JPH07101188A - 複合カード - Google Patents
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- JPH07101188A JPH07101188A JP5271138A JP27113893A JPH07101188A JP H07101188 A JPH07101188 A JP H07101188A JP 5271138 A JP5271138 A JP 5271138A JP 27113893 A JP27113893 A JP 27113893A JP H07101188 A JPH07101188 A JP H07101188A
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- G06K—GRAPHICAL DATA READING; PRESENTATION OF DATA; RECORD CARRIERS; HANDLING RECORD CARRIERS
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- G06K19/06—Record carriers for use with machines and with at least a part designed to carry digital markings characterised by the kind of the digital marking, e.g. shape, nature, code
- G06K19/08—Record carriers for use with machines and with at least a part designed to carry digital markings characterised by the kind of the digital marking, e.g. shape, nature, code using markings of different kinds or more than one marking of the same kind in the same record carrier, e.g. one marking being sensed by optical and the other by magnetic means
- G06K19/10—Record carriers for use with machines and with at least a part designed to carry digital markings characterised by the kind of the digital marking, e.g. shape, nature, code using markings of different kinds or more than one marking of the same kind in the same record carrier, e.g. one marking being sensed by optical and the other by magnetic means at least one kind of marking being used for authentication, e.g. of credit or identity cards
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- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 ICメモリー部と光メモリー部の相対位置が
規定された状態で一体化された基板に形成されるので信
頼性の高い、外観上優れた複合カードを少ない工数で歩
留り良く提供する。 【構成】 ICメモリーと光メモリーを有する複合カー
ドに於いて、該複合カードの基板にICモジュールを埋
設する凹部と光記録層にプリフォーマットを与える凹凸
パターンが同時に一体化して形成されている複合カー
ド。ICメモリーと光メモリーを有する複合カードに於
いて、該複合カードの基板にICメモリー領域と光メモ
リー領域が同時に一体化して形成されている複合カー
ド。
規定された状態で一体化された基板に形成されるので信
頼性の高い、外観上優れた複合カードを少ない工数で歩
留り良く提供する。 【構成】 ICメモリーと光メモリーを有する複合カー
ドに於いて、該複合カードの基板にICモジュールを埋
設する凹部と光記録層にプリフォーマットを与える凹凸
パターンが同時に一体化して形成されている複合カー
ド。ICメモリーと光メモリーを有する複合カードに於
いて、該複合カードの基板にICメモリー領域と光メモ
リー領域が同時に一体化して形成されている複合カー
ド。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、ICカードと光カード
の両機能を兼ね備えた複合カードに関するものである。
の両機能を兼ね備えた複合カードに関するものである。
【0002】
【従来の技術】近年、ICカードや光カードのようにク
レジットカードサイズのメモリーカードが従来の磁気ス
トライプカードに加えて盛んに使用されている。ICカ
ードは、半導体メモリーであるICモジュールをクレジ
ットサイズのプラスチックカードに埋設したもので、情
報の記録再生が電気的に処理出来ることからR/W(リ
ーダー・ライダー)機がコンパクトになりコンピュータ
その他の周辺機器に使用されている。
レジットカードサイズのメモリーカードが従来の磁気ス
トライプカードに加えて盛んに使用されている。ICカ
ードは、半導体メモリーであるICモジュールをクレジ
ットサイズのプラスチックカードに埋設したもので、情
報の記録再生が電気的に処理出来ることからR/W(リ
ーダー・ライダー)機がコンパクトになりコンピュータ
その他の周辺機器に使用されている。
【0003】光カードは、そのメモリー容量が大きい事
を特徴として個人情報としての医療用途(電子カルテ)
や機器類のメインテナンスカードとしての利用に注目さ
れている。本発明はこのICカードと光カードとの機能
を合せもつ複合カードに関するものである。
を特徴として個人情報としての医療用途(電子カルテ)
や機器類のメインテナンスカードとしての利用に注目さ
れている。本発明はこのICカードと光カードとの機能
を合せもつ複合カードに関するものである。
