JPH07101964A - シリルエーテル類の製造法 - Google Patents
シリルエーテル類の製造法Info
- Publication number
- JPH07101964A JPH07101964A JP24580193A JP24580193A JPH07101964A JP H07101964 A JPH07101964 A JP H07101964A JP 24580193 A JP24580193 A JP 24580193A JP 24580193 A JP24580193 A JP 24580193A JP H07101964 A JPH07101964 A JP H07101964A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- formula
- compound
- group
- reaction
- catalyst
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Abstract
(57)【要約】
【目的】 簡便な手段として、安価、かつ安全に、優れ
た効率で高純度なシリルエーテル化合物を得る。 【構成】 Ｒ1 ＣＯＲ2 のカルボニル化合物原料を、金
属または金属塩触媒の存在下に、（ＬｉＨ）ｎ／Ｒ4-m
ＳｉＸm（ｍ＝１〜４）の化合物と反応させ、Ｒ1 Ｒ2 Ｃ
Ｈ−ＯＳｉＲ3-P ＸP （Ｐ＝０〜３）のシリルエーテル
類を製造する。
た効率で高純度なシリルエーテル化合物を得る。 【構成】 Ｒ1 ＣＯＲ2 のカルボニル化合物原料を、金
属または金属塩触媒の存在下に、（ＬｉＨ）ｎ／Ｒ4-m
ＳｉＸm（ｍ＝１〜４）の化合物と反応させ、Ｒ1 Ｒ2 Ｃ
Ｈ−ＯＳｉＲ3-P ＸP （Ｐ＝０〜３）のシリルエーテル
類を製造する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、医薬、農薬の製造原
料等として有用な、シリルエーテル類を高効率で、簡便
にしかも安全に製造することのできるシリルエーテル類
の製造法に関するものである。さらに詳しくは、この発
明は、カルボニル化合物を還元的シリル化反応により安
価に、安全に一段で製造し、しかも煩雑な後処理工程を
行うことなしに、高純度で目的とするシリルエーテル類
を工業的に製造することのできる新しい方法に関するも
のである。
料等として有用な、シリルエーテル類を高効率で、簡便
にしかも安全に製造することのできるシリルエーテル類
の製造法に関するものである。さらに詳しくは、この発
明は、カルボニル化合物を還元的シリル化反応により安
価に、安全に一段で製造し、しかも煩雑な後処理工程を
行うことなしに、高純度で目的とするシリルエーテル類
を工業的に製造することのできる新しい方法に関するも
のである。
【０００２】
【従来の技術とその問題点】従来より、医薬、農薬、高
分子製品等の各種分野での原料や中間製品等として有用
なシリルエーテル類については、対応するアルコール類
とシリル化剤との反応によって製造する方法（“Introd
uction to Organic Chemistry ”，Ａ．Ｓ．ストレイト
ワイザーＪｒ，Ｃ．Ｈ．ヒースコック著１９８１年，４
７６頁，“Organic Chemistry ”，Ｄ．Ｓ．ケンプ、
Ｆ．ベラチィオ著１９８０年、１２１３頁）や、カルボ
ニル化合物からヒドロシリル化反応によって製造する方
法（“The Chemistry of Organic Silicon compound
s”，Ｓ．パタイ、Ｚ．ラポポート著、１９８９年１４
４９頁）が知られている。しかしながら、シリル化剤に
よる前者の方法では、原料であるアルコールを得るため
に還元反応を行う必要があること、さらにシリルエーテ
ル類を単離するためには中和工程など煩雑な後処理工程
が必要であること等の欠点がある。また後者の方法で
は、ヒドロシリル化反応において高価な触媒やヒドロシ
ラン化合物を用いなければならないなど工業的製造方法
とするためには解決しなければならない多くの課題があ
る。
分子製品等の各種分野での原料や中間製品等として有用
なシリルエーテル類については、対応するアルコール類
とシリル化剤との反応によって製造する方法（“Introd
uction to Organic Chemistry ”，Ａ．Ｓ．ストレイト
ワイザーＪｒ，Ｃ．Ｈ．ヒースコック著１９８１年，４
