JPH07114793A - Semiconductor memory - Google Patents
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- JPH07114793A JPH07114793A JP6133488A JP13348894A JPH07114793A JP H07114793 A JPH07114793 A JP H07114793A JP 6133488 A JP6133488 A JP 6133488A JP 13348894 A JP13348894 A JP 13348894A JP H07114793 A JPH07114793 A JP H07114793A
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は半導体記憶装置に関し、
特に選択レベルのワード線を電源電位より高いレベルに
昇圧するワード線昇圧回路を備えた半導体記憶装置に関
する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor memory device,
In particular, the present invention relates to a semiconductor memory device including a word line boosting circuit that boosts a word line at a selected level to a level higher than a power supply potential.
【0002】[0002]
【従来の技術】1トランジスタ/1キャパシタから成る
メモリセルを用いたダイナミックRAM型の半導体記憶
装置においては、ワード線の選択レベルが電源電位Vc
cの場合、書込みデータが高レベルのとき、メモリセル
のトランジスタのしきい値電圧をVtとすると、メモリ
セルには(Vcc−Vt)のレベルしか書き込むことが
できず、これを読出したときのディジット線の電位Vd
は次のとおりとなる。2. Description of the Related Art In a dynamic RAM type semiconductor memory device using a memory cell consisting of one transistor / one capacitor, a word line selection level is a power supply potential Vc.
In the case of c, if the threshold voltage of the transistor of the memory cell is Vt when the write data is at a high level, only the level of (Vcc-Vt) can be written in the memory cell, and when this is read. Digit line potential Vd
Is as follows.
【0003】 Vd=(Vcc−Vt)・Cs/(Cs+Cd) …(1) ここでCdはディジット線容量、Csはメモリセルの容
量である。Vd = (Vcc−Vt) · Cs / (Cs + Cd) (1) where Cd is a digit line capacitance and Cs is a memory cell capacitance.
【0004】すなわち、メモリセルの高レベルの電位が
書込み時から低く、従って、読出し時にメモリセルの記
憶情報を高レベルとして認識できるデータ保持期間が短
かくなってしまう。That is, the high-level potential of the memory cell is low from the time of writing, and therefore the data retention period in which the stored information of the memory cell can be recognized as high level at the time of reading becomes short.
【0005】そこで、ワード線の選択レベルを(Vcc
+Vt)より高くし、メモリセルへの高レベルの書込み
電位を電源電位Vccレベルまで引き上げるワード線昇
圧回路が設けられるようになった。このときの読出し時
のディジット線の電位Vdは次のとおりとなる。Therefore, the word line selection level is set to (Vcc
+ Vt), and a word line boosting circuit for raising the high-level write potential to the memory cell to the power supply potential Vcc level has been provided. The digit line potential Vd at the time of reading at this time is as follows.
【0006】 Vd=Vcc・Cs/(Cs+Cd) …(2) その結果、読出し時にメモリセルの記憶情報を高レベル
として認識できるデータ保持期間を長くすることができ
る。Vd = Vcc · Cs / (Cs + Cd) (2) As a result, the data retention period in which the stored information of the memory cell can be recognized as a high level at the time of reading can be lengthened.
【0007】図4(A),(B)はワード線昇圧回路を
備えた従来の半導体記憶装置の一般的な例を示すブロッ
ク図及びワード線昇圧回路に含まれる降圧部の回路図で
ある。FIGS. 4A and 4B are a block diagram showing a general example of a conventional semiconductor memory device having a word line booster circuit and a circuit diagram of a step-down unit included in the word line booster circuit.