【0004】従来、この種の複合カードとしては、先ず
光記録部を有する光カードを形成し、次でこれに所定の
位置にICモジュールを埋設する凹部を形成し、ICモ
ジュールを固定する方法で製造されていた。
光記録部を有する光カードを形成し、次でこれに所定の
位置にICモジュールを埋設する凹部を形成し、ICモ
ジュールを固定する方法で製造されていた。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来例では、 (1)複合カードのサイズ(85×54×0.76m
m)に対し、ICモジュールの厚みが0.60mmと近
接している為に、ICモジュール埋設用の凹部形成加工
時のマージンが少なく歩留が悪い。これにはカードの作
製時の厚みのバラツキと凹部加工でのバラツキが積とし
て働く。 (2)光メモリーカードは、メモリ媒体の上に0.4±
0.05mmの透明層が必須で、その構成は透明層
(0.4±0.05mm)/メモリー媒体/接着層/保
護層(裏材)の積層タイプで、全体の厚みが0.76±
0.08mmである事が規格で定められている。この様
な積層タイプの光メモリーカードに、エンドミル等の装
置でICモジュールの埋設用の凹部を彫刻(切削)加工
するには、時に接着層がホットメルトタイプの様にやわ
らかく、積層される各構成部材の機械強度が異なってい
る場合には、厚み方向で均一な加工が難しく精度の良い
加工が出来ない。 (3)又、切削部分での界面剥離が生じ空気層による外
観上の不良が生じる。加えてICモジュール埋設用の凹
部を加工する際に、既に形成されている光メモリー部を
損なわない様に配慮しなければならず、加工時の熱、圧
力、水などの制限や光メモリー部の透明基板に対する汚
れや傷を避ける為のハンドリング上の制限が必要であ
る。 などの問題点があった。
来例では、 (1)複合カードのサイズ(85×54×0.76m
m)に対し、ICモジュールの厚みが0.60mmと近
接している為に、ICモジュール埋設用の凹部形成加工
時のマージンが少なく歩留が悪い。これにはカードの作
製時の厚みのバラツキと凹部加工でのバラツキが積とし
て働く。 (2)光メモリーカードは、メモリ媒体の上に0.4±
0.05mmの透明層が必須で、その構成は透明層
(0.4±0.05mm)/メモリー媒体/接着層/保
護層(裏材)の積層タイプで、全体の厚みが0.76±
0.08mmである事が規格で定められている。この様
な積層タイプの光メモリーカードに、エンドミル等の装
置でICモジュールの埋設用の凹部を彫刻(切削)加工
するには、時に接着層がホットメルトタイプの様にやわ
らかく、積層される各構成部材の機械強度が異なってい
る場合には、厚み方向で均一な加工が難しく精度の良い
加工が出来ない。 (3)又、切削部分での界面剥離が生じ空気層による外
観上の不良が生じる。加えてICモジュール埋設用の凹
部を加工する際に、既に形成されている光メモリー部を
損なわない様に配慮しなければならず、加工時の熱、圧
力、水などの制限や光メモリー部の透明基板に対する汚
れや傷を避ける為のハンドリング上の制限が必要であ
る。 などの問題点があった。
【0006】又、光メモリー部には、情報が記録される
トラックがカード外形に対し精度よく配置され、該情報
を記録・再生する時のAT信号や情報を管理するための
トラックナンバーなどの信号を与える情報が予じめ設け
られていなければならない。この様なプリフォーマット
信号としては基板に凹凸状のパターンとして形成し、そ
の上に反射層を設けるのが最も一般的である。また、こ
の反射層は記録層を兼ねることが出来る。
トラックがカード外形に対し精度よく配置され、該情報
を記録・再生する時のAT信号や情報を管理するための
トラックナンバーなどの信号を与える情報が予じめ設け
られていなければならない。この様なプリフォーマット
信号としては基板に凹凸状のパターンとして形成し、そ
の上に反射層を設けるのが最も一般的である。また、こ
の反射層は記録層を兼ねることが出来る。
【0007】図6は、ICモジュールを埋設する凹部と
光メモリー領域としてプリフォーマット層の無い厚さ
0.40±0.05mmの透明層が同時に一体化して形
成された基板を使用した複合カードを示したものであ
る。この場合、厚みの異なる基板の一部に記録トラック
を含む光記録層7を一部に精度よく配置する事は、非常
に難しい問題である。
光メモリー領域としてプリフォーマット層の無い厚さ
0.40±0.05mmの透明層が同時に一体化して形
成された基板を使用した複合カードを示したものであ
る。この場合、厚みの異なる基板の一部に記録トラック
を含む光記録層7を一部に精度よく配置する事は、非常
に難しい問題である。
【0008】図6では、プリフォーマット層11として
光感光性樹脂を使用した所謂2P法で凹凸プリフォーマ
ットを作成し、その上に光記録層を設ける例であるが、 (1)板厚の異なる光記録領域に均一にプリフォーマッ
ト層11となる2P剤を塗布し、これにスタンパーを押
圧して、その表面形状を転写した状態で、紫外線を照射
して硬化した後、このスタンパーを剥離してプリフォー
マット層11を形成する。この様に工程が多いと精度の
バラツキは各工程の総計となるので、小さく押えるのが
難しい。 (2)プリフォーマット層のプリフォーマットパターン
の配置は、カードの外形寸法に対し厳しい精度が要求さ
れる。これは光記録層の記録トラックが12μmピッチ
で9μm巾という寸法精度で構成されており、R/W装
置はその数値を基に設計され装置の互換性を堅持する為
にはカードへの要求精度も厳しくなる。 (3)又、ICメモリーと光メモリーとの複合カードで
ある為には、それぞれの単独カードとの間でも互換性を
維持する為にはそれぞれの寸法規格を満足しなければな
らず、より厳しいものとなる。 などの点で問題が多い。
光感光性樹脂を使用した所謂2P法で凹凸プリフォーマ
ットを作成し、その上に光記録層を設ける例であるが、 (1)板厚の異なる光記録領域に均一にプリフォーマッ
ト層11となる2P剤を塗布し、これにスタンパーを押
圧して、その表面形状を転写した状態で、紫外線を照射
して硬化した後、このスタンパーを剥離してプリフォー
マット層11を形成する。この様に工程が多いと精度の
バラツキは各工程の総計となるので、小さく押えるのが
難しい。 (2)プリフォーマット層のプリフォーマットパターン
の配置は、カードの外形寸法に対し厳しい精度が要求さ
れる。これは光記録層の記録トラックが12μmピッチ
