JPH07105534A - 磁気ディスクとその製法 - Google Patents
磁気ディスクとその製法Info
- Publication number
- JPH07105534A JPH07105534A JP25146893A JP25146893A JPH07105534A JP H07105534 A JPH07105534 A JP H07105534A JP 25146893 A JP25146893 A JP 25146893A JP 25146893 A JP25146893 A JP 25146893A JP H07105534 A JPH07105534 A JP H07105534A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnetic disk
- css
- film
- magnetic
- protective film
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 ＣＳＳ特性に優れた、新たな磁気ディスク用
保護膜を提供する。 【構成】 磁気記録媒体表面にＳｉＯ２質ＳＯＧ保護膜
を形成した磁気ディスク。
保護膜を提供する。 【構成】 磁気記録媒体表面にＳｉＯ２質ＳＯＧ保護膜
を形成した磁気ディスク。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は録画、録音、電算機等に
用いられる水平磁気記録あるいは垂直磁気記録用磁気デ
ィスクに関するものである。特に、磁気ディスク表面の
保護膜の材質とその形成方法の改良に関するものであ
る。
用いられる水平磁気記録あるいは垂直磁気記録用磁気デ
ィスクに関するものである。特に、磁気ディスク表面の
保護膜の材質とその形成方法の改良に関するものであ
る。
【０００２】
【従来の技術】コンピュ−タ用磁気ディスクは、近年そ
の小径・高密度記録・大容量化が求められている。この
ため、磁気記録装置使用時に於いて、磁気ディスクに対
する磁気ヘッドの浮上量は年々低くなっており、０．０
７５μｍから０．０５μｍ以下になろうとする勢いであ
る。この様な磁気ディスクの小径化と磁気ヘッドの低浮
上量化に伴い、磁気ディスクに対して特に高ＣＳＳ特性
化が要求されている。ＣＳＳ特性とはコンタクト・スタ
−ト・ストップ特性の事であり、磁気ヘッドに対する磁
気ディスクの摺動特性を現すものであり、例えば、磁気
ヘッドを磁気ディスク上で一万回ＣＳＳ駆動したときの
磁気ディスクに作用する摩擦力で表す。従来は、このＣ
ＳＳ特性の仕様を満足させるために、磁気ディスク表面
にカ−ボン膜やＳｉＯ2膜等を形成し、これを保護膜と
して用い、その特性改善のために多くの提案がなされて
いる。例えば、カ−ボン保護膜に関しては特開昭６３−
８１６２６号公報に見られるように水素ガス含有プラズ
マ中でカ−ボンをスパッタリングする事により耐摩耗性
に優れたカ−ボン保護膜を提供している。
の小径・高密度記録・大容量化が求められている。この
ため、磁気記録装置使用時に於いて、磁気ディスクに対
する磁気ヘッドの浮上量は年々低くなっており、０．０
７５μｍから０．０５μｍ以下になろうとする勢いであ
る。この様な磁気ディスクの小径化と磁気ヘッドの低浮
上量化に伴い、磁気ディスクに対して特に高ＣＳＳ特性
化が要求されている。ＣＳＳ特性とはコンタクト・スタ
−ト・ストップ特性の事であり、磁気ヘッドに対する磁
気ディスクの摺動特性を現すものであり、例えば、磁気
ヘッドを磁気ディスク上で一万回ＣＳＳ駆動したときの
磁気ディスクに作用する摩擦力で表す。従来は、このＣ
ＳＳ特性の仕様を満足させるために、磁気ディスク表面
にカ−ボン膜やＳｉＯ2膜等を形成し、これを保護膜と
して用い、その特性改善のために多くの提案がなされて
いる。例えば、カ−ボン保護膜に関しては特開昭６３−
８１６２６号公報に見られるように水素ガス含有プラズ
マ中でカ−ボンをスパッタリングする事により耐摩耗性
に優れたカ−ボン保護膜を提供している。
【０００３】
【発明が解決しょうとする課題】しかし、上記カ−ボン
等の磁気ディスク用保護膜は現在要求されているＣＳＳ
特性に対して不十分であり、磁気ヘッドの摺動による摩
耗傷が磁気ディスク表面上に比較的早いＣＳＳテスト回
数に於いて現れ易く、信頼性に劣る欠点がある。本発明
の目的は、これらの欠点を改善し、ＣＳＳ特性に優れ
た、新たな磁気ディスク用保護膜を提供する事である。
等の磁気ディスク用保護膜は現在要求されているＣＳＳ
特性に対して不十分であり、磁気ヘッドの摺動による摩
耗傷が磁気ディスク表面上に比較的早いＣＳＳテスト回
数に於いて現れ易く、信頼性に劣る欠点がある。本発明
の目的は、これらの欠点を改善し、ＣＳＳ特性に優れ
た、新たな磁気ディスク用保護膜を提供する事である。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明は、磁気記録媒体
表面にＳｉＯ２質ＳＯＧ絶縁膜からなる保護膜を形成し
た磁気ディスクである。 また、ＳｉＯ２質先駆溶液を