【0008】この半導体記憶装置は、行,列マトリクス
状に配置された複数のメモリセルMC、これら複数のメ
モリセルの各行それぞれと対応して設けられ選択レベル
のとき対応する行のメモリセルを選択状態とする複数の
ワード線WL1,WL2,…,WLm、及び複数のメモ
リセルの各列それぞれと対応して設けられ対応する列の
選択状態のメモリセルの読出しデータの伝達、この選択
状態のメモリセルへの書込み用のデータの伝達を行う複
数のディジット線DL1,DL2,…,DLnを備えた
メモリセルアレイ1と、行アドレス信号ADrに従って
複数のワード線WL1,WL2,…,WLmのうちの所
定のワード線を選択しこの選択されたワード線を供給さ
れた昇圧信号φRAに従って電源電位Vccより所定の
レベルだけ高い電位の選択レベルとする行選択回路のX
デコーダ3と、電源電位Vccより所定のレベルだけ高
い電位の昇圧信号φRAを発生してXデコーダ3に供給
する昇圧部21、及び制御信号φRAS4Bに従って、
Xデコーダ3による選択レベルのワード線を非選択レベ
ルとするタイミングに同期し、昇圧信号φRAを伝達す
る昇圧信号線のレベルを接地電位レベルに降圧する降圧
部22を備えたワード線昇圧回路2と、メモリセルアレ
イ1からの読出しデータを選択してセンス増幅し外部へ
出力すると共に、書込み用のデータを選択した列に供給
するYデコーダ4及びデータセンス・入出力回路5とを
有する構成となっている。In this semiconductor memory device, a plurality of memory cells MC arranged in a matrix of rows and columns, and memory cells of a corresponding row are provided corresponding to each row of the plurality of memory cells and at a selection level. , WLm, and a plurality of memory cells, which are set in a state, and read data of the memory cells in a selected state in the corresponding column are transmitted, and the memory in the selected state , DLn having a plurality of digit lines DL1, DL2, ..., DLn for transmitting data for writing to the cell, and a predetermined one of a plurality of word lines WL1, WL2, ..., WLm according to a row address signal ADr. Of the selected word line, and the selected word line is supplied with a voltage higher than the power supply potential Vcc by a predetermined level according to the boosted signal φRA supplied. X row selection circuit to the selected level
According to the decoder 3, the booster section 21 for generating the boosting signal φRA having a potential higher than the power supply potential Vcc by a predetermined level and supplying the boosting signal φRA to the X decoder 3, and the control signal φRAS4B,
A word line boosting circuit 2 provided with a step-down unit 22 that steps down the level of the boosting signal line transmitting the boosting signal φRA to the ground potential level in synchronization with the timing of setting the word line of the selected level by the X decoder 3 to the non-selection level. , A structure including a Y decoder 4 and a data sense / input / output circuit 5 which select read data from the memory cell array 1, sense-amplify and output the data to the outside, and supply write data to the selected column. There is.
【0009】また、ワード線昇圧回路2の降圧部22
は、制御信号φRAS4Bを入力端に受け接地端子を接
地配線GND1と接続するインバータIV3と、このイ
ンバータIV3の出力信号を入力端に受け接地端子を接
地配線GND1と接続するインバータIV4と、このイ
ンバータIV4の出力信号をゲートに受けソースを接地
配線GND1と接続しドレインを昇圧信号線と接続する
トランジスタTr3とを備えた構成となっており、ま
た、データセンス・入出力回路5の接地配線GND2
は、データ入出力に影響がないように、通常、接地配線
GND1とは別々に配置されている。Further, the step-down unit 22 of the word line booster circuit 2
Is an inverter IV3 that receives the control signal φRAS4B at its input end and connects its ground terminal to the ground wire GND1, an inverter IV4 that receives the output signal of this inverter IV3 at its input end and connects its ground terminal to the ground wire GND1, and this inverter IV4. Of the data sensing / input / output circuit 5 is connected to the ground wiring GND1 and the drain thereof is connected to the boosting signal line.
Are usually arranged separately from the ground wiring GND1 so as not to affect data input / output.
【0010】この半導体記憶装置の具体的なレイアウト
例を図5に示す。A specific layout example of this semiconductor memory device is shown in FIG.
【0011】メモリセルアレイ1の形成領域に隣接して
Xデコーダ3が配置され、このXデコーダ3の形成領域
に隣接して、行系制御回路等の周辺回路7が配置され、
この周辺回路7の形成領域に隣接して各種制御信号線等
の配線領域8が配置されている。また、ワード線昇圧回
路2は、配線領域8に隣接し、かつこの配線領域8の長
手方向のほぼ中央に配置され、ワード線昇圧回路2から
出力される昇圧信号φRAを伝達する昇圧信号線LφR
Axは、配線領域8内を長手方向に走ってこの配線領域
8の両端からXデコーダ3の両端に向い、この両端を接
続してXデコーダ3上をその長手方向に走る閉じた配線
となっている。更に、配線領域8及びワード線昇圧回路
2に隣接してデータセンス・入出力回路5が配置され、
その接地配線GND2は、接地配線GND1とは別に配
置されている。An X decoder 3 is arranged adjacent to the formation region of the memory cell array 1, and a peripheral circuit 7 such as a row control circuit is arranged adjacent to the formation region of the X decoder 3.
A wiring region 8 such as various control signal lines is arranged adjacent to the formation region of the peripheral circuit 7. The word line boosting circuit 2 is arranged adjacent to the wiring region 8 and substantially in the center of the wiring region 8 in the longitudinal direction, and transmits the boosting signal φRA output from the word line boosting circuit 2 by a boosting signal line LφR.