で9μm巾という寸法精度で構成されており、R/W装
置はその数値を基に設計され装置の互換性を堅持する為
にはカードへの要求精度も厳しくなる。 (3)又、ICメモリーと光メモリーとの複合カードで
ある為には、それぞれの単独カードとの間でも互換性を
維持する為にはそれぞれの寸法規格を満足しなければな
らず、より厳しいものとなる。 などの点で問題が多い。
【0009】この点も、本発明は、上記の従来の問題を
解決することを可能にするものであり、ICメモリー部
と光メモリー部の相対位置が規定された状態で一体化さ
れた基板に形成されるので信頼性の高い、外観上優れた
複合カードを少ない工数で歩留り良く提供することを目
的とするものである。
解決することを可能にするものであり、ICメモリー部
と光メモリー部の相対位置が規定された状態で一体化さ
れた基板に形成されるので信頼性の高い、外観上優れた
複合カードを少ない工数で歩留り良く提供することを目
的とするものである。
【0010】
【課題を解決するための手段】即ち、本発明の第一の発
明は、ICメモリーと光メモリーを有する複合カードに
於いて、該複合カードの基板にICモジュールを埋設す
る凹部と光記録層にプリフォーマットを与える凹凸パタ
ーンが同時に一体化して形成されてなる事を特徴とする
複合カードである。
明は、ICメモリーと光メモリーを有する複合カードに
於いて、該複合カードの基板にICモジュールを埋設す
る凹部と光記録層にプリフォーマットを与える凹凸パタ
ーンが同時に一体化して形成されてなる事を特徴とする
複合カードである。
【0011】本発明の第二の発明は、ICメモリーと光
メモリーを有する複合カードに於いて、該複合カードの
基板にICメモリー領域と光メモリー領域が同時に一体
化して形成されてなる事を特徴とする複合カードであ
る。
メモリーを有する複合カードに於いて、該複合カードの
基板にICメモリー領域と光メモリー領域が同時に一体
化して形成されてなる事を特徴とする複合カードであ
る。
【0012】
【実施例】以下に実施例を挙げて本発明を具体的に説明
する。
する。
【0013】○本発明の第一の発明の実施例 実施例1 図1〜4は本発明の複合カードの特徴を最もよく表わす
図である。図1は本発明の複合カードに用いる基板の一
例を示す説明図である。図1に於いて、複合カード基板
1は、ICモジュールの埋設凹部4を有するICメモリ
ー領域2と、光メモリーの光ビームが入射する透明層に
あらかじめ決められた凹凸パターンを有する光メモリー
領域3から構成されている。
図である。図1は本発明の複合カードに用いる基板の一
例を示す説明図である。図1に於いて、複合カード基板
1は、ICモジュールの埋設凹部4を有するICメモリ
ー領域2と、光メモリーの光ビームが入射する透明層に
あらかじめ決められた凹凸パターンを有する光メモリー
領域3から構成されている。
【0014】具体的には、ICメモリー領域は0.76
±0.08mmの厚みで、光メモリー領域はその厚みが
0.4±0.05mmで光学的にひずみが無く透過率
(波長750〜850nmで)95%以上の透明基板と
して、同時に一体化して形成される。
±0.08mmの厚みで、光メモリー領域はその厚みが
0.4±0.05mmで光学的にひずみが無く透過率
(波長750〜850nmで)95%以上の透明基板と
して、同時に一体化して形成される。
【0015】基板の形成方法としては、キャステング成
形やインジェクション成形によって好しく達成される。
材料としては光学的にひずみが無く、透明なもので、ア
クリル系樹脂,ポリカーボネート樹脂,ポリスチレン,
アモロファスポリオレフィン,ポリエステル系樹脂,エ
ポキシ系樹脂,CR−39,ラブセブン,TPXなどが
使用出来る。
形やインジェクション成形によって好しく達成される。
材料としては光学的にひずみが無く、透明なもので、ア
クリル系樹脂,ポリカーボネート樹脂,ポリスチレン,
アモロファスポリオレフィン,ポリエステル系樹脂,エ
ポキシ系樹脂,CR−39,ラブセブン,TPXなどが
使用出来る。
【0016】図2は本発明による図1の基板を使用した
複合カードの一例を示す説明図である。図中、ICモジ
ュール埋設凹部4にICモジュール6を接着層8aで固
定してICメモリー部12を形成し、光メモリー領域3
には、凹凸プリフォーマットパターン5上に光記録層7
を設け接着層8によって保護層(裏基板)9を積層して
光メモリー部13を形成している。
複合カードの一例を示す説明図である。図中、ICモジ
ュール埋設凹部4にICモジュール6を接着層8aで固
定してICメモリー部12を形成し、光メモリー領域3
には、凹凸プリフォーマットパターン5上に光記録層7
を設け接着層8によって保護層(裏基板)9を積層して
光メモリー部13を形成している。
【0017】こうして形成された複合カードには、光メ
モリー部が傷によって損なわれるのを防ぐ為にハードコ
ート層14が設けられるのが一般的である。ICメモリ
ー部はその接点を介して制御されるがその位置の方向、
即ち光メモリー部と同じ側か反対の側かはそのアプリケ
ーションによって自由であるが、一般的には反対側に設
けられる例が多い。
モリー部が傷によって損なわれるのを防ぐ為にハードコ
ート層14が設けられるのが一般的である。ICメモリ
ー部はその接点を介して制御されるがその位置の方向、
即ち光メモリー部と同じ側か反対の側かはそのアプリケ
ーションによって自由であるが、一般的には反対側に設
けられる例が多い。
【0018】光メモリー部は光ビームを照射する事によ
って、光ビームによる再生の際にそこからの反射率を変
化させるピット穴の形成や変形などの幾何学的な変化や
脱色、相変化などの光学常数変化をひき起す光記録層7
が形成されている。この光記録層7は単に追記タイプの
媒体だけでは無く、その一部が予め情報を書き込んだR
OMタイプの媒体であっても、書き換え可能な媒体であ
っても良い。
って、光ビームによる再生の際にそこからの反射率を変
化させるピット穴の形成や変形などの幾何学的な変化や
脱色、相変化などの光学常数変化をひき起す光記録層7
が形成されている。この光記録層7は単に追記タイプの
媒体だけでは無く、その一部が予め情報を書き込んだR
OMタイプの媒体であっても、書き換え可能な媒体であ
っても良い。
【0019】光記録層7の材料としては、記録・再生が
半導体レーザーのような光ビームによって行われるもの
で、記録メカニズムが光化学反応によるものや、光を吸
収し、その熱による、所謂ヒートモード記録であっても
