JPH07120414A - 電子線回折装置 - Google Patents
電子線回折装置Info
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- JPH07120414A JPH07120414A JP5267631A JP26763193A JPH07120414A JP H07120414 A JPH07120414 A JP H07120414A JP 5267631 A JP5267631 A JP 5267631A JP 26763193 A JP26763193 A JP 26763193A JP H07120414 A JPH07120414 A JP H07120414A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 電子線回折装置において、合焦点作業時にお
ける走査に要する時間を短縮する。 【構成】 走査位置入力器２４で電子ビームの走査開始
位置と走査幅を設定して、観測範囲の中心部分だけを走
査する。次に、この走査領域が合焦点するように焦点調
整器２２でレンズ電流Ｉ0 を設定する。同様に、観測す
べき走査領域内の周辺部分だけを走査するように、走査
位置入力器２４で電子ビームの走査開始位置と走査幅を
設定する。次に、この走査領域が合焦点するように増幅
器１９を用いて走査における補正係数αを設定する。そ
して、Ｉ0 に対してＹ方向に連動した補正電流αＩY ’
を重畳したレンズ電流Ｉで収束レンズ７を制御する。
ける走査に要する時間を短縮する。 【構成】 走査位置入力器２４で電子ビームの走査開始
位置と走査幅を設定して、観測範囲の中心部分だけを走
査する。次に、この走査領域が合焦点するように焦点調
整器２２でレンズ電流Ｉ0 を設定する。同様に、観測す
べき走査領域内の周辺部分だけを走査するように、走査
位置入力器２４で電子ビームの走査開始位置と走査幅を
設定する。次に、この走査領域が合焦点するように増幅
器１９を用いて走査における補正係数αを設定する。そ
して、Ｉ0 に対してＹ方向に連動した補正電流αＩY ’
を重畳したレンズ電流Ｉで収束レンズ７を制御する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、ダイナミックフォーカ
スを行う電子線回折装置に関する。
スを行う電子線回折装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】以下、従来の電子線回折装置について説
明する。
明する。
【０００３】図７に従来の電子線回折装置の概略構成、
図３，４，５に電子ビーム走査状態、図６に電子ビーム
の焦点状態を示す。図７において、１は電子ビーム、２
は試料、５は加速電源、６は電子銃、７は収束レンズ、
８は真空容器、９，１０は偏向コイル群、１１はＣＲ
Ｔ、１２は反射回折電子線、１３は蛍光スクリーン、１
４はのぞき窓、１５はスポット選択機構、１６は光電変
換素子、１７は倍率独立可変回路、１８はローテーショ
ン回路、１９は増幅器、２０は重畳器、２１’は走査信
号発生器、２２は焦点調整器、２３制御装置、図３〜６
において、１は電子ビーム、２は試料、３は試料傾斜
軸、４は試料表面での走査領域である。
図３，４，５に電子ビーム走査状態、図６に電子ビーム
の焦点状態を示す。図７において、１は電子ビーム、２
は試料、５は加速電源、６は電子銃、７は収束レンズ、
８は真空容器、９，１０は偏向コイル群、１１はＣＲ
Ｔ、１２は反射回折電子線、１３は蛍光スクリーン、１
４はのぞき窓、１５はスポット選択機構、１６は光電変
換素子、１７は倍率独立可変回路、１８はローテーショ
ン回路、１９は増幅器、２０は重畳器、２１’は走査信
号発生器、２２は焦点調整器、２３制御装置、図３〜６