The Ax runs in the wiring region 8 in the longitudinal direction, goes from both ends of the wiring region 8 to both ends of the X decoder 3, and connects both ends to form a closed wiring running on the X decoder 3 in the longitudinal direction. There is. Further, a data sense / input / output circuit 5 is arranged adjacent to the wiring region 8 and the word line boosting circuit 2,
The ground wiring GND2 is arranged separately from the ground wiring GND1.
【0012】ワード線昇圧回路2の昇圧部21で少なく
とも(Vcc+Vt)レベルに昇圧された昇圧信号φR
Aは、昇圧信号線LφRAxを通してXデコーダ3に伝
達され、Xデコーダ3で選択されたワード線を(Vcc
+Vt)レベルの選択レベルに昇圧する。この結果、選
択状態のメモリセルの高レベルデータの書込み電位を、
電源電位Vccレベルとすることができる。The boosting signal φR boosted to at least the (Vcc + Vt) level in the boosting section 21 of the word line boosting circuit 2.
A is transmitted to the X decoder 3 through the boosting signal line LφRAx, and the word line selected by the X decoder 3 is (Vcc
+ Vt) boosts to the selected level. As a result, the high-level data write potential of the selected memory cell is
It can be set to the power supply potential Vcc level.
【0013】選択状態のメモリセルに対するデータの書
込み,記憶データの読出しが終了した後は、そのワード
線のレベルを、Xデコーダ3及びワード線昇圧回路2の
降圧部22によって急速に接地電位レベルとして次のア
クセスを待つ。After the writing of data to the selected memory cell and the reading of the stored data are completed, the level of the word line is rapidly changed to the ground potential level by the X decoder 3 and the step-down unit 22 of the word line boosting circuit 2. Wait for the next access.
【0014】なお、昇圧信号線LφRAxは、ダイナミ
ックな動作期間において常に昇圧信号φRAを供給し続
けるため、他の信号線に比べ配線幅が広くなっている。Since the boosting signal line LφRAx continuously supplies the boosting signal φRA during the dynamic operation period, the wiring width is wider than that of the other signal lines.
【0015】[0015]
【発明が解決しようとする課題】この従来の半導体記憶
装置では、選択レベルのワード線を接地電位レベルの非
選択レベルに降圧するときの昇圧信号線LφRAxを、
ワード線昇圧回路2内の降圧部22の一箇所で接地配線
GND1を通して接地電位レベルに降圧する構成となっ
ているので、接地電位が浮き上り、降圧に要する時間が
長くなるという問題点があり、また、他の信号線に比べ
配線幅が広い昇圧信号線LφRAxが配線領域8内を長
手方向の端から端まで走っているため、その分、チップ
面積が増大するという問題点があった。In this conventional semiconductor memory device, the boosted signal line L.phi.RAx for stepping down the word line of the selected level to the non-selected level of the ground potential level is
Since the voltage is reduced to the ground potential level through the ground wiring GND1 at one location of the voltage reduction unit 22 in the word line booster circuit 2, there is a problem that the ground potential floats and the time required for the voltage reduction increases. Further, since the boosted signal line LφRAx having a wider wiring width than the other signal lines runs in the wiring region 8 from one end to the other in the longitudinal direction, there is a problem that the chip area increases correspondingly.
【0016】本発明の目的は、ワード線及び昇圧信号線
の接地電位レベルへの降圧時間を短縮すると共に、チッ
プ面積を縮小することができる半導体記憶装置を提供す
ることにある。An object of the present invention is to provide a semiconductor memory device capable of shortening the time required for stepping down the word line and the step-up signal line to the ground potential level and reducing the chip area.