磁気ディスク表面上に塗布した後、熱処理する事により
ＳｉＯ２質ＳＯＧ保護膜を形成したものである。また、
ＳｉＯ２質先駆溶液をスピンコ−ト法やディッピング法
で塗布する事により、熱処理後のＳｉＯ２質保護膜を数
千ｎｍ以下の厚さで、ディスク全面を均一に塗布する事
が出来、磁気ディスクへの信号読み書き時のスペ−シン
グロスを小さくする事が出来るものである。。ＳｉＯ２
質絶縁膜、特に無機ＳＯＧ膜および有機ＳＯＧ膜は半導
体用保護膜として実績があり、付着性に優れると共に、
低応力であり耐湿性に優れる特徴をもっている。図２
（ａ）に有機ＳＯＧの構造式を、図２（ｂ）に無機ＳＯ
Ｇの構造式を示す。本発明によって、かかるＳｉＯ２質
膜、特に無機ＳＯＧ膜および有機ＳＯＧ膜を磁気ディス
ク表面の保護膜として用いる事により、磁気ディスク表
面は化学的に安定し、耐摩耗性と耐湿性に優れるととも
に、磁気ヘッドとの動特性を表すＣＳＳ特性に於いても
優れた特性を示す事ができる。
表面にＳｉＯ２質ＳＯＧ絶縁膜からなる保護膜を形成し
た磁気ディスクである。 また、ＳｉＯ２質先駆溶液を
磁気ディスク表面上に塗布した後、熱処理する事により
ＳｉＯ２質ＳＯＧ保護膜を形成したものである。また、
ＳｉＯ２質先駆溶液をスピンコ−ト法やディッピング法
で塗布する事により、熱処理後のＳｉＯ２質保護膜を数
千ｎｍ以下の厚さで、ディスク全面を均一に塗布する事
が出来、磁気ディスクへの信号読み書き時のスペ−シン
グロスを小さくする事が出来るものである。。ＳｉＯ２
質絶縁膜、特に無機ＳＯＧ膜および有機ＳＯＧ膜は半導
体用保護膜として実績があり、付着性に優れると共に、
低応力であり耐湿性に優れる特徴をもっている。図２
（ａ）に有機ＳＯＧの構造式を、図２（ｂ）に無機ＳＯ
Ｇの構造式を示す。本発明によって、かかるＳｉＯ２質
膜、特に無機ＳＯＧ膜および有機ＳＯＧ膜を磁気ディス
ク表面の保護膜として用いる事により、磁気ディスク表
面は化学的に安定し、耐摩耗性と耐湿性に優れるととも
に、磁気ヘッドとの動特性を表すＣＳＳ特性に於いても
優れた特性を示す事ができる。
【０００５】
【実施例】以下実施例をあげて本発明を具体的に説明す
る。
る。
【０００６】（実施例１）テトラメトキシシラン、メチ
ルトリメトキシシランおよびジメチルジメトキシランに
イソプロピルアルコール及び酢酸エチルを加えて室温で
攪はん混合し、更にこの混合液にリン酸を溶解し室温で
５時間反応を行い、有機ＳＯＧ先駆液を作成した。次
に、直径９５ｍｍ，厚さ１．２７ｍｍのガラス基板上に
７０００ｎｍのＣｒ膜と６０００ｎｍのＣｏ−Ｃｒ−Ｔ
ａ磁性膜を順にスパッタ法により成膜した後，その上
に、先に作成した有機ＳＯＧ先駆溶液をディップ法によ
り塗布し、１００℃で溶剤を蒸発させた後、２５０℃の
大気中で一時間熱処理する事によりＳｉＯ２質ＳＯＧ保
護膜を作成した。図１に作成した磁気ディスクの部分断
面図を示す。基板３に下地層を介して磁性膜２があり、
そのうえに保護膜を形成する。作製した有機ＳＯＧ膜の
厚さは４０００ｎｍであり、厚さのばらつきはプラスマ
イナス２００ｎｍ以下であった。作製した磁気ディスク
の浮上量０．１μｍのコンポジットヘッドを用いて、回
転数３６００ｒｐｍ、半径２０ｍｍの評価位置に於いて
ＣＳＳ特性を評価した。評価結果を図３中の（ａ）に示
す。図３の（ａ）に示すように、本発明品はＣＳＳテス
ト開始時に於いてヘッドの摩擦係数μは０．１５であ
り、その後ＣＳＳ回数が５ｋ，１０ｋ，１５ｋ，２０
ｋ，２５ｋおよび３０ｋ回に増加すると共に摩擦係数μ
が徐々に増加し、それぞれ、０．２３、０．２７、０．
３０、０．３２、０．３３、０．３３となり、ＣＳＳ特
性が優れている事がわかる。ＣＳＳテスト後に磁気ディ
スク表面を観察した結果ヘッドによる摩耗傷は見られな
かった。
ルトリメトキシシランおよびジメチルジメトキシランに
イソプロピルアルコール及び酢酸エチルを加えて室温で
攪はん混合し、更にこの混合液にリン酸を溶解し室温で
５時間反応を行い、有機ＳＯＧ先駆液を作成した。次
に、直径９５ｍｍ，厚さ１．２７ｍｍのガラス基板上に
７０００ｎｍのＣｒ膜と６０００ｎｍのＣｏ−Ｃｒ−Ｔ
ａ磁性膜を順にスパッタ法により成膜した後，その上
に、先に作成した有機ＳＯＧ先駆溶液をディップ法によ
り塗布し、１００℃で溶剤を蒸発させた後、２５０℃の
大気中で一時間熱処理する事によりＳｉＯ２質ＳＯＧ保
護膜を作成した。図１に作成した磁気ディスクの部分断
面図を示す。基板３に下地層を介して磁性膜２があり、
そのうえに保護膜を形成する。作製した有機ＳＯＧ膜の
厚さは４０００ｎｍであり、厚さのばらつきはプラスマ
イナス２００ｎｍ以下であった。作製した磁気ディスク
の浮上量０．１μｍのコンポジットヘッドを用いて、回
転数３６００ｒｐｍ、半径２０ｍｍの評価位置に於いて
ＣＳＳ特性を評価した。評価結果を図３中の（ａ）に示
す。図３の（ａ）に示すように、本発明品はＣＳＳテス
ト開始時に於いてヘッドの摩擦係数μは０．１５であ
り、その後ＣＳＳ回数が５ｋ，１０ｋ，１５ｋ，２０
ｋ，２５ｋおよび３０ｋ回に増加すると共に摩擦係数μ
が徐々に増加し、それぞれ、０．２３、０．２７、０．