いずれでもよく、その記録によって再生光の反射や透過
を変化させて読み出す事が可能なものである。この様な
ものには、光もしくは熱により、例えば相変化による反
射率変化を利用するもの、その物性を変化するものやそ
の形状を変化するもの、例えばピット記録などがあり、
本発明ではこれらのいずれであっても良い。
半導体レーザーのような光ビームによって行われるもの
で、記録メカニズムが光化学反応によるものや、光を吸
収し、その熱による、所謂ヒートモード記録であっても
いずれでもよく、その記録によって再生光の反射や透過
を変化させて読み出す事が可能なものである。この様な
ものには、光もしくは熱により、例えば相変化による反
射率変化を利用するもの、その物性を変化するものやそ
の形状を変化するもの、例えばピット記録などがあり、
本発明ではこれらのいずれであっても良い。
【0020】これらの特性を満足するものとしては、従
来の光ディスクメモリー材料や光記録媒体として知られ
ているもので良く、例えばTe,Bi,Sn,Sb,I
n等の低融点金属やその合金、相変化を起す無機薄膜、
シアニン系、スクワリウム系、フタロシアニン系、テト
ラデヒドロコリン系、メチン系、ナフトキノン系の染顔
料及びベンゼン−ジチオールニッケル錯体などの有機金
属錯体の類が好ましく使用出来る。
来の光ディスクメモリー材料や光記録媒体として知られ
ているもので良く、例えばTe,Bi,Sn,Sb,I
n等の低融点金属やその合金、相変化を起す無機薄膜、
シアニン系、スクワリウム系、フタロシアニン系、テト
ラデヒドロコリン系、メチン系、ナフトキノン系の染顔
料及びベンゼン−ジチオールニッケル錯体などの有機金
属錯体の類が好ましく使用出来る。
【0021】保護層(裏基板)9は光記録層を機械的に
保護する目的を持つものであるが、熱や湿度等による膨
張(潤)・収縮の係数が同じ材料を選び反りや変形を避
けるのが一般的である。
保護する目的を持つものであるが、熱や湿度等による膨
張(潤)・収縮の係数が同じ材料を選び反りや変形を避
けるのが一般的である。
【0022】この保護層(裏基板)9は光カードの透明
基板1,光記録層7及び接着層8とを合せて0.76m
mの厚みとなる様に調製される。この保護層9は、光記
録媒体に対し、通常空気層を介さないで直接光学的に密
着して積層されているが、接着層8は必須ではない。
基板1,光記録層7及び接着層8とを合せて0.76m
mの厚みとなる様に調製される。この保護層9は、光記
録媒体に対し、通常空気層を介さないで直接光学的に密
着して積層されているが、接着層8は必須ではない。
【0023】接着層8としては、従来知られている接着
剤、例えば酢酸ビニル、アクリル酸エステル、塩化ビニ
ル、エチレン、アクリル酸、アクリルアミドなどビニル
モノマーの重合体及び共重合体、ポリアミド、ポリエス
テル、ポリエーテルなどの熱可塑性接着剤、アミノ樹脂
(ユリア樹脂、メラミン樹脂)、フェノール樹脂、エポ
キシ樹脂、ウレタン樹脂、熱硬化性ビニル樹脂などの熱
硬化性接着剤、天然ゴム、ニトリルゴム、クロロプレン
ゴム、シリコンゴムなどのゴム系接着剤などが使用され
る。
剤、例えば酢酸ビニル、アクリル酸エステル、塩化ビニ
ル、エチレン、アクリル酸、アクリルアミドなどビニル
モノマーの重合体及び共重合体、ポリアミド、ポリエス
テル、ポリエーテルなどの熱可塑性接着剤、アミノ樹脂
(ユリア樹脂、メラミン樹脂)、フェノール樹脂、エポ
キシ樹脂、ウレタン樹脂、熱硬化性ビニル樹脂などの熱
硬化性接着剤、天然ゴム、ニトリルゴム、クロロプレン
ゴム、シリコンゴムなどのゴム系接着剤などが使用され
る。
【0024】ICモジュールは、例えばマイクロコンピ
ュターとデータメモリのICを薄形のプリント基板に装
着したもので、マイクロプロセツサーとICメモリを内
蔵したタイプ、ICメモリのみ内蔵したタイプがあり、
このいずれも用いられる。
ュターとデータメモリのICを薄形のプリント基板に装
着したもので、マイクロプロセツサーとICメモリを内
蔵したタイプ、ICメモリのみ内蔵したタイプがあり、
このいずれも用いられる。
【0025】実施例2 図3,4は本発明の別な実施例を示すもので、図3は本
発明の複合カードに用いる基板の他の例を示す説明図で
ある。図4は本発明による図3の基板を使用した複合カ
ードの他の例を示す説明図である。
発明の複合カードに用いる基板の他の例を示す説明図で
ある。図4は本発明による図3の基板を使用した複合カ
ードの他の例を示す説明図である。
【0026】図3に於いて、基板1のICメモリー領域
はICモジュール埋没凹部4aが貫通した穴状に形成さ
れており、光メモリー領域は0.4±0.05mm厚の
透明層に、プリフォーマットの凹凸パターンが同時に一
体化して形成される。
はICモジュール埋没凹部4aが貫通した穴状に形成さ
れており、光メモリー領域は0.4±0.05mm厚の
透明層に、プリフォーマットの凹凸パターンが同時に一
体化して形成される。
【0027】尚、本実施例による基板は全面が透明であ
る必要は無く光メモリー領域だけが透明であれば、他の
部分(ICメモリー領域を含む)は不透明であっても良
い。この事は図1での実施例の基板についても同様であ
る。図4は、この基板による複合カードを示したもので
保護層(裏基板)9が全面にわたり、ICモジュールの
埋設穴の底部を兼用している。
る必要は無く光メモリー領域だけが透明であれば、他の
部分(ICメモリー領域を含む)は不透明であっても良
い。この事は図1での実施例の基板についても同様であ
る。図4は、この基板による複合カードを示したもので
保護層(裏基板)9が全面にわたり、ICモジュールの
埋設穴の底部を兼用している。
【0028】比較例1 図5,6は従来例の複合カードを示す説明図である。I
Cメモリー部12と光メモリー部13を有する複合カー
ドは、0.40±0.05mmの透明基板に光記録層7
を設けた光カード(トータル厚0.76±0.08m
m)の一部にICモジュールの埋設用の凹部4を形成
し、ここにICモジュール6を埋設し接着層8で固定し
て形成される。
Cメモリー部12と光メモリー部13を有する複合カー
ドは、0.40±0.05mmの透明基板に光記録層7
を設けた光カード(トータル厚0.76±0.08m
m)の一部にICモジュールの埋設用の凹部4を形成
し、ここにICモジュール6を埋設し接着層8で固定し
て形成される。
【0029】図から判るようにICモジュール6を埋設
する凹部の深さは0.60±mmと光カードの厚さ0.