【0017】[0017]
【課題を解決するための手段】本発明の半導体記憶装置
は、行,列マトリクス状に配置された複数のメモリセ
ル、これら複数のメモリセルの各行それぞれと対応して
設けられ選択レベルのとき対応する行のメモリセルを選
択状態とする複数のワード線、及び前記複数のメモリセ
ルの各列それぞれと対応して設けられ対応する列の選択
状態のメモリセルの読出しデータの伝達、この選択状態
のメモリセルへの書込み用のデータの伝達を行う複数の
ディジット線を備えたメモリセルアレイと、行アドレス
信号に従って前記複数のワード線のうちの所定のワード
線を選択しこの選択されたワード線を供給された昇圧信
号に従って電源電位より所定のレベルだけ高い電位の選
択レベルとする行選択回路と、この行選択回路の一方の
端から他方の端にかけて配置され伝達された前記昇圧信
号を前記行選択回路に供給する昇圧信号線と、前記行選
択回路の一方の端に近接して設けられ、前記電源電位よ
り所定のレベルだけ高い電位の前記昇圧信号を前記昇圧
信号線の一方の端に伝達する昇圧部、及び前記行選択回
路による選択レベルのワード線を非選択レベルとするタ
イミングに同期して前記昇圧信号線を接地電位レベルに
降圧する降圧部を備えたワード線昇圧回路と、前記行選
択回路の他方の端に近接して設けられ前記昇圧信号線の
他方の端と接続して前記行選択回路によって選択レベル
のワード線を非選択レベルとするタイミングに同期して
前記昇圧信号線と接地電位レベルに降圧するワード線降
圧回路と、前記メモリセルアレイからの読出しデータの
センス増幅及びその外部への出力、並びに外部からの書
込み用のデータの前記メモリセルアレイへの供給制御を
行うデータセンス・入出力回路とを有している。また、
ワード線昇圧回路を含む第1の回路の第1の接地配線
と、データセンス・入出力回路の第2の接地配線とが別
々に配置され、ワード線降圧回路による昇圧信号線の降
圧を前記第2の接地配線を通して行うようにし、ワード
線昇圧回路の降圧部を、行選択回路によって選択レベル
のワード線を非選択レベルとするタイミングに同期して
インアクティブレベルからアクティブレベルへと変化す
る制御信号を入力端に受け接地端子を第1の接地配線と
接続する第1のインバータと、この第1のインバータの
出力信号を入力端に受け接地端子を前記第1の接地配線
と接続する第2のインバータと、この第2のインバータ
の出力信号をゲートに受けドレインを昇圧信号線の一方
の端と接続しソースを前記第1の接地配線と接続する第
1のトランジスタとを含む回路とし、ワード線降圧回路
を、前記制御信号を入力端に受け接地端子を前記第1の
接地配線と接続する第3のインバータと、この第3のイ
ンバータの出力信号を入力端に受け接地端子を前記第1
の接地配線と接続する第4のインバータと、この第4の
インバータの出力信号をゲートに受けドレインを前記昇
圧信号線の他方の端と接続しソースを第2の接地配線と
接続する第2のトランジスタとを含む回路として構成さ
れる。A semiconductor memory device of the present invention is provided with a plurality of memory cells arranged in a matrix of rows and columns, provided corresponding to each row of the plurality of memory cells and corresponding to a selection level. A plurality of word lines for selecting the memory cells in the row to be selected, and transmission of read data from the memory cells in the selected state of the corresponding column provided corresponding to each column of the plurality of memory cells. A memory cell array having a plurality of digit lines for transmitting write data to a memory cell, and a predetermined word line among the plurality of word lines is selected according to a row address signal and the selected word line is supplied. A row selection circuit that sets a selection level that is a potential higher than the power supply potential by a predetermined level according to the boosted signal that has been generated, and a row selection circuit from one end to the other end. And a boosting signal line for supplying the boosted signal that is arranged and transmitted to the row selection circuit, and the boosting voltage that is provided close to one end of the row selection circuit and is higher than the power supply potential by a predetermined level. A booster for transmitting a signal to one end of the boosted signal line, and a step-down for stepping down the boosted signal line to the ground potential level in synchronization with the timing of setting the word line of the selection level by the row selection circuit to the non-selection level. And a word line boosting circuit having a section, and the word line of a selected level is connected to the other end of the boosting signal line provided close to the other end of the row selection circuit to select a word line of a non-selection level by the row selection circuit. And a word line step-down circuit for stepping down to the boosted signal line and the ground potential level in synchronization with the timing, and sense amplification of read data from the memory cell array and output to the outside. And a data sense output circuit for controlling the supply to the memory cell array of the data for writing from outside. Also,
The first ground wiring of the first circuit including the word line boosting circuit and the second ground wiring of the data sense / input / output circuit are separately arranged, and the step-down of the boosting signal line by the word line step-down circuit is performed by the first ground wiring. The control signal that changes from the inactive level to the active level in synchronization with the timing when the word line of the selected level is set to the non-selected level by the row selection circuit is used for the step-down section of the word line boosting circuit. A first inverter having an input terminal for receiving a ground terminal connected to the first ground wiring, and a second inverter receiving an output signal of the first inverter for an input terminal and connecting the ground terminal to the first ground wiring. An inverter and a first transistor having a gate receiving an output signal of the second inverter, a drain connected to one end of the boosting signal line, and a source connected to the first ground wiring; A third inverter that receives the control signal at the input end and connects the ground terminal to the first ground wiring; and a word line step-down circuit that receives the output signal of the third inverter at the input end and is grounded. The terminal is the first
A fourth inverter connected to the ground wiring of the second inverter, and a second inverter connecting the output signal of the fourth inverter to the gate and the drain to the other end of the boosting signal line and the source to the second ground wiring. It is configured as a circuit including a transistor.
