JPH07104100A - 電子線回折装置 - Google Patents
電子線回折装置Info
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- JPH07104100A JPH07104100A JP5245608A JP24560893A JPH07104100A JP H07104100 A JPH07104100 A JP H07104100A JP 5245608 A JP5245608 A JP 5245608A JP 24560893 A JP24560893 A JP 24560893A JP H07104100 A JPH07104100 A JP H07104100A
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- electron beam
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- lens current
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- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 電子線回折装置において、全走査領域におけ
る合焦点すなわちぼけの除去を容易に行えるようにす
る。 【構成】 試料２に対する走査領域の一部分に対して合
焦点するようなレンズ電流を設定し、このときのレンズ
電流と合焦点位置の座標とを記憶装置２４に記憶する。
さらに少しだけレンズ電流を変化させ、前記焦点位置と
は別の焦点位置を設定し、このときのレンズ電流と合焦
点位置の座標とを記憶装置２４に記憶する。そして、走
査領域の中心が合焦点するときのレンズ電流Ｉ0 と走査
における補正係数αとを算出し、Ｉ0 に対してＹ方向に
連動した補正電流αＩY ´を重畳したレンズ電流Ｉで収
束レンズ７を制御する。
る合焦点すなわちぼけの除去を容易に行えるようにす
る。 【構成】 試料２に対する走査領域の一部分に対して合
焦点するようなレンズ電流を設定し、このときのレンズ
電流と合焦点位置の座標とを記憶装置２４に記憶する。
さらに少しだけレンズ電流を変化させ、前記焦点位置と
は別の焦点位置を設定し、このときのレンズ電流と合焦
点位置の座標とを記憶装置２４に記憶する。そして、走
査領域の中心が合焦点するときのレンズ電流Ｉ0 と走査
における補正係数αとを算出し、Ｉ0 に対してＹ方向に
連動した補正電流αＩY ´を重畳したレンズ電流Ｉで収
束レンズ７を制御する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、ダイナミックフォーカ
スを行う電子線回折装置に関する。
スを行う電子線回折装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】以下、従来の電子線回折装置について説
明する。
明する。
【０００３】図６に従来の電子線回折装置の概略構成、
図２，３，４に電子ビーム走査状態、図５に電子ビーム
の焦点状態を示す。図６において、１は電子ビーム、２
は試料、５は加速電源、６は電子銃、７は収束レンズ、
８は真空容器、９，１０は偏向コイル群、１１はＣＲ
Ｔ、１２は反射電子回折線、１３は蛍光スクリーン、１
４はのぞき窓、１５はスポット選択機構、１６は光電変
換素子、１７は倍率独立可変回路、１８はローテーショ
ン回路、１９は増幅器、２０は重畳器、２１は走査信号
発生器、２２は焦点調整器、図２〜５において、１は電
子ビーム、２は試料、３は試料回転軸、４は試料表面で