において、１は電子ビーム、２は試料、３は試料傾斜
軸、４は試料表面での走査領域である。
【０００４】次に、図７の電子線回折装置の動作を図３
〜６を用いて説明する。図７において、加速電源５を有
する電子銃６から放出された電子ビーム１は収束レンズ
７により真空容器８内にある試料２の表面に５°程度の
視斜角θを持って収束される。一方、走査信号発生器２
１’から発生した走査信号が倍率独立可変回路１７とロ
ーテーション回路１８を介して偏向コイル群９，１０に
入力されているので、電子ビーム１は試料表面上を走査
される。
〜６を用いて説明する。図７において、加速電源５を有
する電子銃６から放出された電子ビーム１は収束レンズ
７により真空容器８内にある試料２の表面に５°程度の
視斜角θを持って収束される。一方、走査信号発生器２
１’から発生した走査信号が倍率独立可変回路１７とロ
ーテーション回路１８を介して偏向コイル群９，１０に
入力されているので、電子ビーム１は試料表面上を走査
される。
【０００５】このとき、試料２から発生した吸収電流信
号Ｉa が輝度変調信号としてＣＲＴ１１に入力されてい
るので、ＣＲＴ１１の画面上に吸収電流像が得られる。
この吸収電流像からＣＲＴ１１の画面上の走査位置を制
御装置２３によって指定することで、試料上の分析すべ
き場所を選択する。この指定された走査位置信号を走査
信号発生器２１’から倍率独立可変回路１７に入力する
と、選択された分析部分に電子ビーム１が固定照射さ
れ、これによって得られた反射回折電子線１２の強度分
布が蛍光スクリーン１３上にのぞき窓１４を通して観測
される。この反射回折電子線１２の強度分布を解析する
ことによって、試料２の表面上の任意の場所の結晶状
態、つまり試料２の表面部分を構成する原子の配列状態
を分析することが可能となる。
号Ｉa が輝度変調信号としてＣＲＴ１１に入力されてい
るので、ＣＲＴ１１の画面上に吸収電流像が得られる。
この吸収電流像からＣＲＴ１１の画面上の走査位置を制
御装置２３によって指定することで、試料上の分析すべ
き場所を選択する。この指定された走査位置信号を走査
信号発生器２１’から倍率独立可変回路１７に入力する
と、選択された分析部分に電子ビーム１が固定照射さ
れ、これによって得られた反射回折電子線１２の強度分
布が蛍光スクリーン１３上にのぞき窓１４を通して観測
される。この反射回折電子線１２の強度分布を解析する
ことによって、試料２の表面上の任意の場所の結晶状
態、つまり試料２の表面部分を構成する原子の配列状態
を分析することが可能となる。
【０００６】さらに、スポット選択機構１５により、あ
る特定の方向に回折した電子線を選び、光電変換素子１
６から得られる電気信号を電子ビーム１の走査に同期さ
せてＣＲＴ１１の輝度変調信号として入力することによ
って、ＣＲＴ１１の画面上に反射回折像が得られる。こ
の反射回折像から試料２表面のある特定の結晶構造を持
つ領域がわかるので、試料２表面の結晶解析を行うこと
ができる。
る特定の方向に回折した電子線を選び、光電変換素子１
６から得られる電気信号を電子ビーム１の走査に同期さ
せてＣＲＴ１１の輝度変調信号として入力することによ
って、ＣＲＴ１１の画面上に反射回折像が得られる。こ
の反射回折像から試料２表面のある特定の結晶構造を持
つ領域がわかるので、試料２表面の結晶解析を行うこと
ができる。
【０００７】ところで、一般には走査Ｘ’軸が試料の回
転軸方向とψの角度を持っているので、走査領域は図３
に示す斜方領域ＡＢ’Ｃ’Ｄでありひずみが発生した状
態である。このひずみを除去するために、走査方向を領
域ＡＢＣＤのＸ軸を試料回転軸と一致するように回転す
れば、試料表面での走査領域は図４に示す領域ＡＢ’
Ｃ’Ｄとなり、ＣＲＴ１１画面上の像のひずみは除去で