【0018】また、行選択回路によって所定のワード線
を選択レベルに保持する期間は、ワード線降圧回路の第
2のトランジスタをオフ状態に保つ第2のトランジスタ
・オフ手段を設け、この第2のトランジスタ・オフ手段
を、第3のインバータの出力信号をゲートに受け第4の
インバータの出力信号をソースに受けドレインを第2の
接地配線と接続する第3のトランジスタを含む回路とし
て構成される。Further, a second transistor-off means for keeping the second transistor of the word line step-down circuit in the off state is provided during the period in which the predetermined word line is held at the selected level by the row selection circuit, and this second transistor is turned off. The transistor-off means is configured as a circuit including a third transistor having a gate receiving the output signal of the third inverter and a source receiving the output signal of the fourth inverter and a drain connected to the second ground wiring.
【0019】[0019]
【実施例】次に本発明の実施例について図面を参照して
説明する。Embodiments of the present invention will now be described with reference to the drawings.
【0020】図1(A),(B)は本発明の第1の実施
例を示すブロック図及びそのワード線降圧回路の回路
図、図2はこの実施例のレイアウト図である。1A and 1B are a block diagram showing a first embodiment of the present invention and a circuit diagram of a word line step-down circuit thereof, and FIG. 2 is a layout diagram of this embodiment.
【0021】この実施例が図4(A),(B)及び図5
に示された従来の半導体記憶装置と相違する点は、ワー
ド線昇圧回路2をXデコーダ3の一方の端に近接して配
置し、昇圧信号線LφRAを、Xデコーダ3の一方の端
から他方の端にかけて配置すると共にワード線昇圧回路
2からの昇圧信号φRAを昇圧信号線LφRAの一方の
端に伝達するようにし、インバータIV1,IV2及び
トランジスタTr1を備えてXデコーダ3の他方の端に
近接して設けられ、制御信号φRAS4Bに従って、選
択レベルのワード線を非選択レベルとするタイミングに
同期して昇圧信号線LφRAを接地配線GND2を通し
て接地電位レベルに降圧するワード線降圧回路6を設け
た点にある。This embodiment is shown in FIG. 4 (A), (B) and FIG.
The difference from the conventional semiconductor memory device shown in FIG. 2 is that the word line boosting circuit 2 is arranged close to one end of the X decoder 3, and the boosting signal line LφRA is provided from one end of the X decoder 3 to the other end. Of the word line boosting circuit 2 and the boosting signal φRA from the word line boosting circuit 2 is transmitted to one end of the boosting signal line LφRA, and the inverters IV1 and IV2 and the transistor Tr1 are provided to be close to the other end of the X decoder 3. The word line step-down circuit 6 for stepping down the step-up signal line LφRA to the ground potential level through the ground wiring GND2 is provided in synchronization with the timing of setting the selected level word line to the non-select level according to the control signal φRAS4B. It is in.
【0022】なお、ワード線降圧回路6は、降圧用のト
ランジスタTr1のソースが接地配線GND2に接続さ
れている以外は、ワード線昇圧回路2の降圧部22と同
一回路構成となっている。そして、ワード線の降圧時、
制御信号φRAS4Bに従って、昇圧信号線LφRAの
一方の端からはワード線昇圧回路2の降圧部22により
接地配線GND1を通して、他方の端からはワード線降
圧回路6により接地配線GND2を通して同時に、昇圧
信号線LφRAを接地電位レベルに降圧する構成となっ
ている。The word line step-down circuit 6 has the same circuit configuration as the step-down unit 22 of the word line step-up circuit 2 except that the source of the step-down transistor Tr1 is connected to the ground wiring GND2. And when stepping down the word line,
According to the control signal φRAS4B, the booster signal line LφRA is simultaneously connected to the booster signal line from one end through the ground line GND1 by the step-down unit 22 of the word line booster circuit 2 and from the other end through the word line step-down circuit 6 through the ground line GND2. The configuration is such that LφRA is stepped down to the ground potential level.
【0023】すなわち、昇圧信号線LφRAの両端か
ら、別の接地配線GND1,GND2を通して降圧する
ため、降圧電流が増加すると共に分散されて接地電位レ
ベルの浮き上がりが小さくなり、降圧時間を短縮(例え
ば5ns程度)することができる。また、比較的配線幅
が広い(例えば40μm程度の)昇圧信号線を配線領域
の端から端まで走らせる必要がないので、その分チップ
面積を縮小することができる。That is, since the voltage is stepped down from both ends of the step-up signal line LφRA through the other ground wirings GND1 and GND2, the step-down current is increased and dispersed to reduce floating of the ground potential level, and the step-down time is shortened (for example, 5 ns). You can Further, since it is not necessary to run the boosting signal line having a relatively wide wiring width (for example, about 40 μm) from one end to the other end of the wiring region, the chip area can be reduced accordingly.