７６頁，“Organic Chemistry ”，Ｄ．Ｓ．ケンプ、
Ｆ．ベラチィオ著１９８０年、１２１３頁）や、カルボ
ニル化合物からヒドロシリル化反応によって製造する方
法（“The Chemistry of Organic Silicon compound
s”，Ｓ．パタイ、Ｚ．ラポポート著、１９８９年１４
４９頁）が知られている。しかしながら、シリル化剤に
よる前者の方法では、原料であるアルコールを得るため
に還元反応を行う必要があること、さらにシリルエーテ
ル類を単離するためには中和工程など煩雑な後処理工程
が必要であること等の欠点がある。また後者の方法で
は、ヒドロシリル化反応において高価な触媒やヒドロシ
ラン化合物を用いなければならないなど工業的製造方法
とするためには解決しなければならない多くの課題があ
る。
【０００３】そこで、この発明は、以上の通りの従来技
術の欠点を解消し、煩雑な操作工程を必要とすることな
く、かつ、安価で安全な手法として、生産性にも優れた
新しいシリルエーテル類の製造法を提供することを目的
としている。
術の欠点を解消し、煩雑な操作工程を必要とすることな
く、かつ、安価で安全な手法として、生産性にも優れた
新しいシリルエーテル類の製造法を提供することを目的
としている。
【０００４】
【課題を解決するための手段】この発明は、上記の課題
を解決するものとして、次式（ａ）
を解決するものとして、次式（ａ）
【０００５】
【化４】
【０００６】（Ｒ1 およびＲ2 は、そのいずれか一方は
水素原子であってよく、また、Ｒ1 ，Ｒ2 およびＲは、
各々、置換基を有してもよい鎖状あるいは環状の炭化水
素基もしくは複素環基を示す。Ｐは０〜３の数を示
す。）で表わされるシリルエーテル類を製造するにあた
り、次式（ｂ）
水素原子であってよく、また、Ｒ1 ，Ｒ2 およびＲは、
各々、置換基を有してもよい鎖状あるいは環状の炭化水
素基もしくは複素環基を示す。Ｐは０〜３の数を示
す。）で表わされるシリルエーテル類を製造するにあた
り、次式（ｂ）
【０００７】
【化５】
【０００８】で表わされるカルボニル化合物を、金属も
しくは金属塩の触媒の存在下に、次式（ｃ）
しくは金属塩の触媒の存在下に、次式（ｃ）
【０００９】
【化６】
【００１０】（Ｘはハロゲン原子を、ｎおよびｍは整数
を示し、ｍは１〜４である。）で表わされる化合物と反
応させることを特徴とするシリルエーテル類の製造法を
提供する。
を示し、ｍは１〜４である。）で表わされる化合物と反
応させることを特徴とするシリルエーテル類の製造法を
提供する。
【００１１】
【作用】上記の特徴を有するこの発明の製造法において
は、原料物質として式（ｂ）のカルボニル化合物を使用
するが、この式（ｂ）のＲ1 およびＲ2 としては、いず
れか一方が水素原子であってよく、また、各々、置換基
を有してもよい鎖状あるいは環状の炭化水素基もしくは
複素環基とすることができる。より具体的には、このＲ
1 およびＲ2 は、同一または異なり、いずれか一方が水
素原子であるか、飽和または不飽和の鎖状もしくは環状
の炭化水素基、もしくは、窒素、酸素、硫黄等のヘテロ
原子を含む複素環化合物として、メチル、エチル、プロ
ピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル等のアル
キル基、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチ
ル、シクロヘキシル等のシクロアルキル基、フェニル、
クメニル、メシチル、トリル、キシリル、ナフチル、ア
ントリル、フェナントリル、インデニル基等の芳香族単
環あるいは多環式基、チエニル、フリル、ピラニル、キ
サンテニル、ピリジル、ピロリル、イミダゾリエル、イ
ンドリル、カルバゾイル、フェナントロニリル等のヘテ
ロ単環複素環基あるいは多環式複素環基等を例示するこ
とができる。
は、原料物質として式（ｂ）のカルボニル化合物を使用
するが、この式（ｂ）のＲ1 およびＲ2 としては、いず
れか一方が水素原子であってよく、また、各々、置換基
を有してもよい鎖状あるいは環状の炭化水素基もしくは
複素環基とすることができる。より具体的には、このＲ
1 およびＲ2 は、同一または異なり、いずれか一方が水
素原子であるか、飽和または不飽和の鎖状もしくは環状
の炭化水素基、もしくは、窒素、酸素、硫黄等のヘテロ