の走査領域である。
図２，３，４に電子ビーム走査状態、図５に電子ビーム
の焦点状態を示す。図６において、１は電子ビーム、２
は試料、５は加速電源、６は電子銃、７は収束レンズ、
８は真空容器、９，１０は偏向コイル群、１１はＣＲ
Ｔ、１２は反射電子回折線、１３は蛍光スクリーン、１
４はのぞき窓、１５はスポット選択機構、１６は光電変
換素子、１７は倍率独立可変回路、１８はローテーショ
ン回路、１９は増幅器、２０は重畳器、２１は走査信号
発生器、２２は焦点調整器、図２〜５において、１は電
子ビーム、２は試料、３は試料回転軸、４は試料表面で
の走査領域である。
【０００４】次に、図６の電子線回折装置の動作を図２
〜５を用いて説明する。図６において、加速電源５を有
する電子銃６から放出された電子ビーム１は収束レンズ
７により真空容器８内にある試料２の表面に５°以下の
視斜角θを持って収束される。一方、走査信号発生器２
１から発生した走査信号が倍率独立可変回路１７とロー
テーション回路１８を介して偏向コイル群９，１０に入
力されているので、電子ビーム１は試料表面上を走査さ
れる。
〜５を用いて説明する。図６において、加速電源５を有
する電子銃６から放出された電子ビーム１は収束レンズ
７により真空容器８内にある試料２の表面に５°以下の
視斜角θを持って収束される。一方、走査信号発生器２
１から発生した走査信号が倍率独立可変回路１７とロー
テーション回路１８を介して偏向コイル群９，１０に入
力されているので、電子ビーム１は試料表面上を走査さ
れる。
【０００５】このとき、試料２から発生した吸収電流信
号Ｉa が輝度変調信号としてＣＲＴ１１に入力されてい
るので、ＣＲＴ１１の画面上に吸収電流像が得られる。
この吸収電流像からＣＲＴ１１の画面上の走査位置を指
定することにより、試料上の分析すべき場所を選択す
る。この指定された走査位置信号を走査信号発生器２１
から倍率独立可変回路１７に入力すると、選択された分
析部分に電子ビーム１が固定照射され、これによって得
られた反射電子回折線１２が蛍光スクリーン１３上にの
ぞき窓１４を通して観測される。この反射電子回折線１
２を解析することによって、試料２の表面上の任意の場
所の結晶状態、つまり試料２の表面部分を構成する原子
の配列状態を分析することが可能となる。
号Ｉa が輝度変調信号としてＣＲＴ１１に入力されてい
るので、ＣＲＴ１１の画面上に吸収電流像が得られる。
この吸収電流像からＣＲＴ１１の画面上の走査位置を指
定することにより、試料上の分析すべき場所を選択す
る。この指定された走査位置信号を走査信号発生器２１
から倍率独立可変回路１７に入力すると、選択された分
析部分に電子ビーム１が固定照射され、これによって得
られた反射電子回折線１２が蛍光スクリーン１３上にの
ぞき窓１４を通して観測される。この反射電子回折線１
２を解析することによって、試料２の表面上の任意の場
所の結晶状態、つまり試料２の表面部分を構成する原子
の配列状態を分析することが可能となる。
【０００６】さらに、スポット選択機構１５により、あ
る特定の回折スポットを選び、光電変換素子１６から得
られる電気信号を電子ビーム１の走査に同期させてＣＲ
Ｔ１１の輝度変調信号として入力することによって、Ｃ
ＲＴ１１の画面上に反射回折像が得られる。この反射回
折像から試料２表面のある特定の結晶構造を持つ領域が
わかるので、試料２表面の結晶解析を行うことができ
る。
る特定の回折スポットを選び、光電変換素子１６から得
られる電気信号を電子ビーム１の走査に同期させてＣＲ
Ｔ１１の輝度変調信号として入力することによって、Ｃ
ＲＴ１１の画面上に反射回折像が得られる。この反射回