【0024】図3は本発明の第2の実施例のワード線降
圧回路部分の回路図である。FIG. 3 is a circuit diagram of a word line step-down circuit portion according to the second embodiment of the present invention.
【0025】この実施例のワード線降圧回路6aは、第
1の実施例におけるワード線降圧回路6に、ゲートにイ
ンバータIV1の出力信号を受けソースにインバータI
V2の出力信号を受けドレインを接地配線GND2と接
続するトランジスタTr2を設けたものである。The word line step-down circuit 6a of this embodiment is the same as the word line step-down circuit 6 of the first embodiment except that the gate receives the output signal of the inverter IV1 and the source thereof is the inverter I.
A transistor Tr2 for receiving the output signal of V2 and connecting the drain to the ground wiring GND2 is provided.
【0026】インバータIV1,IV2の接地配線GN
D1と、トランジスタTr1の接地配線GND2とは別
々の配線となっているため、ワード線が選択レベルのと
き、接地配線GND2にトランジスタTr1のしきい値
電圧を越えるノイズが誘導されると、トランジスタTr
1はオン状態となりワード線のレベルを低下させてしま
い、書込みレベルの低下や書込み不良,選択不良等の誤
動作を生じる。Ground wiring GN of inverters IV1 and IV2
Since the wiring D1 and the ground wiring GND2 of the transistor Tr1 are separate wirings, when noise exceeding the threshold voltage of the transistor Tr1 is induced in the ground wiring GND2 when the word line is at the selection level, the transistor Tr1 is
1 is turned on to lower the level of the word line, which causes malfunctions such as lowering of the writing level, defective writing, and defective selection.
【0027】そこで、ワード線選択動作時には、トラン
ジスタTr2を常にオン状態としておいて、トランジス
タTr1がオン状態にならないようにしている。Therefore, in the word line selecting operation, the transistor Tr2 is always turned on so that the transistor Tr1 is not turned on.
【0028】なお、これら実施例においては、降圧用の
トランジスタTr1のソースを接地配線GND2に接続
してこれを通して降圧する構成となっているが、トラン
ジスタTr1のソースを接地配線GND1に接続しこれ
を通して降圧するようにしても、昇圧信号線LφRAが
短かくなっている分と、ワード線降圧回路6,6aの降
圧電流の増加分とにより、従来例に比べ降圧時間を短縮
できる。また、ワード線降圧回路6,6aのチップ面積
増加分は、従来例の配線領域8に配置された昇圧信号線
LφRAxと比べれば無視できる程度のものである。In these embodiments, the source of the step-down transistor Tr1 is connected to the ground wiring GND2 and the voltage is lowered through this, but the source of the transistor Tr1 is connected to the ground wiring GND1 and passed through this. Even if the voltage is lowered, the step-down time can be shortened as compared with the conventional example due to the shorted step-up signal line LφRA and the increased step-down current of the word line step-down circuits 6 and 6a. Further, the increase in the chip area of the word line step-down circuits 6 and 6a is negligible in comparison with the boosted signal line LφRAx arranged in the wiring region 8 of the conventional example.
【0029】[0029]
【発明の効果】以上説明したように本発明は、ワード線
昇圧回路を行選択回路の一方の端に近接して配置し昇圧
信号を行選択回路上の昇圧信号線の一方の端から供給
し、行選択回路の他方の端に近接してワード線降圧回路
を設けて昇圧信号線の他方の端からこの昇圧信号線をワ
ード線昇圧回路の降圧部と同時に降圧する構成とするこ
とにより、降圧電流が増加すると共に分散されるので、
接地電位レベルの浮き上りが小さくなり、降圧時間を短
縮することができ、また、配線幅の広い配線領域内の昇
圧信号線を殆んど無くすことができるので、その分チッ
プ面積を縮小することができる効果がある。As described above, according to the present invention, the word line boosting circuit is arranged close to one end of the row selecting circuit and the boosting signal is supplied from one end of the boosting signal line on the row selecting circuit. , A word line step-down circuit is provided near the other end of the row selection circuit, and the step-down signal line is stepped down from the other end of the step-up signal line simultaneously with the step-down part of the word line step-up circuit. As the current increases and spreads out,
The floating of the ground potential level is reduced, the step-down time can be shortened, and almost no boosting signal line in the wiring region with a wide wiring width can be eliminated, so the chip area can be reduced accordingly. There is an effect that can be.