３０、０．３２、０．３３、０．３３となり、ＣＳＳ特
性が優れている事がわかる。ＣＳＳテスト後に磁気ディ
スク表面を観察した結果ヘッドによる摩耗傷は見られな
かった。
【０００７】（比較例１）実施例１と同一条件でＣｒ下
地７０００ｎｍとＣｏ−Ｃｒ−Ｔａ磁性膜６０００ｎｍ
とをスパッタ法により成膜した後、更にカ−ボン保護膜
を同一チャンバ−内で連続してスパッタする事により成
膜した。 作製した比較例１のディスクを実施例１と同
一条件でＣＳＳ特性を評価した結果を図３中の（ｂ）に
示す。図３の（ｂ）に示すように、比較用ディスクで
は、ＣＳＳテスト開始時に於いてヘッドの摩擦係数μは
０．２０であり、その後ＣＳＳ回数が５ｋ，１０ｋ，１
５ｋ，２０ｋ，２５ｋおよび３０ｋ回に増加すると共に
摩擦係数μが徐々に増加し、それぞれ、０．２８、０．
３３、０．３６、０．３９、０．４０、０．４０とな
り、発明品に比べてＣＳＳ特性が劣っている事がわか
る。ＣＳＳテスト後に磁気ディスク表面を観察した結果
いわゆるヘッドクラシュによる摩耗傷が一部見られた。
地７０００ｎｍとＣｏ−Ｃｒ−Ｔａ磁性膜６０００ｎｍ
とをスパッタ法により成膜した後、更にカ−ボン保護膜
を同一チャンバ−内で連続してスパッタする事により成
膜した。 作製した比較例１のディスクを実施例１と同
一条件でＣＳＳ特性を評価した結果を図３中の（ｂ）に
示す。図３の（ｂ）に示すように、比較用ディスクで
は、ＣＳＳテスト開始時に於いてヘッドの摩擦係数μは
０．２０であり、その後ＣＳＳ回数が５ｋ，１０ｋ，１
５ｋ，２０ｋ，２５ｋおよび３０ｋ回に増加すると共に
摩擦係数μが徐々に増加し、それぞれ、０．２８、０．
３３、０．３６、０．３９、０．４０、０．４０とな
り、発明品に比べてＣＳＳ特性が劣っている事がわか
る。ＣＳＳテスト後に磁気ディスク表面を観察した結果
いわゆるヘッドクラシュによる摩耗傷が一部見られた。
【０００８】（実施例２）Ｓｉ(ＯＣＨ3）4をプロピレ
ングリコールモノプロピルエーテルに溶解し、この溶液
にマレイン酸を溶解させた水を添加し、室温で加水分
解、縮合を行い無機ＳＯＧ先駆溶液を作成した。次に、
直径６５ｍｍ，厚さ０．６３５ｍｍのカ−ボン基板上に
１００００ｎｍのＣｒ膜と７０００ｎｍのＣｏ−Ｎｉ−
Ｃｒ磁性膜を順にスパッタ法により成膜した後，その上
に、先に作成した無機ＳＯＧ先駆溶液をスピナーを用い
て３，０００ｒｐｍで塗布し、１５０℃に制御されたホ
ットプレート上で１分間乾燥し、次いで電気炉中４５０
℃で１時間焼成する事により無機ＳＯＧ保護膜を作成し
た。作成した無機ＳＯＧ膜の厚さは２０００ｎｍであ
り、色は無色透明であった。この後、パーフロロポリエ
ーテル系の潤滑剤をディッピング方式により厚さ３００
ｎｍだけ塗布した。この様にして作製した磁気ディスク
のＣＳＳ特性を浮上量０．０５μｍの薄膜ヘッドを用い
て、回転数３６００ｒｐｍ、半径１５ｍｍの評価位置に
於いてを評価した。評価結果を図４中の（ａ）に示す。
図４の（ａ）に示すように、本発明品はＣＳＳテスト開
始時に於いてヘッドの摩擦係数μは０．２１であり、そ
の後ＣＳＳ回数が５ｋ，１０ｋ，１５ｋ，２０ｋ，２５
ｋおよび３０ｋ回に増加すると共に摩擦係数μが徐々に
増加し、それぞれ、０．２１、０．２４、０．２６、
０．２７、０．２７、０．２７となり、ＣＳＳ特性が優
れている事がわかる。ＣＳＳテスト後に磁気ディスク表
面を観察した結果ヘッドによる摩耗傷は見られなかっ
た。
ングリコールモノプロピルエーテルに溶解し、この溶液
にマレイン酸を溶解させた水を添加し、室温で加水分
解、縮合を行い無機ＳＯＧ先駆溶液を作成した。次に、
直径６５ｍｍ，厚さ０．６３５ｍｍのカ−ボン基板上に
１００００ｎｍのＣｒ膜と７０００ｎｍのＣｏ−Ｎｉ−
Ｃｒ磁性膜を順にスパッタ法により成膜した後，その上
に、先に作成した無機ＳＯＧ先駆溶液をスピナーを用い
て３，０００ｒｐｍで塗布し、１５０℃に制御されたホ
ットプレート上で１分間乾燥し、次いで電気炉中４５０
℃で１時間焼成する事により無機ＳＯＧ保護膜を作成し
た。作成した無機ＳＯＧ膜の厚さは２０００ｎｍであ
り、色は無色透明であった。この後、パーフロロポリエ
ーテル系の潤滑剤をディッピング方式により厚さ３００
ｎｍだけ塗布した。この様にして作製した磁気ディスク
のＣＳＳ特性を浮上量０．０５μｍの薄膜ヘッドを用い
て、回転数３６００ｒｐｍ、半径１５ｍｍの評価位置に
於いてを評価した。評価結果を図４中の（ａ）に示す。
図４の（ａ）に示すように、本発明品はＣＳＳテスト開
始時に於いてヘッドの摩擦係数μは０．２１であり、そ
の後ＣＳＳ回数が５ｋ，１０ｋ，１５ｋ，２０ｋ，２５
ｋおよび３０ｋ回に増加すると共に摩擦係数μが徐々に
増加し、それぞれ、０．２１、０．２４、０．２６、
０．２７、０．２７、０．２７となり、ＣＳＳ特性が優
れている事がわかる。ＣＳＳテスト後に磁気ディスク表
面を観察した結果ヘッドによる摩耗傷は見られなかっ
た。
【０００９】（比較例２）実施例２と同様に、直径６５
ｍｍ，厚さ０．６３５ｍｍのカ−ボン基板上に１０００
０ｎｍのＣｒ膜と７０００ｎｍのＣｏ−Ｎｉ−Ｃｒ−Ｖ
