アルキル基（あるいは
ジ低級アルキルアミノ基または低級アルコキシ基を含
む）である式（Ｉ）の化合物を製造するため、R⁵および
／またはR⁶が水素原子であるか、またはアミノ基、低級
アルキルアミノ基もしくは水酸基を含む式（Ｉ）の化合
物を低級アルキル化するか、（ｅ）R⁵R⁶N−が−SO−または−SO₂−を含む５〜７員の
複素環である式（Ｉ）の化合物を製造するため、複素環
が−Ｓ−を含む対応する化合物を酸化反応に付するか、（ｆ）遊離のアミノ基、水酸基および／またはカルボキ
シ基を有する式（Ｉ）の化合物を製造するため、保護さ
れたアミノ基、水酸基および／またはカルボキシ基を有
する式（Ｉ）の対応する化合物か保護基を除去するか、（ｇ）ハロゲン原子を含む式（Ｉ）の化合物を製造する
ため、R¹が、カルボキシ保護基である式（Ｉ）の対応す
る水酸基で置換された化合物をハロゲン化し、所望によ
り、その保護基R¹を除去するか、（ｈ）アミノ基を含む式（Ｉ）の化合物を製造するた
め、対応する式（Ｉ）のニトロ置換された化合物のニト
ロ基を還元するか、（ｉ）式（ここで、R⁵⁰およびR⁵¹は低級アルキル基であるか、ま
たは窒素原子と一緒になつて５〜８員の飽和の含窒素複
素環を示す）の基を含む式（Ｉ）の化合物を製造するた
め、対応する式（Ｉ）のアミノ置換された化合物を一般
式（VII）式中，R⁵⁰およびR⁵¹は前述したと同様の意味を有する、のホルムアミド誘導体の反応性誘導体と反応させるか、（ｊ）R¹が、カルボキシ保護基である式（Ｉ）の化合物
を製造するため、式（Ｉ）のカルボン酸を対応するエス
テル化に付するか、または式（Ｉ）の化合物の製薬学的に許容しるう塩、水和物ま
たは溶媒和物、または該塩の水和物または溶媒和物を製
造する場合、式（Ｉ）の化合物を塩、水和物または溶媒
和物もしくはその塩の水和物または溶媒和物に変える。

工程A: 前述のように一般式（III）、（式中、R¹、R²、R³、R⁴およびＸは、式（Ｉ）におけると
同様の意味を示し；またＸ′は、ハロゲン原子；さらに
式中のアミノ基、水酸基および／またはカルボキシ基は
保護されていてもよい）で表わされる化合物と、一般式（IV）（式中R⁵およびR⁶は、式（Ｉ）に述べたと同様の意味を
示す）で表わされるアミンと反応させ、所望により保護基を除
去することにより所望の化合物を得ることができる。

工程Ａにおいて、出発物質として用いられる式（III）
で表わされる化合物は、新規な化合物であり、これは、
たとえば次の反応図式ａ）またはｂ）によつて合成する
ことができる。

（式中、R²、R³、R⁴、ＸおよびＸ′は前記と同様の意味を
示し、Ｒ′は、ベンジル基、メトキシベンジル基、メトキシメ
チル基、メトキシエトキシメチル基、テトラヒドロピラ
ニル基、アリル基、ｔ−ブチル基、ｔ−ブチルジメチル
シリル基、アセチル基、ベンゾイル基、等の保護基を表
わし;R″は、ホルミル基、アセチル基、トリフルオロア
セチル基、ベンゾイル基、エトキシカルボニル基、2,2,
2−トリクロロエトキシカルボニル基、フエノキシカル
ボニル基、ベンジルオキシカルボニル基、ｔ−ブトキシ
カルボニル基、等の保護基を表わし;Rは、水素原子あ
るいはエチル基を表わす）式（IV）の化合物がアミノ
基、あるいは、モノアルキルアミノ基を含む場合、それ
らの基は、所望により、ホルミル基、アセチル基、トリ
フルオロアセチル基、ベンゾイル基、エトキシカルボニ
ル基、2,2,2−トリクロロエトキシカルボニル基、フエ
ノキシカルボニル基、ベンジルオキシカルボニル基、ｔ
−ブトキシカルボニル基等のアミノ保護基によつて保護
されていてもよい。

式（III）の化合物と、式（IV）のアミンあるいは、適
当に保護されたアミンとの反応は、所望により、溶媒中
または無溶媒で行われ、反応を充分に完結させるため
に、充分な時間だけ温度を上昇させることが好ましい。
好ましい反応温度は、約30℃から200℃であり充分に速
い反応速度を得るためには、特に80℃〜150℃が好まし
い。

反応は、好ましくはトリエチルアミン、ピリジン、ピコ
リン、N,N−ジメチルアニリン、1,8−ジアザビシクロ
［5.4.0］ウンデカ−７−エン、1,4−ジアザビシクロ
［2.2.2］オクタン、アルカリ金属水酸化物、アルカリ
金属炭酸塩等の酸結合剤の存在下で行われる。また別法
として、式（IV）の過剰のアミンを、酸結合剤として使
用することも可能である。

この反応のための好ましい溶媒は、アセトニトリル、ア
ルコール、ジメチルスルホキシド、ジメチルホルムアミ
ド、ジメチルアセトアミド、ピリジン、ピコリン、ルチ
ジン、N,N′ジメチルプロピレンウレア等の非反応性溶
媒である。２種あるいはそれ以上の溶媒の混合物も使用
することが可能である。

反応終了後、公知の方法により、保護基を除去すること
ができる。例えば、ホルミル基は、酸又は塩基加水分
解、好ましくは塩基加水分解によつて除去することが可
能であり、ベンジルオキシカルボニル基は加水素分解に
よつて除去することができる。

式（III）によつてあらわされる出発物質としては、下
記のような物質があげられる。

9,10−ジフルオロ−３−メチル−７−オキソ−2,3−ジ
ヒドロ−7H−ピリド［3.2.1−ij］−1,3,4−ベンゾオキ
サジアジン−６−カルボン酸、 9,10−ジクロロ−３−メチル−７−オキソ−2,3−ジヒ
ドロ−7H−ピリド［3.2.1−ij］−1,3,4−ベンゾオキサ
ジアジン−６−カルボン酸、９−クロロ−10−フルオロ−３−メチル−７−オキソ−
2,3−ジヒドロ−7H−ピリド［3.2.1−ij］−1,3,4−ベ
ンゾオキサジアジン−６−カルボン酸、エチル＝9,10−ジフルオロ−３−メチル−７−オキソ−
2,3−ジヒドロ−7H−ピリド［3.2.1−ij］−1,3,4−ベ
ンゾオキサジアジン−６−カルボキシラート、ベンジル＝9,10−ジフルオロ−３−メチル−７−オキソ
−2,3−ジヒドロ−7H−ピリド［3.2.1−ij］−1,3,4−
ベンゾオキサジアジン−６−カルボキシラート、 9,10−ジフルオロ−３−（２−フルオロエチル）−７−
オキソ−2,3−ジヒドロ−7H−ピリド［3.2.1−ij］−1,
3,4−ベンゾオキサジアジン−６−カルボン酸、 9,10−ジフルオロ−2,3−ジメチル−７−オキソ−2,3−
ジヒドロ−7H−ピリド［3.2.1−ij］−1,3,4−ベンゾオ
キサジアジン−６−カルボン酸、 9,10−ジフルオロ−２−（ヒドロキシメチル）−３−メ
チル−７−オキソ−2,3−ジヒドロ−7H−ピリド［3.2.1
−ij］−1,3,4−ベンゾオキサジアジン−６−カルボン
酸、 9,10−ジフルオロ−２−［（ジメチルアミノ）メチル］
−３−メチル−７−オキソ−2,3−ジヒドロ−7H−ピリ
ド［3.2.1−ij］−1,3,4−ベンゾオキサジアジン−６−
カルボン酸および 9,10−ジフルオロ−2,2,3−トリメチル−７−オキソ−
2,3−ジヒドロ−7H−ピリド［3.2.1−ij］−1,3,4−ベ
ンゾオキサジアジン−６−カルボン酸等。

上記反応で使用した式（IV）のアミンは、たとえば、ピ
ペラジン、４−メチルピペラジン、３−メチルピペラジ
ン、３−フエニルピペラジン、３−（４−アミノフエニ
ル）ピペラジン、３−（４−ニトロフエニル）ピペラジ
ン、４−（２−ヒドロキシエチル）ピペラジン、モルホ
リン、２−メチルモルホリン、2,6−ジメチルモルホリ
ン、チオモルホリン、４−（アミノメチル）ピペリジ
ン、４−［（メチルアミノ）メチル］ピペリジン、４−
［（エチルアミノ）メチル］ピペリジン、４−アミノピ
ペリジン、４−（メチルアミノ）ピペリジン、４−（エ
チルアミノ）ピペリジン、４−（ベンジルオキシカルボ
ニルアミノ）ピペリジン、４−（ベンジルオキシカルボ
ニルメチルアミノ）ピペリジン、４−（ベンジルオキシ
カルボニルエチルアミノ）ピペリジン、４−ヒドロキシ
ピペリジン、４−メトキシピペラジン、４−（１−ピロ
リル）ピペリジン、ホモピペリジン、３−［（メチルア
ミノ）メチル］ピロリジン、３−［（エチルアミノ）メ
チル］ピロリジン、３−（アセチルアミノメチル）ピロ
リジン、３−ヒドロキシピロリジン、３−メトキシピロ
リジン、３−アミノピロリジン、３−（ベンジルオキシ
カルボニルアミノ）ピロリジン、３−アミノ−４−メチ
ルピロリジン、３−（４−アミノベンジルアミノ）ピロ
リジン、３−（メチルアミノ）ピロリジン、３−（ベン
ジルオキシカルボニルアミノ）ピロリジン、３−アミノ
−４−フエニルピロリジン、３−アミノ−３−メチルピ
ロリジン、３−（４−メチル−１−ピペラジニル）ピロ
リジン、３−［（ジメチルアミノ）メチレンアミノ］ピ
ロリジン、３−［（メチルアミノ）メチル］−４−フエ
ニルピロリジン、３−メチル−３−［（メチルアミノ）
メチル］ピロリジン、３−（エチルアミノ）ピロリジ
ン、３−（ベンジルオキシカルボニルエチルアミノ）ピ
ロリジン、３−［（ジメチルアミノ）メチル］ピロリジ
ン、３−［（エチルメチルアミノ）メチル］ピロリジ
ン、３−アジド−４−メトキシピロリジン、３−アミノ
−４−メトキシピロリジン、３−メトキシ−４−（メチ
ルアミノ）ピロリジン、３−（エチルアミノ）−４−メ
トキシピロリジン、３−アジド−４−ヒドロキシピロリ
ジン、３−アミノ−４−ヒドロキシピロリジン、３−
（メチルアミノ）−４−ヒドロキシピロリジン、３−
（エチルアミノ）−４−ヒドロキシピロリジン、３−
（アミノメチル）−４−メチルピロリジン、３−メチル
−４−［（メチルアミノ）メチル］ピロリジン、３−
［（エチルアミノ）メチル］−４−メチルピロリジン、
３−ヒドロキシ−４−メトキシピロリジン、３−（アセ
チルアミノメチル）−４−ヒドロキシピロリジン、イミ
ダゾール、４−メチルイミダゾール、N,N,N′−トリメ
エチルエチレンジアミン、等である。

工程B: 一般式（Ｖ）（式中、R¹、R²、R⁵、R⁶およびＸは、前記したのと同様の
意味を示し；さらに式中のアミノ基、水酸基および／ま
たはカルボキシ基は保護されていてもよい）で表わされる化合物と、一般式（VI）（式中、R³およびR⁴は、前記したのと同様の意味を示
す）で表わされるカルボニル化合物あるいはその重合体、ア
セタール、ケタールもしくはエノールエーテルと反応さ
せ、所望により保護基を除去することにより所望の化合
物を得ることができる。

工程Ｂにおいて、出発物質として使用される式（Ｖ）で
表わされる化合物は、新規な化合物であり、前記の反応
図式ａ）またはｂ）にしたがつて、あるいは、化合物
（Ｈ）または（Va）と式（IV）のアミンとを反応させる
ことにより製造することができる。

カルボニル化合物式（VI）またはその重合体、アセター
ル、ケタールもしくはエノールエーテルが、アミノまた
はモノアルキルアミノ置換基を有する場合、所望によ
り、その置換基は、式（Ｇ）および（Ｈ）中でＲ″とし
て記載した基によつて保護されていてもよい。

所望により、この反応はジオキサン、ヒトラヒドロフラ
ン、アセトニトリル、クロロホルム、ジメチルホルムア
ミド、ジメチルスルホキシド、N,N′−ジメチルプロピ
レンウレア、酢酸等の溶媒中で行うことができる。二種
類またはそれ以上の溶媒の混合物も使用することができ
る。

所望により、この反応は、酢酸、塩酸、硫酸、メタンス
ルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸、ピリジニウム＝ｐ
−トルエンスルホナート、塩化第二鉄、塩化亜鉛、クロ
ロトリメチルシラン、ナフイオン−Ｈ（過フツ化スルホ
ン酸樹脂：アルドリツチ化学社製）、アンバーリスト−
15（強酸性巨大網状構造樹脂：アルドリツチ化学社製）
等の酸触媒の存在下で行なってもよい。

反応温度は、比較的広い範囲でかえることができ、一般
的に、反応は20℃〜150℃の温度で行なわれる。

本発明の好ましい実施態様において、式（Ｖ）の化合物
１モルに対して式（VI）のカルボニル化合物もしくはそ
の重合体、アセタール、ケタールまたはエノールエーテ
ルの約１モルまたは過剰モルが用いられる。

アミノまたはモノアルキルアミノ保護基は、所望により
反応終了後、公知の方法により除去することができる。
例えばホルミル基は、酸または塩基加水分解、好ましく
は塩基加水分解によつて除去することが可能であり、ベ
ンジルオキシカルボニル基は、加水素分解により除去す
ることができる。

式（Ｖ）で表わされる出発物質を以下に例示する:6,7−
ジフルオロ−８−ヒドロキシ−１−（メチルアミノ）−
４−オキソ−1,4−ジヒドロ−３−キノリンカルボン
酸、エチル＝6,7−ジフルオロ−８−ヒドロキシ−１−（メ
チルアミノ）−４−オキソ−1,4−ジヒドロ−３−キノ
リンカルボキシラート、ベンジル＝6,7−ジフルオロ−８−ヒドロキシ−１−
（メチルアミノ）−４−オキソ−1,4−ジヒドロ−３−
キノリンカルボキシラート、 6,7−ジクロロ−８−ヒドロキシ−１−（メチルアミ
ノ）−４−オキソ−1,4−ジヒドロ−３−キノリンカル
ボン酸、６−クロロ−７−フルオロ−８−ヒドロキシ−１−（メ
チルアミノ）−４−オキソ−1,4−ジヒドロ−３−キノ
リンカルボン酸、 6,7−ジフルオロ−１−［（２−フルオロエチル）アミ
ノ］−８−ヒドロキシ−４−オキソ−1,4−ジヒドロ−
３−キノリンカルボン酸、６−フルオロ−８−ヒドロキシ−７−（１−イミダゾリ
ル）−１−（メチルアミノ）−４−オキシ−1,4−ジヒ
ドロ−３−キノリンカルボン酸、エチル＝６−フルオロ
−８−ヒドロキシ−７−（１−イミダゾリル）−１−
（メチルアミノ）−４−オキソ−1,4−ジヒドロ−３−
キノリンカルボキシラート、ベンジル＝６−フルオロ−８−ヒドロキシ−７−（１−
イミダゾリル）−１−（メチルアミノ）−４−オキソ−
1,4−ジヒドロ−３−キノリンカルボキシラート、６−フルオロ−１−［（２−フルオロエチル）アミノ］
−８−ヒドロキシ−７−（１−イミダゾリル）−４−オ
キソ−1,4−ジヒドロ−３−キノリンカルボン酸、６−クロロ−８−ヒドロキシ−７−（１−イミダゾリ
ル）−１−（メチルアミノ）−４−オキソ−1,4−ジヒ
ドロ−３−キノリンカルボン酸、６−フルオロ−８−ヒドロキシ−１−（メチルアミノ）
−７−（４−メチル−１−ピペラジニル）−４−オキソ
−1,4−ジヒドロ−３−キノリンカルボン酸、７−（3,4）−ジメチル−１−ピペラジニル）−６−フ
ルオロ−８−ヒドロキシ−１−（メチルアミノ）−４−
オキソ−1,4−ジヒドロ−３−キノリンカルボン酸、７−［３−［（ベンジルオキシカルボニルエチルアミ
ノ）メチル］−１−ピロリジニル］−６−フルオロ−８
−ヒドロキシ−１−（メチルアミノ）−４−オキソ−1,
4−ジヒドロ−３−キノリンカルボン酸、７−［３−（ベンジルオキシカルボニルアミノ）−１−
ピロリジニル］−６−フルオロ−８−ヒドロキシ−１−
（メチルアミノ）−４−オキソ−1,4−ジヒドロ−３−
キノリンカルボン酸、７−［３−［（ベンジルオキシカルボニルメチルアミ
ノ）メチル］−４−メチル−１−ピロリジニル］−６−
フルオロ−８−ヒドロキシ−１−（メチルアミノ）−４
−オキソ−1,4−ジヒドロ−３−キノリンカルボン酸、
および７−［３−［（ベンジルオキシカルボニルメチルアミ
ノ）メチル］−４−クロロ−１−ピロリジニル］−６−
フルオロ−８−ヒドロキシ−１−（メチルアミノ）−４
−オキソ−1,4−ジヒドロ−３−キノリンカルボン酸
等。

式（Ｖ）の化合物を反応させることができる化合物の例
といてはホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、アセト
ン、メチルエチルケトン等のカルボニル化合物式（V
I）；パラホルムアルデヒド、パラアセトアルデヒド、
トリオキサン等の重合体；ジメトキシメタン、1,1−ジ
メトキシエタン、1,3−ジオキソラン、グリコールアル
デヒドジメチルアセタール、ジメチルアミノアセトアル
デヒドジメチルアセタール等のアセタール;2,2−ジメト
キシプロパン、等のケタール；および２−メトキシプロ
ペン、２−トリメチルシリルオキシプロペン等のエノー
ルエーテル等である。

工程C: 式（Ｉ）中の基R⁵,R⁶N−が、５〜７員の複素環であり、
その複素環は−NR⁷を含み、そのR⁷が水素以外の基であ
つて、例えば、［式中のピペラジニル基は、炭素原子上で置換されてい
てもよく、またR⁷⁰は低級アルケニル基で置換されてい
てもよい低級アルキル基またはアラルキル基であり、も
しくは一般式：−（CH₂)nCOR⁸ （II）（式中ｎは、０から４の数を示し、またR⁸は水素原子、
低級アルコキシ基、または置換されていてもよいアミノ
基、低級アルキル基もしくはアリール基である）によって表わされる基である］のような式（Ｉ）の化合
物を製造する場合、所望の化合物は、R⁷が、水素原子で
ある式（Ｉ）の化合物と置換基R⁷⁰を生成しうる試薬と
を反応させることにより合成することができる。

Ｎ−アルキル化（又はＮ−アシル化）の反応は、以下の
通り行なうことができる。

Ｎ−アルキル化：一般式（IX）、（式中R¹、R²、R³、R⁴およびＸは、前記したのと同様の意
味を有し、ピペラジンル基は炭素原子上で置換されてい
てもよく、さらに式中のアミノ基、水酸基および／また
はカルボキシ基は保護されていてもよい）の化合物を、（ｉ）一般式（Ｘ） R⁷⁰−Ｙ（Ｘ）（式中Ｙは脱離基でありまたR⁷⁰は前記と同様の意味を
有する）によつて表わされる化合物を反応させるか、または（R⁷
が、R⁹CO−CH₂CH₂−の基である化合物を得る為には）（ii）一般式（XI） R⁹−CO−CH＝CH₂ （XI）（式中R⁹は、低級アルキル基または低級アルコキシ基で
ある）で表わされるマイケルアクセプターと反応させるか、ま
たは（R⁷がメチルもしくはスルホメチルである化合物を
得るためには、）（iii）ホルムアルデヒドとギ酸、もしくはアルカリ金
属重亜硫酸塩と反応させる。

Ｎ−アシル化： R⁷がHOOC−Ｚ−CO−である式（Ｉ）の化合物を得るため
には前記の式（IX）の化合物を、一般式（XII）、（式中、Ｚは、２または３個の炭素原子を有するアルキ
レン鎖またはアリレン基を示し、それらは任意に置換さ
れていてもよい。）の無水物と反応させる。