【図1】本発明の第1の実施例を示すブロック図及びそ
のワード線降圧回路部分の回路図である。FIG. 1 is a block diagram showing a first embodiment of the present invention and a circuit diagram of a word line step-down circuit portion thereof.
【図2】図1に示された実施例のレイアウト図である。FIG. 2 is a layout diagram of the embodiment shown in FIG.
【図3】本発明の第2の実施例のワード線降圧回路部分
の回路図である。FIG. 3 is a circuit diagram of a word line step-down circuit portion according to a second embodiment of the present invention.
【図4】従来の半導体記憶装置の一例を示すブロック図
及びそのワード線昇圧回路の降圧部の回路図である。FIG. 4 is a block diagram showing an example of a conventional semiconductor memory device and a circuit diagram of a step-down unit of a word line booster circuit thereof.
【図5】図4に示された半導体記憶装置のレイアウト図
である。5 is a layout diagram of the semiconductor memory device shown in FIG. 4. FIG.
1 メモリセルアレイ 2 ワード線昇圧回路 3 Xデコーダ 4 Yデコーダ 5 データセンス・入出力回路 6,6a ワード線降圧回路 7 周辺回路 8 配線領域 21 昇圧部 22 降圧部 DL1〜DLn ディジット線 GND1,GND2 接地配線 IV1〜IV4 インバータ LφRA,LφRAx 昇圧信号線 MC メモリセル Tr1〜Tr3 トランジスタ WL1〜WLm ワード線 1 Memory Cell Array 2 Word Line Boosting Circuit 3 X Decoder 4 Y Decoder 5 Data Sense / I / O Circuit 6, 6a Word Line Stepping Down Circuit 7 Peripheral Circuit 8 Wiring Area 21 Boosting Section 22 Stepping Down Section DL1 to DLn Digit Line GND1, GND2 Grounding Wiring IV1 to IV4 inverters LφRA, LφRAx boosting signal line MC memory cell Tr1 to Tr3 transistor WL1 to WLm word line
Claims (5)
メモリセル、これら複数のメモリセルの各行それぞれと
対応して設けられ選択レベルのとき対応する行のメモリ
セルを選択状態とする複数のワード線、及び前記複数の
メモリセルの各列それぞれと対応して設けられ対応する
列の選択状態のメモリセルの読出しデータの伝達、この
選択状態のメモリセルへの書込み用のデータの伝達を行
う複数のディジット線を備えたメモリセルアレイと、行
アドレス信号に従って前記複数のワード線のうちの所定
のワード線を選択しこの選択されたワード線を供給され
た昇圧信号に従って電源電位より所定のレベルだけ高い
電位の選択レベルとする行選択回路と、この行選択回路
の一方の端から他方の端にかけて配置され伝達された前
記昇圧信号を前記行選択回路に供給する昇圧信号線と、
前記行選択回路の一方の端に近接して設けられ、前記電
源電位より所定のレベルだけ高い電位の前記昇圧信号を
前記昇圧信号線の一方の端に伝達する昇圧部、及び前記
行選択回路による選択レベルのワード線を非選択レベル
とするタイミングに同期して前記昇圧信号線を接地電位
レベルに降圧する降圧部を備えたワード線昇圧回路と、
前記行選択回路の他方の端に近接して設けられ前記昇圧
信号線の他方の端と接続して前記行選択回路によって選
択レベルのワード線を非選択レベルとするタイミングに
同期して前記昇圧信号線と接地電位レベルに降圧するワ
ード線降圧回路と、前記メモリセルアレイからの読出し
データのセンス増幅及びその外部への出力、並びに外部
からの書込み用のデータの前記メモリセルアレイへの供
給制御を行うデータセンス・入出力回路とを有すること
を特徴とする半導体記憶装置。1. A plurality of memory cells arranged in a matrix of rows and columns, and a plurality of memory cells provided corresponding to each row of the plurality of memory cells and having a memory cell of a corresponding row at a selection level in a selected state. The word line and the columns of the plurality of memory cells are provided corresponding to the respective columns, and the read data of the memory cells in the selected state of the corresponding columns are transmitted, and the data for writing to the memory cells in the selected state are transmitted. A memory cell array having a plurality of digit lines, and a predetermined word line of the plurality of word lines is selected according to a row address signal, and the selected word line is supplied with a predetermined level from a power supply potential according to a supplied boosting signal. A row selection circuit having a high potential selection level, and the boosted signal transmitted from the one end to the other end of the row selection circuit are transferred to the row selection circuit. A boosting signal line supplied to the selection circuit,
A booster unit provided near one end of the row selection circuit and transmitting the boosted signal having a potential higher than the power supply potential by a predetermined level to one end of the boosted signal line, and the row selection circuit. A word line boosting circuit having a step-down unit for stepping down the boosted signal line to a ground potential level in synchronization with the timing when the word line at the selected level is set to the non-selected level;
The boosting signal is provided in proximity to the other end of the row selecting circuit and is connected to the other end of the boosting signal line and is synchronized with the timing at which the word line of the selection level is set to the non-selection level by the row selecting circuit. Line and a word line step-down circuit for stepping down to a ground potential level, data for performing sense amplification of read data from the memory cell array and output to the outside, and supply control of external write data to the memory cell array A semiconductor memory device having a sense / input / output circuit.
