JPH0711471Y2 - 半導体製造用無塵マスク収納ケース - Google Patents

Description

【考案の詳細な説明】 （１）考案の属する技術分野 本考案は半導体製造の際に従事者の口から塵等が放出す
るのを抑圧するために着用する無塵マスクの収納ケース
に関するものである。

（２）従来技術とその問題点 従来のこの種のケースを第１図に示す。ここで、１は空
気中を浮遊しているダスト類、２は無塵マスク投入用開
口端、３は無無マスクの取出し口、４は底部、５は開口
端２より侵入した塵類あるいはマスク材から発塵した塵
類、あるいは当該マスクの取出し時に発生した塵類の混
合物で底板４上に体積した塵である。

従来この種のケースの底部は、第１図に示すように単な
る一枚板を使用していた。このようなケースを半導体製
造用の空気清浄度の極めて高い、いわゆるクリーンルー
ムの内に設置すると、無塵マスクから発生した塵類が長
期にわたり、底板４上に堆積し、さらに、クリーンルー
ム内を循環している空気内に含まれる塵類１がケース内
に堆積し、発塵の源となる。第２図のように底板４を傾
斜させたとしても、塵類５は静電気や摩擦などの複雑な
メカニズムで底板４に吸着するので、事態は必ずしも改
善されない。従って、従来のケースではクリーンルーム
で使用できない欠点があった。

（３）考案の目的 本考案の目的は、無塵マスク収納ケースの底部に塵類が
堆積しない無塵マスク収納ケースを提供することにあ
る。

（４）考案の構成 （４−１）考案の特徴 本考案は、ケースの底板にすのこ状底板を使用すること
を最も主要な特徴とする。もう一つの主要な特徴は、当
該すのこ状底板のすのこ材の形状を概略三角柱、又は概
略ひし形柱又は概略だ円柱又は概略四角形柱とし、すの
こ材が頂点から下方に幅が広がるような形状の横断面を
有するようにしたことを特徴とする。

以下実施例により具体的に説明する。

（４−２）実施例 第３図は本考案の概略構造を説明する図であって、底板
に細い四角柱のすのこ材７を用いたすのこ状底板６を使
用した例である。当該すのこ状底板６を用いることによ
り、空気中を浮遊している塵類と無塵マスクから発塵し
た塵類と当該マスクの取出し時に発生した塵の混合物５
は底板６上に殆んど堆積されることなく、すのこ板６の
間隙を通って自由落下する。従って、本ケースが塵類の
発生源，堆積源となることを防止することができる。

第４図は本考案の第１の実施例を説明する図であって、
すのこ材７として概略鋭角三角柱〔第４図（ａ）〕又は
概略菱形柱〔第４図（ｂ）〕を用いた例である。本実施
例によれば、すのこ材７は、頂点から下方に幅が広がる
ような形状の横断面を有しているので、すのこ材７上に
落下した塵類は、すのこ材７からすべり落ちるので、塵
類が底部に堆積することはない。この場合、当該三角形
柱材，菱形柱材の鋭角部を上に向けて設置する必要があ
る。

第５図は、本考案の第２の実施例を説明する図であっ
て、すのこ材７として概略だ円柱〔第５図（ａ）〕、卵
形柱〔第５図（ｂ）（ｃ）〕を用いた例である。本実施
例によれば、第４図の例と同様の理由により、すのこ状
７上に落下した塵類はすのこから滑り落ちるので、塵類
がケースの底部に堆積することはない。

（５）考案の効果 以上、実施例により説明したように、本考案は従来の技
術に比べて、無塵マスク収納ケースの底部に塵類の堆積
を防止できるので、半導体製造用のクリーンルームなど
での使用に十分耐え得るものである。

【図面の簡単な説明】

第１図と第２図は従来の無塵マスク収納ケースの構造例
を示す斜視図、第３図は本考案による無塵マスク収納ケ
ースの底板の概略構造を説明するための斜視図、第４図
（ａ）（ｂ）は本考案による無塵マスク収納ケースの底
板に用いられるすのこ材の形状例を示す斜視図、第５図
（ａ）（ｂ）（ｃ）は本考案による無塵マスク収納ケー
スの底板に用いられるすのこ材の他の形状例を示す斜視
図である。 １…空気中を浮遊する塵類、２…無塵マスク投入用開口
端、３…無塵マスク取出し口、４…無塵マスク収納ケー
ス底板、５…無塵マスク収納ケース底部に堆積した塵
類、６…無塵マスク収納ケースの底部に用いるすのこ状
底板、７…すのこ材。

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】
1. 【請求項１】半導体製造用無塵マスクを複数枚収納する
   ケースにおいて、当該収納ケースの底部がすのこ状底板
   よりなり、該すのこ状底板のすのこ材は頂点から下方に
   幅が広がるような形状の横断面を有するように形成され
   ていることを特徴とする半導体製造座用無塵マスク収納
   ケース。