所望により、すべてこれらの反応の終了後、もし保護基
があればそれを除去してもよい。

この様にして、所望の化合物は式（IX）で表わされる化
合物を式（Ｘ）で表わされる化合物とを反応させること
により合成することができる。脱離基Ｙとしてあげられ
るものは、例えば、塩素、臭素、ヨウ素等のハロゲン原
子、アセトキシ基等のアシルオキシ基、メタンスルホニ
ルオキシ基等の低級アルカンスルホニルオキシ基、ｐ−
トルエンスルホニルオキシ基等のアリルスルホニルオキ
シ基、またはフエノキシ基、４−ニトロフエノキシ基の
ように任意にニトロ化されたフエノキシ基またはスクシ
ンイミドオキシ基もしくはフタルイミドオキシ基であ
る。

式（Ｘ）の化合物が、アミノ基またはモノアルキルアミ
ノ置換基を含む場合、所望により、それらの置換基は前
記の式（Ｇ）および（Ｈ）のＲ″に記載した基によつて
保護されていてもよい。所望により、この反応はジメチ
ルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ジメチルスル
ホキシド、N,N′−ジメチルプロピレンウレア、ジオキ
サン、テトラヒドロフラン、ピリジン等の溶媒中で行う
ことができる。

２種類あるいはそれ以上の溶媒の混合物も使用すること
が可能である。

この反応は好ましくは、トリエチルアミン、ピリジン、
N,N−ジメチルアニリン、1,4−ジアザビシクロ［2.2.
2］オクタン、1,8−ジアザビシクロ［5.4.0］ウンデカ
−７−エン、水素化ナトリウム、アルカリ金属水酸化
物、アルカリ金属炭酸塩等の酸結合剤の存在下に行うこ
ともできる。

反応温度は比較的広い範囲内でかえることができ、一般
的には、反応は約０℃〜180℃の間、好ましくは０℃〜1
10℃の間で行なわれる。

本発明の好ましい実施態様においては、式（IX）の化合
物の１モルに対し、式（Ｘ）の化合物の１〜４モル、好
ましくは１〜２モルの化合物が用いられる。

本発明において、式（Ｘ）の化合物の例としては、ヨー
ドメタン、ヨードエタン、ブロモエタン、１−ヨードブ
タン、１−ブロモブタン、１−ヨードプロパン、２−ヨ
ードプロパン、１−フルオロ−２−ヨードエタン、１−
ヨード−２−メトキシエタン、Ｎ−（２−ヨードエチ
ル）アセトアミド、Ｎ−（２−ヨードエチル）−Ｎ−エ
チルアセトアミド、ブロモ酢酸、アリルブロミド、４−
フルオロベンジルブロミド、酢酸−ギ酸無水物、無水酢
酸、塩化アセチル、無水プロピオン酸、塩化プロピオニ
ル、無水安息香酸、塩化ベンゾイル、４−［（トリフル
オロアセチル）アミノ］安息香酸無水物、クロロアセト
ン、１−クロロ−２−ブタノン、塩化フエナシル、４−
アセチルアミノフエニルクロロメチルケトン、クロロギ
酸エチル、クロロギ酸メチル、クロロメチル−４−ニト
ロフエニル−ケトン、４−ニトロベンジルブロミド、塩
化ジメチルカルバモイル等が挙げられる。

別法として、所望の化合物は、式（IX）の化合物と、式
（XI）のマイケルアクセプターとを反応させる事により
合成することができる。

所望により、この反応は、シメチルホルムアミド、ジメ
チルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、ジオキサ
ン、テトラヒドロフラン、メタノール、エタノール、プ
ロパノール、エチレングリコールモノメチルエーテル等
の溶媒中で行なうことができる。２種またはそれ以上の
溶媒の混合物も使用することができる。反応温度は比較
的広い範囲でかえることができ、一般的には、この反応
は、約30℃〜約170℃の間、好ましくは50℃〜140℃の間
で行なわれる。

本発明の好ましい実施態様において、式（IX）の化合物
の１モルに対し、式（XI）の化合物の好ましくは１から
５モル、特に好ましくは１から２モルが用いられる。

本発明に使われるマイケルアクセプターは、例えばメチ
ルビニルケトン、エチルビニルケトン等である。

別法として所望の化合物（R⁷がメチルまたはスルホメチ
ルである式（Ｉ）の化合物を得るために）は、ホルムア
ルデヒドとギ酸、またはアルカリ金属重亜硫酸塩と化合
物（IX）との反応により合成され、この反応は、通常、
わずかな加熱下、例えば、約50℃〜100℃の間で行なわ
れる。

さらに、所望の化合物は、式（XII）の無水物と式（I
X）の化合物とを反応させることにより、合成すること
ができる。

所望により、この反応は、ピリジン、ジメチルホルムア
ミド、ジオキサン、テトラヒドロフラン等の溶媒中で行
うことができる。２種またはそれ以上の溶媒の混合物も
使用することができる。

この反応は、好ましくは、トリエチルアミン、ピリジ
ン、N,N−ジメチルアニリン、1,4−ジアザビシクロ［2.
2.2］オクタン、アルカリ金属水酸化物、アルカリ金属
炭酸塩等の酸結合剤の存在下で行なわれる。

反応温度は、比較的広い範囲でかえることができ、一般
的には、約０℃〜120℃、好ましくは０℃〜100℃の間で
行なわれる。

本発明の好ましい実施態様において、式（IX）の化合物
１モルに対し、式（XII）の化合物１モルもしくは過剰
モルが用いられる。

本発明で使用する無水物は、たとえば無水コハク酸、無
水ダルタル酸、N-ベンジルオキシカルボニルアスパラギ
ン酸無水物、N-ベンジルオキシカルボニルグルタミン酸
無水物、無水フタル酸等である。

所望により、保護基は反応の後、公知の方法により除去
してもよい。たとえば、ホルミル基は酸または塩化加水
分解、好ましくは塩化加水分解によって除去することが
でき、ベンジルオキシカルボニル基は加水素分解によっ
て除去することができる。保護基は、生成物を単離する
前に除去しても、単離後除去してもよい。

工程D: R⁵および／またはR⁶が、低級アルキル基（またはジ低級
アルキルアミノ基または低級アルコキシ基を含む）であ
る式（Ｉ）の化合物を製造する場合、これらの化合物
は、対応する非‐アルキル化化合物、即ちR⁵および／ま
たはR⁶が水素原子、またはアミノ基、低級アルキルアミ
ノ基もしくは水酸基を含む式（Ｉ）の化合物を低級アル
キル化することにより、製造することができ、N-アルキ
ル化は、一般式（XIII）、 R¹⁰Ｙ（XIII）（式中、R¹⁰は、低級アルキル基であり、Ｙは脱離基で
ある）の化合物との反応により行うことができる。脱離基は、
式（Ｘ）の化合物の中で使用されたものと同じ種類のも
のである。この反応もまた、化合物（IX）を前記に記載
の化合物（Ｘ）でアルキル化すると同様の反応により行
うことができる。O-アルキル化は、N-アルキル化と同様
に行なわれるが、好ましくはアルカリ金属水素化物例え
ば水素化ナトリウムの様なプロトン受容体が添加され
る。

工程E: R⁵R⁶N‐が、‐SO-または‐SO₂‐を含む５〜７員の複素
環である式（Ｉ）の化合物を製造する場合、これらの化
合物は、対応する式（Ｉ）の脱酸素化合物、即ちこの複
素環に‐S-を含む化合物を酸化することにより製造する
ことができる。

酸化は、有機または無機酸化剤を用いて行うことができ
る。容易に酸素を生ずる種々の化合物は、酸化剤として
使用することができる；例えばモノ置換の有機過酸化物
（例えば、t-ブチルヒドロペルオキシド、のようなC₁〜
C₄アルキルまたはアルカノイルヒドロペルオキシド）、
過ギ酸、過酢酸及びクメンヒドロペルオキシドや過安息
香酸等のこれらのヒドロペルオキシドのフエニル‐置換
誘導体が使用できる。所望により、例えば4-メチル過安
息香酸、4-メトキシ過安息香酸、3-クロロ過安息香酸お
よびモノ過フタル酸等の様にC₁〜C₄アルキル基、アルコ
キシ基、ハロゲン原子またはカルボキシ基で置換された
フエニル基を含む過酸も使用することができる。多くの
無機酸化剤、例えば過酸化水素、オゾン、過マンガン酸
カリウムまたは過マンガン酸ナトリウム等の過マンガン
酸塩、次亜塩素酸ナトリウム、次亜塩素酸カリウムまた
は、次亜塩素酸アンモニウム等の次亜塩素酸塩、ペルオ
キシ硫酸およびペルオキシ二硫酸、もまた酸化剤として
使用することができる。好ましくは3-クロロ過安息香酸
が使用される。酸化は、好ましくは非反応性溶媒、例え
ば、テトロヒドロフラン、ジオキサン、塩化メチレン、
クロロホルムまたは酢酸エチル等の非プロトン性、非反
応性溶媒中で、行なわれる。この酸化は、一般的には−
20℃〜50℃の温度範囲で行なわれる。

出発物質に対して、等モルまたはやや過剰量の酸化剤を
用いた場合、主に対応するスルホキシド、すなわち‐SO
-を含む複素環を有する式（Ｉ）の化合物が得られる。

酸化剤の量を２倍モルからそれ以上に増加させると対応
するスルホン、すなわち‐SO₂‐を含む複素環を有する
式（Ｉ）の化合物が得られる。対応するスルホキシドを
等モルまたはそれ以上の酸化剤で処理する事によって当
該スルホンを得ることができる。

工程F: 遊離したアミノ基、水酸基および／またはカルボキシ基
を有する式（Ｉ）の化合物を製造する場合、これらの化
合物は１つもしくはそれ以上の保護されたアミノ基、水
酸基および／またはカルボキシ基を有する対応する式
（Ｉ）の化合物から製造することができる。

アミノ保護基は、例えばアセチル基等の低級アルカノイ
ル基；ベンゾイル基;t-ブトキシカルボニルまたはエト
キシカルボニル等のアルコキシカルボニル基；トリクロ
ロエトキシカルボニル等の置換したアルコキシカルボニ
ル基；フエノキシカルボニル基、ベンジルオキシカルボ
ニル基、p-ニトロベンジルオキシカルボン基、トリチル
基またはベンズヒドリル基等のアラルキル基；またはト
リフルオロアセチル等のハロゲンアルカノイル基であ
る。

アミノ保護基は、酸加水分解（例えば、t-ブトキシカル
ボニル基またはトリチル基）もしくは、塩基加水分解
（例えば、トリフルオロアセチル基）によって除去する
ことができる。ベンジルオキシカルボニル基およびp-ニ
トロベンジルオキシカルボニル基は加水素分解によって
除去することができる。

酸加水分解によって除去されるアミノ保護基は好ましく
はハロゲン化されていてもよい低級アルカンカルボン酸
を用いて除去することができる。特に、ギ酸またはトリ
フルオロ酢酸が用いれらる。酸加水分解は、一般的に
は、室温で行なわれるのが、それよりいくぶん高いかま
たはいくぶん低目の温度で行なうこともできる（例え
ば、約０℃〜40℃の温度）。塩基性条件下で除去される
保護基は、一般的には、うすいカ性アルカリ水溶液によ
り０℃〜30℃で加水分解される。カルボキシ基の保護基
は、例えば前記R¹の説明で述べたカルボキシ保護基と同
様な意味を示す。

これらの保護基の除去は、例えば加水素分解（ベンジル
基）によりまたは酸もしくは塩基加水分解により公知の
方法で行うことができる。この反応は、好ましくは、０
℃〜室温の間で非反応性溶媒中で行なうことができる。

以下の様な特殊な方法も有用である。例えばp-ニトロベ
ンジル基は、硫化ナリトウムの存在下、０℃付近もしく
はそれ以下から室温の温度範囲で、ジメチルホルムアミ
ド（含水）等の溶媒中で加水分解され;t-ブチル基は、
塩化メチレン等の溶媒中または無溶媒で、約０℃〜室温
でアニソールの存在下トリフルオロ酢酸と反応させるこ
とにより除去され；またはアリル基は2-エチルヘキサン
酸のナトリウムまたはカリウム塩の存在下でパラジウム
（Ｏ）触媒によるトランスアリル化反応により除去され
る例えば［（J.Org.Chem.）1982、47、587参照］。

工程G: R⁵R⁶N‐が、である化合物の様なハロゲン原子を含む式（Ｉ）の化合
物を製造する場合、その化合物は、対応する水酸基で置
換された化合物（例えば、R⁵R⁶Nはである）をハロゲン化することにより、製造することが
できる。ハロゲン化剤は、好ましくはハロゲン化チオニ
ル、特に塩化チオニル、または三塩化リン、塩化ホスホ
リンもしくは五塩化リンである。反応温度は、約０℃〜
80℃の間が好ましい。カルボキシ基は、例えばベンジル
基で保護されていた方が好ましく、所望によりひき続
き、例えば、加水素分解（ベンジル基の除去）により再
び遊離カルボキシ基に戻すことができる。

工程H: R⁵R⁶N‐が、である化合物の様なアミノ基を含む式（Ｉ）の化合物を
製造する場合、その化合物は、対応するニトロ基で置換
された式（Ｉ）の化合物のニトロ基を還元することによ
り製造することができる。還元はパラジウム‐炭素等の
貴金属触媒下、水素添加によって行うことができる。こ
の反応は、水または例えばメタノールもしくはエタノー
ル等の低級アルコール中で、所望により、他の溶媒との
混合液中で行うことができる。反応温度は約10℃〜40℃
の範囲であり特に室温付近が好ましい。

工程I: R⁵R⁶N‐が、である化合物の様に式（式中R⁵⁰およびR⁵¹は前記と同意の意味を有する）で表わされる基を有する式（Ｉ）の化合物を製造する場
合、この化合物は、対応するアミノ基で置換された式
（Ｉ）の化合物（例えばR⁵R⁶N‐が、である）のアミノ基と、一般式（VII）、（式中R⁵⁰およびR⁵¹は前記と同様の意味を有する）で表わされるホルムアミド誘導体の反応性誘導体とを反
応させることにより製造することができる。

式（VII）の化合物の反応性誘導体としては、ジメチル
アセタール等の対応するジ低級アルキルアセタールを使
用することができる。この反応は、好ましくは、ジエチ
ルエーテル、ジメチルホルムアミドまたはジメチルスル
ホキシド等の非反応性溶媒中で行なわれる。温度は、ほ
ぼ室温付近が好ましいが、それ以下またはそれ以上、例
えば約０℃〜100℃の範囲でも可能である。

工程J: R¹が、カルボキシ保護基である式（Ｉ）のエステルを製
造する場合、その化合物は式（Ｉ）のカルボン酸と、対
応するハロゲン化物、好ましくは所望のエステル基を含
むヨウ化物、臭化物とを反応させることにより、合成で
きる。

この反応はアルカリ金属水酸化物、アルカリ金属炭酸塩
あるいはトリエチルアミン等の有機アミン等の塩基によ
り、促進されることができる。

エステル化反応は、好ましくは、ジメチルアセトアミ
ド、ヘキサメチルリン酸トリアミド、ジメチルスルホキ
シドまたは、特に、ジメチルホルムアミド等の非反応性
溶媒中で行われ、反応は約０℃〜40℃の温度範囲て行な
うのが好ましい。

工程K: 式（Ｉ）の化合物の製薬学的に許容しうる塩、まはたそ
の塩の水和物、または溶媒和物を製造する場合、それら
は公知の方法、例えば、式（Ｉ）のカルボン酸と、一当
量の所望の塩基を反応させるか、または、逆に遊離の塩
基である式（Ｉ）を有機酸または無機酸と反応させるこ
とにより合成することができる。この反応は、水または
有機溶媒（例えば、エタノール、メタノール、アセトン
等の）中で簡便に行なうことができる。塩を生成する際
に、温度はそれほど重要ではない。塩の生成は一般的に
は室温で行なわれるか、室温よりいくぶん高いまたは低
目の温度、例えば０℃〜50℃の範囲でも行うことができ
る。

前記の工程で有用な製薬学的に許容しうる酸の例として
は、塩酸、臭化水素酸、硫酸、燐酸、硝酸、ギ酸、酢
酸、プロピオン酸、コハク酸、グリコール酸、乳酸、リ
ンゴ酸、酒石酸、クエン酸、アスコルビン酸、マレイン
酸、ヒドロキシマレイン酸、フエニル酢酸、安息香酸、
4-アミノ安息香酸、アントラニル酸、4-ヒドロキシ安息
香酸、サリチル酸、アミノサリチル酸、ニコチン酸、メ
タンスルホン酸、エタンスルホン酸、ヒドロキシエタン
スルホン酸、ベンゼンスルホン酸、p-トルエンスルホン
酸、グルコン酸、グルクロン酸、ガラクツロン酸、アス
パラギン酸およびグルタミン酸；メチオニン、トリプト
フアン、リジン、アルギニン等である。

その酸付加塩は、金属水酸化物、アンモニア等の塩基処
理によって遊離型に変換することができる。

式（Ｉ）の化合物の塩基付加塩は、式（Ｉ）の化合物と
アルカリもしくはアルカリ土類金属水酸化物等の金属塩
基、または有機アミンとを反応させることにより合成す
ることができる。

陽イオンとして使用される金属の例としては、ナトリウ
ム、カリウム、マグネシウム、カルシウム等である。ア
ミンの例としては、ジエタノールアミン、N,N′‐ベン
ジルエチレンジアミン、コリン、エチレンジアミン等で
ある。

式（Ｉ）の化合物の酸付加塩または塩基付加塩は、例え
ば水に対する溶解性のように、ある種の物性か対応する
遊離型のそれとは異なっている。

式（Ｉ）の化合物およびそれらの製薬学的に許容しうる
塩は、非溶媒和型、もしくは水和物を含む溶媒和型とし
ても存在しうる。

水和物は、製造工程の間で生じるか、または当初無水で
あった生成物が吸湿性を有するために徐々に水和するこ
とにより生成しうる。水和物の管理された製造は、完全
もしくは不完全に無水の生成物を、例えば約10℃〜40℃
で、ある一定の湿度に保つことにより行なうことができ
る。製薬学的に許容しうるエタノール等を含む溶媒和物
は、結晶化の際等に得られる。

本発明により提供されるある種の化合物は、不斉中心を
有する。純粋なD-異性体、純粋なL-異性体およびラセミ
体を含むそれらの混合体もまた本発明に包含される。

本発明により提供される化合物は、グラム陽性菌および
グラム陰性菌ならびにマイコプラズマに対して広範な抗
菌活性を示し、また感染症の処置および予防のための薬
剤として使用することができる。

本発明により提供されるインビトロおよびインビボの抗
菌活性を以下に示す。

1.インビトロ抗菌活性本発明の代表的な、ピリド［3,2,1,-ij］‐1,3,4-ベッ
ゾオキサジアジン誘導体のインビトロの抗菌活性は、標
準寒天希釈法によって試験した［ケモセラフイー22、11
26（1974）参照］。それらの最小発育阻止濃度（MIC
μg/ml）を表１、表２に示した。ここで使用した化合物
は、以下それぞれの実施例に記載した方法により合成し
た。

．インビボ治療効果後述の実施例５、30、65、66で合成したピリド［3,2,1-
ij］−1,3,4−ベンゾオキサジアジン誘導体のインビボ
での抗菌活性は、Escherichia coll ML 4707、Pseudomo
nas aeruginosa 4 au 542およびStreptococcus pneumon
iae 6−001の致死感染に対して試験した。体重約20gのI
CRマウスにそれぞれの菌液を腹空内投与で感染させた。
試験化合物は、感染と同時に経口あるいは皮下投与し
た。死亡率は、５日間後に判定し、感染死から、50％の
動物が救われる、有効量（ED₅₀、mg/kg）で表わした
（表３）。

3.急性毒性後述の実施例５、６、７、16、17、18、30、36および56
で得られた化合物のそれぞれの50％致死量（LD₅₀）は、
2000mg/kg以上であった。これらの化合物の急性毒性
は、ICRマウスに経口投与して調べた。

本発明によって提供される化合物は、グラム陽性菌、グ
ラム陰性菌およびマイコプラズマに対し幅広い抗菌活性
を有し、特に、ペニシリン類、セフアロスポリン類、ア
ミノグリコシド類、テトラサイクリン類等の様々な抗生
物質に耐性となった微生物にも幅広い抗菌活性を示す。