原子を含む複素環化合物として、メチル、エチル、プロ
ピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル等のアル
キル基、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチ
ル、シクロヘキシル等のシクロアルキル基、フェニル、
クメニル、メシチル、トリル、キシリル、ナフチル、ア
ントリル、フェナントリル、インデニル基等の芳香族単
環あるいは多環式基、チエニル、フリル、ピラニル、キ
サンテニル、ピリジル、ピロリル、イミダゾリエル、イ
ンドリル、カルバゾイル、フェナントロニリル等のヘテ
ロ単環複素環基あるいは多環式複素環基等を例示するこ
とができる。
【００１２】また、これら炭化水素環あるいは複素環基
には、この発明の還元的シリルエーテル化反応を阻害す
ることのない任意の官能基、たとえば、ヒドロキシ基、
エーテル基、アミノ基、シアノ基、カルボキシル基、エ
ステル基、チオール基、チオエーテル基、カルバモイル
基等の置換基を適宜に有していてもよい。このカルボニ
ル化合物（ｂ）には、式（ｃ）のリチウム水素化物・シ
リルハライド化物を反応させるが、式（ｃ）のＲ4-m Ｓ
ｉＸm（ｍ＝１〜４）を構成するＲは同一または異っ
て、水素原子を除いて、Ｒ1 およびＲ2 と同様の範囲の
ものから適宜に選択される。より具体的にはアルキル
基、フェニル基、ベンジル基等が例示される。また、Ｘ
は、ハロゲン原子であって、より好ましくは塩素原子を
用いることができる。（ＬｉＨ）ｎは式が示すように会
合状態の固体であり、市販品は塊状で、空気中で保存す
ることが可能な化合物である。他のアルカリ金属の水素
化物、たとえば、ＫＨ、ＮａＨ等が空気中で不安定な化
合物であるのとは異なり極めて安定であり、取り扱いは
簡便であるが、逆に反応性に乏しいため、化学原料とく
に水素源として利用されることがほとんどなく、効率的
な活性化法の開発が要求されていたものである。
には、この発明の還元的シリルエーテル化反応を阻害す
ることのない任意の官能基、たとえば、ヒドロキシ基、
エーテル基、アミノ基、シアノ基、カルボキシル基、エ
ステル基、チオール基、チオエーテル基、カルバモイル
基等の置換基を適宜に有していてもよい。このカルボニ
ル化合物（ｂ）には、式（ｃ）のリチウム水素化物・シ
リルハライド化物を反応させるが、式（ｃ）のＲ4-m Ｓ
ｉＸm（ｍ＝１〜４）を構成するＲは同一または異っ
て、水素原子を除いて、Ｒ1 およびＲ2 と同様の範囲の
ものから適宜に選択される。より具体的にはアルキル
基、フェニル基、ベンジル基等が例示される。また、Ｘ
は、ハロゲン原子であって、より好ましくは塩素原子を
用いることができる。（ＬｉＨ）ｎは式が示すように会
合状態の固体であり、市販品は塊状で、空気中で保存す
ることが可能な化合物である。他のアルカリ金属の水素
化物、たとえば、ＫＨ、ＮａＨ等が空気中で不安定な化
合物であるのとは異なり極めて安定であり、取り扱いは
簡便であるが、逆に反応性に乏しいため、化学原料とく
に水素源として利用されることがほとんどなく、効率的
な活性化法の開発が要求されていたものである。
【００１３】この発明の方法では、市販の安価な、か
つ、取扱いの簡便な（ＬｉＨ）ｎを効果的に活性化する
ことで、これを水素源として反応に活用し、種々のカル
ボニル化合物の還元的シリル化反応を可能としている。
（ＬｉＨ）ｎとＲ4-m ＳｉＸm（ｍ＝１〜４）は任意の
比率で用いることができるが、通常は１：１〜５、より
好ましくは約１：１程度で使用する。また、前記式
（ｂ）カルボニル化合物原料に対しては、この発明の方
法では、カルボニル化合物１モルあたり、通常１〜１０
当量、より好ましくは１〜２当量程度で使用する。
つ、取扱いの簡便な（ＬｉＨ）ｎを効果的に活性化する
ことで、これを水素源として反応に活用し、種々のカル
ボニル化合物の還元的シリル化反応を可能としている。
（ＬｉＨ）ｎとＲ4-m ＳｉＸm（ｍ＝１〜４）は任意の
比率で用いることができるが、通常は１：１〜５、より
好ましくは約１：１程度で使用する。また、前記式
（ｂ）カルボニル化合物原料に対しては、この発明の方
法では、カルボニル化合物１モルあたり、通常１〜１０
当量、より好ましくは１〜２当量程度で使用する。
【００１４】反応には、触媒として金属または金属塩を
用いるが、これらは、周期律表第Ｉ族から第VIII族まで