磁性膜を順にスパッタ法により成膜した後，更に同一チ
ャンバ−内でカ−ボン膜をスパッタ法により厚さ２００
０ｎｍ成膜した。この後、パ−フロロポリエ−テル系の
潤滑剤をディッピング方式により厚さ３００ｎｍだけ塗
布した。この様にして作製した磁気ディスクのＣＳＳ特
性を浮上量０．０５μｍの薄膜ヘッドを用いて、回転数
３６００ｒｐｍ、半径１５ｍｍの評価位置に於いてを評
価した。評価結果を図４中の（ｂ）に示す。図４の
（ｂ）に示すように、比較用ディスクでは、ＣＳＳテス
ト開始時に於いてヘッドの摩擦係数μは０．２０であ
り、その後ＣＳＳ回数が５ｋ，１０ｋ，１５ｋ，２０
ｋ，２５ｋおよび３０ｋ回に増加すると共に摩擦係数μ
が徐々に増加し、それぞれ、０．２５、０．２８、０．
３１、０．３３、０．３４、０．３４となり、発明品に
比べてＣＳＳ特性が劣っている事がわかる。ＣＳＳテス
ト後に磁気ディスク表面を観察した結果いわゆるヘッド
クラシュによる摩耗傷が一部見られた。
ｍｍ，厚さ０．６３５ｍｍのカ−ボン基板上に１０００
０ｎｍのＣｒ膜と７０００ｎｍのＣｏ−Ｎｉ−Ｃｒ−Ｖ
磁性膜を順にスパッタ法により成膜した後，更に同一チ
ャンバ−内でカ−ボン膜をスパッタ法により厚さ２００
０ｎｍ成膜した。この後、パ−フロロポリエ−テル系の
潤滑剤をディッピング方式により厚さ３００ｎｍだけ塗
布した。この様にして作製した磁気ディスクのＣＳＳ特
性を浮上量０．０５μｍの薄膜ヘッドを用いて、回転数
３６００ｒｐｍ、半径１５ｍｍの評価位置に於いてを評
価した。評価結果を図４中の（ｂ）に示す。図４の
（ｂ）に示すように、比較用ディスクでは、ＣＳＳテス
ト開始時に於いてヘッドの摩擦係数μは０．２０であ
り、その後ＣＳＳ回数が５ｋ，１０ｋ，１５ｋ，２０
ｋ，２５ｋおよび３０ｋ回に増加すると共に摩擦係数μ
が徐々に増加し、それぞれ、０．２５、０．２８、０．
３１、０．３３、０．３４、０．３４となり、発明品に
比べてＣＳＳ特性が劣っている事がわかる。ＣＳＳテス
ト後に磁気ディスク表面を観察した結果いわゆるヘッド
クラシュによる摩耗傷が一部見られた。
【００１０】
【発明の効果】本発明によれば、従来不十分であった磁
気ディスクの信頼性特性、特にＣＳＳ特性が大幅に向上
し、この磁気ディスクを組み込んだハ−ドディスクドラ
イブに於いて、ＣＳＳ駆動時にヘッドによる磁気ディス
ク表面に対する摩擦力が低く、ディスク表面の損傷が少
なくなり、信頼性の大幅な向上が達成できる。
気ディスクの信頼性特性、特にＣＳＳ特性が大幅に向上
し、この磁気ディスクを組み込んだハ−ドディスクドラ
イブに於いて、ＣＳＳ駆動時にヘッドによる磁気ディス
ク表面に対する摩擦力が低く、ディスク表面の損傷が少
なくなり、信頼性の大幅な向上が達成できる。
【図１】本発明の実施例の部分断面図である。
【図２】本発明に係わるＳｉＯ２質有機ＳＯＧ膜（ａ）
とＳｉＯ２質無機ＳＯＧ膜（ｂ）の構造式を示す図であ
る。
とＳｉＯ２質無機ＳＯＧ膜（ｂ）の構造式を示す図であ
る。
【図３】本発明に係わる磁気ディスクの第１の実施例
（ａ）と比較例（ｂ）におけるＣＳＳ評価結果を示す図
である。
（ａ）と比較例（ｂ）におけるＣＳＳ評価結果を示す図
である。
【図４】本発明に係わる磁気ディスクの第２の実施例
（ａ）と比較例（ｂ）におけるＣＳＳ評価結果を示す図
である。
（ａ）と比較例（ｂ）におけるＣＳＳ評価結果を示す図
である。
１ 保護膜、２ 磁気記録膜、３ 基板
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成６年１２月２８日
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の詳細な説明
【補正方法】変更
【補正内容】
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は録画、録音、電算機等に
用いられる水平磁気記録あるいは垂直磁気記録用磁気デ
ィスクに関するものである。特に、磁気ディスク表面の
保護膜の材質とその形成方法の改良に関するものであ
る。
用いられる水平磁気記録あるいは垂直磁気記録用磁気デ
ィスクに関するものである。特に、磁気ディスク表面の
保護膜の材質とその形成方法の改良に関するものであ
る。
【０００２】
【従来の技術】コンピュ−タ用磁気ディスクは、近年そ
の小径・高密度記録・大容量化が求められている。この
ため、磁気記録装置使用時に於いて、磁気ディスクに対
する磁気ヘッドの浮上量は年々低くなっており、０．０
７５μｍから０．０５μｍ以下になろうとする勢いであ
る。この様な磁気ディスクの小径化と磁気ヘッドの低浮
上量化に伴い、磁気ディスクに対して特に高ＣＳＳ特性
化が要求されている。ＣＳＳ特性とはコンタクト・スタ
−ト・ストップ特性の事であり、磁気ヘッドに対する磁
気ディスクの摺動特性を現すものであり、例えば、磁気
ヘッドを磁気ディスク上で一万回ＣＳＳ駆動したときの
磁気ディスクに作用する摩擦力で表す。従来は、このＣ
ＳＳ特性の仕様を満足させるために、磁気ディスク表面
にカ−ボン膜やＳｉＯ2膜等を形成し、これを保護膜と