さらに本発明によって提供される化合物は、低毒性かつ
強力で幅広い抗菌活性を有する。マウスにおける全身性
細菌感染における本発明の化合物の防御効果は、すでに
市販されている合成抗菌剤の効果よりも非常に優れてい
る。それゆえ、本発明の化合物は、人および動物におけ
る、グラム陽性菌、グラム陰性菌およびバクテリア状の
微生物によっておこされる病気の予防と治療に使用して
優れた効果が期待できる。たとえば次に述べる微生物あ
るいは、それらの複合感染によって引きおこされる病気
の治療および／または予防が可能である:Staphylococcu
s,Streptococcus,Aerococcus,Enterococcus,Micrococcu
s,Lactbacillus,Bifidobacterium,Clostridium,Eubacte
rium,Peptococcus,Peptostreptococcus,Propionibacter
ium,Escherishia,Citrobacter Compylobacter,Enteroba
cter,Klebsiella,Proteus,Pseudomonas,Serratia,Salmo
nella,Shigella,Vibrio,Aeromonas,Haemophilus,Neisse
ria,Acinetobacter,Alcaligenes,Bordetella,Bacteroid
es,Fusobacterium,Mycoplasmaおよびその他の微生物。

さらに本発明は、本発明の化合物を１あるいはそれ以上
含有する製薬学的組成物を包含する。

本発明の化合物は、様々な一般的な投与方法によって、
人あるいは動物に経口あるいは非経口的に投与可能であ
る。

さらに本発明の化合物は、単独で使用されるか、あるい
は、補助剤、希釈剤、結合剤、滑沢際、湿潤剤等ととも
に例えば、錠剤、顆粒剤、糖衣錠、散剤、カプセル剤、
ゲル、ドライシロツプ剤、シロツプ剤、アンプル、懸濁
剤、液剤、乳剤、軟膏剤、ペースト、クリーム、座剤等
のような一般的な医薬組成物の形で使用することができ
る。

さらに溶解遅延剤、吸収促進剤、界面活性剤等が製剤の
ための他の添加物として使用可能である。すなわち製薬
学的に許容しうるすべての剤型が使用可能である。

本発明の化合物は、単独で、あるいは２またはそれ以上
の異なった種類の化合物の混合物としても使用可能であ
り、化合物の総量は全薬剤組成の約0.1〜99.5重量％、
好ましくは、0.5〜95重量％である。

本発明の医薬組成物は、本発明の化合物もしくは本発明
の化合物同士の混合物と薬効のある他の化合物との組合
せで製剤化されてもよい。

本発明によって提供される新規化合物の患者への１日当
りの投与量は、個人差、動物種、体重および治療状態に
よって変わるが、一般的には、体重1kgにつき0.5〜500m
gの範囲であり、好ましくは１〜300mgである。

以下、実施例により、本発明の化合物の望ましい合成方
法を説明する。

出発物質の合成参考例ジエチル＝Ｎ−（3,4−ジフルオロ−２−ヒドロキシフ
エニル）アミノメチレンマロナートの合成（ａ）2,3−ジフルオロ−６−ニトロフエノール（500m
g）をメタノール（7ml）に溶解し、５％Pd/C（60mg）を
加えて、室温常圧下６時間水素添加した。触媒を窒素気
流下、ろ過し、ろ液を減圧濃縮して、粗２−アミノ−5,
6−ジフルオロフエノール414mgを得た。

（ｂ）上記アミン（414mg）とジエチル＝エトキシメチ
レンマロナート（618mg）の混合物を窒素雰囲気下、５
分間130℃に加熱した。結晶性残渣をエタノール中で磨
砕した後、ろ取して、ジエチル＝Ｎ−（3,4−ジフルオ
ロ−２−ヒドロキシフエニル）アミノメチレンマロナー
ト590mgを得た。融点178〜180℃、MSm/z315（M⁺）。

この母液を、クロロホルム／アセトン（20/1）を溶出溶
媒に用いたシリカゲルクロマトグラフイーで精製し、さ
らに該化合物の結晶59mgを得た。

エチル＝８−ベンジルオキシ−6,7−ジフルオロ−４−
ヒドロキシ−３−キノリンカルボキシラートの合成（ル
ート１）（ｃ）ベンジルブロミド（30μｌ）をジエチル＝Ｎ−
（3,4−ジフルオロ−２−ヒドロキシフエニル）アミノ
メチレンマロナート（80mg）、無水炭酸カリウム（70m
g）および乾燥ジメチルホルムアミド（1.5ml）の混合物
へ加えた。この混合物を室温で２時間撹拌した。減圧下
で溶媒を留去し、残渣をジクロロメタンに溶解させ、沈
殿物をろ過した。そのろ過を水で洗浄し、芒硝で乾燥し
た後、減圧下で濃縮した。結晶性残渣をヘキサンで洗浄
後、メタノールから再結晶して、ジエチル＝Ｎ−（２−
ベンジルオキシ−3,4−ジフルオロフエニル）アミノメ
チレンマロナート90mlを得た。融点87℃、MSm/z405
（M⁺）。

（ｄ）上記マロナート（280ml）のジフエニルエーテル
（2.8ml）溶液を、窒素雰囲気下、250℃で30分間加熱の
後、放冷した。反応で生成したエタノールを減圧下で留
去し、残った暗褐色溶液をシリカゲル（10g）カラムに
注ぎ、ベンゼン、ジクロロメタンそしてジクロロメタン
／アセトン（30/1）の混合溶媒で順次溶出した。生成物
の純粋なフラクシヨンを集め、溶媒を減圧下で留去し
た。

残渣を、ヘキサンと酢酸エチルエステルの混合溶媒で洗
浄し、エチル＝８−ベンジルオキシ−6,7−ジフルオロ
−４−ヒドロキシ−３−キノリンカルボキシラート90mg
を得た。この粗結晶はこのまま次の反応に使用できる
が、メタノールから再結晶して分析上純粋な結晶を得る
ことができた。融点200−201℃、MSm/z359（M⁺）。

エチル＝８−ベンジルオキシ−6,7−ジフルオロ−４−
ヒドロキシ−３−キノリンカルボキシラートの合成（ル
ート２）エチル＝6,7−ジフルオロ−4,8−ジヒドロキシ−３−キ
ノリンカルボキシラート（300mg）の乾燥ジメチルホル
ムアミド（6ml）溶液に、撹拌しながら無水炭酸カリウ
ム（308mg）、次にベンジルクロリド（145μｌ）を加え
た。この混合物を55〜65℃で11時間撹拌後、水（30ml）
で希釈した。クロロホルムで溶媒抽出し、芒硝で乾燥
後、減圧下で濃縮した。残渣をアセトン／クロロホルム
（1/20）を溶出溶媒としたシリカゲル（7g）を使ったク
ロマトグラフイーで分離後、メタノールから再結晶し
て、エチル＝８−ベンジルオキシ−6,7−ジフルオロ−
４−ヒドロキシ−３−キノリンカルボキシラート113mg
を得た。融点200−201℃、MSm/z359（M⁺）。

エチル＝８−ベンジルオキシ−6,7−ジフルオロ−１−
（ホルミルメチルアミノ）−４−オキソ−1,4−ジヒド
ロ−３−キノリンカルボキシラートの合成（ｅ）エチル＝８−ベンジルオキシ−6,7−ジフルオロ
−４−ヒドロキシ−３−キノリンカルボキシラート（41
0mg）、無水炭酸カリウム（315mg）および乾燥シメチル
ホルムアミド（10ml）の混合物を室温で３時間撹拌後、
Ｏ−（2,4−ジニトロフエニル）ヒドロキシルアミン（2
60mg）を加えた。この反応混合物を室温でさらに6.5時
間撹拌した。減圧下で溶媒を留去した残渣に、水（12m
l）を加えた後、室温で３時間撹拌した。沈殿物をろ取
し、冷水続いてエーテルで洗浄してエチル＝１−アミノ
−８−ベンジルオキシ−6,7−ジフルオロ−４−オキソ
−1,4−ジヒドロ−３−キノリンカルボキシラート405mg
を得た。この沈殿物はこのまま次の反応に使用できる
が、メタノールから再結晶して分析上純粋な結晶を得る
ことができる。融点143−144℃、MSm/z374（M⁺）。

（ｆ）98％ギ酸（0.60ml）を、無水酢酸（1.51ml）に０
℃で加え、その混合物を０℃で15分間、50℃で15分間撹
拌した後、０℃に冷却した。上記アミン（400mg）の98
％ギ酸（2.1ml）溶液をこの反応溶液に滴下した。この
混合物を室温で２日間撹拌後、減圧下で濃縮した。結晶
性残渣をエタノールから再結晶して、エチル＝８−ベン
ジルオキシ−6,7−ジフルオロ−１−（ホルミルアミ
ノ）−４−オキソ−1,4−ジヒドロ−３−キノリンカル
ボキシラート410mgを得た。融点188−190℃、MSm/z402
（M⁺）。

（ｇ）上記ホルムアミド（400mg）、無水炭酸カリウム
（275mg）および乾燥ジメチルホルムアミド（17ml）の
混合物を室温で1.5時間撹拌した。この混合物にヨウ化
メチル（0.19ml）を加えさらに2.5時間撹拌を続けた。
減圧下で溶媒を留去し、残渣を水とクロロホルムで分配
した。有機層を芒硝で乾燥後、減圧下で蒸発乾固し、残
渣をエタノールから結晶化して、エチル＝８−ベンジル
オキシ−6,7−ジフルオロ−１−（ホルミルメチルアミ
ノ）−４−オキソ−1,4−ジヒドロ−３−キノリンカル
ボキシラート335mgを得た。融点180−181℃、MSm/z416
（M⁺）。

6,7−ジフルオロ−８−ヒドロキシ−１−（メチルアミ
ノ）−４−オキソ−1,4−ジヒドロ−３−キノリンカル
ボン酸の合成（ｈ）エチル＝８−ベンジルオキシ−6,7−ジフルオロ
−１−（ホルミルメチルアミノ）−４−オキソ−1,4−
ジヒドロ−３−キノリンカルボキシラート（330mg）を
クロロホルムに溶解し、５％Pd/C（50mg）を加えて、室
温常圧下、４時間加水素分解した。反応混合物をメタノ
ール（14ml）で希釈した後、触媒をろ過し、さらにろ過
された触媒をクロロホルム／メタノール（1/1）の混合
溶媒で洗浄した。ろ液を集め濃縮し、残渣をエタノール
から再結晶して、エチル＝6,7−ジフルオロ−１−（ホ
ルミルメチルアミノ）−８−ヒドロキシ−４−オキソ−
1,4−ジヒドロ−３−キノリンカルボキシラート239mgを
得た。融点221−225℃（分解）、MSm/z326（M⁺）。

（ｉ）上記エステル（210mg）と0.5規定水酸化ナリトウ
ム溶液（5.2ml）の混合物を窒素雰囲気下、100℃で２時
間加熱した。酢酸（0.16ml）を反応混合物へ加え酸性に
すると沈殿物か生成した。この沈殿物をろ取し、水で洗
浄後、減圧下で乾燥して、6,7−ジフルオロ−８−ヒド
ロキシ−１−（メチルアミノ）−４−オキソ−1,4−ジ
ヒドロ−３−キノリンカルボン酸168mgを得た。この沈
殿物は、このまま次の反応に使用できるが、エタノール
から再結晶して分析上純粋な結晶を得ることができた。
融点248−250℃（分解）、MSm/z270（M⁺）。

実施例１ 9,10−ジフルオロ−３−メチル−７−オキソ−2,3−ジ
ヒドロ−7H−ピリド［3.2.1−ij］−1,3,4−ベンゾオキ
サジアジン−６−カルボン酸の合成参考例（ｉ）で得られた6,7−ジフルオロ−８−ヒドロ
キシ−１−（メチルアミノ）−４−オキソ−1,4−ジヒ
ドロ−３−キノリンカルボン酸（105mg）、パラホルム
アルデヒド（150mg）と乾燥ジオキサン（5ml）の混合物
を窒素雰囲気下、100℃で３時間加熱した。減圧下で溶
媒を除去し、残渣にジメチルホルムアミド（20ml）を加
えた。この混合物を20分間撹拌後、ろ過した。さらにこ
のろ取した残渣をジメチルホルムアミドで洗浄し、ろ液
を集め減圧下で蒸発させた。その残渣を水中で磨砕後、
ろ取して、9,10−ジフルオロ−３−メチル−７−オキソ
−2,3−ジヒドロ−7H−ピリド［3.2.1−ij］−1,3,4−
ベンゾオキサジアジン−６−カルボン酸97mgを得た。分
析上純粋な試料はジメチルホルムアミドから再結晶する
ことにより得られた。融点290−292℃（分解）、MSm/z2
82（M⁺）。

実施例２ 9,10−ジフルオロ−2,3−ジメチル−７−オキソ−2,3−
ジヒドロ−7H−ピリド［3.2.1−ij］−1,3,4−ベンゾオ
キサジアジン−６−カルボン酸の合成参考例（ｉ）で得られた6,7−ジフルオロ−８−ヒドロ
キシ−１−（メチルアミノ）−４−オキソ−1,4−ジヒ
ドロ−３−キノリンカルボン酸（50mg）、90％アセトア
ルデヒド（1ml）とジオキサン（5ml）の混合物を窒素雰
囲気下、100℃で３時間加熱した。反応混合物を減圧下
で蒸発させて、9,10−ジフルオロ−2,3−ジメチル−７
−オキソ−2,3−ジヒドロ−7H−ピリド［3.2.1−ij］−
1,3,4−ベンゾオキサジアジン−６−カルボン酸52mgを
得た。融点285〜289℃、MSm/z296（M⁺）。

実施例３ 9,10−ジフルオロ−２−（ヒドロキシメチル）−３−メ
チル−７−オキソ−2,3−ジヒドロ−7H−ピリド［3.2.1
−ij］−1,3,4−ベンゾオキサジアジン−６−カルボン
酸の合成参考例（ｉ）で得られた6,7−ジフルオロ−８−ヒドロ
キシ−１−（メチルアミノ）−４−オキソ−1,4−ジヒ
ドロ−３−キノリンカルボン酸（50mg）、グリコールア
ルデヒドジエチルアセタール（45μｌ）とp-トルエンス
ルホン酸ピリジニウム（7mg）を乾燥ジオキサン（2ml）
に懸濁させ窒素気流下、110℃で５時間加熱した。減圧
下で溶媒を除去して得られる結晶性残渣を、水とメタノ
ールで洗浄して、9,10−ジフルオロ−２−（ヒドロキシ
メチル）−３−メチル−７−オキソ−2,3−ジヒドロ−7
H−ピリド［3.2.1−ij］−1,3,4−ベンゾオキサジアジ
ン−６−カルボン酸52mgを得た。融点254−258℃（分
解）、MSm/z312（M⁺）。

実施例４ 9,10−ジフルオロ−２−［（ジメチルアミノ）メチル］
−３−メチル−７−オキソ−2,3−ジヒドロ−7H−ピリ
ド［3.2.1−ij］−1,3,4−ベンゾオキサジアジン−６−
カルボン酸＝ｐ−トルエンスルホナートの合成参考例（ｉ）で得られた6,7−ジフルオロ−８−ヒドロ
キシ−１−（メチルアミノ）−４−オキソ−1,4−ジヒ
ドロ−３−キノリンカルボン酸（50mg）、ジメチルアミ
ノアセトアルデヒドジメチルアセタール（37mg）とｐ−
トルエンスルホン酸、１水和物（53mg）を乾燥シオキサ
ン（2ml）に懸濁させ窒素雰囲気下、110℃で17時間加熱
した。減圧下で溶媒を留去し、残渣をメタノールから再
結晶して9,10−ジフルオロ−２−［（ジメチルアミノ）
メチル］−３−メチル−７−オキソ−2,3−ジヒドロ−7
H−ピリド［3.2.1−ij］−1,3,4−ベンゾオキサジアジ
ン−６−カルボン酸＝ｐ−トルエンスルホナート61mgを
得た。融点232−236℃（分解）、FAB−MSm/z340（M
H⁺）。

実施例５９−フルオロ−３−メチル−10−（４−メチル−１−ピ
ペラジニル）−７−オキソ−2,3−ジヒドロ−7H−ピリ
ド［3.2.1−ij］−1,3,4−ベンゾオキサジアジン−６−
カルボン酸の合成実施例１で得られた9,10−ジフルオロ−３−メチル−７
−オキソ−2,3−ジヒドロ−7H−ピリド［3.2.1−ij］−
1,3,4−ベンゾオキサジアジン−６−カルボン酸（30m
g）、Ｎ−メチルピペラジン（47μｌ）および乾燥ピリ
ジン（3ml）を窒素雰囲気下、100−110℃で９時間加熱
した。減圧下でピリジンを除去し、残渣をメタノールか
ら再結晶して、９−フルオロ−３−メチル−10−（４−
メチル−１−ピペラジニル）−７−オキソ−2,3−ジヒ
ドロ−7H−ピリド［3.2.1−ij］−1,3,4−ベンゾオキサ
ジアジン−６−カルボン酸23mgを得た。融点268−269℃
（分解）、MSm/z362（M⁺）。

以下の化合物を実施例５と類似の方法で合成した。

実施例24 ９−フルオロ−３−メチル−７−オキソ−10−（３−オ
キソ−１−ピペラジニル）−2,3−ジヒドロ−7H−ピリ
ド［3.2.1−ij］−1,3,4−ベンゾオキサジアジン−６−
カルボン酸の合成実施例１で得られた9,10−ジフルオロ−酸−メチル−７
−オキソ−2,3−ジヒドロ−7H−ピリド［3.2.1−ij］−
1,3,4−ベンゾオキサジアジン−６−カルボン酸（40m
g）、２−ピペラジノン（31.1mg）、1,4−シアザビシク
ロ［2.2.2］オクタン（31.8mg）および乾燥ジメチルス
ルホキシド（1ml）の混合物を窒素雰囲気下、130℃で2
8.5時間加熱した。溶媒を減圧下で除去後、残渣を分取
用TLC（シリカゲル；クロロホルム／メタノール＝10/1.
5）で分離し、ジクロロメタンとメタノールの混合溶媒
から再結晶して、９−フルオロ−３−メチル−７−オキ
ソ−10−（３−オキソ−１−ピペラジニル）−2,3−ジ
ヒドロ−7H−ピリド［3.2.1−ij］−1,3,4−ベンゾオキ
サジアジン−６−カルボン酸6.3mgを得た。融点＞300
℃、FAB−MSm/z363（MH⁺）。

以下の化合物は実施例2,3および４で得られた化合物を
原料として、実施例５と類似の方法で合成した。

実施例29 10−［３−（ベンジルオキシカルボニルアミノ）−１−
ピロリジニル］−９−フルオロ−３−メチル−７−オキ
ソ−2,3−ジヒドロ−7H−ピリド［3.2.1−ij］−1,3,4
−ベンゾオキサジアジン−６−カルボン酸の合成実施例１で得られた9,10−ジフルオロ−３−メチル−７
−オキソ−2,3−ジヒドロ−7H−ピリド［3.2.1−ij］−
1,3,4−ベンゾオキサジアジン−６−カルボン酸（28m
g）、３−（ベンジルオキシカルボニルアミノ）ピロリ
ジン（94mg）および乾燥ピリジン（3ml）を窒素雰囲気
下、100℃で３時間加熱した。減圧下でピリジンを除去
し、残渣をメタノールから再結晶して、10−［３−（ベ
ンジルオキシカルボニルアミノ）−１−ピロリジニル］
−９−フルオロ−３−メチル−７−オキソ−2,3−ジヒ
ドロ−7H−ピリド［3.2.1−ij］−1,3,4−ベンゾオキサ
ジアジン−６−カルボン酸36mgを得た。融点227−230
℃、MSm/z482（M⁺）。

実施例30 10−（３−アミノ−１−ピロリジニル）−９−フルオロ
−３−メチル−７−オキソ−2,3−ジヒドロ−7H−ピリ
ド［3.2.1−ij］−1,3,4−ベンゾオキサジアジン−６−
カルボン酸の合成実施例29で得られた10−［３−（ベンジルオキシカルボ
ニルアミノ）−１−ピロリジニル］−９−フルオロ−３
−メチル−７−オキソ−2,3−ジヒドロ−7H−，リド
［3.2.1−ij］−1,3,4−ベンゾオキサジアジン−６−カ
ルボン酸（30mg）をジメチルホルムアミド（2ml）に溶
解し、５％Pd/C（10mg）を加え、室温常圧で4.5時間加
水素分解した。触媒をろ別し、ろ液を減圧下で濃縮し
た。残渣をメタノールから結晶化して、10−（３−アミ
ノ−１−ピロリジニル）−９−フルオロ−３−メチル−
７−オキソ−2,3−ジヒドロ−7H−ピリド［3.2.1−ij］
−1,3,4−ベンゾオキサジアジン−６−カルボン酸16mg
を得た。融点230−234℃（分解）、MSm/z348（M⁺）。