の任意の金属またはその塩であってよい。なかでも、よ
り好ましくは亜鉛、錫、チタン、ジルコニウム、カドミ
ウム等の塩あるいはその金属を用いる。この際金属塩の
陰イオンはハロンゲン、酢酸、アルコキシド、アミド、
メタンスルホキシドイオンなどの塩を形成することがで
きるあらゆる陰イオンを用いることができる。さらに塩
だけでなく金属をそのまま用いることができ、なかでも
第II族の亜鉛等が好ましい。この際の形状は問わない
が、好ましくは微粉末状が用いられる。なかでも、亜鉛
またはその塩は特に好適なものの一つである。
用いるが、これらは、周期律表第Ｉ族から第VIII族まで
の任意の金属またはその塩であってよい。なかでも、よ
り好ましくは亜鉛、錫、チタン、ジルコニウム、カドミ
ウム等の塩あるいはその金属を用いる。この際金属塩の
陰イオンはハロンゲン、酢酸、アルコキシド、アミド、
メタンスルホキシドイオンなどの塩を形成することがで
きるあらゆる陰イオンを用いることができる。さらに塩
だけでなく金属をそのまま用いることができ、なかでも
第II族の亜鉛等が好ましい。この際の形状は問わない
が、好ましくは微粉末状が用いられる。なかでも、亜鉛
またはその塩は特に好適なものの一つである。
【００１５】これら触媒は、カルボニル化合物原料に対
し、通常、０．０１〜１０モル％、より好ましくは０．
１〜２モル％使用することができる。また、この発明の
方法では、適宜な溶媒を使用することができる。この溶
媒としては、反応原料、シリル化合物、および触媒と反
応しないものであれば各種のものを用いることができ
る。たとえば、ベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水素
溶媒、ヘプタン、ヘキサン等の脂肪族炭化水素、ジクロ
ロメタン、塩化メチレン等のハロゲン含有炭化水素溶
媒、エチルエーテル、テトラヒドロフラン等が使用でき
る。本発明のさらなる特徴は溶媒としてトルエン等の溶
媒が用いることができることである。これらは既存の水
素化物を用いる反応方法ではテトロヒドロフランを除い
ては使用できなかったものであり、この点においてもこ
の発明の工業的製造法としての有用性を示している。
し、通常、０．０１〜１０モル％、より好ましくは０．
１〜２モル％使用することができる。また、この発明の
方法では、適宜な溶媒を使用することができる。この溶
媒としては、反応原料、シリル化合物、および触媒と反
応しないものであれば各種のものを用いることができ
る。たとえば、ベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水素
溶媒、ヘプタン、ヘキサン等の脂肪族炭化水素、ジクロ
ロメタン、塩化メチレン等のハロゲン含有炭化水素溶
媒、エチルエーテル、テトラヒドロフラン等が使用でき
る。本発明のさらなる特徴は溶媒としてトルエン等の溶
媒が用いることができることである。これらは既存の水
素化物を用いる反応方法ではテトロヒドロフランを除い
ては使用できなかったものであり、この点においてもこ
の発明の工業的製造法としての有用性を示している。
【００１６】反応は、空気中でもよいし、不活性ガス、
たとえば、Ｎ2 、アルゴン等の雰囲気下で行ってもよ
い。反応は、通常、２０から１００℃の温度で行うが、
好ましくは室温付近（２５−４０度）で実施される。す
なわち、特別な高温を、あるいは低温の条件を必要とし
ないため反応制御が簡便である。さらに、所要反応時間
は用いる反応原料により異なるが、０．５から１００時
間であるが、通常は１から５０時間である。
たとえば、Ｎ2 、アルゴン等の雰囲気下で行ってもよ
い。反応は、通常、２０から１００℃の温度で行うが、
好ましくは室温付近（２５−４０度）で実施される。す
なわち、特別な高温を、あるいは低温の条件を必要とし
ないため反応制御が簡便である。さらに、所要反応時間
は用いる反応原料により異なるが、０．５から１００時
間であるが、通常は１から５０時間である。
【００１７】この発明では、以上の方法で還元的シリル
化反応を実施するが、反応目的物であるシリルエーテル
類の単離工程は従来技術における単離工程が中和工程を
必要とするため多量の酸あるいはアルカリを用いたり多
量の水を必要とするなど繁雑でコストがかかるのに対
し、少くともたとえば濾過及び蒸留精製工程の２工程で
充分であり、極めて簡便である。
化反応を実施するが、反応目的物であるシリルエーテル