して用い、その特性改善のために多くの提案がなされて
いる。例えば、カ−ボン保護膜に関しては特開昭６３−
８１６２６号公報に見られるように水素ガス含有プラズ
マ中でカ−ボンをスパッタリングする事により耐摩耗性
に優れたカ−ボン保護膜を提供している。
の小径・高密度記録・大容量化が求められている。この
ため、磁気記録装置使用時に於いて、磁気ディスクに対
する磁気ヘッドの浮上量は年々低くなっており、０．０
７５μｍから０．０５μｍ以下になろうとする勢いであ
る。この様な磁気ディスクの小径化と磁気ヘッドの低浮
上量化に伴い、磁気ディスクに対して特に高ＣＳＳ特性
化が要求されている。ＣＳＳ特性とはコンタクト・スタ
−ト・ストップ特性の事であり、磁気ヘッドに対する磁
気ディスクの摺動特性を現すものであり、例えば、磁気
ヘッドを磁気ディスク上で一万回ＣＳＳ駆動したときの
磁気ディスクに作用する摩擦力で表す。従来は、このＣ
ＳＳ特性の仕様を満足させるために、磁気ディスク表面
にカ−ボン膜やＳｉＯ2膜等を形成し、これを保護膜と
して用い、その特性改善のために多くの提案がなされて
いる。例えば、カ−ボン保護膜に関しては特開昭６３−
８１６２６号公報に見られるように水素ガス含有プラズ
マ中でカ−ボンをスパッタリングする事により耐摩耗性
に優れたカ−ボン保護膜を提供している。
【０００３】
【発明が解決しょうとする課題】しかし、上記カ−ボン
等の磁気ディスク用保護膜は現在要求されているＣＳＳ
特性に対して不十分であり、磁気ヘッドの摺動による摩
耗傷が磁気ディスク表面上に比較的早いＣＳＳテスト回
数に於いて現れ易く、信頼性に劣る欠点がある。本発明
の目的は、これらの欠点を改善し、ＣＳＳ特性に優れ
た、新たな磁気ディスク用保護膜を提供する事である。
等の磁気ディスク用保護膜は現在要求されているＣＳＳ
特性に対して不十分であり、磁気ヘッドの摺動による摩
耗傷が磁気ディスク表面上に比較的早いＣＳＳテスト回
数に於いて現れ易く、信頼性に劣る欠点がある。本発明
の目的は、これらの欠点を改善し、ＣＳＳ特性に優れ
た、新たな磁気ディスク用保護膜を提供する事である。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明は、磁気記録媒体
表面にＳｉＯ２質ＳＯＧ絶縁膜からなる保護膜を形成し
た磁気ディスクである。 また、ＳｉＯ２質先駆溶液を
磁気ディスク表面上に塗布した後、熱処理する事により
ＳｉＯ２質ＳＯＧ保護膜を形成したものである。また、
ＳｉＯ２質先駆溶液をスピンコ−ト法やディッピング法
で塗布する事により、熱処理後のＳｉＯ２質保護膜を数
千ｎｍ以下の厚さで、ディスク全面を均一に塗布する事
が出来、磁気ディスクへの信号読み書き時のスペ−シン
グロスを小さくする事が出来るものである。。ＳｉＯ２
質絶縁膜、特に無機ＳＯＧ膜および有機ＳＯＧ膜は半導
体用保護膜として実績があり、付着性に優れると共に、
低応力であり耐湿性に優れる特徴をもっている。図２
（ａ）に有機ＳＯＧの構造式を、図２（ｂ）に無機ＳＯ
Ｇの構造式を示す。本発明によって、かかるＳｉＯ２質
膜、特に無機ＳＯＧ膜および有機ＳＯＧ膜を磁気ディス
ク表面の保護膜として用いる事により、磁気ディスク表
面は化学的に安定し、耐摩耗性と耐湿性に優れるととも
に、磁気ヘッドとの動特性を表すＣＳＳ特性に於いても
優れた特性を示す事ができる。
表面にＳｉＯ２質ＳＯＧ絶縁膜からなる保護膜を形成し
た磁気ディスクである。 また、ＳｉＯ２質先駆溶液を
磁気ディスク表面上に塗布した後、熱処理する事により
ＳｉＯ２質ＳＯＧ保護膜を形成したものである。また、
ＳｉＯ２質先駆溶液をスピンコ−ト法やディッピング法
で塗布する事により、熱処理後のＳｉＯ２質保護膜を数
千ｎｍ以下の厚さで、ディスク全面を均一に塗布する事
が出来、磁気ディスクへの信号読み書き時のスペ−シン
グロスを小さくする事が出来るものである。。ＳｉＯ２
質絶縁膜、特に無機ＳＯＧ膜および有機ＳＯＧ膜は半導
体用保護膜として実績があり、付着性に優れると共に、
低応力であり耐湿性に優れる特徴をもっている。図２
（ａ）に有機ＳＯＧの構造式を、図２（ｂ）に無機ＳＯ
Ｇの構造式を示す。本発明によって、かかるＳｉＯ２質
膜、特に無機ＳＯＧ膜および有機ＳＯＧ膜を磁気ディス
ク表面の保護膜として用いる事により、磁気ディスク表
面は化学的に安定し、耐摩耗性と耐湿性に優れるととも
に、磁気ヘッドとの動特性を表すＣＳＳ特性に於いても
優れた特性を示す事ができる。
【０００５】
【実施例】以下実施例をあげて本発明を具体的に説明す
る。
る。
【０００６】（実施例１）テトラメトキシシラン、メチ
ルトリメトキシシランおよびジメチルジメトキシランに
イソプロピルアルコール及び酢酸エチルを加えて室温で
攪はん混合し、更にこの混合液にリン酸を溶解し室温で
５時間反応を行い、有機ＳＯＧ先駆液を作成した。次
に、直径９５ｍｍ，厚さ１．２７ｍｍのガラス基板上に
７０ｎｍのＣｒ膜と６０ｎｍのＣｏ−Ｃｒ−Ｔａ磁性膜
を順にスパッタ法により成膜した後，その上に、先に作
成した有機ＳＯＧ先駆溶液をディップ法により塗布し、