以下の化合物を実施例29および30と類似の方法で合成し
た。

実施例36 10-（3,4-ジメチル‐1-ピペラジニル）‐9-フルオロ‐3
-メチル‐7-オキソ‐2,3-ジヒドロ‐7H-ピリド［3.2.1-
ij］‐1,3,4-ベンゾオキサジアジン‐6-カルボン酸の合
成実施例７で得られた9-フルオロ‐3-メチル‐10-（3-メ
チル‐1-ピペラジニル）‐7-オキソ‐2,3-ジヒドロ‐7H
-ピリド［3.2.1-ij］‐1,3,4-ベンゾオキサジアジン‐6
-カルボン酸（60mg）、98％ギ酸（1ml）および35％ホル
マリン（1ml）の混合物を100-110℃で２時間加熱撹拌し
た。反応混合物を減圧下で蒸発し、水に溶解後、１規定
水酸化ナトリウム溶液で中和した。クロロホルムで抽出
し、水で洗浄後、芒硝で乾燥した。溶媒を減圧下で除去
して得られた結晶性残渣を、メタノールから再結晶し
て、10-（3,4-ジメチル‐1-ピペラジニル）‐9-フルオ
ロ‐3-メチル‐7-オキソ‐2,3-シヒドロ‐7H-ピリド
［3.2.1-ij］‐1,3,4-ベンゾオキサジアジン‐6-カルボ
ン酸43mgを得た。融点257〜259℃、FAB-MSm/z377（M
H⁺）。

実施例37 9-フルオロ‐10-（3-メトキシ‐1-ピロリジニル）‐3-
メチル‐7-オキソ‐2,3-ジヒドロ‐7H-ピリド［3.2.1-i
j］‐1,3,4-ベンゾオキサジアジン‐6-カルボン酸の合
成実施例21で得られた9-フルオロ‐10-（3-ヒドロキシ‐1
-ピロリジニル）‐3-メチル‐7-オキソ‐2,3-ジヒドロ
‐7H-ピリド［3.2.1-ij］‐1,3,4-ベンゾオキサジアジ
ン‐6-カルボン酸（100mg）を乾燥ジメチルホルムアミ
ド（10ml）に懸濁させ、これに60％水素化ナトリウム、
油性（30mg）続いてヨウ化メチル（40μｌ）を加えた。
この混合物を室温で２時間撹拌後、60％水素化ナトリウ
ム、油性（30mg）続いてヨウ化メチル（40μｌ）を追加
し、さらに45℃で３時間撹拌を続けた。減圧下で溶媒を
除去した残渣に、冷水（2ml）と0.5規定水酸化ナトリウ
ム溶液（2.3ml）を加えた。この懸濁液を100℃で２時間
加熱した。室温まで冷却後、酢酸で中和し、水で希釈し
た。

クロロホルムで抽出し、水洗、芒硝で乾燥後減圧下で濃
縮した。結晶性残渣をアセトン／クロロホルム（1/9）
を溶出溶媒に用いたシリカゲルクロマトグラフイーで分
離した。メタノールから再結晶して9-フルオロ‐10-（3
-メトキシ‐1-ピロリジニル）‐3-メチル‐7-オキソ‐
2,3-ジヒドロ‐7H-ピリド［3.2.1-ij］‐1,3,4-ベンゾ
オキジアジン‐6-カルボン酸42mgを得た。融点233−234
℃、FAB−MS m/z364（MH⁺）。

実施例38 9-フルオロ‐10-（4-メトキシ‐1-ピペリジル）‐3-メ
チル‐7-オキソ‐2,3-ジヒドロ‐7H-ピリド［3.2.1-i
j］‐1,3,4-ベンゾオキサジアジン‐6-カルボン酸の合
成実施例13で得られた9-フルオロ‐10-（4-ヒドロキシ‐1
-ピペリジル）‐3-メチル‐7-オキソ‐2,3-ジヒドロ‐7
H-ピリド［3.2.1-ij］‐1,3,4-ベンゾオキサジアジン‐
6-カルボン酸を原料として、実施例37と同様にして、9-
フルオロ‐10-（4-メトキシ‐1-ピペリジル）‐3-メチ
ル‐7-オキソ‐2,3-ジヒドロ‐7H-ピリド［3.2.1-ij］
‐1,3,4-ベンゾオキサジアジン‐6-カルボン酸を合成し
た。クロロホルムはn-ヘキサンの混合溶媒から再結晶し
た。融点229−233℃（分解）、MSm/z377（M⁺）。

実施例39 10-（1,1-ジオキシド‐4-チオモルホリニル）‐9-フル
オロ‐3-メチル‐7-オキソ‐2,3-ジヒドロ‐7H-ピリド
［3.2.1-ij］‐1,3,4-ベンゾオキサジアン‐6-カルボン
酸の合成実施例11で得られた9-フルオロ‐3-メチル‐7-オキソ‐
10-（4-チオモルホリニル）‐2,3-ジヒドロ‐7H-ピリド
［3.2.1-ij］‐1,3,4-ベンゾオキソジアジン‐6-カルボ
ン酸（50mg）をジクロロメタン（5ml）に懸濁させ、こ
れにm-クロロ過安息香酸（純度70％、74mg）を加えた。
この混合物を室温で18時間撹拌後、溶媒を減圧下で留去
した。残渣をエーテル、ジクロロメタン続いて、クロロ
ホルムとメタノールの混合溶媒で洗浄し、ジメチルホル
ムアミドから再結晶して10-（1,1-ジオキシド‐4-チオ
モルホリニル）‐9-フルオロ‐3-メチル‐7-オキソ‐2,
3-ジヒドロ‐7H-ピリド［3.2.1-ij］‐1,3,4-ベンゾオ
キサジアジン‐6-カルボン酸22mgを得た。融点＞300
℃、MSm/z397（M⁺）。

実施例40 9-フルオロ‐3-メチル‐7-オキソ‐10-［4-（2-オキソ
‐n-プロピル）‐1-ピペラジニル］‐2,3-ジヒドロ‐7H
-ピリド［3.2.1-ij］‐1,3,4-ベンゾオキサジアジン‐6
-カルボン酸の合成実施例６で得られた9-フルオロ‐3-メチル‐7-オキソ‐
10-（1-ピペラジニル）‐2,3-ジヒドロ‐7H-ピリド［3.
2.1-ij］‐1,3,4-ベンゾオキサジアジン‐6-カルボン酸
（50mg）、クロロアセトン（17μｌ）、トリエチルアミ
ン（40μｌ）および乾燥ジメチルホルムアミド（1ml）
の混合物を、80℃て3.5時間加熱した。揮発性物質を減
圧下で留去後、残渣を水に懸濁させ、沈澱物をろ取し
た。ジクロロメタンとメタノールの混合溶媒から再結晶
して、9-フルオロ‐3-メチル‐7-オキソ‐10-［4-（2-
オキソ‐n-プロピル）‐1-ピペラジニル］‐2,3-ジヒド
ロ‐7H-ピリド［3.2.1-ij］‐1,3,4-ベンゾオキサジア
ジン‐6-カルボン酸32mgを得た。融点225−229℃（分
解）、FAB−MSm/z405（MH⁺）。

以下の化合物を実施例40と類似の方法で合成した。

実施例48 10-［3-［（エチルメチルアミノ）メチル］‐1-ピロリ
ジニル］‐9-フルオロ‐3-メチル‐7-オキソ‐2,3-ジヒ
ドロ‐7H-ピリド［3.2.1-ij］‐1,3,4-ベンゾオキサジ
アジン‐6-カルボン酸の合成実施例17で得られた9-フルオロ‐3-メチル‐10-［3-
［（メチルアミノ）メチル］‐1-ピロリジニル］‐7-オ
キソ‐2,3-ジヒドロ‐7H-ピリド［3.2.1-ij］‐1,3,4-
ベンゾオキサジアジン‐6-カルボン酸とヨウ化エチルを
原料として実施例40と同様にして10-［3-［（エチルメ
チルアミノ）メチル］‐1-ピロリジニル］‐9-フルオロ
‐3-メチル‐7-オキソ‐2,3-ジヒドロ‐7H-ピリド［3.
2.1-ij］‐1,3,4-ベンゾオキサジアジン‐6-カルボン酸
を得た。クロロホルム、メタノールおよびn-ヘキサンの
混合溶媒から再結晶した。融点210−225℃（分解）、FA
B−MSm/z405（MH⁺）。

実施例49 10-［4-［（3-カルボキシプロピオニル）‐1-ピペラジ
ニル］‐9-フルオロ‐3-メチル‐7-オキソ‐2,3-ジヒド
ロ‐7H-ピリド［3.2.1-ij］‐1,3,4-ベンゾオキサジア
ジン‐6-カルボン酸の合成実施例６で得た9-フルオロ‐3-メチル‐7-オキソ‐10-
（1-ピペラジニル）‐2,3-ジヒドロ‐7H-ピリド［3.2.1
-ij］‐1,3,4-ベンゾオキサジアジン‐6-カルボン酸（5
0mg）、無水コハク酸（21.6mg）、トリエチルアミン（4
0μｌ）および乾燥ジメチルホルムアミド（4ml）の混合
物を80℃で２時間加熱した。溶媒は更に減圧下に除去
し、残渣を水で懸濁した。沈澱物はろ過によつて集め、
そしてジクロロメタン及びメタノールの混合液で再結晶
し、50mgの10-［4-（3-カルボキシプロピオニル）‐1-
ピペラジニル］‐9-フルオロ‐3-メチル‐7-オキソ‐2,
3-ジヒドロ‐7H-ピリド［3.2.1-ij］‐1,3,4-ベンゾオ
キサジアジン‐6-カルボン酸を得た。mp.257-259℃（de
c.）;FAB-MSm/z449（MH⁺）。

実施例50 10-（4-アセチル‐1-ピペラジニル）‐9-フルオロ‐3-
メチル‐7-オキソ‐2,3-ジヒドロ‐7H-ピリド［3.2.1-i
j］‐1,3,4-ベンゾオキサジアジン‐6-カルボン酸の合
成 10-（4-アセチル‐1-ピペラジニル］‐9-フルオロ‐3-
メチル‐7-オキソ‐2,3-ジヒドロ‐7H-ピリド［3.2.1-i
j］‐1,3,4-ベンゾオキサジアジン‐6-カルボン酸は実
施例49と同様にして、実施例６で得た9-フルオロ‐3-メ
チル‐7-オキソ‐10-（1-ピペラジニル）‐2,3-ジヒド
ロ‐7H-ピリド［3.2.1-ij］‐1,3,4-ベンゾオキサジア
ジン‐6-カルボン酸と無水酢酸から合成し、そしてジク
ロロメタン／メタノールから再結晶して結晶性粉末とし
て得た。mp.294-296℃（dec.）;FAB−MSm/z391（M
H⁺）。

実施例51 9-フルオロ‐3-メチル‐7-オキソ‐10-［4-（3-オキソ
‐n-ブチル）‐1-ピペラジニル］‐2,3-ジヒドロ‐7H-
ピリド［3.2.1-ij］‐1,3,4-ベンゾオキサジアジン‐6-
カルボン酸の合成実施例６で得た9-クロロ‐3-メチル‐7-オキソ‐10-1-
ピペラジニル］‐2,3-ジヒドロ‐7H-ピリド［3.2.1-i
j］‐1,3,4-ベンゾオキサジアジン‐6-カルボン酸（30m
g）、メチルビニルケトン（36μｌ）およひエタノール
（1ml）の混合物を12時間還流し、そしてその後室温ま
で冷却した。

析出した沈澱物を、ろ過によつて集めそして、エタノー
ルで結晶化して28mgの9-フルオロ‐3-メチル‐7-オキソ
‐10-［4-（3-オキソ‐n-ブチル）‐1-ピペラジニル］
‐2,3-ジヒドロ‐7H-ピリド［3.2.1-ij］‐1,3,4-ベン
ゾオキサジアジン‐6-カルボン酸を得た。mp.187-189℃
（dec.）;FAB−MSm/z419（MH⁺）。

実施例52 9-フルオロ‐3-メチル‐7-オキソ‐10-［4-（3-スルホ
ナートメチル）‐1-ピペラジニル］‐2,3-ジヒドロ‐7H
-ピリド［3.2.1-ij］‐1,3,4-ベンゾオキサジアジン‐6
-カルボン酸２ナトリウム塩の合成 35％ホルマリン（26mg）と硫酸水素ナトリウム（32mg）
と水（0.5ml）を混合し、75℃で30分間加熱した後、室
温まで冷却した。

この溶液に実施例６で得られた9-フルオロ‐3-メチル‐
7-オキソ‐10-（1-ピペラジニル）‐2,3-ジヒドロ‐7H-
ピリド［3.2.1-ij］‐1,3,4-ベンゾオキサジアジン‐6-
カルボン酸（100mg）と水酸化ナトリウム（15mg）を添
加した。この溶液を75℃て１時間加熱後、エタノール
（2ml）を加え、室温まで冷却した。分離した沈殿をろ
過によつて集め、水／エタノール（1:2）で再結晶し、9
-フルオロ‐酸‐メチル‐7-オキソ‐10-［4-（スルホナ
ートメチル）‐1-ピペラジニル］‐2,3-ジヒドロ‐7H-
ピリド［3.2.1-ij］‐1,3-4-ベンゾオキサジアジン‐6-
カルボン酸２ナトリウム塩を得た。融点260〜263℃（de
c.）;1H NMR（D₂O）δ:2.98（3H、ｓ）、3.05（4H、
ｍ）、3.39（4H、ｍ）、3.84（2H、ｓ）、5.18（2H、
ｓ）、7.55（1H、ｄ、Ｊ＝13.4Hz）、8.34（1H、ｓ）。

実施例53 10-［4-（4-アミノベンジル）‐1-ピペラジニル］‐9-
フルオロ‐3-メチル‐7-オキソ‐2,3,ジヒドロ‐7H-ピ
リド［3.2.1-ij］‐1,3,4-ベンゾオキサジアジン‐6-カ
ルボン酸の合成実施例47で得た9-フルオロ‐3-メチル‐10-［4-（4-ニ
トロベンジル）‐1-ピペラジニル］‐7-オキソ‐2,3-ジ
ヒドロ‐7H-ピリド［3.2.1-ij］‐1,3,4-ベンゾオキサ
ジアジン‐6-カルボン酸（100mg）をジクロロメタン／
メタノール（1:1）溶液中で、５％Pd/C（10mg）（パラ
ジウム・チヤコール）溶媒下に２時間水素添加した。

ろ過によつて触媒を除去後、ろ液を減圧下で濃縮乾固し
た。

残渣をエタノールから再結晶し、69mgの10-［4-（4-ア
ミノベンジル）‐1-ピペラジニル］‐9-フルオロ‐3-メ
チル‐7-オキソ‐2,3,ジヒドロ‐7H-ピリド［3.2.1-i
j］‐1,3,4-ベンゾオキサジアジン‐6-カルボン酸を得
た。融点237〜238℃（dec.）;FAB−MSm/z454（MH⁺）。

実施例54 10-［3-（アミノメチル）‐1-ピロリジニル］‐9-フル
オロ‐3-メチル‐7-オキソ‐2,3,ジヒドロ‐7H-ピリド
［3.2.1-ij］‐1,3,4-ベンゾオキサジアジン‐6-カルボ
ン酸の合成実施例19で得た10-［3-（アセチルアミノメチル）‐1-
ピロリジニル］‐9-フルオロ‐3-メチル‐7-オキソ‐2,
3,ジヒドロ‐7H-ピリド［3.2.1-ij］‐1,3,4-ベンゾオ
キサジアジン‐6-カルボン酸（40mg）と1N水酸化ナトリ
ウム（2.5ml）を100℃で３時間加熱した。室温まで冷却
後、反応物を酢酸で中和した。分離した沈殿をろ過によ
つて集め、メタノールから再結晶させ、15mgの10-［3-
（アミノメチル）‐1-ピロリジニル］‐9-フルオロ‐3-
メチル‐7-オキソ‐2,3,ジヒドロ‐7H-ピリド［3.2.1-i
j］‐1,3,4-ベンゾオキサジアジン‐6-カルボン酸を得
た。融点177〜180℃（dec.）;FAB−MSm/z363（MH⁺）。

実施例55 6-フルオロ‐8-ヒドロシキ‐7-（1-イミダゾリル）‐1-
（メチルアミノ）‐4-オキソ‐1,4-ジヒドロ‐3-キノリ
ンカルボン酸の合成参考例（ｉ）で得た6,7-ジフルオロ‐8-ヒドロキシ‐1-
（メチルアミノ）‐4-オキソ‐1,4-ジヒドロ‐3-キノリ
ンカルボン酸（50mg）を乾燥ジメチルホルムアミド（2m
l）に溶かし撹はんしつつカルボニルジイミダゾール（3
2mg）を加えた。室温で２時間かくはんした後、80℃で
５時間加熱した。溶媒を減圧下で除去し、残渣を水に懸
濁し酢酸でpH5に調節した。沈殿は、ろ過によつて分離
し、メタノールで洗浄し、35mgの淡黄色粉末状の6-フル
オロ‐8-ヒドロキシ‐7-（1-イミダゾリル）‐1-（メチ
ルアミノ）‐4-オキソ‐1,4-ジヒドロ‐3-キノリンカル
ボン酸を得た。FAB−MSm/z319（MH⁺）；^１H-NMRスペク
トル（d₆‐DMSO）δ:2.82（3H、ｓ）、7.10（1H、ｄ、
Ｊ＝10.7Hz）、7.61（1H、ｄ）、7.75（1H、ｄ）、8.62
（1H、ｓ）、8.92（1H、ｓ）、15.33（1H、br.s）。

実施例56 9-フルオロ‐10-（1-イミダゾリル）‐3-メチル‐7-オ
キソ‐2,3-ジヒドロ‐7H-ピリド［3.2.1-ij］‐1,3,4-
ベンゾオキサジアジン‐6-カルボン酸の合成実施例55で得た6-フルオロ‐8-ヒドロキシ‐7-（1-イミ
ダゾリル）‐1-（メチルアミノ）‐4-オキソ‐1,4-ジヒ
ドロ‐3-キノリンカルボン酸（15mg）を35％ホルマリン
（1ml）とジオキサン（1ml）の混合液にけん濁し、窒素
雰囲気下で1.5時間100〜110℃に加熱した。溶媒を減圧
下で除去し、結晶性残渣をメタノールで洗浄し、15mgの
淡いピンクの粉末9-フルオロ‐10-（1-イミダゾリル）
‐3-メチル‐7-オキソ‐2,3-ジヒドロ‐7H-ピリド［3.
2.1-ij］‐1,3,4-ベンゾオキサジアジン‐6-カルボン酸
を得た。分析試料は、ジメチルホルムアミドとエーテル
の混合溶媒から再結晶して調製した。mp＞300℃;FAB−M
Sm/z331（MH⁺）。

9-フルオロ‐10-（1-イミダゾリル）‐3-メチル‐7-オ
キソ‐2,3-ジヒドロ‐7H-ピリド［3.2.1-ij］‐1,3,4-
ベンゾオキサジアジン‐6-カルボン酸は、実施例５と同
様に、ジメチルスルホオキシド中で、9-10-フルオロ‐3
-メチル‐7-オキソ‐2,3-ジヒドロ‐7H-ピリド［3.2.1-
ij］‐1,3,4-ベンゾオキサジアジン‐6-カルボン酸とイ
ミダゾールからも調製された。

実施例57 ベンジル＝9-フルオロ‐10-（3-ヒドロキシ‐1-ピロリ
ジニル）‐3-メチル‐7-オキソ‐2,3-ジヒドロ‐7H-ピ
リド［3.2.1-ij］‐1,3,4-ベンゾオキサジアジン‐6-カ
ルボキシラートの合成実施例21で得た9-フルオロ‐10-（3-ヒドロキシ‐1-ピ
ロリジニル）‐3-メチル‐7-オキソ‐2,3-ジヒドロ‐7H
-ピリド［3.2.1-ij］‐1,3,4-ベンゾオキサジアジン‐6
-カルボン酸（10mg）と、無水炭酸カリウム（8mg）とジ
メチルホルムアミド（0.5ml）を混合し、室温下で1.5時
間撹拌し、その後ベンジルブロミド（10.8mg）を加え
た。この混合物を室温下で３時間撹拌し、減圧下で溶媒
留去した。