きる。この回転操作はローテーション回路１８によって
次のように行われる。これは座標系Ｘ’−Ｙ’と座標系
Ｘ−Ｙとの間の座標回転と等価であるので、いま倍率独
立可変回路１７より与えられる走査信号ＩX ’，ＩY ’
をｓｉｎｅおよびｃｏｓｉｎｅを発生するポテンショメ
ータを使用し、ΔＩX ＝ＩX ’ｃｏｓψ＋ＩY ’ｓｉｎ
ψ，ΔＩY＝ＩX ’ｓｉｎψ＋ＩY ’ｃｏｓψなる式に
したがって重畳すれば、図４の状態が実現できる。これ
が実現されたかどうかの確認は、試料回転軸に平行な辺
をもつ参照とする矩形像のＸ軸、あるいはＹ軸がＣＲＴ
１１のＸ軸あるいはＹ軸に一致するまで、ｓｉｎｅおよ
びｃｏｓｉｎｅのポテンショメータのゲインを変化させ
ることによって容易に行うことができる。
転軸方向とψの角度を持っているので、走査領域は図３
に示す斜方領域ＡＢ’Ｃ’Ｄでありひずみが発生した状
態である。このひずみを除去するために、走査方向を領
域ＡＢＣＤのＸ軸を試料回転軸と一致するように回転す
れば、試料表面での走査領域は図４に示す領域ＡＢ’
Ｃ’Ｄとなり、ＣＲＴ１１画面上の像のひずみは除去で
きる。この回転操作はローテーション回路１８によって
次のように行われる。これは座標系Ｘ’−Ｙ’と座標系
Ｘ−Ｙとの間の座標回転と等価であるので、いま倍率独
立可変回路１７より与えられる走査信号ＩX ’，ＩY ’
をｓｉｎｅおよびｃｏｓｉｎｅを発生するポテンショメ
ータを使用し、ΔＩX ＝ＩX ’ｃｏｓψ＋ＩY ’ｓｉｎ
ψ，ΔＩY＝ＩX ’ｓｉｎψ＋ＩY ’ｃｏｓψなる式に
したがって重畳すれば、図４の状態が実現できる。これ
が実現されたかどうかの確認は、試料回転軸に平行な辺
をもつ参照とする矩形像のＸ軸、あるいはＹ軸がＣＲＴ
１１のＸ軸あるいはＹ軸に一致するまで、ｓｉｎｅおよ
びｃｏｓｉｎｅのポテンショメータのゲインを変化させ
ることによって容易に行うことができる。
【０００８】一方、電子ビーム１の試料２に対する斜視
角θが小さいので、試料２表面での走査領域は電子ビー
ム１の入射方向に関して極端に延びたものとなる。この
ひずみを除去し、図５に示す走査領域ＡＢ’Ｃ’Ｄを実
現するためには、試料２に対してＸ方向とＹ方向が等倍
率となるように電子ビーム１を照射しなければならない
が、そのために走査信号発生器２１’から出力された走
査信号に対して、Ｘ方向とＹ方向の倍率を独立して変え
られるような倍率独立可変回路１７が使用されている。
この倍率独立可変回路１７で電子ビーム１のＹ方向の走
査領域をある倍率で小さくした領域ＡＢＣＤを走査し、
これが試料２表面上ではＸ方向とＹ方向の倍率が等しい
走査領域ＡＢ’Ｃ’Ｄとなるようにする。この調整によ
り、ＣＲＴ１１の画像はあたかも試料垂直方向から見た
ものとなり、ＣＲＴ１１での試料表面の構造の観測が容
易になる。実際には、電子ビーム１の視斜角θを読み取
り、倍率独立可変回路１７で電子ビーム走査信号のＸ方
向の倍率に対してＹ方向の倍率を常に１／ｓｉｎθ倍す
ることによって、ＣＲＴ１１の画面上にＸ方向とＹ方向
の倍率が等しい画像を表示している。
角θが小さいので、試料２表面での走査領域は電子ビー
ム１の入射方向に関して極端に延びたものとなる。この
ひずみを除去し、図５に示す走査領域ＡＢ’Ｃ’Ｄを実
現するためには、試料２に対してＸ方向とＹ方向が等倍
率となるように電子ビーム１を照射しなければならない
が、そのために走査信号発生器２１’から出力された走
査信号に対して、Ｘ方向とＹ方向の倍率を独立して変え
られるような倍率独立可変回路１７が使用されている。
この倍率独立可変回路１７で電子ビーム１のＹ方向の走
査領域をある倍率で小さくした領域ＡＢＣＤを走査し、
これが試料２表面上ではＸ方向とＹ方向の倍率が等しい
走査領域ＡＢ’Ｃ’Ｄとなるようにする。この調整によ
り、ＣＲＴ１１の画像はあたかも試料垂直方向から見た