40±0.05mmの透明基板1と接着層8と保護層
(裏基板)9にまたがる大きさである。
する凹部の深さは0.60±mmと光カードの厚さ0.
40±0.05mmの透明基板1と接着層8と保護層
(裏基板)9にまたがる大きさである。
【0030】この様に硬さの異なる積層板に、エンドミ
ル等の装置で切削加工によってICモジュールの埋設凹
部を形成するには各層界面での剥離が生じたり精度の良
い加工が難しい問題点がある。
ル等の装置で切削加工によってICモジュールの埋設凹
部を形成するには各層界面での剥離が生じたり精度の良
い加工が難しい問題点がある。
【0031】又、埋設凹部の切削加工の際には、凹部底
部が、基板(厚さ0.76±0.08mm)のバラツキ
0.68〜0.84mmと深さ方向の加工精度のバラツ
キにより、その板厚を一定に保つ事が出来ず、加工時の
ストレスに抗しきれず、その底部が破れたり、ふくらん
だり、加工歩留りが悪いという問題点は深刻である。
部が、基板(厚さ0.76±0.08mm)のバラツキ
0.68〜0.84mmと深さ方向の加工精度のバラツ
キにより、その板厚を一定に保つ事が出来ず、加工時の
ストレスに抗しきれず、その底部が破れたり、ふくらん
だり、加工歩留りが悪いという問題点は深刻である。
【0032】図6は同じく別な従来例の説明図である
が、これは図5と違って光記録層7が透明基板1に設け
られたプリフォーマット層の上に形成されている。
が、これは図5と違って光記録層7が透明基板1に設け
られたプリフォーマット層の上に形成されている。
【0033】○本発明の第二の発明の実施例 実施例3 図7〜13は本発明の複合カードの特徴を最もよく表わ
す図である。図7は本発明の複合カードに用いる基板の
一例を示す説明図である。図7に於いて、複合カード基
板21は、ICモジュールの埋設凹部24を有するIC
メモリー領域22と、光メモリーの光ビームが入射する
透明層にあらかじめ決められた光路長を与える光メモリ
ー領域23から構成されている。
す図である。図7は本発明の複合カードに用いる基板の
一例を示す説明図である。図7に於いて、複合カード基
板21は、ICモジュールの埋設凹部24を有するIC
メモリー領域22と、光メモリーの光ビームが入射する
透明層にあらかじめ決められた光路長を与える光メモリ
ー領域23から構成されている。
【0034】具体的には、ICメモリー領域は0.76
±0.08mmの厚みで、光メモリー領域はその厚みが
0.4±0.05mmで光学的にひずみが無く透過率
(波長750〜850nmで)95%以上の透明基板と
して、同時に一体化して形成される。
±0.08mmの厚みで、光メモリー領域はその厚みが
0.4±0.05mmで光学的にひずみが無く透過率
(波長750〜850nmで)95%以上の透明基板と
して、同時に一体化して形成される。
【0035】基板の形成方法としては、キャステング成
形やインジェクション成形によって好しく達成される。
材料としては光学的にひずみが無く、透明なもので、ア
クリル系樹脂,ポリカーボネート樹脂,ポリスチレン,
アモロファスポリオレフィン,ポリエステル系樹脂,エ
ポキシ系樹脂,CR−39,ラブセブン,TPXなどが
使用出来る。
形やインジェクション成形によって好しく達成される。
材料としては光学的にひずみが無く、透明なもので、ア
クリル系樹脂,ポリカーボネート樹脂,ポリスチレン,
アモロファスポリオレフィン,ポリエステル系樹脂,エ
ポキシ系樹脂,CR−39,ラブセブン,TPXなどが
使用出来る。
【0036】図8は本発明による図7の基板を使用した
複合カードの一例を示す説明図である。図中、ICモジ
ュール埋設凹部24にICモジュール26を接着層28
aで固定してICメモリー部32を形成し、光メモリー
領域23には光記録層27が接着層28を介して保護層
(裏基板)29によって積層された光メモリー部33が
形成されている。
複合カードの一例を示す説明図である。図中、ICモジ
ュール埋設凹部24にICモジュール26を接着層28
aで固定してICメモリー部32を形成し、光メモリー
領域23には光記録層27が接着層28を介して保護層
(裏基板)29によって積層された光メモリー部33が
形成されている。
【0037】こうして形成された複合カードには、光メ
モリー部が傷によって損なわれるのを防ぐ為にハードコ
ート層25が設けられるのが一般的である。ICメモリ
ー部はその接点を介して制御されるがその位置の方向、
即ち光メモリー部と同じ側か反対の側かはそのアプリケ