１００℃で溶剤を蒸発させた後、２５０℃の大気中で一
時間熱処理する事によりＳｉＯ２質ＳＯＧ保護膜を作成
した。図１に作成した磁気ディスクの部分断面図を示
す。基板３に下地層を介して磁性膜２があり、そのうえ
に保護膜を形成する。作製した有機ＳＯＧ膜の厚さは４
０ｎｍであり、厚さのばらつきはプラスマイナス２ｎｍ
以下であった。作製した磁気ディスクの浮上量０．１μ
ｍのコンポジットヘッドを用いて、回転数３６００ｒｐ
ｍ、半径２０ｍｍの評価位置に於いてＣＳＳ特性を評価
した。評価結果を図３中の（ａ）に示す。図３の（ａ）
に示すように、本発明品はＣＳＳテスト開始時に於いて
ヘッドの摩擦係数μは０．１５であり、その後ＣＳＳ回
数が５ｋ，１０ｋ，１５ｋ，２０ｋ，２５ｋおよび３０
ｋ回に増加すると共に摩擦係数μが徐々に増加し、それ
ぞれ、０．２３、０．２７、０．３０、０．３２、０．
３３、０．３３となり、ＣＳＳ特性が優れている事がわ
かる。ＣＳＳテスト後に磁気ディスク表面を観察した結
果ヘッドによる摩耗傷は見られなかった。
ルトリメトキシシランおよびジメチルジメトキシランに
イソプロピルアルコール及び酢酸エチルを加えて室温で
攪はん混合し、更にこの混合液にリン酸を溶解し室温で
５時間反応を行い、有機ＳＯＧ先駆液を作成した。次
に、直径９５ｍｍ，厚さ１．２７ｍｍのガラス基板上に
７０ｎｍのＣｒ膜と６０ｎｍのＣｏ−Ｃｒ−Ｔａ磁性膜
を順にスパッタ法により成膜した後，その上に、先に作
成した有機ＳＯＧ先駆溶液をディップ法により塗布し、
１００℃で溶剤を蒸発させた後、２５０℃の大気中で一
時間熱処理する事によりＳｉＯ２質ＳＯＧ保護膜を作成
した。図１に作成した磁気ディスクの部分断面図を示
す。基板３に下地層を介して磁性膜２があり、そのうえ
に保護膜を形成する。作製した有機ＳＯＧ膜の厚さは４
０ｎｍであり、厚さのばらつきはプラスマイナス２ｎｍ
以下であった。作製した磁気ディスクの浮上量０．１μ
ｍのコンポジットヘッドを用いて、回転数３６００ｒｐ
ｍ、半径２０ｍｍの評価位置に於いてＣＳＳ特性を評価
した。評価結果を図３中の（ａ）に示す。図３の（ａ）
に示すように、本発明品はＣＳＳテスト開始時に於いて
ヘッドの摩擦係数μは０．１５であり、その後ＣＳＳ回
数が５ｋ，１０ｋ，１５ｋ，２０ｋ，２５ｋおよび３０
ｋ回に増加すると共に摩擦係数μが徐々に増加し、それ
ぞれ、０．２３、０．２７、０．３０、０．３２、０．
３３、０．３３となり、ＣＳＳ特性が優れている事がわ
かる。ＣＳＳテスト後に磁気ディスク表面を観察した結
果ヘッドによる摩耗傷は見られなかった。
【０００７】（比較例１）実施例１と同一条件でＣｒ下
地７０ｎｍとＣｏ−Ｃｒ−Ｔａ磁性膜６０ｎｍとをスパ
ッタ法により成膜した後、更にカ−ボン保護膜を同一チ
ャンバ−内で連続してスパッタする事により成膜した。
作製した比較例１のディスクを実施例１と同一条件で
ＣＳＳ特性を評価した結果を図３中の（ｂ）に示す。図
３の（ｂ）に示すように、比較用ディスクでは、ＣＳＳ
テスト開始時に於いてヘッドの摩擦係数μは０．２０で
あり、その後ＣＳＳ回数が５ｋ，１０ｋ，１５ｋ，２０
ｋ，２５ｋおよび３０ｋ回に増加すると共に摩擦係数μ
が徐々に増加し、それぞれ、０．２８、０．３３、０．
３６、０．３９、０．４０、０．４０となり、発明品に
比べてＣＳＳ特性が劣っている事がわかる。ＣＳＳテス
ト後に磁気ディスク表面を観察した結果いわゆるヘッド
クラシュによる摩耗傷が一部見られた。
地７０ｎｍとＣｏ−Ｃｒ−Ｔａ磁性膜６０ｎｍとをスパ
ッタ法により成膜した後、更にカ−ボン保護膜を同一チ
ャンバ−内で連続してスパッタする事により成膜した。
作製した比較例１のディスクを実施例１と同一条件で
ＣＳＳ特性を評価した結果を図３中の（ｂ）に示す。図
３の（ｂ）に示すように、比較用ディスクでは、ＣＳＳ
テスト開始時に於いてヘッドの摩擦係数μは０．２０で
あり、その後ＣＳＳ回数が５ｋ，１０ｋ，１５ｋ，２０
ｋ，２５ｋおよび３０ｋ回に増加すると共に摩擦係数μ
が徐々に増加し、それぞれ、０．２８、０．３３、０．
３６、０．３９、０．４０、０．４０となり、発明品に
比べてＣＳＳ特性が劣っている事がわかる。ＣＳＳテス
ト後に磁気ディスク表面を観察した結果いわゆるヘッド
クラシュによる摩耗傷が一部見られた。
【０００８】（実施例２）Ｓｉ(ＯＣＨ3）4をプロピレ
ングリコールモノプロピルエーテルに溶解し、この溶液
にマレイン酸を溶解させた水を添加し、室温で加水分
解、縮合を行い無機ＳＯＧ先駆溶液を作成した。次に、
直径６５ｍｍ，厚さ０．６３５ｍｍのカ−ボン基板上に
１００ｎｍのＣｒ膜と７０ｎｍのＣｏ−Ｎｉ−Ｃｒ磁性
膜を順にスパッタ法により成膜した後，その上に、先に
作成した無機ＳＯＧ先駆溶液をスピナーを用いて３，０
００ｒｐｍで塗布し、１５０℃に制御されたホットプレ
ート上で１分間乾燥し、次いで電気炉中４５０℃で１時
間焼成する事により無機ＳＯＧ保護膜を作成した。作成
した無機ＳＯＧ膜の厚さは２０ｎｍであり、色は無色透
明であった。この後、パーフロロポリエーテル系の潤滑
剤をディッピング方式により厚さ３ｎｍだけ塗布した。