類の単離工程は従来技術における単離工程が中和工程を
必要とするため多量の酸あるいはアルカリを用いたり多
量の水を必要とするなど繁雑でコストがかかるのに対
し、少くともたとえば濾過及び蒸留精製工程の２工程で
充分であり、極めて簡便である。
【００１８】以下、実施例を示し、さらに詳しくこの発
明の製造方法について説明する。もちろんこの発明は以
下の例によって限定されるものではない。
明の製造方法について説明する。もちろんこの発明は以
下の例によって限定されるものではない。
【００１９】
【実施例】実施例１ ガラス製反応容器に、アルゴン気流下２８℃において
（ＬｉＨ）ｎ（純度９５％，３０メッシュ）を６２６ｍ
ｇ、塩化トリメチルシリル８．１５ｇ、およびトルエン
２０ｍｌを入れて３０分攪拌した。得られた灰色の懸濁
にアセトフェノン６．０１ｇのトルエン溶液１０ｍｌを
加え、さらにＺｎ（ＯＳＯ2 ＣＨ3 ）2 のトルエン溶液
を加え、３６時間激しく攪拌した。ガスクロマトグラフ
ィー分析により９８％のフェネチルアルコールのトリメ
チルシリルエーテルが得られていることを確認した。得
られた反応混合物をセライトを用いて液体成分と固体成
分とに分離した後、液体成分から溶媒及び揮発成分を減
圧留去し、粗生成物を得た。これを蒸留することで対応
するフェネチルアルコールのトリメチルシリルエーテル
を収率９３％純度９９％で得た。極めて高純度な目的と
するシリルエーテル化合物が高い収率で得られることが
わかる。なお、ＮＭＲ値は、次の通りであった。1 ＨＮ
ＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3 ）δ０．０８（ｓ，９
Ｈ（ＣＨ 3 ）3Ｓｉ），１．４４（ｄ，３ＨＣＨ 3 Ｃ
Ｈ），４．８６（ｑ，１ＨＣＨ3 ＣＨ），７．２−７．
４（ｍ，５ＨＣ 6 Ｈ5 ）実施例２ 溶媒としてトルエンの代わりに塩化メチレンを用いるほ
かは実施例１と全く同様に反応を行い、収率９２％、純
度９８％でフェネチルアルコールのトリメチルシリルエ
ーテルを得た。実施例３〜９ 反応原料のアセトフェノンに代えて種々のカルボニル化
合物を用いたほかは実施例２と同様に反応を行ない、対
応するアルコールのトリメチルシリルエーテルを得た。
その結果を、生成物の純度（単離収率）として表１に示
した。各種のシリルエーテル化合物が高純度、高収率で
得られている。
（ＬｉＨ）ｎ（純度９５％，３０メッシュ）を６２６ｍ
ｇ、塩化トリメチルシリル８．１５ｇ、およびトルエン
２０ｍｌを入れて３０分攪拌した。得られた灰色の懸濁
にアセトフェノン６．０１ｇのトルエン溶液１０ｍｌを
加え、さらにＺｎ（ＯＳＯ2 ＣＨ3 ）2 のトルエン溶液
を加え、３６時間激しく攪拌した。ガスクロマトグラフ
ィー分析により９８％のフェネチルアルコールのトリメ
チルシリルエーテルが得られていることを確認した。得
られた反応混合物をセライトを用いて液体成分と固体成
分とに分離した後、液体成分から溶媒及び揮発成分を減
圧留去し、粗生成物を得た。これを蒸留することで対応
するフェネチルアルコールのトリメチルシリルエーテル
を収率９３％純度９９％で得た。極めて高純度な目的と
するシリルエーテル化合物が高い収率で得られることが
わかる。なお、ＮＭＲ値は、次の通りであった。1 ＨＮ
ＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3 ）δ０．０８（ｓ，９
Ｈ（ＣＨ 3 ）3Ｓｉ），１．４４（ｄ，３ＨＣＨ 3 Ｃ
Ｈ），４．８６（ｑ，１ＨＣＨ3 ＣＨ），７．２−７．
４（ｍ，５ＨＣ 6 Ｈ5 ）実施例２ 溶媒としてトルエンの代わりに塩化メチレンを用いるほ
かは実施例１と全く同様に反応を行い、収率９２％、純
度９８％でフェネチルアルコールのトリメチルシリルエ
ーテルを得た。実施例３〜９ 反応原料のアセトフェノンに代えて種々のカルボニル化
合物を用いたほかは実施例２と同様に反応を行ない、対
応するアルコールのトリメチルシリルエーテルを得た。
その結果を、生成物の純度（単離収率）として表１に示
した。各種のシリルエーテル化合物が高純度、高収率で
得られている。
【００２０】
【表１】
【００２１】実施例１０ 触媒として市販亜鉛末を用いるほかは実施例２と全く同
様に反応を行い、収率９０％、純度９９％でフェネチル
アルコールのトリメチルシリルエーテルを得た。実施例１１〜２８ 実施例２の条件でカルボニル化合物と、（ＬｉＨ）