ものとなり、ＣＲＴ１１での試料表面の構造の観測が容
易になる。実際には、電子ビーム１の視斜角θを読み取
り、倍率独立可変回路１７で電子ビーム走査信号のＸ方
向の倍率に対してＹ方向の倍率を常に１／ｓｉｎθ倍す
ることによって、ＣＲＴ１１の画面上にＸ方向とＹ方向
の倍率が等しい画像を表示している。
【０００９】しかし、このような調整だけでは、全走査
領域で合焦点しているとは限らない。すなわち、Ｙ方向
に電子ビーム１を走査するとき、電子ビーム１の照射角
が小さいため、図６ａに示すようにこのＹ方向で画像の
ぼけβが存在している。そのため、電子線回折装置では
ダイナミックフォーカスでＹ方向の走査信号に連動し
て、収束レンズ７を制御しているレンズ電流に補正電流
を重畳し、全走査領域で合焦点（図６ｂ）して画像のぼ
けを除去している。
領域で合焦点しているとは限らない。すなわち、Ｙ方向
に電子ビーム１を走査するとき、電子ビーム１の照射角
が小さいため、図６ａに示すようにこのＹ方向で画像の
ぼけβが存在している。そのため、電子線回折装置では
ダイナミックフォーカスでＹ方向の走査信号に連動し
て、収束レンズ７を制御しているレンズ電流に補正電流
を重畳し、全走査領域で合焦点（図６ｂ）して画像のぼ
けを除去している。
【００１０】ダイナミックフォーカスにおける補正電流
重畳後のレンズ電流Ｉは、式Ｉ＝Ｉ0 −αＩY ’（Ｉ0
は走査領域内の中心が合焦点するときのレンズ電流、α
は補正係数、すなわち走査信号の増幅度、ＩY ’はＹ方
向の走査信号）で表すことができる。実際には、観測者
がＣＲＴ１１の画像を見ながら焦点調整器２２に備えら
れた調整つまみを用い、レンズ電流Ｉ0 を調整すること
により、走査領域における試料２表面の中心部を合焦点
（図６ａ）させる。次に、ＣＲＴ１１の画像を見ながら
Ｙ方向の走査信号ＩY ’が入力される増幅器１９に備え
られた調整つまみを用いて補正係数αを調整し、重畳器
２０でレンズ電流Ｉ0 に重畳される補正電流αＩY ’を
変化させることにより、全走査領域で画像の合焦点（図
６ｂ）を行っている。
重畳後のレンズ電流Ｉは、式Ｉ＝Ｉ0 −αＩY ’（Ｉ0
は走査領域内の中心が合焦点するときのレンズ電流、α
は補正係数、すなわち走査信号の増幅度、ＩY ’はＹ方
向の走査信号）で表すことができる。実際には、観測者
がＣＲＴ１１の画像を見ながら焦点調整器２２に備えら
れた調整つまみを用い、レンズ電流Ｉ0 を調整すること
により、走査領域における試料２表面の中心部を合焦点
（図６ａ）させる。次に、ＣＲＴ１１の画像を見ながら
Ｙ方向の走査信号ＩY ’が入力される増幅器１９に備え
られた調整つまみを用いて補正係数αを調整し、重畳器
２０でレンズ電流Ｉ0 に重畳される補正電流αＩY ’を
変化させることにより、全走査領域で画像の合焦点（図
６ｂ）を行っている。
【００１１】
【発明が解決しようとする課題】従来の電子線回折装置
におけるダイナミックフォーカスは、上記の方法で行わ
れているため、観測すべき走査領域における中心部と周
辺部の二度の合焦点を行う必要があるが、それぞれ前記
走査領域すべてを走査するので、合焦点作業の対象外の
領域まで走査してムダな時間を要していた。
におけるダイナミックフォーカスは、上記の方法で行わ
れているため、観測すべき走査領域における中心部と周
辺部の二度の合焦点を行う必要があるが、それぞれ前記
走査領域すべてを走査するので、合焦点作業の対象外の
領域まで走査してムダな時間を要していた。
【００１２】本発明は、上記課題を解決するために創案
されたものであり、ダイナミックフォーカスでの合焦点
作業における走査時間の短縮化で、合焦点に対する所要
時間を短縮することができる電子線回折装置を提供する
ことを目的とする。
されたものであり、ダイナミックフォーカスでの合焦点