ーションによって自由であるが、一般的には反対側に設
けられる例が多い。
モリー部が傷によって損なわれるのを防ぐ為にハードコ
ート層25が設けられるのが一般的である。ICメモリ
ー部はその接点を介して制御されるがその位置の方向、
即ち光メモリー部と同じ側か反対の側かはそのアプリケ
ーションによって自由であるが、一般的には反対側に設
けられる例が多い。
【0038】光メモリー部は光ビームを照射する事によ
って、光ビームによる再生の際にそこからの反射率を変
化させるピット穴の形成や変形などの幾何学的な変化や
脱色、相変化などの光学常数変化をひき起す光記録層2
7が形成されている。この光記録層27は単に追記タイ
プの媒体だけでは無く、その一部が予め情報を書き込ん
だROMタイプの媒体であっても、書き換え可能な媒体
であっても良い。
って、光ビームによる再生の際にそこからの反射率を変
化させるピット穴の形成や変形などの幾何学的な変化や
脱色、相変化などの光学常数変化をひき起す光記録層2
7が形成されている。この光記録層27は単に追記タイ
プの媒体だけでは無く、その一部が予め情報を書き込ん
だROMタイプの媒体であっても、書き換え可能な媒体
であっても良い。
【0039】また、光記録層27には、情報の記録再生
の際のAT信号を得るためのプリグルーブや録再する情
報を管理するためのトラックナンバーなどのプリフォー
マットが設けられる場合が多い。例えば、図15の光記
録層27は透明基板21aの上のプリフォーマット層3
1に設けられた例を示している。このプリフォーマット
層31としては2P法と呼ばれる方法によって好ましく
形成される。
の際のAT信号を得るためのプリグルーブや録再する情
報を管理するためのトラックナンバーなどのプリフォー
マットが設けられる場合が多い。例えば、図15の光記
録層27は透明基板21aの上のプリフォーマット層3
1に設けられた例を示している。このプリフォーマット
層31としては2P法と呼ばれる方法によって好ましく
形成される。
【0040】光記録層27の材料としては、記録・再生
が半導体レーザーのような光ビームによって行われるも
ので、記録メカニズムが光化学反応によるものや、光を
吸収し、その熱による、所謂ヒートモード記録であって
もいずれでもよく、その記録によって再生光の反射や透
過を変化させて読み出す事が可能なものである。この様
なものには、光もしくは熱により、例えば相変化による
反射率変化を利用するもの、その物性を変化するものや
その形状を変化するもの、例えばピット記録などがあ
り、本発明ではこれらのいずれであっても良い。
が半導体レーザーのような光ビームによって行われるも
ので、記録メカニズムが光化学反応によるものや、光を
吸収し、その熱による、所謂ヒートモード記録であって
もいずれでもよく、その記録によって再生光の反射や透
過を変化させて読み出す事が可能なものである。この様
なものには、光もしくは熱により、例えば相変化による
反射率変化を利用するもの、その物性を変化するものや
その形状を変化するもの、例えばピット記録などがあ
り、本発明ではこれらのいずれであっても良い。
【0041】これらの特性を満足するものとしては、従
来の光ディスクメモリー材料や光記録媒体として知られ
ているもので良く、例えばTe,Bi,Sn,Sb,I
n等の低融点金属やその合金、相変化を起す無機薄膜、
シアニン系、スクワリウム系、フタロシアニン系、テト
ラデヒドロコリン系、メチン系、ナフトキノン系の染顔
料及びベンゼン−ジチオールニッケル錯体などの有機金
属錯体の類が好ましく使用出来る。
来の光ディスクメモリー材料や光記録媒体として知られ
ているもので良く、例えばTe,Bi,Sn,Sb,I
n等の低融点金属やその合金、相変化を起す無機薄膜、
シアニン系、スクワリウム系、フタロシアニン系、テト
ラデヒドロコリン系、メチン系、ナフトキノン系の染顔
料及びベンゼン−ジチオールニッケル錯体などの有機金
属錯体の類が好ましく使用出来る。
【0042】保護層(裏基板)29は光記録層を機械的
に保護する目的を持つものであるが、熱や湿度等による
膨張(潤)・収縮の係数が同じ材料を選び反りや変形を
避けるのが一般的である。
に保護する目的を持つものであるが、熱や湿度等による
膨張(潤)・収縮の係数が同じ材料を選び反りや変形を
避けるのが一般的である。
【0043】この保護層(裏基板)29は光カードの透
明基板21,光記録層27及び接着層28とを合せて
0.76mmの厚みとなる様に調製される。この保護層
29は、光記録媒体に対し、通常空気層を介さないで直