n と、Ｒ4-m ＳｉＸｍ（ｍ＝１〜４）とを１：１：１の
割合で仕込み、各種亜鉛塩を触媒として反応を実施し
た。その結果を触媒の種類と、フェネチルアルコールの
トリメチルシリルエーテルの収率（％）として表２に示
した。収率はＮＭＲおよびＧＣで決定したものである。
様に反応を行い、収率９０％、純度９９％でフェネチル
アルコールのトリメチルシリルエーテルを得た。実施例１１〜２８ 実施例２の条件でカルボニル化合物と、（ＬｉＨ）
n と、Ｒ4-m ＳｉＸｍ（ｍ＝１〜４）とを１：１：１の
割合で仕込み、各種亜鉛塩を触媒として反応を実施し
た。その結果を触媒の種類と、フェネチルアルコールの
トリメチルシリルエーテルの収率（％）として表２に示
した。収率はＮＭＲおよびＧＣで決定したものである。
【００２２】
【表２】
【００２３】比較例１ 実施例２における反応を塩化トリメチルシリルを加えな
いほかは全く同様に行った。その結果、アセトフェノン
は消費されることなく後処理後未反応で回収された。比較例２ 実施例２における反応を触媒であるＺｎ（ＯＳＯ2 ＣＨ
3 ）2 を加えないほか全く同様に行った。その結果、ア
セトフェノンは消費されることなく後処理後未反応で回
収された。
いほかは全く同様に行った。その結果、アセトフェノン
は消費されることなく後処理後未反応で回収された。比較例２ 実施例２における反応を触媒であるＺｎ（ＯＳＯ2 ＣＨ
3 ）2 を加えないほか全く同様に行った。その結果、ア
セトフェノンは消費されることなく後処理後未反応で回
収された。
【００２４】
【発明の効果】この発明により、以上詳しく説明した通
り、簡便な手段で、安価かつ安全に、優れた反応成績で
高純度なシリルエーテル類を得る。
り、簡便な手段で、安価かつ安全に、優れた反応成績で
高純度なシリルエーテル類を得る。
フロントページの続き (72)発明者 大熊 毅 愛知県瀬戸市川北町１−55 川辺454ビル ２Ｅ号室 (72)発明者 橋口 昌平 愛知県名古屋市名東区上社４−302 (72)発明者 碇屋 隆雄 愛知県名古屋市千種区汁谷町８−１ 茶屋 が坂コータース906号 (72)発明者 野依 良治 愛知県愛知郡日進町大字梅森字新田135− 417
Claims (3)
- 【請求項１】 次式（ａ） 【化１】 （Ｒ1 およびＲ2 は、そのいずれか一方は水素原子であ
ってよく、また、Ｒ1 ，Ｒ2 およびＲは、各々、置換基
を有してもよい鎖状または環状の炭化水素基もしくは複
素環基を示す。ｐは０〜３の数を示す。）で表わされる
シリルエーテル類を製造するにあたり、次式（ｂ） 【化２】 で表わされるカルボニル化合物を、金属もしくは金属塩
の触媒の存在下に、次式（ｃ） 【化３】 （Ｘはハロゲン原子を、ｎおよびｍは整数を示し、ｍは
１〜４である。）で表わされる化合物と反応させること
を特徴とするシリルエーテル類の製造法。 - 【請求項２】 式（ｃ）の化合物を、式（ｂ）のカルボ
ニル化合物１モルあたり１〜１０当量の割合で反応させ
る請求項１の製造法。 - 【請求項３】 第II族の金属または金属塩を触媒とする
請求項１の製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24580193A JPH07101964A (ja) | 1993-09-30 | 1993-09-30 | シリルエーテル類の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24580193A JPH07101964A (ja) | 1993-09-30 | 1993-09-30 | シリルエーテル類の製造法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07101964A true JPH07101964A (ja) | 1995-04-18 |
Family
ID=17139046
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP24580193A Pending JPH07101964A (ja) | 1993-09-30 | 1993-09-30 | シリルエーテル類の製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07101964A (ja) |
-
1993