残渣を水にけん濁し、クロロホルムで抽出し、抽出物を
減圧下で濃縮乾固した。残渣をエーテルで処理し、11mg
のベンジル＝9-フルオロ‐10-（3-ヒドロキシ‐1-ピロ
リジニル）‐3-メチル‐7-オキソ‐2,3-ジヒドロ‐7H-
ピリド［3.2.1-ij］‐1,3,4-ベンゾオキサジアジン‐6-
カルボキシラートを得た。mp.196−198℃（dec.）;FAB
−MSm/z440（MH⁺）。

実施例58 ベンジル＝10-（3-クロロ‐1-ピロリジニル）‐9-フル
オロ‐3-メチル‐7-オキソ‐2,3-ジヒドロ‐7H-ピリド
［3.2.1-ij］‐1,3,4-ベンゾオキサジアジン‐6-カルボ
キシラートの合成実施例57で得たベンジル＝9-フルオロ‐10-（3-ヒドロ
シキ‐1-ピロリジニル）‐3-メチル‐7-オキソ‐2,3-ジ
ヒドロ‐7H-ピリド［3.2.1-ij］‐1,3,4-ベンゾオキサ
ジアジン‐6-カルボキシラート（8mg）を0.2mlの塩化チ
オニルに溶かし、60℃で15分間撹拌した。その反応混合
物を水で希釈しクロロホルムで抽出した。

その抽出物を、減圧下で濃縮し、残渣をシリカゲル（2
g）クロマトグラフイーにかけ、クロロホルムで展開し
て2.8mgのベンジル＝10-（3-クロロ‐1-ピロリジニル）
‐9-フルオロ‐3-メチル‐7-オキソ‐2,3-ジヒドロ‐7H
-ピリド［3.2.1-ij］‐1,3,4-ベンゾオキサジアジン‐6
-カルボキシラートを得た。融点＞300℃;FAB−MSm/z458
（MH⁺）、460(MH+2)⁺。

実施例59 10-（3-クロロ‐1-ピロリジニル）‐9-フルオロ‐3-メ
チル‐7-オキソ‐2,3-ジヒドロ‐7H-ピリド［3.2.1-i
j］‐1,3,4-ベンゾオキサジアジン‐6-カルボン酸の合
成実施例58で得たベンジル＝10-（3-クロロ‐1-ピロリジ
ニル）‐9-フルオロ‐3-メチル‐7-オキソ‐2,3-ジヒド
ロ‐7H-ピリド［3.2.1-ij］‐1,3,4-ベンゾオキサジア
ジン‐6-カルボキシラート（2.5mg）をクロロホルム中
で、５％Pd/C（1mg）触媒下で水素添加した。

ろ過によつて触媒を除去後、そのろ液を減圧下で濃縮乾
固した。

その残渣をエタノールから再結晶し、1.0mgの10-（3-ク
ロロ‐1-ピロリジニル）‐9-フルオロ‐3-メチル‐7-オ
キソ‐2,3-ジヒドロ‐7H-ピリド［3.2.1-ij］‐1,3,4-
ベンゾオキサジアジン‐6-カルボン酸を得た。融点269
〜272℃（dec.）;FAB−MSm/z368（MH⁺）、370(MH+2)⁺。

実施例60 フルオロボラン中間体を経由する9-フルオロ‐3-メチル
‐10-（4-メチル‐1-ピペラジニル）‐7-オキソ‐2,3-
ジヒドロ‐7H-ピリド［3.2.1-ij］‐1,3,4-ベンゾオキ
サジアジン‐6-カルボン酸の合成法ａ）実施例１で得た9,10-ジフルオロ‐3-メチル‐7-オ
キソ‐2,3-ジヒドロ‐7H-ピリド［3.2.1-ij］‐1,3,4-
ベンゾオキサジアジン‐6-カルボン酸（100mg）と60％
ホウフツ化水素酸水溶液（1ml）の混合物を90℃で12時
間加熱した。その反応混合物を室温まで冷却後、その沈
殿物をろ過によつて集め、メタノールで洗浄後、減圧下
で濃縮乾固させ、110mlの粗製の9,10-ジフルオロ‐6-
［［（ジフルオロボリル）オキシ］カルボニル］‐3-メ
チル‐2,3-ジヒドロ‐7H-ピリド［3.2.1-ij］1,3,4-ベ
ンゾオキサジアジン‐7-オンを得た;FAB−MSm/z331（MH
₊）。

ｂ）上記ボラン中間体（33mg）をジメチルスルホキシド
（1ml）に溶解し、かくはんしつつＮ−メチルピペラジ
ン（15μｌ）とトリエチルアミン（20μｌ）を加えた。
室温で３時間撹拌後、反応混合物を冷凍乾燥した。その
残渣を、メタノールから結晶化し28mgの黄色結晶6-
［［（ジフルオロボリル）オキシ］カルボニル］‐9-フ
ルオロ‐3-メチル‐10-（4-メチル‐1-ピペラジニル）
‐2,3-ジヒドロ‐7H-ピリド［3.2.1-ij］‐1,3,4-ベン
ゾオキサジアジン‐7-オンを得た。融点228〜230℃（de
c.）;FAB−MSm/z411（MH⁺）。

ｃ）トリエチルアミン（３μｌ）を、上記ボラン中間体
（5mg）の95％エタノール（1ml）溶液に加えた。４時間
加熱還流した後、その反応溶液を室温まで冷却した。生
じた沈殿をろ過して集め、9-フルオロ‐3-メチル‐10
（4-メチル‐1-ピペラジニル）‐7-オキソ‐2,3-ジヒド
ロ‐7H-ピリド［3.2.1-ij］‐1,3,4-ベンゾオキサジア
ジン‐6-カルボン酸を得た。融点268〜269℃（dec.）。

実施例61 アセトキシボラン中間体を経由する９−フルオロ−３−
メチル−10−（４−メチル−１−ピペラジニル）−７−
オキソ−2,3−ジヒドロ−7H−ピリド［3,2,1−ij］−1,
3,4−ベンゾオキサジアジン−６−カルボン酸の合成法ａ）実施例１で得た9,10−ジフルオロ−３−メチル−７
−オキソ−2,3−ジヒドロ−7H−ピリド［3,2,1−ij］−
1,3,4−ベンゾオキサジアジン−６−カルボン酸（100m
g）と無水酢酸（1ml）とトリアセトキシボラン（100m
g）を混合し、15分間、140℃で加熱した。その反応混合
物を減圧下で溶媒留去した。その残渣をアセトンで処理
し、ろ過し、138mgの６−［［（ジアセトキシボリル）
オキシ］カルボニル］−9,10−ジフルオロ−３−メチル
−2,3−ジヒドロ−7H−ピリド［3,2,1−ij］−1,3,4−
ベンゾオキサジアジン−７−オンを得た;FAB−MS m/z
411（MH⁺）。

ｂ）Ｎ−メチルピペラジン（15μｌ）とトリエチルアミ
ン（20μｌ）を、上記ボラン中間体（41mg）のジメチル
スルホキシド（1ml）溶液に加えた。その混合物を、室
温で２時間撹拌後、その反応混合液を凍結乾燥した。そ
の残渣は、メタノール／エーテルから結晶化させ、34mg
の黄色結晶６−［［（ジアセトキシボリル）オキシ］カ
ルボニル］−９−フルオロ−３−メチル−10−（４−メ
チル−１−ピペラジニル）−2,3−ジヒドロ−7H−ピリ
ド［3,2,1−ij］−1,3,4−ベンゾオキサジアジン−７−
オンを得た。融点156〜157℃（dec.）;FAB−MSm/z 491
（MH⁺）。

ｃ）上記ボラン中間体（5mg）をアセトン（0.1ml）にけ
ん濁させ、濃塩酸（2.5μｌ）を加えた。反応混合物を
室温で30分間撹拌し、氷中て冷却した。生じた沈殿を、
ろ過して集め95％エタノール（0.1ml）に溶解した。こ
の溶液にトリエチルアミン（２μｌ）を加え、混合物を
１時間加熱還流した。その溶液を、室温まで冷却した
後、生じた沈殿をろ過して集め、９−フルオロ−３−メ
チル−10−（４−メチル−１−ピペラジニル）−７−オ
キソ−2,3−ジヒドロ−7H−ピリド［3,2,1−ij］−1,3,
4−ベンゾオキサジアジン−６−カルボン酸、を得た。
融点268〜269℃（dec.）。

実施例62 ピバロイルオキシメチル＝10−［３−（ベンジルオキシ
カルボニルアミノ）−１−ピロリジニル］−９−フルオ
ロ−３−メチル−７−オキソ−2,3−ジヒドロ−7H−ピ
リド［3,2,1−ij］−1,3,4−ベンゾオキサジアジン−６
−カルボキシラートの合成実施例29で得た10−［３−（ベンジルオキシカルボニル
アミノ）−１−ピロリジニル］−９−フルオロ−３−メ
チル−７−オキソ−2,3−ジヒドロ−7H−ピリド［3,2,1
−ij］−1,3,4−ベンゾオキサジアジン−６−カルボン
酸（290mg）と、ピバロイルオキシメチルクロライド（1
30μｌ）と無水炭酸カリウム（166mg）と乾燥ジメチル
ホルムアミド（10ml）の混合物を８時間45℃で撹拌し
た。溶媒を減圧下で留去し残渣をジクロロメタンに溶解
した。ジクロロメタン溶液を水で洗浄し、無水硫酸ナト
リウムで乾燥した。溶媒を減圧下で留去し、残渣を酢酸
エチルから再結晶し、325mgのピバロイルオキシメチル
＝10−［３−（ベンジルオキシカルボニルアミノ）−１
−ピロリジニル］−９−フルオロ−３−メチル−７−オ
キソ−2,3−ジヒドロ−7H−ピリド［3,2,1−ij］−1,3,
4−ベンゾオキサジアジン−６−カルボキシラートを得
た；融点185〜188℃;FAB−MS m/z 597（MH⁺）。

実施例63 ピバロイルオキシメチル＝10−（３−アミノ−１−ピロ
リジニル）−９−フルオロ−３−メチル−７−オキソ−
2,3−ジヒドロ−7H−ピリド［3,2,1−ij］−1,3,4−ベ
ンゾオキサジアジン−６−カルボキシラートの合成ピバロイルオキシメチル 10−（３−アミノ−１−ピロ
リジニル）−９−フルオロ−３−メチル−７−オキソ−
2,3−ジヒドロ−7H−ピリド［3,2,1−ij］−1,3,4−ベ
ンゾオキサジアジン−６−カルボキシラートは、実施例
30と同様にして、実施例62で得たピバロイルオキシメチ
ル＝10−［３−（ベンジルオキシカルボニルアミノ）−
１−ピロリジニル］−９−フルオロ−３−メチル−７−
オキソ−2,3−ジヒドロ−7H−ピリド［3,2,1−ij］−1,
3,4−ベンゾオキサジアジン−６−カルボキシラート（2
00mg）から調整し、酢酸エチルとｎ−ヘキサンの濃合溶
媒から沈殿させ淡かっ色粉末として得た。^１Ｈ NMR（CDCl³）δ:1.22（9H,s）、1.6〜2.4（2H,
m）、2.99（3H,s）、3.3〜4.0（5H,m）、4.98（2H,
s）、5.96（2H,s）、7.64（1H,d,J＝14.4Hz）、8.37（1
H,s）;FAB−MS m/z463（MH⁺）。

実施例64 エチル＝10−［３−（ベンジルオキシカルボニルアミ
ノ）−１−ピロリジニル］−９−フルオロ−３−メチル
−７−オキソ−2,3−ジヒドロ−7H−ピリド［3,2,1−i
j］−1,3,4−ベンゾオキサジアジン−６−カルボキシラ
ートの合成実施例29で得た10−［３−（ベンジルオキシカルボニル
アミノ）−１−ピロリジニル］−９−フルオロ−３−メ
チル−７−オキソ−2,3−ジヒドロ−7H−ピリド［3,2,1
−ij］−1,3,4−ベンゾオキサジアジン−６−カルボン
酸（337mg）と、ヨウ化エチル（84μｌ）と無水炭酸カ
リウム（193mg）と乾燥ジメチルホルムアミド（12ml）
の混合物を45℃で６時間撹拌した。溶媒を減圧下で除去
し、残渣をジクロロメタンに溶解した。ジクロロメタン
溶液を水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥させ、減
圧下で濃縮した。残渣を、シリカゲルカラムにかけクロ
ロホルムとアセトン（20:1）の混合物で溶出した。精製
分画を集め、減圧下で乾固した。残渣と酢酸エチルから
再結晶し、271mgのエチル＝10−［３−（ベンジルオキ
シカルボニルアミノ）−１−ピロリジニル］−９−フル
オロ−３−メチル−７−オキソ−2,3−ジヒドロ−7H−
ピリド［3,2,1−ij］−1,3,4−ベンゾオキサジアジン−
６−カルボキシラートを得た。融点204〜207℃;FAB−MS
m/z 511（MH⁺）。

実施例65 エチル＝10−（３−アミノ−１−ピロリジニル）−９−
フルオロ−３−メチル−７−オキソ−2,3−ジヒドロ−7
H−ピリド［3,2,1−イジ］−1,3,4−ベンゾオキサジア
ジン−６−カルボキシラートの合成実施例64で得たエチル＝10−［３−（ベンジルオキシカ
ルボニルアミノ）−１−ピロリジニル］−９−フルオロ
−３−メチル−７−オキソ−2,3−ジヒドロ−7H−ピリ
ド［3,2,1−ij］−1,3,4−ベンゾオキサジアジン−６−
カルボキシラート（200mg）をクロロホルム（25ml）と
メタノール（10ml）の混合溶媒中で５％Pd/c（120mg）
触媒下で23時間水素添加した。ろ過により触媒除去後、
そのろ液を減圧下で濃縮した。残渣をシリカゲルカラム
にかけ、クロロホルムとメタノール（4:1）の混合溶媒
で溶出した。精製分画を集め、減圧下で濃縮乾固した。
その残渣はさらに分取用のTLC（シリカゲル；クロロホ
ルム／メタノール3:1）で精製し；エタノールから再結
晶し、71mgのエチル＝10−（３−アミノ−１−ピロリジ
ニル）−９−フルオロ−３−メチル−７−オキソ−2,3
−ジヒドロ−7H−ピリド［3,2,1−ij］−1,3,4−ベンゾ
オキサジアジン−６−カルボキシラートを得た。融点18
7〜192℃（dec.）;FAB−MS m/z 377（MH⁺）。

実施例66 10−（３−アミノ−１−ピロリジニル）−９−フルオロ
−３−メチル−７−オキソ−2,3−ジヒドロ−7H−ピリ
ド［3,2,1−ij］−1,3,4−ベンゾオキサジアジン−６−
カルボン酸塩酸塩の合成実施例30で得た10−（３−アミノ−１−ピロリジニ
ル）］−９−フルオロ−３−メチル−７−オキソ−2,3
−ジヒドロ−７−ピリド［3,2,1−ij］−1,3,4−ベンゾ
オキサジアジン−６−カルボン酸（20mg）を水1mlで溶
かした溶液のpHを6N塩酸でpH1に調整した。その透明な
溶液を凍結乾燥し、残渣を水／エタノール（1:2）から
結晶化し、19mlの10−（３−アミノ−１−ピロリジニ
ル）−９−フルオロ−３−メチル−７−オキソ−2,3−
ジヒドロ−7H−ピリド［3,2,1−ij］−1,3,4−ベンゾオ
キサジアジン−６−カルボン酸塩酸塩を得た。融点226
〜228℃（dec.）。

実施例67 ９−フルオロ−３−メチル−10−（４−メチル−１−ピ
ペラジニル）−７−オキソ−2,3−ジヒドロ−7H−ピリ
ド［3,2,1−ij］−1,3,4−ベンゾオキサジアジン−６−
カルボン酸塩酸塩の合成実施例66と同様にして、９−フルオロ−３−メチル−10
−（４−メチル−１−ピペラジニル）−７−オキソ−2,
3−ジヒドロ−7H−ピリド［3,2,1−ij］−1,3,4−ベン
ゾオキサジアジン−６−カルボン酸塩酸塩を得た。融点
264平266℃（dec.）。

実施例68 ９−フルオロ−３−メチル−10−モノホリノ−７−オキ
ソ−2,3−ジヒドロ−7H−ピリド［3,2,1−ij］−1,3,4
−ベンゾオキサジアジン−６−カルボン酸ナトリウム塩
の合成実施例９で得た９−フルオロ−３−メチル−10−モルホ
リノ−７−オキソ−2,3−ジヒドロ−7H−ピリド［3,2,1
−ij］−1,3,4−ベンゾオキサジアジン−６−カルボン
酸（14mg）を水（0.4ml）にけん濁し、1N−水酸化ナト
リウム（40μｌ）を撹拌しながら加えた。その透明溶液
を凍結乾燥し、残渣を水／エタノール（1:4）から結晶
化し、12mgの９−フルオロ−３−メチル−10−モルホリ
ノ−７−オキソ−2,3−ジヒドロ−7H−ピリド［3,2,1−
ij］−1,3,4−ベンゾオキサジアジン−６−カルボン酸
ナトリウム塩を得た。融点＞300℃ 実施例69 ９−フルオロ−３−（２−フルオロエチル）−10−（４
−メチル−１−ピペラジニル）−７−オキソ−2,3−ジ
ヒドロ−7H−ピリド［3,2,1−ij］−1,3,4−ベンゾオキ
サジアジン−６−カルボン酸の合成参考例（ｆ）で得られたエチル−８−ベンジルオキシ−
6,7−ジフルオロ−１−（ホルミルアミノ）−４−オキ
ソ−1,4−ジヒドロ−３−キノリンカルボキシラートを
出発物質として参考例（ｇ）、（ｈ）および（ｉ）（ヨ
ウ化メチルのかわりに１−ブロモ−２−フルオロエタン
を使用）、実施例１と実施例５の一連の方法に従って、
９−フルオロ−３−（２−フルオロエチル）−10−（４
−メチル−１−ピペラジニル）−７−オキソ−2,3−シ
ヒドロ−7H−ピリド［3,2,1−ij］−1,3,4−ベンゾオキ
サジアジン−６−カルボン酸を調整し、メタノールから
再結晶し、結晶性粉末として得た。融点220〜224℃、MS
m/z 394（M⁺）。