この様にして作製した磁気ディスクのＣＳＳ特性を浮上
量０．０５μｍの薄膜ヘッドを用いて、回転数３６００
ｒｐｍ、半径１５ｍｍの評価位置に於いてを評価した。
評価結果を図４中の（ａ）に示す。図４の（ａ）に示す
ように、本発明品はＣＳＳテスト開始時に於いてヘッド
の摩擦係数μは０．２１であり、その後ＣＳＳ回数が５
ｋ，１０ｋ，１５ｋ，２０ｋ，２５ｋおよび３０ｋ回に
増加すると共に摩擦係数μが徐々に増加し、それぞれ、
０．２１、０．２４、０．２６、０．２７、０．２７、
０．２７となり、ＣＳＳ特性が優れている事がわかる。
ＣＳＳテスト後に磁気ディスク表面を観察した結果ヘッ
ドによる摩耗傷は見られなかった。
ングリコールモノプロピルエーテルに溶解し、この溶液
にマレイン酸を溶解させた水を添加し、室温で加水分
解、縮合を行い無機ＳＯＧ先駆溶液を作成した。次に、
直径６５ｍｍ，厚さ０．６３５ｍｍのカ−ボン基板上に
１００ｎｍのＣｒ膜と７０ｎｍのＣｏ−Ｎｉ−Ｃｒ磁性
膜を順にスパッタ法により成膜した後，その上に、先に
作成した無機ＳＯＧ先駆溶液をスピナーを用いて３，０
００ｒｐｍで塗布し、１５０℃に制御されたホットプレ
ート上で１分間乾燥し、次いで電気炉中４５０℃で１時
間焼成する事により無機ＳＯＧ保護膜を作成した。作成
した無機ＳＯＧ膜の厚さは２０ｎｍであり、色は無色透
明であった。この後、パーフロロポリエーテル系の潤滑
剤をディッピング方式により厚さ３ｎｍだけ塗布した。
この様にして作製した磁気ディスクのＣＳＳ特性を浮上
量０．０５μｍの薄膜ヘッドを用いて、回転数３６００
ｒｐｍ、半径１５ｍｍの評価位置に於いてを評価した。
評価結果を図４中の（ａ）に示す。図４の（ａ）に示す
ように、本発明品はＣＳＳテスト開始時に於いてヘッド
の摩擦係数μは０．２１であり、その後ＣＳＳ回数が５
ｋ，１０ｋ，１５ｋ，２０ｋ，２５ｋおよび３０ｋ回に
増加すると共に摩擦係数μが徐々に増加し、それぞれ、
０．２１、０．２４、０．２６、０．２７、０．２７、
０．２７となり、ＣＳＳ特性が優れている事がわかる。
ＣＳＳテスト後に磁気ディスク表面を観察した結果ヘッ
ドによる摩耗傷は見られなかった。
【０００９】（比較例２）実施例２と同様に、直径６５
ｍｍ，厚さ０．６３５ｍｍのカ−ボン基板上に１００ｎ
ｍのＣｒ膜と７０ｎｍのＣｏ−Ｎｉ−Ｃｒ−Ｖ磁性膜を
順にスパッタ法により成膜した後，更に同一チャンバ−
内でカ−ボン膜をスパッタ法により厚さ２０ｎｍ成膜し
た。この後、パ−フロロポリエ−テル系の潤滑剤をディ
ッピング方式により厚さ３ｎｍだけ塗布した。この様に
して作製した磁気ディスクのＣＳＳ特性を浮上量０．０
５μｍの薄膜ヘッドを用いて、回転数３６００ｒｐｍ、
半径１５ｍｍの評価位置に於いてを評価した。評価結果
を図４中の（ｂ）に示す。図４の（ｂ）に示すように、
比較用ディスクでは、ＣＳＳテスト開始時に於いてヘッ
ドの摩擦係数μは０．２０であり、その後ＣＳＳ回数が
５ｋ，１０ｋ，１５ｋ，２０ｋ，２５ｋおよび３０ｋ回
に増加すると共に摩擦係数μが徐々に増加し、それぞ
れ、０．２５、０．２８、０．３１、０．３３、０．３
４、０．３４となり、発明品に比べてＣＳＳ特性が劣っ
ている事がわかる。ＣＳＳテスト後に磁気ディスク表面
を観察した結果いわゆるヘッドクラシュによる摩耗傷が
一部見られた。
ｍｍ，厚さ０．６３５ｍｍのカ−ボン基板上に１００ｎ
ｍのＣｒ膜と７０ｎｍのＣｏ−Ｎｉ−Ｃｒ−Ｖ磁性膜を
順にスパッタ法により成膜した後，更に同一チャンバ−
内でカ−ボン膜をスパッタ法により厚さ２０ｎｍ成膜し
た。この後、パ−フロロポリエ−テル系の潤滑剤をディ
ッピング方式により厚さ３ｎｍだけ塗布した。この様に
して作製した磁気ディスクのＣＳＳ特性を浮上量０．０
５μｍの薄膜ヘッドを用いて、回転数３６００ｒｐｍ、
半径１５ｍｍの評価位置に於いてを評価した。評価結果
を図４中の（ｂ）に示す。図４の（ｂ）に示すように、
比較用ディスクでは、ＣＳＳテスト開始時に於いてヘッ
ドの摩擦係数μは０．２０であり、その後ＣＳＳ回数が
５ｋ，１０ｋ，１５ｋ，２０ｋ，２５ｋおよび３０ｋ回
に増加すると共に摩擦係数μが徐々に増加し、それぞ
れ、０．２５、０．２８、０．３１、０．３３、０．３
４、０．３４となり、発明品に比べてＣＳＳ特性が劣っ
ている事がわかる。ＣＳＳテスト後に磁気ディスク表面
を観察した結果いわゆるヘッドクラシュによる摩耗傷が
一部見られた。
【００１０】
【発明の効果】本発明によれば、従来不十分であった磁
気ディスクの信頼性特性、特にＣＳＳ特性が大幅に向上
し、この磁気ディスクを組み込んだハ−ドディスクドラ
イブに於いて、ＣＳＳ駆動時にヘッドによる磁気ディス
ク表面に対する摩擦力が低く、ディスク表面の損傷が少
なくなり、信頼性の大幅な向上が達成できる。
気ディスクの信頼性特性、特にＣＳＳ特性が大幅に向上
し、この磁気ディスクを組み込んだハ−ドディスクドラ
イブに於いて、ＣＳＳ駆動時にヘッドによる磁気ディス
ク表面に対する摩擦力が低く、ディスク表面の損傷が少