折像から試料２表面のある特定の結晶構造を持つ領域が
わかるので、試料２表面の結晶解析を行うことができ
る。
【０００７】ところで、一般には走査Ｘ’軸が試料の回
転軸方向とψの角度を持っているので、走査領域は図２
に示す斜方領域ＡＢ’Ｃ’Ｄでありひずみが発生した状
態である。このひずみを除去するために、走査方向を領
域ＡＢＣＤのＸ軸を試料回転軸と一致するように回転す
れば、試料表面での走査領域は図３に示す領域ＡＢ’
Ｃ’Ｄとなり、ＣＲＴ１１画面上の像のひずみは除去で
きる。この回転操作はローテーション回路１８によって
次のように行われる。これは座標系Ｘ’−Ｙ’と座標系
Ｘ−Ｙとの間の座標回転と等価であるので、いま倍率独
立可変回路１７より与えられる走査信号ＩX ’，ＩY ’
をｓｉｎｅおよびｃｏｓｉｎｅを発生するポテンショメ
ータを使用し、ΔＩX ＝ＩX ’ｃｏｓψ＋ＩY ’ｓｉｎ
ψ，ΔＩY＝ＩX ’ｓｉｎψ＋ＩY ’ｃｏｓψなる式に
したがって重畳すれば、図３の状態が実現できる。これ
が実現されたかどうかの確認は、試料回転軸に平行な辺
をもつ参照とする矩形像のＸ軸、あるいはＹ軸がＣＲＴ
１１のＸ軸あるいはＹ軸に一致するまで、ｓｉｎｅおよ
びｃｏｓｉｎｅのポテンショメータのゲインを変化させ
ることによって容易に行うことができる。
転軸方向とψの角度を持っているので、走査領域は図２
に示す斜方領域ＡＢ’Ｃ’Ｄでありひずみが発生した状
態である。このひずみを除去するために、走査方向を領
域ＡＢＣＤのＸ軸を試料回転軸と一致するように回転す
れば、試料表面での走査領域は図３に示す領域ＡＢ’
Ｃ’Ｄとなり、ＣＲＴ１１画面上の像のひずみは除去で
きる。この回転操作はローテーション回路１８によって
次のように行われる。これは座標系Ｘ’−Ｙ’と座標系
Ｘ−Ｙとの間の座標回転と等価であるので、いま倍率独
立可変回路１７より与えられる走査信号ＩX ’，ＩY ’
をｓｉｎｅおよびｃｏｓｉｎｅを発生するポテンショメ
ータを使用し、ΔＩX ＝ＩX ’ｃｏｓψ＋ＩY ’ｓｉｎ
ψ，ΔＩY＝ＩX ’ｓｉｎψ＋ＩY ’ｃｏｓψなる式に
したがって重畳すれば、図３の状態が実現できる。これ
が実現されたかどうかの確認は、試料回転軸に平行な辺
をもつ参照とする矩形像のＸ軸、あるいはＹ軸がＣＲＴ
１１のＸ軸あるいはＹ軸に一致するまで、ｓｉｎｅおよ
びｃｏｓｉｎｅのポテンショメータのゲインを変化させ
ることによって容易に行うことができる。
【０００８】一方、電子ビーム１の試料２に対する斜視
角θが小さいので、試料２表面での走査領域は電子ビー
ム１の入射方向に関して極端に延びたものとなる。この
ひずみを除去し、図４に示す走査領域ＡＢ’Ｃ’Ｄを実
現するためには、試料２に対してＸ方向とＹ方向が等倍
率となるように電子ビーム１を照射しなければならない
が、そのために走査信号発生器２１から出力された走査
信号に対して、Ｘ方向とＹ方向の倍率を独立して変えら
れるような倍率独立可変回路１７が使用されている。こ
の倍率独立可変回路１７で電子ビーム１のＹ方向の走査
領域をある倍率で小さくした領域ＡＢＣＤを走査し、こ
れが試料２表面上ではＸ方向とＹ方向の倍率が等しい走
査領域ＡＢ’Ｃ’Ｄとなるようにする。この調整によ
り、ＣＲＴ１１の画像はあたかも試料垂直方向から見た
ものとなり、ＣＲＴ１１での試料表面の構造の観測が容
易になる。実際には、電子ビーム１の視斜角θを読み取
り、倍率独立可変回路１７で電子ビーム走査信号のＸ方
向の倍率に対してＹ方向の倍率を常に１／ｓｉｎθ倍す
ることによって、ＣＲＴ１１の画面上にＸ方向とＹ方向
の倍率が等しい画像を表示している。
角θが小さいので、試料２表面での走査領域は電子ビー