作業における走査時間の短縮化で、合焦点に対する所要
時間を短縮することができる電子線回折装置を提供する
ことを目的とする。
【００１３】
【課題を解決するための手段】本発明は、走査される電
子ビームを試料に所定角度で照射し、前記試料表面で回
折される反射回折線による回折像を表示する電子線回折
装置において、試料の傾斜軸に垂直な方向に任意の電子
線走査領域を設定する手段を備え、走査領域内における
中心部分と周辺部分を別々に走査し合焦点することを特
徴とする。
子ビームを試料に所定角度で照射し、前記試料表面で回
折される反射回折線による回折像を表示する電子線回折
装置において、試料の傾斜軸に垂直な方向に任意の電子
線走査領域を設定する手段を備え、走査領域内における
中心部分と周辺部分を別々に走査し合焦点することを特
徴とする。
【００１４】
【作用】観測すべき走査領域内の中心部分だけを走査す
るように走査信号発生器で走査開始位置と走査幅を設定
して、走査する。この走査領域が合焦点するように、Ｃ
ＲＴの画像を見ながら焦点調整器でレンズ電流を設定す
る。同様に、観測すべき走査領域内の周辺部だけを走査
するように走査信号発生器で走査開始位置と走査幅を設
定して、走査する。この走査領域が合焦点するように、
ＣＲＴの画面を見ながら増幅器で補正係数を設定する。
このレンズ電流と補正係数とにより、ぼけを除去する補
正電流を重畳器で前記レンズ電流に重畳して、観測すべ
き走査領域すべての合焦点を行う。
るように走査信号発生器で走査開始位置と走査幅を設定
して、走査する。この走査領域が合焦点するように、Ｃ
ＲＴの画像を見ながら焦点調整器でレンズ電流を設定す
る。同様に、観測すべき走査領域内の周辺部だけを走査
するように走査信号発生器で走査開始位置と走査幅を設
定して、走査する。この走査領域が合焦点するように、
ＣＲＴの画面を見ながら増幅器で補正係数を設定する。
このレンズ電流と補正係数とにより、ぼけを除去する補
正電流を重畳器で前記レンズ電流に重畳して、観測すべ
き走査領域すべての合焦点を行う。
【００１５】
【実施例】以下、本発明の電子線回折装置の実施例につ
いて説明する。
いて説明する。
【００１６】図１に本発明の電子線回折装置の概略構成
を示す。図１において、１は電子ビーム、２は試料、５
は加速電源、６は電子銃、７は収束レンズ、８は真空容
器、９，１０は偏向コイル群、１１はＣＲＴ、１２は反
射回折電子線、１３は蛍光スクリーン、１４はのぞき
窓、１５はスポット選択機構、１６は光電変換素子、１
７は倍率独立可変回路、１８はローテーション回路、１
９は増幅器、２０は重畳器、２１は走査信号発生器、２
２は焦点調整器、２３は制御装置、２４は走査位置入力
器、図２において、１１はＣＲＴ、１１ａはＣＲＴ画面
である。
を示す。図１において、１は電子ビーム、２は試料、５
は加速電源、６は電子銃、７は収束レンズ、８は真空容
器、９，１０は偏向コイル群、１１はＣＲＴ、１２は反
射回折電子線、１３は蛍光スクリーン、１４はのぞき
窓、１５はスポット選択機構、１６は光電変換素子、１
７は倍率独立可変回路、１８はローテーション回路、１
９は増幅器、２０は重畳器、２１は走査信号発生器、２
２は焦点調整器、２３は制御装置、２４は走査位置入力
器、図２において、１１はＣＲＴ、１１ａはＣＲＴ画面
である。
【００１７】次に、図１の電子線回折装置の動作を図２
を用いて説明するが、図３〜５の電子ビーム走査状態を
得るまでの方法は従来と同様であり、その説明について
は省略する。
を用いて説明するが、図３〜５の電子ビーム走査状態を
得るまでの方法は従来と同様であり、その説明について
は省略する。
【００１８】ダイナミックフォーカスにおける補正電流
重畳後のレンズ電流Ｉは、式Ｉ＝Ｉ0 −αＩY ’（Ｉ0