なくなり、信頼性の大幅な向上が達成できる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 佐藤 任廷 茨城県日立市東町四丁目13番１号 日立化 成工業株式会社山崎工場内 (72)発明者 森嶋 浩之 茨城県日立市東町四丁目13番１号 日立化 成工業株式会社山崎工場内
Claims (5)
- 【請求項１】 磁気記録媒体表面にＳｉＯ２質ＳＯＧ保
護膜を形成した事を特徴とする磁気ディスク。 - 【請求項２】 磁気記録媒体表面に ＳｉＯ２質先駆溶
液を塗布した後、熱処理を行う事によりＳｉＯ２質ＳＯ
Ｇ保護膜を形成した請求項１の磁気ディスク。 - 【請求項３】 ＳｉＯ２質先駆溶液をスピンコ−ト法、
または、ディッピング法で塗布した請求項２の磁気ディ
スク。 - 【請求項４】 ＳｉＯ２質ＳＯＧ保護膜表面にパ−フロ
ロポリエ−テル系潤滑剤を塗布した請求項１の磁気ディ
スク。 - 【請求項５】 ガラス基板ないしはカ−ボン基板よりな
る磁気ディスク表面上にＳｉＯ２質よりなるＳＯＧ保護
膜を形成した請求項１の磁気ディスク。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25146893A JPH07105534A (ja) | 1993-10-07 | 1993-10-07 | 磁気ディスクとその製法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25146893A JPH07105534A (ja) | 1993-10-07 | 1993-10-07 | 磁気ディスクとその製法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07105534A true JPH07105534A (ja) | 1995-04-21 |
Family
ID=17223267
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP25146893A Pending JPH07105534A (ja) | 1993-10-07 | 1993-10-07 | 磁気ディスクとその製法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07105534A (ja) |
-
1993
- 1993-10-07 JP JP25146893A patent/JPH07105534A/ja active Pending
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH0118500B2 (ja) | ||
| JP2817502B2 (ja) | 磁気記憶体 | |
| US4162350A (en) | Magnetic record member | |
| JP4073567B2 (ja) | 熱アシスト磁気記録媒体 | |
| JP2001052328A (ja) | 磁気記録媒体及び磁気記録装置 | |
| JP2937294B2 (ja) | 磁気記録媒体及びその製造方法 | |
| JPH07105535A (ja) | 磁気ディスクとその製法 | |
| JP2588898B2 (ja) | ガラス製磁気ディスク基板の製造方法 | |
| JPS608527B2 (ja) | 磁気記憶体 | |
| US6572922B1 (en) | Eliminating gel particle-related defects for obtaining sub-micron flyability over sol-gel—coated disk substrates | |
| JP2819839B2 (ja) | 磁気ディスク用基板およびそれを用いた磁気記録媒体 | |
| JP2712373B2 (ja) | 磁気記録媒体及びその製造方法 | |
| JPH02168424A (ja) | 磁気ディスク及びその製造法 | |
| JP2001052327A (ja) | 磁気記録媒体及び磁気記録装置 | |
| JPS5939809B2 (ja) | 磁気記憶体 | |
| JP2000030245A (ja) | 磁気記録媒体及び磁気記録装置 | |
| JPS5938649B2 (ja) | 磁気記憶体およびその製造方法 | |
| JPS62103847A (ja) | 磁気デイスクの製造方法 | |
| JPS586527A (ja) | 可撓性磁気記録体 | |
| JPH1125441A (ja) | 磁気記録媒体とその製造方法 | |
| JPH0317826A (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
| JPH0322218A (ja) | 磁気ディスクの製造方法 | |
| JPH07272268A (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
| JPH0554378A (ja) | 磁気デイスク媒体の製造方法 | |
| JPS6288133A (ja) | 磁気記憶体 |