ム１の入射方向に関して極端に延びたものとなる。この
ひずみを除去し、図４に示す走査領域ＡＢ’Ｃ’Ｄを実
現するためには、試料２に対してＸ方向とＹ方向が等倍
率となるように電子ビーム１を照射しなければならない
が、そのために走査信号発生器２１から出力された走査
信号に対して、Ｘ方向とＹ方向の倍率を独立して変えら
れるような倍率独立可変回路１７が使用されている。こ
の倍率独立可変回路１７で電子ビーム１のＹ方向の走査
領域をある倍率で小さくした領域ＡＢＣＤを走査し、こ
れが試料２表面上ではＸ方向とＹ方向の倍率が等しい走
査領域ＡＢ’Ｃ’Ｄとなるようにする。この調整によ
り、ＣＲＴ１１の画像はあたかも試料垂直方向から見た
ものとなり、ＣＲＴ１１での試料表面の構造の観測が容
易になる。実際には、電子ビーム１の視斜角θを読み取
り、倍率独立可変回路１７で電子ビーム走査信号のＸ方
向の倍率に対してＹ方向の倍率を常に１／ｓｉｎθ倍す
ることによって、ＣＲＴ１１の画面上にＸ方向とＹ方向
の倍率が等しい画像を表示している。
【０００９】しかし、このような調整だけでは、全走査
領域で合焦点しているとは限らない。すなわち、Ｙ方向
に電子ビーム１を走査するとき、電子ビーム１の照射角
が小さいため、図５ａに示すようにこのＹ方向で画像の
ぼけβが存在している。そのため、電子線回折装置では
ダイナミックフォーカスでＹ方向の走査信号に連動し
て、収束レンズ７を制御しているレンズ電流に偏向電流
を重畳し、全走査領域で合焦点（図５ｂ）して画像のぼ
けを除去している。
領域で合焦点しているとは限らない。すなわち、Ｙ方向
に電子ビーム１を走査するとき、電子ビーム１の照射角
が小さいため、図５ａに示すようにこのＹ方向で画像の
ぼけβが存在している。そのため、電子線回折装置では
ダイナミックフォーカスでＹ方向の走査信号に連動し
て、収束レンズ７を制御しているレンズ電流に偏向電流
を重畳し、全走査領域で合焦点（図５ｂ）して画像のぼ
けを除去している。
【００１０】ダイナミックフォーカスにおける偏向電流
重畳後のレンズ電流Ｉは、式Ｉ＝Ｉ0 −αＩY ´（Ｉ0
は走査領域内の中心が合焦点するときのレンズ電流、α
は走査信号の増幅度、ＩY ´はＹ方向に連動した走査信
号）で表すことができる。実際には、観測者がＣＲＴ１
１の画像を見ながら焦点調整器２２に備えられた調整つ
まみを用い、レンズ電流Ｉ0 を調整することにより、走
査領域における試料２表面の中心部を合焦点（図５ａ）
させる。次に、ＣＲＴ１１の画像を見ながらＹ方向の走
査信号ＩY ´が入力される増幅器１９に備えられた増幅
調整つまみを用いて増幅度αを調整し、重畳器２０でレ
ンズ電流Ｉ0 に重畳される偏向電流αＩY ´を変化させ
ることにより、全走査領域で画像の合焦点（図５ｂ）を
行っている。
重畳後のレンズ電流Ｉは、式Ｉ＝Ｉ0 −αＩY ´（Ｉ0
は走査領域内の中心が合焦点するときのレンズ電流、α
は走査信号の増幅度、ＩY ´はＹ方向に連動した走査信
号）で表すことができる。実際には、観測者がＣＲＴ１
１の画像を見ながら焦点調整器２２に備えられた調整つ
まみを用い、レンズ電流Ｉ0 を調整することにより、走
査領域における試料２表面の中心部を合焦点（図５ａ）
させる。次に、ＣＲＴ１１の画像を見ながらＹ方向の走
査信号ＩY ´が入力される増幅器１９に備えられた増幅
調整つまみを用いて増幅度αを調整し、重畳器２０でレ
ンズ電流Ｉ0 に重畳される偏向電流αＩY ´を変化させ
ることにより、全走査領域で画像の合焦点（図５ｂ）を
行っている。
【００１１】
【発明が解決しようとする課題】従来の電子線回折装置
におけるダイナミックフォーカスは、上記の方法で行わ