は走査領域内の中心が合焦点するときのレンズ電流、α
は補正係数、すなわち走査信号の増幅度、ＩY ’はＹ方
向の走査信号）で表すことができる。本発明では、はじ
めに観測すべき走査領域内の中心部分だけを走査するよ
うに、走査位置入力器２４に走査開始位置（Ｙ＝Ｙ1 ）
と走査幅（Ｓ＝Ｓ1 ）を入力する。この走査位置入力器
２４に入力したＣＲＴ画面１１ａ上の走査位置を制御回
路２３に設定することにより、走査信号発生器２１は図
２ａに示すようなＸ，Ｙ成分の走査信号を発生し、図２
ｂに示すような走査がなされ、図２ｃに示すＹ＝Ｙ1 か
らＹ＝Ｙ1 ＋Ｓ1 までの領域の走査が行われる。引き続
いて、この走査領域が合焦点するように、ＣＲＴ画面１
１ａを見ながら焦点調整器２２でレンズ電流を設定す
る。このときのレンズ電流をＩ0 とする。
重畳後のレンズ電流Ｉは、式Ｉ＝Ｉ0 −αＩY ’（Ｉ0
は走査領域内の中心が合焦点するときのレンズ電流、α
は補正係数、すなわち走査信号の増幅度、ＩY ’はＹ方
向の走査信号）で表すことができる。本発明では、はじ
めに観測すべき走査領域内の中心部分だけを走査するよ
うに、走査位置入力器２４に走査開始位置（Ｙ＝Ｙ1 ）
と走査幅（Ｓ＝Ｓ1 ）を入力する。この走査位置入力器
２４に入力したＣＲＴ画面１１ａ上の走査位置を制御回
路２３に設定することにより、走査信号発生器２１は図
２ａに示すようなＸ，Ｙ成分の走査信号を発生し、図２
ｂに示すような走査がなされ、図２ｃに示すＹ＝Ｙ1 か
らＹ＝Ｙ1 ＋Ｓ1 までの領域の走査が行われる。引き続
いて、この走査領域が合焦点するように、ＣＲＴ画面１
１ａを見ながら焦点調整器２２でレンズ電流を設定す
る。このときのレンズ電流をＩ0 とする。
【００１９】同様にして、観測すべき走査領域内の周辺
部だけを走査するように、走査位置入力器２４に走査開
始位置（Ｙ＝Ｙ2 ）と走査幅（Ｓ＝Ｓ2 ）を入力して、
図２ｄに示すＹ＝Ｙ2 からＹ＝Ｙ2 ＋Ｓ2 までの領域の
走査を行う。そして、この走査領域が合焦点するよう
に、ＣＲＴ画面１１ａを見ながら増幅器１９に備えられ
た調整つまみを用いて補正係数αを調整することによ
り、ぼけを除去する補正電流αＩY ’を重畳器２０でレ
ンズ電流Ｉ0 に重畳して、全走査領域での合焦点がなさ
れる。
部だけを走査するように、走査位置入力器２４に走査開
始位置（Ｙ＝Ｙ2 ）と走査幅（Ｓ＝Ｓ2 ）を入力して、
図２ｄに示すＹ＝Ｙ2 からＹ＝Ｙ2 ＋Ｓ2 までの領域の
走査を行う。そして、この走査領域が合焦点するよう
に、ＣＲＴ画面１１ａを見ながら増幅器１９に備えられ
た調整つまみを用いて補正係数αを調整することによ
り、ぼけを除去する補正電流αＩY ’を重畳器２０でレ
ンズ電流Ｉ0 に重畳して、全走査領域での合焦点がなさ
れる。
【００２０】このような合焦点作業で設定したレンズ電
流Ｉ0 および補正係数αを用いて試料２の観測すべき走
査領域を走査することで、この走査領域すべてにおいて
合焦点がなされ、ぼけのない走査像を得ることができ
る。
流Ｉ0 および補正係数αを用いて試料２の観測すべき走
査領域を走査することで、この走査領域すべてにおいて
合焦点がなされ、ぼけのない走査像を得ることができ
る。
【００２１】なお、上記実施例では走査位置入力器２４
に走査開始位置と走査幅を入力して走査領域を指定した
が、走査開始位置（Ｙ＝ＹS ）と走査終了位置（Ｙ＝Ｙ
E ）を入力して走査領域を指定してもよい。
に走査開始位置と走査幅を入力して走査領域を指定した
が、走査開始位置（Ｙ＝ＹS ）と走査終了位置（Ｙ＝Ｙ
E ）を入力して走査領域を指定してもよい。
【００２２】
【発明の効果】本発明の電子線回折装置は上記のように
構成されているので、ダイナミックフォーカスで合焦点
作業を行うときには、観測すべき走査領域内の中心部分