接光学的に密着して積層されているが、接着層28は必
須ではない。
明基板21,光記録層27及び接着層28とを合せて
0.76mmの厚みとなる様に調製される。この保護層
29は、光記録媒体に対し、通常空気層を介さないで直
接光学的に密着して積層されているが、接着層28は必
須ではない。
【0044】接着層28としては、従来知られている第
一の発明に用いられるものと同様の接着剤が使用され
る。
一の発明に用いられるものと同様の接着剤が使用され
る。
【0045】実施例4 図9,10は本発明の別な実施例を示すもので、図9は
本発明の複合カードに用いる基板の他の例を示す説明図
である。図10は本発明による図9の基板を使用した複
合カードの他の例を示す説明図である。
本発明の複合カードに用いる基板の他の例を示す説明図
である。図10は本発明による図9の基板を使用した複
合カードの他の例を示す説明図である。
【0046】図9に於いて、基板21のICメモリー領
域22は0.76±0.08mmの厚みで、光メモリー
面側にICモジュール埋没凹部24が設けられ、光メモ
リー領域23では0.4±0.05mm厚の透明基板3
0に設けられた光記録層27を載置する様に形成されて
いる。
域22は0.76±0.08mmの厚みで、光メモリー
面側にICモジュール埋没凹部24が設けられ、光メモ
リー領域23では0.4±0.05mm厚の透明基板3
0に設けられた光記録層27を載置する様に形成されて
いる。
【0047】実施例5 図11,12は本発明の更に別な実施例を示すもので、
図11は本発明の複合カードに用いる基板の他の例を示
す説明図である。図12は本発明による図11の基板を
使用した複合カードの他の例を示す説明図である。
図11は本発明の複合カードに用いる基板の他の例を示
す説明図である。図12は本発明による図11の基板を
使用した複合カードの他の例を示す説明図である。
【0048】図11に於いて、基板21のICメモリー
領域22はICモジュール埋没凹部24aが貫通した穴
状に形成されており、光メモリー領域23は0.4±
0.05mm厚の透明基板になる様に形成される。
領域22はICモジュール埋没凹部24aが貫通した穴
状に形成されており、光メモリー領域23は0.4±
0.05mm厚の透明基板になる様に形成される。
【0049】尚、本実施例による基板は全面が透明であ
る必要は無く光メモリー領域だけが透明であれば、他の
部分(ICメモリー領域を含む)は不透明であっても良
い。この事は図7での実施例の基板についても同様であ
る。図12は、この基板による複合カードを示したもの
で保護層(裏基板)29が全面にわたり、ICモジュー
ルの埋設穴の底部を兼用している。
る必要は無く光メモリー領域だけが透明であれば、他の
部分(ICメモリー領域を含む)は不透明であっても良
い。この事は図7での実施例の基板についても同様であ
る。図12は、この基板による複合カードを示したもの
で保護層(裏基板)29が全面にわたり、ICモジュー
ルの埋設穴の底部を兼用している。
【0050】実施例6 図13は本発明の複合カードの更に別な実施例を示す説
明図である。図13に於いて、ICモジュールの埋設部
が貫通した穴状基板21に光記録層27を有する透明基
板30を積層する例である。
明図である。図13に於いて、ICモジュールの埋設部
が貫通した穴状基板21に光記録層27を有する透明基
板30を積層する例である。
【0051】透明基板30の表面にはハードコート層2
5が設置されており、光メモリー部を傷から保護してい
る。透明基板の一部はICモジュールの埋設部の底部を
兼用しており、この部分にはまたロゴ等のデザイン印刷
する印刷部34が設けられている。
5が設置されており、光メモリー部を傷から保護してい
る。透明基板の一部はICモジュールの埋設部の底部を
兼用しており、この部分にはまたロゴ等のデザイン印刷
する印刷部34が設けられている。
【0052】比較例2 図14,15は従来例の複合カードを示す説明図であ
る。ICメモリー部32と光メモリー部33を有する複
合カードは、0.40±0.05mmの透明基板に光記
録層27を設けた光カード(トータル厚0.76±0.
08mm)の一部にICモジュールの埋設用の凹部24
を形成し、ここにICモジュール26を埋設し接着層2
8で固定して形成される。
る。ICメモリー部32と光メモリー部33を有する複
合カードは、0.40±0.05mmの透明基板に光記
録層27を設けた光カード(トータル厚0.76±0.