れているため、観測者はＣＲＴの画像を見ながら試料中
心部の合焦点と試料周辺部の合焦点を行う必要があり、
合わせて二度の微妙な調整作業を行わねばならず、全走
査領域の合焦点までに時間がかかった。また、合焦点の
精度もあまり良くなかった。
におけるダイナミックフォーカスは、上記の方法で行わ
れているため、観測者はＣＲＴの画像を見ながら試料中
心部の合焦点と試料周辺部の合焦点を行う必要があり、
合わせて二度の微妙な調整作業を行わねばならず、全走
査領域の合焦点までに時間がかかった。また、合焦点の
精度もあまり良くなかった。
【００１２】本発明は、上記課題を解決するために創案
されたものであり、ダイナミックフォーカスでの合焦点
操作の簡便化により、合焦点に対する所要時間を短縮す
るとともに、焦点精度を高くすることができる電子線回
折装置を提供することを目的とする。
されたものであり、ダイナミックフォーカスでの合焦点
操作の簡便化により、合焦点に対する所要時間を短縮す
るとともに、焦点精度を高くすることができる電子線回
折装置を提供することを目的とする。
【００１３】
【課題を解決するための手段】本発明は、走査される電
子ビームを試料に所定角度で照射し、上記試料表面で反
射される反射回折線による回折像を表示する電子線回折
装置において、少なくとも２回以上収束レンズを制御す
るレンズ電流を変化させ、各変化させたときの合焦点位
置の座標とレンズ電流を記憶する記憶手段と、前記記憶
手段に記憶された合焦点位置の座標とレンズ電流から走
査領域内の中心が合焦点するときのレンズ電流Ｉ0 と走
査に伴う補正係数αを演算・出力する制御手段と、前記
レンズ電流Ｉ0 と補正係数αと走査信号が入力され、収
束レンズに供給する補正されたレンズ電流Ｉを発生する
手段とを備えたことを特徴とする
子ビームを試料に所定角度で照射し、上記試料表面で反
射される反射回折線による回折像を表示する電子線回折
装置において、少なくとも２回以上収束レンズを制御す
るレンズ電流を変化させ、各変化させたときの合焦点位
置の座標とレンズ電流を記憶する記憶手段と、前記記憶
手段に記憶された合焦点位置の座標とレンズ電流から走
査領域内の中心が合焦点するときのレンズ電流Ｉ0 と走
査に伴う補正係数αを演算・出力する制御手段と、前記
レンズ電流Ｉ0 と補正係数αと走査信号が入力され、収
束レンズに供給する補正されたレンズ電流Ｉを発生する
手段とを備えたことを特徴とする
【００１４】
【作用】試料の走査領域の一部分において合焦点部分が
存在するように、収束レンズを制御するレンズ電流を調
整する。この合焦点位置のＹ座標とそのときのレンズ電
流のデータを記憶手段に記憶する。さらに前記レンズ電
流を調整して、前記合焦点位置とは別の合焦点部分を発
生させる。そして、この合焦点位置のＹ座標とそのとき
のレンズデータを記憶手段に記憶する。試料の全走査領
域で合焦点するための偏向電流重畳後のレンズ電流Ｉ
は、式Ｉ＝Ｉ0 −αＩY ´（Ｉ0 は走査領域内の中心が
合焦点するときのレンズ電流、αは走査に伴う補正係
数、ＩY ´はＹ方向に連動した走査信号）で表される
が、前記制御手段は上記の方法で得られたＹ座標に連動
した走査信号ＩY1´，ＩY2´、レンズ電流Ｉ1 ，Ｉ2 を
用いて連立方程式Ｉ1 ＝Ｉ0 −αＩY1´，Ｉ2 ＝Ｉ0 −
αＩY2´からＩ0 とαを算出・出力して、前記レンズ電
流Ｉ0 と補正係数αおよび走査信号が入力されることで
収束レンズに供給する補正されたレンズ電流を発生する
手段により、前記収束レンズを制御して、全走査領域に
おいて合焦点がなされる。
存在するように、収束レンズを制御するレンズ電流を調