実施例70−77 実施例５あるいは実施例29/30で述べたいずれかと同様
の方法を使用して、実施例１で得られた化合物から、以
下の化合物を得た。

実施例５あるいは実施例29/30で述べたいずれかと同様
の方法を使用して、実施例１で得られた化合物から、以
下の化合物も得た。

10−［３−（アミノメチル）−４−メチル−１−ピロリ
ジニル］−９−フルオロ−３−メチル−７−オキソ−2,
3−ジヒドロ−7H−ピリド［3,2,1−ij］−1,3,4−ベン
ゾオキサジアジン−６−カルボン酸、 10−［３−（エチルアミノ）メチル］−４−メチル−１
−ピロリジニル］−９−フルオロ−３−メチル−７−オ
キソ−2,3−ジヒドロ−7H−ピリド［3,2,1−ij］−1,3,
4−ベンゾオキサジアジン−６−カルボン酸、 10−［３−（アミノメチル）−４−クロロ−１−ピロリ
ジニル］−９−フルオロ−３−メチル−７−オキソ−2,
3−ジヒドロ−7H−ピリド［3,2,1−ij］−1,3,4−ベン
ゾオキサジアジン−６−カルボン酸、 10−［３−（アミノメチル）−４−フルオロ−１−ピロ
リジニル］−９−フルオロ−３−メチル−７−オキソ−
2,3−ジヒドロ−7H−ピリド［3,2,1−ij］−1,3,4−ベ
ンゾオキサジアジン−６−カルボン酸、 10−［３−クロロ−４［（メチルアミノ）メチル］−１
−ピロリジニル［−９−フルオロ−３−メチル−７−オ
キソ−2,3−ジヒドロ−7H−ピリド［3,2,1−ij］−1,3,
4−ベンゾオキサジアジン−６−カルボン酸、９−フルオロ−10−［３−フルオロ−４［（メチルアミ
ノ）メチル］−１−ピロリジニル］−３−メチル−７−
オキソ−2,3−ジヒドロ−7H−ピリド［3,2,1−ij］−1,
3,4−ベンゾオキサジアジン−６−カルボン酸、 10−［３−クロロ−４［（エチルアミノ）メチル］−１
−ピロリジニル］−９−フルオロ−３−メチル−７−オ
キソ−2,3−ジヒドロ−7H−ピリド［3,2,1−ij］−1,3,
4−ベンゾオキサジアジン−６−カルボン酸、 10−［３−［（エチルアミノ）メチル］４−フルオロ−
１−ピロリジニル］−９−フルオロ−３−メチル−７−
オキソ−2,3−ジヒドロ−7H−ピリド［3,2,1−ij］−1,
3,4−ベンゾオキサジアジン−６−カルボン酸、９−フルオロ−10−［３−メトキシ−４−（メチルアミ
ノ）−１−ピロリジニル］−３−メチル−７−オキソ−
2,3−ジヒドロ−7H−ピリド［3,2,1−ij］−1,3,4−ベ
ンゾオキサジアジン−６−カルボン酸、 10−［３−［（エチルアミノ）−４−メトキシ−１−ピ
ロリジニル］−９−フルオロ−３−メチル−７−オキソ
−2,3−ジヒドロ−7H−ピリド［3,2,1−ij］−1,3,4−
ベンゾオキサジアジン−６−カルボン酸、９−フルオロ−10−（３−ヒドロキシ−４−メトキシ−
１−ピロリジニル）−３−メチル−７−オキソ−2,3−
ジヒドロ−7H−ピリド［3,2,1−ij］−1,3,4−ベンゾオ
キサジアジン−６−カルボン酸、 10−（３−アミノ−４−クロロ−１−ピロリジニル）−
９−フルオロ−３−メチル−７−オキソ−2,3−ジヒド
ロ−7H−ピリド［3,2,1−ij］−1,3,4−ベンゾオキサジ
アジン−６−カルボン酸、 10−（３−アミノ−４−フルオロ−１−ピロリジニル）
−９−フルオロ−３−メチル−７−オキソ−2,3−ジヒ
ドロ−7H−ピリド［3,2,1−ij］−1,3,4−ベンゾオキサ
ジアジン−６−カルボン酸、 10−［３−クロロ−４−（メチルアミノ）−１−ピロリ
ジニル］−９−フルオロ−３−メチル−７−オキソ−2,
3−ジヒドロ−7H−ピリド［3,2,1−ij］−1,3,4−ベン
ゾオキサジアジン−６−カルボン酸、９−フルオロ−10−［３−フルオロ−４−（メチルアミ
ノ）−ピロリジニル］−３−メチル−７−オキソ−2,3
−ジヒドロ−7H−ピリド［3,2,1−ij］−1,3,4−ベンゾ
オキサジアジン−６−カルボン酸、９−フルオロ−３−メチル−10−（１−オキシド−４−
チオモルホリニル）−７−オキソ−2,3−ジヒドロ−7H
−ピリド［3,2,1−ij］−1,3,4−ベンゾオキサジアジン
−６−カルボン酸、９−フルオロ−10−［３−ヒドロキシ−４−（メチルア
ミノ）−１ピロリジニル］−３−メチル−７−オキソ−
2,3−ジヒドロ−7H−ピリド［3,2,1−ij］−1,3,4−ベ
ンゾオキサジアジン−６−カルボン酸。

実施例78 10−［３−［（４−アミノベンジル）アミノ］−１−ピ
ロリジニル］−９−フルオロ−３−メチル−７−オキソ
−2,3−ジヒドロ−7H−ピリド［3,2,1−ij］−1,3,4−
ベンゾオキサジアジン−６−カルボン酸の合成 10−［３−［（４−アミノベンジル）アミノ］−１−ピ
ロリジニル］−９−フルオロ−３−メチル−７−オキソ
−2,3−ジヒドロ−7H−ピリド［3,2,1−ij］−1,3,4−
ベンゾオキサジアジン−６−カルボン酸は、実施例30で
得た10−（３−アミノ−１−ピロリジニル）−９−フル
オロ−３−メチル−７−オキソ−2,3−ジヒドロ−7H−
ピリド［3,2,1−ij］−1,3,4−ベンゾオキサジアジン−
６−カルボン酸を出発原料として、実施例47と53で述べ
た方法と同様にして得た。融点180〜182℃（dec.）、FA
B−MS m/z 453（MH⁺）。

実施例79 ９−フルオロ−10−［３−［［（ジメチルアミノ）メチ
レン］−アミノ］−１−ピロリジニル］−３−メチル−
７−オキソ−2,3−ジヒドロ−7H−ピリド［3,2,1−ij］
−1,3,4−ベンゾオキサジアジン−６−カルボン酸の合
成実施例30で得た10−（３−アミノ−１−ピロリジニル）
−９−フルオロ−３−メチル−７−オキソ−2,3−ジヒ
ドロ−7H−ピリド［3,2,1−ij］−1,3,4−ベンゾオキサ
アジン−６−カルボン酸（14mg）とN,N−ジメチルホル
ムアミドジメチルアセタール（６μｌ）を乾燥DMF
（0.5ml）にけん濁し室温で8.5時間撹拌した。ろ過によ
って沈殿を集めジメチルホルムアミドとエーテルで洗浄
した後、ジメチルホルムアミドから再結晶し、8mgの９
−フルオロ−10−［３−［［（ジメチルアミノ）メチレ
ン］−アミノ］−１−ピロリジニル］−３−メチル−７
−オキソ−2,3−ジヒドロ−7H−ピリド［3,2,1−ij］−
1,3,4−ベンゾオキサジアジン−６−カルボン酸を淡黄
色結晶として得た。融点218〜220℃（dec.）、FAB−MS
m/z 404（MH⁺）。

実施例80 ９−フルオロ−３−メチル−10−（４−メチル−１−ピ
ペラジニル）−７−オキソ−2,3−ジヒドロ−7H−ピリ
ド［3,2,1−ij］−1,3,4−ベンゾオキサジアジン−６−
カルボン酸ナトリウム塩の合成９−フルオロ−３−メチル−10−（４−メチル−１−ピ
ペラジニル）−７−オキソ−2,3−ジヒドロ−7H−ピリ
ド［3,2,1−ij］−1,3,4−ベンゾオキサジアジン−６−
カルボン酸（520mg）を0.5N水酸化ナトリウム（2.88m
l）に溶かした。その透明な溶液を、減圧下に溶媒留去
し、555mgの淡黄色粉末を得、エタノールから再結晶
し、更に80℃で２日間乾燥し９−フルオロ−３−メチル
−10−（４−メチル−１−ピペラジニル）−７−オキソ
−2,3−ジヒドロ−7H−ピリド［3,2,1−ij］−1,3,4−
ベンゾオキサジアジン−６−カルボン酸ナトリウム塩47
5mgを得た。更に80℃で２日間乾燥し物性を得る為の試
料とした。融点252〜254℃（dec.）、FAB−MS m/z 38
5。

以下の実施例は、本発明により提供される化合物を含有
する製薬学的組成物を示すものである。

実施例Ａ各々が、次の成分を含有するインターロッキング（inte
rlocking）ゼラチンカプセルを常法により作った； 9-フルオロ‐3-メチル‐10- （4-メチル‐1-ピペラジニル）‐ 7-オキソ‐2,3-ジヒドロ‐7H- ピリド［3,2,1,-ij］‐1,3,4-ベンゾオキサジアジン‐6-カルボン酸 200mg ルビスコール（Luviskol） 20mg （水溶性ポリビニルピロリドン）マンニトール 20mg タルク 15mg ステアリン酸マグネシウム 2mg 257mg 実施例Ｂ各々が、次の成分を含有する錠剤を常法により作った； 9-フルオロ‐3-メチル‐10- （4-メチル‐1-ピペラジニル）‐ 7-オキソ‐2,3-ジヒドロ‐7H- ピリド［3,2,1-ij］‐1,3,4-ベンゾオキサジアジン‐6-カルボン酸 200mg スターチ 44mg カルボキシメチルセルロースカルシウム 30mg 結晶セルロース 40mg ステアリン酸マグネシウム 6mg 320mg