08mm)の一部にICモジュールの埋設用の凹部24
を形成し、ここにICモジュール26を埋設し接着層2
8で固定して形成される。
【0053】図から判るようにICモジュール26を埋
設する凹部の深さは0.60±mmと光カードの厚さ
0.40±0.05mmの透明基板21と接着層28と
保護層(裏基板)29にまたがる大きさである。
設する凹部の深さは0.60±mmと光カードの厚さ
0.40±0.05mmの透明基板21と接着層28と
保護層(裏基板)29にまたがる大きさである。
【0054】この様に硬さの異なる積層板に、エンドミ
ル等の装置で切削加工によってICモジュールの埋設凹
部を形成するには各層界面での剥離が生じたり精度の良
い加工が難しい問題点がある。
ル等の装置で切削加工によってICモジュールの埋設凹
部を形成するには各層界面での剥離が生じたり精度の良
い加工が難しい問題点がある。
【0055】又、埋設凹部の切削加工の際には、凹部底
部が、基板(厚さ0.76±0.08mm)のバラツキ
0.68〜0.84mmと深さ方向の加工精度のバラツ
キにより、その板厚を一定に保つ事が出来ず、加工時の
ストレスに抗しきれず、その底部が破れたり、ふくらん
だり、加工歩留りが悪いという問題点は深刻である。
部が、基板(厚さ0.76±0.08mm)のバラツキ
0.68〜0.84mmと深さ方向の加工精度のバラツ
キにより、その板厚を一定に保つ事が出来ず、加工時の
ストレスに抗しきれず、その底部が破れたり、ふくらん
だり、加工歩留りが悪いという問題点は深刻である。
【0056】図15は同じく別な従来例の説明図である
が、これは図14と違って光記録層27が透明基板21
に設けられたプリフォーマット層の上に形成されてい
る。
が、これは図14と違って光記録層27が透明基板21
に設けられたプリフォーマット層の上に形成されてい
る。
【0057】
【発明の効果】以上説明したように、本発明により (1)ICメモリー部と光メモリー部の相対位置が規定
された状態で作成されるので信頼性の高い複合カードが
出来る。 (2)ICメモリー部と光メモリー部とが一体化された
基板に形成されるので外観上優れた複合カードを提供で
きる。 (3)ICメモリー部と光メモリー部を有する複合カー
ドを少ない工数で歩留り良く作成する事が出来る。 などの効果がある。
された状態で作成されるので信頼性の高い複合カードが
出来る。 (2)ICメモリー部と光メモリー部とが一体化された
基板に形成されるので外観上優れた複合カードを提供で
きる。 (3)ICメモリー部と光メモリー部を有する複合カー
ドを少ない工数で歩留り良く作成する事が出来る。 などの効果がある。
【図1】本発明の複合カードに用いる基板の一例を示す
説明図である。
説明図である。
【図2】本発明による図1の基板を使用した複合カード
の一例を示す説明図である。
の一例を示す説明図である。
【図3】本発明の複合カードに用いる基板の他の例を示
す説明図である。
す説明図である。
【図4】本発明による図3の基板を使用した複合カード
の他の例を示す説明図である。
の他の例を示す説明図である。
【図5】従来例の複合カードを示す説明図である。
【図6】従来例の複合カードを示す説明図である。
【図7】本発明の複合カードに用いる基板の一例を示す
説明図である。
説明図である。
【図8】本発明による図7の基板を使用した複合カード
の一例を示す説明図である。
の一例を示す説明図である。
【図9】本発明の複合カードに用いる基板の他の例を示
す説明図である。
す説明図である。
【図10】本発明による図9の基板を使用した複合カー
ドの他の例を示す説明図である。
ドの他の例を示す説明図である。
【図11】本発明の複合カードに用いる基板の他の例を
示す説明図である。
示す説明図である。
【図12】本発明による図11の基板を使用した複合カ
ードの他の例を示す説明図である。
ードの他の例を示す説明図である。
【図13】本発明の複合カードの更に別な実施例を示す
説明図である。
説明図である。
【図14】従来例の複合カードを示す説明図である。
【図15】従来例の複合カードを示す説明図である。
【符号の説明】 1 複合カード基板 2 ICメモリー領域 3 光メモリー領域 4,4a ICモジュール埋設凹部 5 プリフォーマットパターン 6 ICモジュール 7 光記録層 8,8a 接着層 9 保護層(裏基板) 10 透明基板 11 プリフォーマット層 12 ICメモリー部 13 光メモリー部 14 ハードコート層 21 複合カード基板 22 ICメモリー領域 23 光メモリー領域 24,24a ICモジュール埋設凹部 25 ハードコート層 26 ICモジュール 27 光記録層 28,28a 接着層 29 保護層(裏基板) 30 透明基板 31 プリフォーマット層 32 ICメモリー部 33 光メモリー部 34 印刷部
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 G06K 19/077 G11B 13/00 9075−5D // G11B 7/00 E 9464−5D
Claims (2)
- 【請求項1】 ICメモリーと光メモリーを有する複合
カードに於いて、該複合カードの基板にICモジュール
を埋設する凹部と光記録層にプリフォーマットを与える
凹凸パターンが同時に一体化して形成されてなる事を特
徴とする複合カード。 - 【請求項2】 ICメモリーと光メモリーを有する複合
カードに於いて、該複合カードの基板にICメモリー領
域と光メモリー領域が同時に一体化して形成されてなる
事を特徴とする複合カード。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5271138A JPH07101188A (ja) | 1993-10-05 | 1993-10-05 | 複合カード |
| EP94307227A EP0650143B1 (en) | 1993-10-05 | 1994-10-03 | Hybrid information recording medium |
| DE69419226T DE69419226T2 (de) | 1993-10-05 | 1994-10-03 | Hybrides Informationsaufzeichnungsmedium |
| US08/736,965 US5744792A (en) | 1993-10-05 | 1996-10-25 | Hybrid information recording medium |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5271138A JPH07101188A (ja) | 1993-10-05 | 1993-10-05 | 複合カード |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07101188A true JPH07101188A (ja) | 1995-04-18 |
Family
ID=17495851
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5271138A Pending JPH07101188A (ja) | 1993-10-05 | 1993-10-05 | 複合カード |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5744792A (ja) |
| EP (1) | EP0650143B1 (ja) |
| JP (1) | JPH07101188A (ja) |
| DE (1) | DE69419226T2 (ja) |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| JP3883652B2 (ja) * | 1997-06-23 | 2007-02-21 | 大日本印刷株式会社 | 板状枠体付きicキャリアとその製造方法 |
| GB0025897D0 (en) * | 2000-10-23 | 2000-12-06 | Encore Holdings Ltd | An optically readable carrier and an adapter therefor |
| AU2002227209A1 (en) | 2000-12-07 | 2002-06-18 | Drexler Technology Corporation | Hybrid card contact actuator system and method |
| US7728048B2 (en) | 2002-12-20 | 2010-06-01 | L-1 Secure Credentialing, Inc. | Increasing thermal conductivity of host polymer used with laser engraving methods and compositions |
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| US20050072849A1 (en) * | 2003-09-03 | 2005-04-07 | Jones Robert L. | Identification document with optical memory and related method of manufacture |
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