整する。この合焦点位置のＹ座標とそのときのレンズ電
流のデータを記憶手段に記憶する。さらに前記レンズ電
流を調整して、前記合焦点位置とは別の合焦点部分を発
生させる。そして、この合焦点位置のＹ座標とそのとき
のレンズデータを記憶手段に記憶する。試料の全走査領
域で合焦点するための偏向電流重畳後のレンズ電流Ｉ
は、式Ｉ＝Ｉ0 −αＩY ´（Ｉ0 は走査領域内の中心が
合焦点するときのレンズ電流、αは走査に伴う補正係
数、ＩY ´はＹ方向に連動した走査信号）で表される
が、前記制御手段は上記の方法で得られたＹ座標に連動
した走査信号ＩY1´，ＩY2´、レンズ電流Ｉ1 ，Ｉ2 を
用いて連立方程式Ｉ1 ＝Ｉ0 −αＩY1´，Ｉ2 ＝Ｉ0 −
αＩY2´からＩ0 とαを算出・出力して、前記レンズ電
流Ｉ0 と補正係数αおよび走査信号が入力されることで
収束レンズに供給する補正されたレンズ電流を発生する
手段により、前記収束レンズを制御して、全走査領域に
おいて合焦点がなされる。
【００１５】
【実施例】以下、本発明の電子線回折装置の実施例につ
いて説明する。
いて説明する。
【００１６】図１に本発明の電子線回折装置の概略構成
を示す。図１において、１は電子ビーム、２は試料、５
は加速電源、６は電子銃、７は収束レンズ、８は真空容
器、９，１０は偏向コイル群、１１はＣＲＴ、１２は反
射電子回折線、１３は蛍光スクリーン、１４はのぞき
窓、１５はスポット選択機構、１６は光電変換素子、１
７は倍率独立可変回路、１８はローテーション回路、１
９は増幅器、２０は重畳器、２１は走査信号発生器、２
２は焦点調整器、２３は制御装置、２４は記憶装置、２
５は座標指示器である。
を示す。図１において、１は電子ビーム、２は試料、５
は加速電源、６は電子銃、７は収束レンズ、８は真空容
器、９，１０は偏向コイル群、１１はＣＲＴ、１２は反
射電子回折線、１３は蛍光スクリーン、１４はのぞき
窓、１５はスポット選択機構、１６は光電変換素子、１
７は倍率独立可変回路、１８はローテーション回路、１
９は増幅器、２０は重畳器、２１は走査信号発生器、２
２は焦点調整器、２３は制御装置、２４は記憶装置、２
５は座標指示器である。
【００１７】次に、図１の電子線回折装置の動作を図５
を用いて説明するが、図４の電子ビーム走査状態を得る
までの方法は従来と同様であり、その説明については省
略する。
を用いて説明するが、図４の電子ビーム走査状態を得る
までの方法は従来と同様であり、その説明については省
略する。
【００１８】本発明のダイナミックフォーカスでは、は
じめに観測者が試料２の前記走査領域の一部分において
合焦点部分が存在するように、制御装置２３に備えられ
た調整つまみで焦点調整器２２を制御してレンズ電流を
調整する。このとき焦点位置はおおまかでよい。次に、
制御装置２３で制御されるＣＲＴ１１内に表示されたカ
ーソル部分をマウス等の座標指示器２５により合焦点位
置に合わせる。そして、カーソル部分と合焦点位置が一
致したとき、この座標指示器２５から制御装置２３に指
示を送って座標を読み取り、この焦点のＹ座標Ｙ1 とそ
のときのレンズ電流Ｉ1 のデータを記憶装置２４に記憶
する。次に、制御装置２３に備えられた調整つまみで焦
点調整器２２を制御してレンズ電流を調整して、前記合
焦点位置とは別の合焦点部分を発生させる。このときの
焦点位置もおおまかでよい。そして、このときの焦点の
Ｙ座標Ｙ2 とレンズ電流Ｉ2 も同様にして記憶装置２４
に記憶する。
じめに観測者が試料２の前記走査領域の一部分において
合焦点部分が存在するように、制御装置２３に備えられ
た調整つまみで焦点調整器２２を制御してレンズ電流を