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】一般式（Ｉ）式中、R¹は水素原子、またはカルボキシ保護基を示し；
R²は水素原子またはハロゲン原子で置換されていてもよ
い低級アルキル基を示し；R³およびR⁴はそれぞれ独立し
て水素原子、または水酸基でまたは置換もしくは未置換
のアミノ基で置換されていてもよい低級アルキル基を示
し;Xはハロゲン原子を示し；そしてR⁵およびR⁶はそれぞ
れ独立して水素原子、または水酸基、低級アルコキシ基
または置換もしくは未置換のアミノ基で置換されていて
もよい低級アルキル基を示し；またはR⁵およびR⁶は隣接
する窒素原子と一緒になって５〜７員の複素環を形成し
ていてもよく、該複素環はその炭素原子において１もし
くはそれ以上の置換基で置換されていてもよく、さらに
該複素環は−NR⁷−、−Ｏ−、−Ｓ−、−SO−、−SO₂−
もしくは−NR⁷−CO−［ここで、R⁷は、水素原子、低級
アルケニル基、置換されていてもよい低級アルキル基も
しくはアラルキル基、または一般式（II） −（CH₂)nCOR⁸ （II）（式中、ｎは１〜４であり、R⁸は水素原子、低級アルコ
キシ基、または置換されていてもよいアミノ、低級アル
キルもしくはアリール基である）を示す］を含んでいて
もよい、で表わされる三環式化合物並びにその製薬学的に許容し
うる塩、および式（Ｉ）の化合物およびそれらの塩の水
和物または溶媒和物。
【請求項２】置換されたアミノ−低級アルキル基である
場合のR³および／またはR⁴が、ジ低級アルキルアミノ−
低級アルキル基、低級アルキルアミノ−低級アルキル基
または低級シクロアルキルアミノ−低級アルキル基であ
る特許請求の範囲第１項に記載の化合物。
【請求項３】置換されたアミノ−低級アルキル基である
場合のR⁵および／またはR⁶が、ジ低級アルキルアミノ−
低級アルキル基、低級アルキルアミノ−低級アルキル基
または低級シクロアルキルアミノ−低級アルキル基であ
る特許請求の範囲第１項もしくは第２項に記載の化合
物。
【請求項４】隣接する窒素原子と一緒になって５〜７員
の複素環を形成し、その複素環の炭素原子において１も
しくはそれ以上の置換基で置換されている場合のR⁵およ
びR⁶が、水酸基、低級アルコキシ基、アミノ基、低級ア
ルキルアミノ基、低級シクロアルキルアミノ基、ジ低級
アルキルアミノ基、低級アルカノイルアミノ基、ベンジ
ルオキシカルボニルアミノ基、ハロゲン原子、低級アル
キル基、アミノ−低級アルキル基、低級アルキルアミノ
−低級アルキル基、低級シクロアルキルアミノ−低級ア
ルキル基、ジ低級アルキルアミノ−低級アルキル基、低
級アルカノイルアミノ−低級アルキル基、ヒドロキシ−
低級アルキル基；フエニル基（随時アミノ基、ハロゲン
原子、水酸基および／または低級アルコキシ基で置換さ
れていてもよい）および複素環から選ばれた置換基を炭
素原子において有する特許請求の範囲第１項もしくは第
２項に記載の化合物。
【請求項５】隣接する窒素原子と一緒になって５〜７員
の複素環を形成し、その複素環の炭素原子において１も
しくはそれ以上の置換基で置換されている場合のR⁵およ
びR⁶が、随時ニトロ基、アミノ基、ハロゲン原子、水酸
基および／または低級アルコキシ基によって置換されて
いるベンジルアミノ基；あるいは一般式（式中、R⁵⁰およびR⁵¹は低級アルキル基、あるいは窒素
原子と一緒になって５〜８員の飽和含窒素複素環を示
す）で表わされる基から選ばれた置換基で置換されてい
る特許請求の範囲第１項もしくは第２項に記載の化合
物。
【請求項６】置換された低級アルキル基である場合のR⁷
が水酸基、低級アルコキシ基、アミノ基、低級アルキル
アミノ基、ジ低級アルキルアミノ基、ハロゲン原子、カ
ルボキシ基および／またはスルホ基で置換された低級ア
ルキル基である特許請求の範囲第１項〜第５項のいずれ
か一つに記載の化合物。
【請求項７】置換されたアラルキル基である場合の R⁷が一つもしくはそれ以上のアミノ基、ニトロ基、低級
アルキルアミノ基、ジ低級アルキルアミノ基、ハロゲン
原子および／または低級アルコキシ基によって置換され
たアラルキル基である特許請求の範囲第１項〜第５項の
いずれか一つに記載の化合物。
【請求項８】アラルキル基が、特許請求の範囲第７項で
述べた基によって随時置換されたベンジル基である特許
請求の範囲第７項に記載の化合物。
【請求項９】置換されたアミノ基を有する一般式（II）
の基である場合のR⁷が低級アルキル基および／または低
級シクロアルキル基によって置換されたアミノ基を有す
る一般式（II）の基である特許請求の範囲第１項〜第５
項のいずれか一つに記載の化合物。
【請求項１０】置換された低級アルキル基を有する一般
式（II）の基である場合のR⁷がカルボキシ基および／ま
たは低級アルコキシカルボニル基によって置換された低
級アルキル基を有する一般式（II）の基である特許請求
の範囲第１項〜第５項のいずれか一つに記載の化合物。
【請求項１１】置換されたアリール基を有する一般式
（II）の基である場合のR⁷が１もしくはそれ以上のハロ
ゲン原子、低級アルコキシ基、水酸基、ニトロ基および
／またはアミノ基によって置換されたアリール基を有す
る一般式（II）の基である特許請求の範囲第１項〜第５
項のいずれか一つに記載の化合物。
【請求項１２】アリール基が特許請求の範囲第11項に述
べた基によって随時置換されたフエニル基である特許請
求の範囲第11項に記載の化合物。
【請求項１３】Ｘがフッ素である特許請求の範囲第１項
〜第12項のいずれか一つに記載の化合物。
【請求項１４】R¹が水素原子である特許請求の範囲第１
項〜第13項のいずれか一つに記載の化合物。
【請求項１５】R²がメチル基である特許請求の範囲第１
項〜第14項のいずれか一つに記載の化合物。
【請求項１６】R³が水素原子である特許請求の範囲第１
項〜第15項のいずれか一つに記載の化合物。
【請求項１７】R⁴が水素原子である特許請求の範囲第１
項または第３項〜第16項のいずれか一つに記載の化合
物。
【請求項１８】R⁵R⁶N−基がである特許請求の範囲第１項、第２項、第４項および13
項〜第17項のいずれか一つに記載の化合物。
【請求項１９】R⁵R⁶N−基がである特許請求の範囲第１項、第２項、第４項および第
13項〜第17項のいずれか一つに記載の化合物。
【請求項２０】９−フルオロ−３−メチル−10−（４−
メチル−１−ピペラジニル）−７−オキソ−2,3−ジヒ
ドロ−7H−ピリド［3,2,1−ij］−1,3,4−ベンゾオキサ
ジアジン−６−カルボン酸またはその製薬学的に許容し
うる塩、あるいはその化合物またはそれらの塩の水和物
または溶媒和物である特許請求の範囲第１項に記載の化
合物。
【請求項２１】９−フルオロ−３−メチル−７−オキソ
−10−（１−ピペラジニル）−2,3−ジヒドロ−7H−ピ
リド［3,2,1−ij］−1,3,4−ベンゾオキサジアジン−６
−カルボン酸またはその製薬学的に許容しうる塩、ある
いはその化合物またはそれらの塩の水和物または溶媒和
物である特許請求の範囲第１項に記載の化合物。
【請求項２２】９−フルオロ−３−メチル−10−（３−
メチル−１−ピペラジニル）−７−オキソ−2,3−ジヒ
ドロ−7H−ピリド［3,2,1−ij］−1,3,4−ベンゾオキサ
ジアジン−６−カルボン酸またはその製薬学的に許容し
うる塩、あるいはその化合物またはそれらの塩の水和物
または溶媒和物である特許請求の範囲第１項に記載の化
合物。
【請求項２３】９−フルオロ−３−メチル−７−オキソ
−10−（３−フエニル−１−ピペラジニル）−2,3−ジ
ヒドロ−7H−ピリド［3,2,1−ij］−1,3,4−ベンゾオキ
サジアジン−６−カルボン酸またはその製薬学的に許容
しうる塩、あるいはその化合物またはそれらの塩の水和
物または溶媒和物である特許請求の範囲第１項に記載の
化合物。
【請求項２４】９−フルオロ−３−メチル−10−モノホ
リノ−７−オキソ−2,3−ジヒドロ−7H−ピリド［3,2,1
−ij］−1,3,4−ベンゾオキサジアジン−６−カルボン
酸またはその製薬学的に許容しうる塩、あるいはその化
合物またはそれらの塩の水和物または溶媒和物である特
許請求の範囲第１項に記載の化合物。
【請求項２５】９−フルオロ−３−メチル−10−［３−
［（メチルアミノ）メチル］−１−ピロリジニル］−７
−オキソ−2,3−ジヒドロ−7H−ピリド［3,2,1−ij］−
1,3,4−ベンゾオキサジアジン−６−カルボン酸または
その製薬学的に許容しうる塩、あるいはその化合物また
はそれらの塩の水和物または溶媒和物である特許請求の
範囲第１項に記載の化合物。
【請求項２６】10−［３−［（エチルアミノ）メチル］
−１−ピロリジニル］−９−フルオロ−３−メチル−７
−オキソ−2,3−ジヒドロ−7H−ピリド［3,2,1−ij］−
1,3,4−ベンゾオキサジアジン−６−カルボン酸または
その製薬学的に許容しうる塩、あるいはその化合物また
はそれらの塩の水和物または溶媒和物である特許請求の
範囲第１項に記載の化合物。
【請求項２７】10−（３−アミノ−１−ピロリジニル）
−９−フルオロ−３−メチル−７−オキソ−2,3−ジヒ
ドロ−7H−ピリド［3,2,1−ij］−1,3,4−ベンゾオキサ
ジアジン−６−カルボン酸またはその製薬学的に許容し
うる塩、あるいはその化合物またはそれらの塩の水和物
または溶媒和物である特許請求の範囲第１項に記載の化
合物。
【請求項２８】９−フルオロ−３−メチル−10−［３−
（メチルアミノ）−１−ピロリジニル］−７−オキソ−
2,3−ジヒドロ−7H−ピリド［3,2,1−ij］−1,3,4−ベ
ンゾオキサジアジン−６−カルボン酸またはその製薬学
的に許容しうる塩、あるいはその化合物またはそれらの
塩の水和物または溶媒和物である特許請求の範囲第１項
に記載の化合物。
【請求項２９】10−［３−（エチルアミノ）−１−ピロ
リジニル］−９−フルオロ−３−メチル−７−オキソ−
2,3−ジヒドロ−7H−ピリド［3,2,1−ij］−1,3,4−ベ
ンゾオキサジアジン−６−カルボン酸またはその製薬学
的に許容しうる塩、あるいはその化合物またはそれらの
塩の水和物または溶媒和物である特許請求の範囲第１項
に記載の化合物。
【請求項３０】10−（3,4−ジメチル−１−ピペラジニ
ル）−９−フルオロ−３−メチル−７−オキソ−2,3−
ジヒドロ−7H−ピリド［3,2,1−ij］−1,3,4−ベンゾオ
キサジアジン−６−カルボン酸またはその製薬学的に許
容しうる塩、あるいはその化合物またはそれらの塩の水
和物または溶媒和物である特許請求の範囲第１項に記載
の化合物。
【請求項３１】９−フルオロ−10−（３−メトキシ−１
−ピロリジニル］−３−メチル−７−オキソ−2,3−ジ
ヒドロ−7H−ピリド［3,2,1−ij］−1,3,4−ベンゾオキ
サジアジン−６−カルボン酸またはその製薬学的に許容
しうる塩、あるいはその化合物またはそれらの塩の水和
物または溶媒和物である特許請求の範囲第１項に記載の
化合物。
【請求項３２】９−フルオロ−３−メチル−７−オキソ
−10−［４−（３−オキソ−ｎ−ブチル）−１−ピペラ
ジニル］−2,3−ジヒドロ−7H−ピリド［3,2,1−ij］−
1,3,4−ベンゾオキサジアジン−６−カルボン酸または
その製薬学的に許容しうる塩、あるいはその化合物また
はそれらの塩の水和物または溶媒和物である特許請求の
範囲第１項に記載の化合物。
【請求項３３】ジナトリウム＝９−フルオロ−３−メチ
ル−７−オキソ−10−［４−（スルホナトメチル）−１
−ピペラジニル］−2,3−ジヒドロ−7H−ピリド［3,2,1
−ij］−1,3,4−ベンゾオキサジアジン−６−カルボキ
シラートあるいはその水和物または溶媒和物である特許
請求の範囲第１項に記載の化合物。
【請求項３４】10−［４−（アミノベンジル）−１−ピ
ペラジニル］−９−フルオロ−３−メチル−７−オキソ
−2,3−ジヒドロ−7H−ピリド［3,2,1−ij］−1,3,4−
ベンゾオキサジアジン−６−カルボン酸またはその製薬
学的に許容しうる塩、あるいはその化合物またはそれら
の塩の水和物または溶媒和物である特許請求の範囲第１
項に記載の化合物。
【請求項３５】10−［３−（アミノメチル）−１−ピロ
リジニル］−９−フルオロ−３−メチル−７−オキソ−
2,3−ジヒドロ−7H−ピリド［3,2,1−ij］−1,3,4−ベ
ンゾオキサジアジン−６−カルボン酸またはその製薬学
的に許容しうる塩、あるいはその化合物またはそれらの
塩の水和物または溶媒和物である特許請求の範囲第１項
に記載の化合物。
【請求項３６】９−フルオロ−10−（１−イミダゾリ
ル）−３−メチル−７−オキソ−2,3−ジヒドロ−7H−
ピリド［3,2,1−ij］−1,3,4−ベンゾオキサジアジン−
６−カルボン酸またはその製薬学的に許容しうる塩、あ
るいはその化合物またはそらの塩の水和物または溶媒和
物である特許請求の範囲第１項に記載の化合物。
【請求項３７】10−（４−エチル−１−ピペラジニル）
−９−フルオロ−３−メチル−７−オキソ−2,3−ジヒ
ドロ−7H−ピリド［3,2,1−ij］−1,3,4−ベンゾオキサ
ジアジン−６−カルボン酸またはその製薬学的に許容し
うる塩、あるいはその化合物またはそれらの塩の水和物
または溶媒和物である特許請求の範囲第１項に記載の化
合物。
【請求項３８】９−フルオロ−10−［４−（２−ヒドロ
キシエチル）−１−ピペラジニル］−３−メチル−７−
オキソ−2,3−ジヒドロ−7H−ピリド［3,2,1−ij］−1,
3,4−ベンゾオキサジアジン−６−カルボン酸またはそ
の製薬学的に許容しうる塩、あるいはその化合物または
それらの塩の水和物または溶媒和物である特許請求の範
囲第１項に記載の化合物。
【請求項３９】９−フルオロ−３−メチル−10−（４−
メチル−１−イミダゾリル）−７−オキソ−2,3−ジヒ
ドロ−7H−ピリド［3,2,1−ij］−1,3,4−ベンゾオキサ
ジアジン−６−カルボン酸またはその製薬学的に許容し
うる塩、あるいはその化合物またはそれらの塩の水和物
または溶媒和物である特許請求の範囲第１項に記載の化
合物。
【請求項４０】９−フルオロ−３−メチル−10−［３−
メチル−４−［（メチルアミノ）メチル］−１−ピロリ
ジニル］−７−オキソ−2,3−ジヒドロ−7H−ピリド
［3,2,1−ij］−1,3,4−ベンゾオキサジアジン−６−カ
ルボン酸またはその製薬学的に許容しうる塩、あるいは
その化合物またはそれらの塩の水和物または溶媒和物で
ある特許請求の範囲第１項に記載の化合物。
【請求項４１】10−［３−（アミノメチル）−４−メチ
ル−１−ピロリジニル］−９−フルオロ−３−メチル−
７−オキソ−2,3−ジヒドロ−7H−ピリド［3,2,1−ij］
−1,3,4−ベンゾオキサジアジン−６−カルボン酸また
はその製薬学的に許容しうる塩、あるいはその化合物ま
たはそれらの塩の水和物または溶媒和物である特許請求
の範囲第１項に記載の化合物。
【請求項４２】10−［３−［（エチルアミノ）メチル］
−４−メチル−１−ピロリジニル］−９−フルオロ−３
−メチル−７−オキソ−2,3−ジヒドロ−7H−ピリド
［3,2,1−ij］−1,3,4−ベンゾオキサジアジン−６−カ
ルボン酸またはその製薬学的に許容しうる塩、あるいは
その化合物またはそれらの塩の水和物または溶媒和物で
ある特許請求の範囲第１項に記載の化合物。
【請求項４３】10−［３−（アミノメチル）−４−クロ
ロ−１−ピロリジニル］−９−フルオロ−３−メチル−
７−オキソ−2,3−ジヒドロ−7H−ピリド［3,2,1−ij］
−1,3,4−ベンゾオキサジアジン−６−カルボン酸また
はその製薬学的に許容しうる塩、あるいはその化合物ま
たはそれらの塩の水和物または溶媒和物である特許請求
の範囲第１項に記載の化合物。
【請求項４４】10−［３−（アミノメチル）−４−フル
オロ−１−ピロリジニル］−９−フルオロ−３−メチル
−７−オキソ−2,3−ジヒドロ−7H−ピリド［3,2,1−i
j］−1,3,4−ベンゾオキサジアジン−６−カルボン酸ま
たはその製薬学的に許容しうる塩、あるいはその化合物
またはそれらの塩の水和物または溶媒和物である特許請
求の範囲第１項に記載の化合物。
【請求項４５】10−［３−クロロ−４−［（メチルアミ
ノ）メチル］−１−ピロリジニル］−９−フルオロ−３
−メチル−７−オキソ−2,3−ジヒドロ−7H−ピリド
［3,2,1−ij］−1,3,4−ベンゾオキサジアジン−６−カ
ルボン酸またはその製薬学的に許容しうる塩、あるいは
その化合物またはそれらの塩の水和物または溶媒和物で
ある特許請求の範囲第１項に記載の化合物。
【請求項４６】９−フルオロ−10−［３−フルオロ−４
−［（メチルアミノ）メチル］−１−ピロリジニル］−
３−メチル−７−オキソ−2,3−ジヒドロ−7H−ピリド
［3,2,1−ij］−1,3,4−ベンゾオキサジアジン−６−カ
ルボン酸またはその製薬学的に許容しうる塩、あるいは
その化合物またはそれらの塩の水和物または溶媒和物で
ある特許請求の範囲第１項に記載の化合物。
【請求項４７】10−［３−クロロ−４−［（エチルアミ
ノ）メチル］−１−ピロリジニル］−９−フルオロ−３
−メチル−７−オキソ−2,3−ジヒドロ−7H−ピリド
［3,2,1−ij］−1,3,4−ベンゾオキサジアジン−６−カ
ルボン酸またはその製薬学的に許容しうる塩、あるいは
その化合物またはそれらの塩の水和物または溶媒和物で
ある特許請求の範囲第１項に記載の化合物。
【請求項４８】10−［３−［（エチルアミノ）メチル］
−４−フルオロ−１−ピロリジニル］−９−フルオロ−
３−メチル−７−オキソ−2,3−ジヒドロ−7H−ピリド
［3,2,1−ij］−1,3,4−ベンゾオキサジアジン−６−カ
ルボン酸またはその製薬学的に許容しうる塩、あるいは
その化合物またはそれらの塩の水和物または溶媒和物で
ある特許請求の範囲第１項に記載の化合物。
【請求項４９】10−（３−アミノ−４−メトキシ−１−
ピロリジニル）−９−フルオロ−３−メチル−７−オキ
ソ−2,3−ジヒドロ−7H−ピリド［3,2,1−ij］−1,3,4
−ベンゾオキサジアジン−６−カルボン酸またはその製
薬学的に許容しうる塩、あるいはその化合物またはそれ
らの塩の水和物または溶媒和物である特許請求の範囲第
１項に記載の化合物。
【請求項５０】９−フルオロ−10−［３−メトキシ−４
−（メチルアミノ）−１−ピロリジニル］−３−メチル
−７−オキソ−2,3−ジヒドロ−7H−ピリド［3,2,1−i
j］−1,3,4−ベンゾオキサジアジン−６−カルボン酸ま
たはその製薬学的に許容しうる塩、あるいはその化合物
またはそれらの塩の水和物または溶媒和物である特許請
求の範囲第１項に記載の化合物。
【請求項５１】10−［３−（エチルアミノ）−４−メト
キシ−１−ピロリジニル］−９−フルオロ−３−メチル
−７−オキソ−2,3−ジヒドロ−7H−ピリド［3,2,1−i
j］−1,3,4−ベンゾオキサジアジン−６−カルボン酸ま
たはその製薬学的に許容しうる塩、あるいはその化合物
またはそれらの塩の水和物または溶媒和物である特許請
求の範囲第１項に記載の化合物。
【請求項５２】９−フルオロ−10−（３−ヒドロキシ−
４−メトキシ−１−ピロリジニル］−３−メチル−７−
オキソ−2,3−ジヒドロ−7H−ピリド［3,2,1−ij］−1,
3,4−ベンゾオキサジアジン−６−カルボン酸またはそ
の製薬学的に許容しうる塩、あるいはその化合物または
それらの塩の水和物または溶媒和物である特許請求の範
囲第１項に記載の化合物。
【請求項５３】10−（３−アミノ−４−クロロ−１−ピ
ロリジニル）−９−フルオロ−３−メチル−７−オキソ
−2,3−ジヒドロ−7H−ピリド［3,2,1−ij］−1,3,4−
ベンゾオキサジアジン−６−カルボン酸またはその製薬
学的に許容しうる塩、あるいはその化合物またはそれら
の塩の水和物または溶媒和物である特許請求の範囲第１
項に記載の化合物。
【請求項５４】10−（３−アミノ−４−フルオロ−１−
ピロリジニル］−９−フルオロ−３−メチル−７−オキ
ソ−2,3−ジヒドロ−7H−ピリド［3,2,1−ij］−1,3,4
−ベンゾオキサジアジン−６−カルボン酸またはその製
薬学的に許容しうる塩、あるいはその化合物またはそれ
らの塩の水和物または溶媒和物である特許請求の範囲第
１項に記載の化合物。
【請求項５５】10−［３−クロロ−４−（メチルアミ
ノ）−１−ピロリジニル］−９−フルオロ−３−メチル
−７−オキソ−2,3−ジヒドロ−7H−ピリド［3,2,1−i
j］−1,3,4−ベンゾオキサジアジン−６−カルボン酸ま
たはその製薬学的に許容しうる塩、あるいはその化合物
またはそれらの塩の水和物または溶媒和物である特許請
求の範囲第１項に記載の化合物。
【請求項５６】９−フルオロ−10−［３−フルオロ−４
−（メチルアミノ）−１−ピロリジニル］−３−メチル
−７−オキソ−2,3−ジヒドロ−7H−ピリド［3,2,1−i
j］−1,3,4−ベンゾオキサジアジン−６−カルボン酸ま
たはその製薬学的に許容しうる塩、あるいはその化合物
またはそれらの塩の水和物または溶媒和物である特許請
求の範囲第１項に記載の化合物。
【請求項５７】10−［４−（アミノメチル）−１−ピペ
リジル］−９−フルオロ−３−メチル−７−オキソ−2,
3−ジヒドロ−7H−ピリド［3,2,1−ij］−1,3,4−ベン
ゾオキサジアジン−６−カルボン酸またはその製薬学的
に許容しうる塩、あるいはその化合物またはそれらの塩
の水和物または溶媒和物である特許請求の範囲第１項に
記載の化合物。
【請求項５８】９−フルオロ−10−（４−ヒドロキシ−
１−ピペリジル）−３−メチル−７−オキソ−2,3−ジ
ヒドロ−7H−ピリド［3,2,1−ij］−1,3,4−ベンゾオキ
サジアジン−６−カルボン酸またはその製薬学的に許容
しうる塩、あるいはその化合物またはそれらの塩の水和
物または溶媒和物である特許請求の範囲第１項に記載の
化合物。
【請求項５９】９−フルオロ−３−メチル−７−オキソ
−10−［４−（１−ピロリル）−１−ピペリジル］−2,
3−ジヒドロ−7H−ピリド［3,2,1−ij］−1,3,4−ベン
ゾオキサジアジン−６−カルボン酸またはその製薬学的
に許容しうる塩、あるいはその化合物またはそれらの塩
の水和物または溶媒和物である特許請求の範囲第１項に
記載の化合物。
【請求項６０】９−フルオロ−10−（１−ホモピペラジ
ニル）−３−メチル−７−オキソ−2,3−ジヒドロ−7H
−ピリド［3,2,1−ij］−1,3,4−ベンゾオキサジアジン
−６−カルボン酸またはその製薬学的に許容しうる塩、
あるいはその化合物またはそれらの塩の水和物または溶
媒和物である特許請求の範囲第１項に記載の化合物。
【請求項６１】９−フルオロ−10−（３−ヒドロキシ−
１−ピロリジニル）−３−メチル−７−オキソ−2,3−
ジヒドロ−7H−ピリド［3,2,1−ij］−1,3,4−ベンゾオ
キサジアジン−６−カルボン酸またはその製薬学的に許
容しうる塩、あるいはその化合物またはそれらの塩の水
和物または溶媒和物である特許請求の範囲第１項に記載
の化合物。
【請求項６２】９−フルオロ−３−メチル−７−オキソ
−10−（４−ｎ−プロピル−１−ピペラジニル）−2,3
−ジヒドロ−7H−ピリド［3,2,1−ij］−1,3,4−ベンゾ
オキサジアジン−６−カルボン酸またはその製薬学的に
許容しうる塩、あるいはその化合物またはそれらの塩の
水和物または溶媒和物である特許請求の範囲第１項に記
載の化合物。
【請求項６３】９−フルオロ−10−［４−（２−フルオ
ロエチル）−１−ピペラジニル］−３−メチル−７−オ
キソ−2,3−ジヒドロ−7H−ピリド［3,2,1−ij］−1,3,
4−ベンゾオキサジアジン−６−カルボン酸またはその
製薬学的に許容しうる塩、あるいはその化合物またはそ
れらの塩の水和物または溶媒和物である特許請求の範囲