- 1993-09-30 JP JP24580193A patent/JPH07101964A/ja active Pending
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH07113003B2 (ja) | エステル交換によるアクリル―またはメタクリル酸のエステルの製法 | |
| Pudelski et al. | Structure, reactivity, and electronic properties of [4] ferrocenophanes and [4] ruthenocenophanes prepared via a novel heteroannular cyclization reaction | |
| JP2002518362A (ja) | カルボン酸アミドの触媒酸化チタン（ｉｖ）誘導性ジェミナル対称ジアルキル化 | |
| US5294727A (en) | Method for preparing tertiary hydrocarbon-silyl compounds | |
| US6476250B1 (en) | Optically active fluorinated binaphthol derivative | |
| US5047526A (en) | Dehydrogenative silylation process of organic compounds having active hydrogen | |
| JPH01502025A (ja) | オキシモシラン類の製造法 | |
| US6156918A (en) | Process for the preparation of silanes, with a tertiary hydrocarbon group in the a-position relative to the silicon atom | |
| JP3885497B2 (ja) | １，２，４−ブタントリオールの製造方法 | |
| JPH05202074A (ja) | 接触アルキル化方法 | |
| JPH0448797B2 (ja) | ||
| JPH1025258A (ja) | シクロペンタジエン系化合物のアルキル化方法 | |
| US6448445B1 (en) | Method for catalytically disubstituting carboxylic acid amides with at least one grignard reagent | |
| US6777570B2 (en) | Process for producing norbornene derivative having organosilyl group | |
| US6515180B1 (en) | Method for the catalytic, symmetric disubstitution of carboxylic acid amides with grignard reagents | |
| US4812566A (en) | Process for preparing 1-dodecylazacycloheptane-2-one | |
| US20030125549A1 (en) | Process for the catalytic asymmetric disubstitution of carboxamides using 2 different Grignard reagents | |
| CN113072575B (zh) | 一种芳香硅有机化合物的制备方法 | |
| US3137714A (en) | Preparation of organomercurials | |
| JP2864985B2 (ja) | トリ（第２級アルキル）シラン化合物の製造方法 | |
| JP4022713B2 (ja) | シラン化合物及びその製造方法 | |
| KR100484497B1 (ko) | 올레핀으로부터 에스테르의 제조방법 | |
| JPH0737467B2 (ja) | ｔｅｒｔ―ブチルトリアルコキシシランの製造方法 | |
| KR20240073969A (ko) | 유기-티타늄 화합물의 제조 방법 | |
| JP2819991B2 (ja) | ジ−ｔｅｒｔ−ブチルシランの製造方法 |