調整する。このとき焦点位置はおおまかでよい。次に、
制御装置２３で制御されるＣＲＴ１１内に表示されたカ
ーソル部分をマウス等の座標指示器２５により合焦点位
置に合わせる。そして、カーソル部分と合焦点位置が一
致したとき、この座標指示器２５から制御装置２３に指
示を送って座標を読み取り、この焦点のＹ座標Ｙ1 とそ
のときのレンズ電流Ｉ1 のデータを記憶装置２４に記憶
する。次に、制御装置２３に備えられた調整つまみで焦
点調整器２２を制御してレンズ電流を調整して、前記合
焦点位置とは別の合焦点部分を発生させる。このときの
焦点位置もおおまかでよい。そして、このときの焦点の
Ｙ座標Ｙ2 とレンズ電流Ｉ2 も同様にして記憶装置２４
に記憶する。
【００１９】ダイナミックフォーカスにおいて、試料２
の全走査領域で合焦点するための偏向電流重畳後のレン
ズ電流Ｉは、式Ｉ＝Ｉ0 −αＩY ´（Ｉ0 は走査領域内
の中心が合焦点するときのレンズ電流、αは補正係数、
すなわち走査信号の増幅度、ＩY ´はＹ方向に連動した
走査信号）で表されるが、制御装置２３は上記の方法で
得られたＹ座標Ｙ1 ，Ｙ2 に連動した走査信号ＩY1´，
ＩY2´、レンズ電流Ｉ1 ，Ｉ2 を用いて連立方程式Ｉ1
＝Ｉ0 −αＩY1´，Ｉ2 ＝Ｉ0 −αＩY2´からレンズ電
流Ｉ0 と補正係数αを算出する。そして、制御装置２３
は焦点調整器２２を制御して、レンズ電流Ｉ0 を発生さ
せるとともに、増幅器１９に補正係数αを入力する。こ
の増幅器１９は補正電流αＩY ´を発生する。この補正
電流αＩY ´を重畳器２０でレンズ電流Ｉ0 に重畳し、
補正電流重畳後のレンズ電流Ｉで収束レンズ７を制御す
ることにより、ＣＲＴ１１の画像は試料の全走査領域に
おいてぼけを除去され、合焦点がなされる（図５ｂ）。
の全走査領域で合焦点するための偏向電流重畳後のレン
ズ電流Ｉは、式Ｉ＝Ｉ0 −αＩY ´（Ｉ0 は走査領域内
の中心が合焦点するときのレンズ電流、αは補正係数、
すなわち走査信号の増幅度、ＩY ´はＹ方向に連動した
走査信号）で表されるが、制御装置２３は上記の方法で
得られたＹ座標Ｙ1 ，Ｙ2 に連動した走査信号ＩY1´，
ＩY2´、レンズ電流Ｉ1 ，Ｉ2 を用いて連立方程式Ｉ1
＝Ｉ0 −αＩY1´，Ｉ2 ＝Ｉ0 −αＩY2´からレンズ電
流Ｉ0 と補正係数αを算出する。そして、制御装置２３
は焦点調整器２２を制御して、レンズ電流Ｉ0 を発生さ
せるとともに、増幅器１９に補正係数αを入力する。こ
の増幅器１９は補正電流αＩY ´を発生する。この補正
電流αＩY ´を重畳器２０でレンズ電流Ｉ0 に重畳し、
補正電流重畳後のレンズ電流Ｉで収束レンズ７を制御す
ることにより、ＣＲＴ１１の画像は試料の全走査領域に
おいてぼけを除去され、合焦点がなされる（図５ｂ）。
【００２０】なお、上記実施例では座標指示器２５とし
てマウスを使用したが、ライトペンを使用してＣＲＴ１
１内の合焦点位置を指示することも可能である。
てマウスを使用したが、ライトペンを使用してＣＲＴ１
１内の合焦点位置を指示することも可能である。
【００２１】また、ＣＲＴ１１上に座標目盛り付きのフ
ィルターを付設し、観測者がこのフィルタを透過して焦
点位置を観測することでこの焦点位置の座標を読み取
り、この座標を制御装置２３に入力してもよい。
ィルターを付設し、観測者がこのフィルタを透過して焦
点位置を観測することでこの焦点位置の座標を読み取
り、この座標を制御装置２３に入力してもよい。
【００２２】
【発明の効果】本発明の電子線回折装置は上記のように
構成されていているので、ＣＲＴを見ながら行う合焦点
作業が軽減されるため、走査領域を合焦点する際の時間