第１項に記載の化合物。
【請求項６４】10−［４−（カルボキシメチル）−１−
ピペラジニル］−９−フルオロ−３−メチル−７−オキ
ソ−2,3−ジヒドロ−7H−ピリド［3,2,1−ij］−1,3,4
−ベンゾオキサジアジン−６−カルボン酸またはその製
薬学的に許容しうる塩、あるいはその化合物またはそれ
らの塩の水和物または溶媒和物である特許請求の範囲第
１項に記載の化合物。
【請求項６５】10−（４−アリル−１−ピペラジニル）
−９−フルオロ−３−メチル−７−オキソ−2,3−ジヒ
ドロ−7H−ピリド［3,2,1−ij］−1,3,4−ベンゾオキサ
ジアジン−６−カルボン酸またはその製薬学的に許容し
うる塩、あるいはその化合物またはそれらの塩の水和物
または溶媒和物である特許請求の範囲第１項に記載の化
合物。
【請求項６６】10−（1,1−ジオキシド−４−チオモル
ホリニル）−９−フルオロ−３−メチル−７−オキソ−
2,3−ジヒドロ−7H−ピリド［3,2,1−ij］−1,3,4−ベ
ンゾオキサジアジン−６−カルボン酸またはその製薬学
的に許容しうる塩、あるいはその化合物またはそれらの
塩の水和物または溶媒和物である特許請求の範囲第１項
に記載の化合物。
【請求項６７】９−フルオロ−３−メチル−10−（１−
オキシド−４−チオモルホリニル）−７−オキソ−2,3
−ジヒドロ−7H−ピリド［3,2,1−ij］−1,3,4−ベンゾ
オキサジアジン−６−カルボン酸またはその製薬学的に
許容しうる塩、あるいはその化合物またはそれらの塩の
水和物または溶媒和物である特許請求の範囲第１項に記
載の化合物。
【請求項６８】９−フルオロ−３−メチル−７−オキソ
−10−［４−（２−オキソ−ｎ−プロピル）−１−ピペ
ラジニル］−2,3−ジヒドロ−7H−ピリド［3,2,1−ij］
−1,3,4−ベンゾオキサジアジン−６−カルボン酸また
はその製薬学的に許容しうる塩、あるいはその化合物ま
たはそれらの塩の水和物または溶媒和物である特許請求
の範囲第１項に記載の化合物。
【請求項６９】10−（３−クロロ−１−ピロリジニル）
−９−フルオロ−３−メチル−７−オキソ−2,3−ジヒ
ドロ−7H−ピリド［3,2,1−ij］−1,3,4−ベンゾオキサ
ジアジン−６−カルボン酸またはその製薬学的に許容し
うる塩、あるいはその化合物またはそれらの塩の水和物
または溶媒和物である特許請求の範囲第１項に記載の化
合物。
【請求項７０】９−フルオロ−３−（２−フルオロエチ
ル）−10−（４−メチル−１−ピペラジニル）−７−オ
キソ−2,3−ジヒドロ−7H−ピリド［3,2,1−ij］−1,3,
4−ベンゾオキサジアジン−６−カルボン酸またはその
製薬学的に許容しうる塩、あるいはその化合物またはそ
れらの塩の水和物または溶媒和物である特許請求の範囲
第１項に記載の化合物。
【請求項７１】10−（４−アミノ−１−ピぺリジル）−
９−フルオロ−３−メチル−７−オキソ−2,3−ジヒド
ロ−7H−ピリド［3,2,1−ij］−1,3,4−ベンゾオキサジ
アジン−６−カルボン酸またはその製薬学的に許容しう
る塩、あるいはその化合物またはそれらの塩の水和物ま
たは溶媒和物である特許請求の範囲第１項に記載の化合
物。
【請求項７２】９−フルオロ−３−メチル−10−［４−
（メチルアミノ）−１−ピペリジル］−７−オキソ−2,
3−ジヒドロ−7H−ピリド［3,2,1−ij］−1,3,4−ベン
ゾオキサジアジン−６−カルボン酸またはその製薬学的
に許容しうる塩、あるいはその化合物またはそれらの塩
の水和物または溶媒和物である特許請求の範囲第１項に
記載の化合物。
【請求項７３】10−［４−（エチルアミノ）−１−ピぺ
リジル］−９−フルオロ−３−メチル−７−オキソ−2,
3−ジヒドロ−7H−ピリド［3,2,1−ij］−1,3,4−ベン
ゾオキサジアジン−６−カルボン酸またはその製薬学的
に許容しうる塩、あるいはその化合物またはそれらの塩
の水和物または溶媒和物である特許請求の範囲第１項に
記載の化合物。
【請求項７４】10−［３−［（エチルメチルアミノ）メ
チル］−１−ピロリジニル］−９−フルオロ−３−メチ
ル−７−オキソ−2,3−ジヒドロ−7H−ピリド［3,2,1−
ij］−1,3,4−ベンゾオキサジアジン−６−カルボン酸
またはその製薬学的に許容しうる塩、あるいはその化合
物またはそれらの塩の水和物または溶媒和物である特許
請求の範囲第１項に記載の化合物。
【請求項７５】10−（３−アミノ−４−ヒドロキシ−１
−ピロリジニル）−９−フルオロ−３−メチル−７−オ
キソ−2,3−ジヒドロ−7H−ピリド［3,2,1−ij］−1,3,
4−ベンゾオキサジアジン−６−カルボン酸またはその
製薬学的に許容しうる塩、あるいはその化合物またはそ
れらの塩の水和物または溶媒和物である特許請求の範囲
第１項に記載の化合物。
【請求項７６】９−フルオロ−10−［３−ヒドロキシ−
４−（メチルアミノ）−１−ピロリジニル］−３−メチ
ル−７−オキソ−2,3−ジヒドロ−7H−ピリド［3,2,1−
ij］−1,3,4−ベンゾオキサジアジン−６−カルボン酸
またはその製薬学的に許容しうる塩、あるいはその化合
物またはそれらの塩の水和物または溶媒和物である特許
請求の範囲第１項に記載の化合物。
【請求項７７】９−フルオロ−３−メチル−７−オキソ
−10−（４−チオモルホリニル）−2,3−ジヒドロ−7H
−ピリド［3,2,1−ij］−1,3,4−ベンゾオキサジアジン
−６−カルボン酸またはその製薬学的に許容しうる塩、
あるいはその化合物またはそれらの塩の水和物または溶
媒和物である特許請求の範囲第１項に記載の化合物。
【請求項７８】10−（2,6−ジメチル−４−モルホリニ
ル）−９−フルオロ−３−メチル−７−オキソ−2,3−
ジヒドロ−7H−ピリド［3,2,1−ij］−1,3,4−ベンゾオ
キサジアジン−６−カルボン酸またはその製薬学的に許
容しうる塩、あるいはその化合物またはそれらの塩の水
和物または溶媒和物である特許請求の範囲第１項に記載
の化合物。
【請求項７９】10−［３−（アセチルアミノメチル）−
１−ピロリジニル］−９−フルオロ−３−メチル−７−
オキソ−2,3−ジヒドロ−7H−ピリド［3,2,1−ij］−1,
3,4−ベンゾオキサジアジン−６−カルボン酸またはそ
の製薬学的に許容しうる塩、あるいはその化合物または
それらの塩の水和物または溶媒和物である特許請求の範
囲第１項に記載の化合物。
【請求項８０】10−［［２−（ジメチルアミノ）エチ
ル］メチルアミノ］−９−フルオロ−３−メチル−７−
オキソ−2,3−ジヒドロ−7H−ピリド［3,2,1−ij］−1,
3,4−ベンゾオキサジアジン−６−カルボン酸またはそ
の製薬学的に許容しうる塩、あるいはその化合物または
それらの塩の水和物または溶媒和物である特許請求の範
囲第１項に記載の化合物。
【請求項８１】９−フルオロ−３−メチル−７−オキソ
−10−（３−オキソ−１−ピペラジニル）−2,3−ジヒ
ドロ−7H−ピリド［3,2,1−ij］−1,3,4−ベンゾオキサ
ジアジン−６−カルボン酸またはその製薬学的に許容し
うる塩、あるいはその化合物またはそれらの塩の水和物
または溶媒和物である特許請求の範囲第１項に記載の化
合物。
【請求項８２】９−フルオロ−２−（ヒドロキシメチ
ル）−３−メチル−10−（４−メチル−１−ピペラジニ
ル）−７−オキソ−2,3−ジヒドロ−7H−ピリド［3,2,1
−ij］−1,3,4−ベンゾオキサジアジン−６−カルボン
酸またはその製薬学的に許容しうる塩、あるいはその化
合物またはそれらの塩の水和物または溶媒和物である特
許請求の範囲第１項に記載の化合物。
【請求項８３】２−［（ジメチルアミノ）メチル］−９
−フルオロ−３−メチル−10−（４−メチル−１−ピペ
ラジニル）−７−オキソ−2,3−ジヒドロ−7H−ピリド
［3,2,1−ij］−1,3,4−ベンゾオキサジアジン−６−カ
ルボン酸またはその製薬学的に許容しうる塩、あるいは
その化合物またはそれらの塩の水和物または溶媒和物で
ある特許請求の範囲第１項に記載の化合物。
【請求項８４】10−［３−（ベンジルオキシカルボニル
アミノ）−１−ピロリジニル］−９−フルオロ−３−メ
チル−７−オキソ−2,3−ジヒドロ−7H−ピリド［3,2,1
−ij］−1,3,4−ベンゾオキサジアジン−６−カルボン
酸またはその製薬学的に許容しうる塩、あるいはその化
合物またはそれらの塩の水和物または溶媒和物である特
許請求の範囲第１項に記載の化合物。
【請求項８５】９−フルオロ−３−メチル−７−オキソ
−10−（４−フエナシル−１−ピペラジニル）−2,3−
ジヒドロ−7H−ピリド［3,2,1−ij］−1,3,4−ベンゾオ
キサジアジン−６−カルボン酸またはその製薬学的に許
容しうる塩、あるいはその化合物またはそれらの塩の水
和物または溶媒和物である特許請求の範囲第１項に記載
の化合物。
【請求項８６】９−フルオロ−３−メチル−10−［４−
（４−ニトロベンジル）−１−ピペラジニル］−７−オ
キソ−2,3−ジヒドロ−7H−ピリド［3,2,1−ij］−1,3,
4−ベンゾオキサジアジン−６−カルボン酸またはその
製薬学的に許容しうる塩、あるいはその化合物またはそ
れらの塩の水和物または溶媒和物である特許請求の範囲
第１項に記載の化合物。
【請求項８７】10−［４−（３−カルボキシプロピオニ
ル）−１−ピペラジニル］−９−フルオロ−３−メチル
−７−オキソ−2,3−ジヒドロ−7H−ピリド［3,2,1−i
j］−1,3,4−ベンゾオキサジアジン−６−カルボン酸ま
たはその製薬学的に許容しうる塩、あるいはその化合物
またはそれらの塩の水和物または溶媒和物である特許請
求の範囲第１項に記載の化合物。
【請求項８８】10−（４−アセチル−１−ピペラジニ
ル）−９−フルオロ−３−メチル−７−オキソ−2,3−
ジヒドロ−7H−ピリド［3,2,1−ij］−1,3,4−ベンゾオ
キサジアジン−６−カルボン酸またはその製薬学的に許
容しうる塩、あるいはその化合物またはそれらの塩の水
和物または溶媒和物である特許請求の範囲第１項に記載
の化合物。
【請求項８９】９−フルオロ−10−（４−メトキシ−１
−ピペリジル）−３−メチル−７−オキソ−2,3−ジヒ
ドロ−7H−ピリド［3,2,1−ij］−1,3,4−ベンゾオキサ
ジアジン−６−カルボン酸またはその製薬学的に許容し
うる塩、あるいはその化合物またはそれらの塩の水和物
または溶媒和物である特許請求の範囲第１項に記載の化
合物。
【請求項９０】９−フルオロ−2,3−ジメチル−10−
（４−メチル−１−ピペラジニル）−７−オキソ−2,3
−ジヒドロ−7H−ピリド［3,2,1−ij］−1,3,4−ベンゾ
オキサジアジン−６−カルボン酸またはその製薬学的に
許容しうる塩、あるいはその化合物またはそれらの塩の
水和物または溶媒和物である特許請求の範囲第１項に記
載の化合物。
【請求項９１】９−フルオロ−2,3−ジメチル−７−オ
キソ−10−（１−ピペラジニル）−2,3−ジヒドロ−7H
−ピリド［3,2,1−ij］−1,3,4−ベンゾオキサジアジン
−６−カルボン酸またはその製薬学的に許容しうる塩、
あるいはその化合物またはそれらの塩の水和物または溶
媒和物である特許請求の範囲第１項に記載の化合物。
【請求項９２】エチル＝10−［３−（ベンジルオキシカ
ルボニルアミノ）−１−ピロリジニル］−９−フルオロ
−３−メチル−７−オキソ−2,3−ジヒドロ−7H−ピリ
ド［3,2,1−ij］−1,3,4−ベンゾオキサジアジン−６−
カルボキシラートまたはその製薬学的に許容しうる塩、
あるいはその化合物またはそれらの塩の水和物または溶
媒和物である特許請求の範囲第１項に記載の化合物。
【請求項９３】エチル＝10−（３−アミノ−１−ピロリ
ジニル）−９−フルオロ−３−メチル−７−オキソ−2,
3−ジヒドロ−7H−ピリド［3,2,1−ij］−1,3,4−ベン
ゾオキサジアジン−６−カルボキシラートまたはその製
薬学的に許容しうる塩、あるいはその化合物またはそれ
らの塩の水和物または溶媒和物である特許請求の範囲第
１項に記載の化合物。
【請求項９４】ベンジル＝９−フルオロ−10−（３−ヒ
ドロキシ−１−ピロリジニル）−３−メチル−７−オキ
ソ−2,3−ジヒドロ−7H−ピリド［3,2,1−ij］−1,3,4
−ベンゾオキサジアジン−６−カルボキシラートまたは
その製薬学的に許容しうる塩、あるいはその化合物また
はそれらの塩の水和物または溶媒和物である特許請求の
範囲第１項に記載の化合物。
【請求項９５】ベンジル＝10−（３−クロロ−１−ピロ
リジニル）−９−フルオロ−３−メチル−７−オキソ−
2,3−ジヒドロ−7H−ピリド［3,2,1−ij］−1,3,4−ベ
ンゾオキサジアジン−６−カルボキシラートまたはその
製薬学的に許容しうる塩、あるいはその化合物またはそ
れらの塩の水和物または溶媒和物である特許請求の範囲
第１項に記載の化合物。
【請求項９６】ピバロイルオキシメチル＝10−［３−
（ベンジルオキシカルボニルアミノ）−１−ピロリジニ
ル］−９−フルオロ−３−メチル−７−オキソ−2,3−
ジヒドロ−7H−ピリド［3,2,1−ij］−1,3,4−ベンゾオ
キサジアジン−６−カルボキシラートまたはその製薬学
的に許容しうる塩、あるいはその化合物またはそれらの
塩の水和物または溶媒和物である特許請求の範囲第１項
に記載の化合物。
【請求項９７】ピバロイルオキシメチル＝10−（３−ア
ミノ−１−ピロリジニル）−９−フルオロ−３−メチル
−７−オキソ−2,3−ジヒドロ−7H−ピリド［3,2,1−i
j］−1,3,4−ベンゾオキサジアジン−６−カルボキシラ
ートまたはその製薬学的に許容しうる塩、あるいはその
化合物またはそれらの塩の水和物または溶媒和物である
特許請求の範囲第１項に記載の化合物。る特許請求の範囲第１項に記載の化合物。
【請求項９８】10−［３−［（４−アミノベンジル）ア
ミノ］−１−ピロリジニル］−９−フルオロ−３−メチ
ル−７−オキソ−2,3−ジヒドロ−7H−ピリド［3,2,1−
ij］−1,3,4−ベンゾオキサジアジン−６−カルボン酸
またはその製薬学的に許容しうる塩、あるいはその化合
物またはそれらの塩の水和物または溶媒和物である特許
請求の範囲第１項に記載の化合物。
【請求項９９】９−フルオロ−10−［３−［［（ジメチ
ルアミノ）メチレン］アミノ］−１−ピロリジニル］−
３−メチル−７−オキソ−2,3−ジヒドロ−7H−ピリド
［3,2,1−ij］−1,3,4−ベンゾオキサジアジン−６−カ
ルボン酸またはその製薬学的に許容しうる塩、あるいは
その化合物またはそれらの塩の水和物または溶媒和物で
ある特許請求の範囲第１項に記載の化合物。
【請求項１００】９−フルオロ−３−メチル−10−［３
−（４−メチル−１−ピペラジニル）−１−ピロリジニ
ル］−７−オキソ−2,3−ジヒドロ−7H−ピリド［3,2,1
−ij］−1,3,4−ベンゾオキサジアジン−６−カルボン
酸またはその製薬学的に許容しうる塩、あるいはその化
合物またはそれらの塩の水和物または溶媒和物である特
許請求の範囲第１項に記載の化合物。
【請求項１０１】10−（３−アミノ−３−メチル−１−
ピリジニル）−９−フルオロ−３−メチル−７−オキソ
−2,3−ジヒドロ−7H−ピリド［3,2,1−ij］−1,3,4−
ベンゾオキサジアジン−６−カルボン酸またはその製薬
学的に許容しうる塩、あるいはその化合物またはそれら
の塩の水和物または溶媒和物である特許請求の範囲第１
項に記載の化合物。
【請求項１０２】10−（トランス−３−アミノ−４−メ
チル−１−ピロリジニル）−９−フルオロ−３−メチル
−７−オキソ−2,3−ジヒドロ−7H−ピリド［3,2,1−i
j］−1,3,4−ベンゾオキサジアジン−６−カルボン酸ま
たはその製薬学的に許容しうる塩、あるいはその化合物
またはそれらの塩の水和物または溶媒和物である特許請
求の範囲第１項に記載の化合物。
【請求項１０３】10−（トランス−３−アミノ−４−フ
ェニル−１−ピロリジニル）−９−フルオロ−３−メチ
ル−７−オキソ−2,3−ジヒドロ−7H−ピリド［3,2,1−
ij］−1,3,4−ベンゾオキサジアジン−６−カルボン酸
またはその製薬学的に許容しうる塩、あるいはその化合
物またはそれらの塩の水和物または溶媒和物である特許
請求の範囲第１項に記載の化合物。
【請求項１０４】９−フルオロ−３−メチル−10−［３
−メチル−３［（メチルアミノ）メチル］−１−ピロリ
ジニル］−７−オキソ−2,3−ジヒドロ−7H−ピリド
［3,2,1−ij］−1,3,4−ベンゾオキサジアジン−６−カ
ルボン酸またはその製薬学的に許容しうる塩、あるいは
その化合物またはそれらの塩の水和物または溶媒和物で
ある特許請求の範囲第１項に記載の化合物。
【請求項１０５】９−フルオロ−３−メチル−10−［ト
ランス−３−［（メチルアミノ）メチル］−４−フェニ
ル−１−ピリジニル］−７−オキソ−2,3−ジヒドロ−7
H−ピリド［3,2,1−ij］−1,3,4−ベンゾオキサジアジ
ン−６−カルボン酸またはその製薬学的に許容しうる
塩、あるいはその化合物またはそれらの塩の水和物また
は溶媒和物である特許請求の範囲第１項に記載の化合
物。
【請求項１０６】10−（トランス−３−アミノ−４−メ
トキシ−１−ピロリジニル）−９−フルオロ−３−メチ
ル−７−オキソ−2,3−ジヒドロ−7H−ピリド［3,2,1−
ij］−1,3,4−ベンゾオキサジアジン−６−カルボン酸
またはその製薬学的に許容しうる塩、あるいはその化合
物またはそれらの塩の水和物または溶媒和物である特許
請求の範囲第１項に記載の化合物。
【請求項１０７】10−（トランス−３−アミノ−４−ヒ
ドロキシ−１−ピロリジニル）−９−フルオロ−３−メ
チル−７−オキソ−2,3−ジヒドロ−7H−ピリド［3,2,1
−ij］−1,3,4−ベンゾオキサジアジン−６−カルボン
酸またはその製薬学的に許容しうる塩、あるいはその化
合物またはそれらの塩の水和物または溶媒和物である特
許請求の範囲第１項に記載の化合物。
【請求項１０８】（ａ）一般式（III）式中、R¹は水素原子、またはカルボキシ保護基を示し；
R²は水素原子またはハロゲン原子で置換されていてもよ
い低級アルキル基を示し；R³およびR⁴はそれぞれ独立し
て水素原子、または水酸基でまたは置換もしくは未置換
のアミノ基で置換されていてもよい低級アルキル基を示
し;Xはハロゲン原子を示し；そしてＸ′はハロゲン原子
を示し；式中のアミノ基、水酸基および／またはカルボ
キシ基は保護されていてもよい、で表される化合物を一般式（IV）式中、R⁵およびR⁶はそれぞれ独立して水素原子、または
水酸基、低級アルコキシ基または置換もしくは未置換の
アミノ基で置換されていてもよい低級アルキル基を示
し；またはR⁵およびR⁶は隣接する窒素原子と一緒になっ
て５〜７員の複素環を形成していてもよく、該複素環は
その炭素原子において１もしくはそれ以上の置換基で置
換されていてもよく、さらに該複素環は、−NR⁷−、−
Ｏ−、−Ｓ−、−SO−、−SO₂−もしくは−NR⁷−CO−
［ここで、R⁷は、水素原子、低級アルケニル基、置換さ
れていてもよい低級アルキルもしくはアラルキル基、ま
たは一般式（II） −（CH₂)nCOR⁸ （II）（式中、ｎは１〜４であり、R⁸は水素原子、低級アルコ
キシ基、または置換されていてもよいアミノ、低級アル
キルもしくはアリール基である）を示す］を含んでいて
もよい、で表されるアミンと反応させ、所望により保護基を除去
するか、（ｂ）一般式（Ｖ）式中、R¹、R²、R⁵、R⁶およびＸは前述したと同様の意味を
有し；そして式中のアミノ基、水酸基および／またはカ
ルボキシ基は、保護されていてもよい、で表される化合物を一般式（VI）式中、R³およびR⁴は前述したと同様の意味を有する、で表されるカルボニル化合物あるいはその重合体、アセ
タール、ケタールもしくはエノールエーテルと反応さ
せ、所望により保護基を除去するか、（ｃ）R⁷が水素原子以外の基である式（Ｉ）の化合物を
製造するため、R⁷が水素原子である式（Ｉ）の化合物を
置換基R⁷⁰（ここで、R⁷⁰はR⁷と同様の意味を示すが水素
原子ではない）を生成する試薬と反応させるか、（ｄ）R⁵および／またはR⁶が低級アルキル基（あるいは
ジ低級アルキルアミノ基または低級アルコキシ基を含
む）である式（Ｉ）の化合物を製造するため、R⁵および
／またはR⁶が水素原子であるか、またはアミノ基、低級
アルキルアミノ基もしくは水酸基を含む式（Ｉ）の化合
物を低級アルキル化するか、（ｅ）R⁵R⁶N−が−SO−または−SO₂−を含む５〜７員の
複素環である式（Ｉ）の化合物を製造するため、複素環
が−Ｓ−を含む対応する化合物を酸化反応に付するか、（ｆ）遊離のアミノ基、水酸基および／またはカルボキ
シ基を有する式（Ｉ）の化合物を製造するため、保護さ
れたアミノ基、水酸基および／またはカルボキシ基を有
する式（Ｉ）の対応する化合物から保護基を除去する
か、（ｇ）ハロゲン原子を含む式（Ｉ）の化合物を製造する
ため、R¹が、カルボキシ保護基である式（Ｉ）の対応す
る水酸基で置換された化合物をハロゲン化し、所望によ
り、その保護基R¹を除去するか、（ｈ）アミノ基を含む式（Ｉ）の化合物を製造するた
め、対応する式（Ｉ）のニトロ基で置換された化合物の
ニトロ基を還元するか（ｉ）式（ここで、R⁵⁰およびR⁵¹は低級アルキル基であるか、ま
たは窒素原子と一緒になって５〜８員の飽和含窒素複素
環を示す）の基を含む式（Ｉ）の化合物を製造するた
め、対応する式（Ｉ）のアミノ基で置換された化合物を
一般式（VII）式中、R⁵⁰およびR⁵¹は前述したと同様の意味を有する、のホルムアミド誘導体の反応性誘導体と反応させるか、（ｊ）R¹がカルボキシ保護基である式（Ｉ）の化合物を
製造するため、式（Ｉ）のカルボン酸を対応するエステ
ル化に付するか、または（ｋ）式（Ｉ）の化合物の製薬学的に許容しうる塩、水
和物または溶媒和物、または該塩の水和物または溶媒和
物を製造するため、式（Ｉ）の化合物を塩、水和物また
は溶媒和物もしくはその塩の水和物または溶媒和物に変
える、ことを特徴とする一般式（Ｉ）、式中、R¹、R²、R³、R⁴、Ｘ、R⁵およびR⁶は前述したと同様
の意味を有する、で表わされ三環式化合物並びにその製薬学的に許容しう
る塩、および式（Ｉ）の化合物およびそれらの塩の水和
物または溶媒和物の製造方法。
【請求項１０９】（ａ）〜（ｈ）、（ｊ）及び（ｋ）の
いずれか一つの方法を行うことを特徴とする特許請求の
範囲第108項に記載の製造方法。
【請求項１１０】一般式（Ｉ）、式中、R¹は水素原子、またはカルボキシ保護基を示し；
R²は水素原子またはハロゲン原子で置換されていてもよ
い低級アルキル基を示し；R³およびR⁴はそれぞれ独立し
て水素原子、または水酸基でまたは置換もしくは未置換
のアミノ基で置換されていてもよい低級アルキル基を示
し;Xはハロゲン原子を示し；そしてR⁵およびR⁶はそれぞ
れ独立して水素原子、または水酸基、低級アルコキシ基
または置換もしくは未置換のアミノ基で置換されていて
もよい低級アルキル基を示し；またはR⁵およびR⁶は隣接
する窒素原子と一緒になって５〜７員の複素環を形成し
ていてもよく、該複素環はその炭素原子において１もし
くはそれ以上の置換基で置換されていてもよく、さらに
該複素環は−NR⁷−、−Ｏ−、−Ｓ−、−SO−、−SO₂−
もしくは−NR⁷−CO−［ここで、R⁷は、水素原子、低級
アルケニル基、置換されていてもよい低級アルキル基も
しくはアラルキル基、または一般式（II） −（CH₂)nCOR⁸ （II）（式中、ｎは１〜４であり、R⁸は水素原子、低級アルコ
キシ基、または置換されていてもよいアミノ、低級アル
キルもしくはアリール基である）を示す］を含んでいて
もよい、で表される三環式化合物或いはその製薬学的に許容しう
る塩、または式（Ｉ）の化合物またはそれらの塩の水和
物もしくは溶媒和物を有効成分として含有することを特
徴とする感染症の処置または予防剤。