と周辺部分に限定して、それぞれ別々に走査し合焦点す
ることで、走査領域の中心が合焦点するときのレンズ電
流Ｉ0 と走査における補正係数αとを設定し、レンズ電
流Ｉ0 に対しＹ方向に連動した補正電流αＩY ’を重畳
したレンズ電流Ｉで収束レンズを制御することによっ
て、観測すべき走査領域すべてにおいて合焦点がなされ
る。このような電子線回折装置では、走査に要する時間
はＸ方向の一つの走査線の走査時間と走査線数の積で決
まるため、Ｙ方向の走査領域を限定すれば走査線数が少
なくなり、合焦点作業時に要する走査時間は従来の約１
／５〜１／１０に短縮され、能率よく試料分析を行うこ
とができるようになる。
構成されているので、ダイナミックフォーカスで合焦点
作業を行うときには、観測すべき走査領域内の中心部分
と周辺部分に限定して、それぞれ別々に走査し合焦点す
ることで、走査領域の中心が合焦点するときのレンズ電
流Ｉ0 と走査における補正係数αとを設定し、レンズ電
流Ｉ0 に対しＹ方向に連動した補正電流αＩY ’を重畳
したレンズ電流Ｉで収束レンズを制御することによっ
て、観測すべき走査領域すべてにおいて合焦点がなされ
る。このような電子線回折装置では、走査に要する時間
はＸ方向の一つの走査線の走査時間と走査線数の積で決
まるため、Ｙ方向の走査領域を限定すれば走査線数が少
なくなり、合焦点作業時に要する走査時間は従来の約１
／５〜１／１０に短縮され、能率よく試料分析を行うこ
とができるようになる。
【図１】本発明の電子線回折装置の構成を示す図であ
る。
る。
【図２】走査信号とＣＲＴ上の走査領域を示す図であ
る。
る。
【図３】電子ビームの走査状態を示す図（１）である。
【図４】電子ビームの走査状態を示す図（２）である。
【図５】電子ビームの走査状態を示す図（３）である。
【図６】電子ビームの焦点状態を示す図である。
【図７】従来の電子線回折装置の構成を示す図である。
Claims (1)
- 【請求項１】 走査される電子ビームを試料に所定角度
で照射し、前記試料表面で回折される反射回折線による
回折像を表示する電子線回折装置において、試料の傾斜
軸に垂直な方向に任意の電子線走査領域を設定する手段
を備え、走査領域内における中心部分と周辺部分を別々
に走査し合焦点することを特徴とする電子線回折装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5267631A JPH07120414A (ja) | 1993-10-26 | 1993-10-26 | 電子線回折装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5267631A JPH07120414A (ja) | 1993-10-26 | 1993-10-26 | 電子線回折装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07120414A true JPH07120414A (ja) | 1995-05-12 |
Family
ID=17447369
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5267631A Pending JPH07120414A (ja) | 1993-10-26 | 1993-10-26 | 電子線回折装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07120414A (ja) |
-
1993
- 1993-10-26 JP JP5267631A patent/JPH07120414A/ja active Pending
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