を短縮することができるとともに、観測者の疲労を軽減
することができる。
構成されていているので、ＣＲＴを見ながら行う合焦点
作業が軽減されるため、走査領域を合焦点する際の時間
を短縮することができるとともに、観測者の疲労を軽減
することができる。
【００２３】さらに、焦点精度を高めることができるの
で、試料表面の結晶構造の分析を容易に行うことができ
る。
で、試料表面の結晶構造の分析を容易に行うことができ
る。
【図１】本発明の電子線回折装置の構成を示す図であ
る。
る。
【図２】電子ビームの走査状態を示す図（１）である。
【図３】電子ビームの走査状態を示す図（２）である。
【図４】電子ビームの走査状態を示す図（３）である。
【図５】電子ビームの焦点状態を示す図である。
【図６】従来の電子線回折装置の構成を示す図である。
Claims (1)
- 【請求項１】 走査される電子ビームを試料に所定角度
で照射し、上記試料表面で反射される反射回折線による
回折像を表示する電子線回折装置において、少なくとも
二回以上収束レンズを制御するレンズ電流を変化させ、
各変化させたときの合焦点位置の座標とレンズ電流を記
憶する記憶手段と、前記記憶手段に記憶された合焦点位
置の座標とレンズ電流から走査領域内の中心が合焦点す
るときのレンズ電流Ｉ0 と走査に伴う補正係数αを演算
・出力する制御手段と、前記レンズ電流Ｉ0 と補正係数
αと走査信号が入力され、収束レンズに供給する補正さ
れたレンズ電流Ｉを発生する手段とを備えたことを特徴
とする電子線回折装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5245608A JPH07104100A (ja) | 1993-09-30 | 1993-09-30 | 電子線回折装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5245608A JPH07104100A (ja) | 1993-09-30 | 1993-09-30 | 電子線回折装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07104100A true JPH07104100A (ja) | 1995-04-21 |
Family
ID=17136243
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5245608A Pending JPH07104100A (ja) | 1993-09-30 | 1993-09-30 | 電子線回折装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07104100A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN116134578A (zh) * | 2020-07-29 | 2023-05-16 | 应用材料公司 | 使用带电粒子束装置对样品进行成像的方法、校准带电粒子束装置的方法及带电粒子束装置 |
-
1993
- 1993-09-30 JP JP5245608A patent/JPH07104100A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN116134578A (zh) * | 2020-07-29 | 2023-05-16 | 应用材料公司 | 使用带电粒子束装置对样品进行成像的方法、校准带电粒子束装置的方法及带电粒子束装置 |
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