1の接地配線と、データセンス・入出力回路の第2の接
地配線とが別々に配置され、ワード線降圧回路による昇
圧信号線の降圧を前記第2の接地配線を通して行うよう
にした請求項1記載の半導体記憶装置。2. A booster signal line formed by a word line step-down circuit, wherein a first ground line of a first circuit including a word line booster circuit and a second ground line of a data sense / input / output circuit are separately arranged. 2. The semiconductor memory device according to claim 1, wherein the step-down of voltage is performed through the second ground wiring.
路によって選択レベルのワード線を非選択レベルとする
タイミングに同期してインアクティブレベルからアクテ
ィブレベルへと変化する制御信号を入力端に受け接地端
子を第1の接地配線と接続する第1のインバータと、こ
の第1のインバータの出力信号を入力端に受け接地端子
を前記第1の接地配線と接続する第2のインバータと、
この第2のインバータの出力信号をゲートに受けドレイ
ンを昇圧信号線の一方の端と接続しソースを前記第1の
接地配線と接続する第1のトランジスタとを含む回路と
し、ワード線降圧回路を、前記制御信号を入力端に受け
接地端子を前記第1の接地配線と接続する第3のインバ
ータと、この第3のインバータの出力信号を入力端に受
け接地端子を前記第1の接地配線と接続する第4のイン
バータと、この第4のインバータの出力信号をゲートに
受けドレインを前記昇圧信号線の他方の端と接続しソー
スを第2の接地配線と接続する第2のトランジスタとを
含む回路とした請求項2記載の半導体記憶装置。3. A step-down portion of a word line boosting circuit is provided with a control signal at an input end thereof which changes from an inactive level to an active level in synchronization with a timing when a row selection circuit sets a word line at a selected level to a non-selected level. A first inverter connecting the receiving ground terminal to the first ground wiring, and a second inverter connecting the receiving ground terminal to the first ground wiring at the input terminal of the output signal of the first inverter,
A word line step-down circuit is provided which is a circuit including a first transistor having a gate receiving an output signal of the second inverter and a drain connected to one end of the boosting signal line and a source connected to the first ground wiring. A third inverter that receives the control signal at an input terminal and connects a ground terminal to the first ground wiring; and a ground terminal that receives an output signal of the third inverter at an input terminal and the first ground wiring. A fourth inverter connected to the fourth inverter; and a second transistor having a gate receiving an output signal of the fourth inverter and a drain connected to the other end of the boosting signal line and a source connected to the second ground wiring. The semiconductor memory device according to claim 2, which is a circuit.
択レベルに保持する期間は、ワード線降圧回路の第2の
トランジスタをオフ状態に保つ第2のトランジスタ・オ
フ手段を設けた請求項3記載の半導体記憶装置。4. A second transistor turning-off means for keeping the second transistor of the word line step-down circuit off during a period in which a predetermined word line is held at the selected level by the row selection circuit. Semiconductor memory device.
のインバータの出力信号をゲートに受け第4のインバー
タの出力信号をソースに受けドレインを第2の接地配線
と接続する第3のトランジスタを含む回路とした請求項
4記載の半導体記憶装置。5. The second transistor-off means comprises a third transistor
5. The semiconductor memory device according to claim 4, wherein the circuit includes a third transistor which receives the output signal of the inverter in the gate and receives the output signal of the fourth inverter in the source and connects the drain to the second ground wiring.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6133488A JPH07114793A (en) | 1993-08-26 | 1994-06-16 | Semiconductor memory |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21132493 | 1993-08-26 | ||
| JP5-211324 | 1993-08-26 | ||
| JP6133488A JPH07114793A (en) | 1993-08-26 | 1994-06-16 | Semiconductor memory |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07114793A true JPH07114793A (en) | 1995-05-02 |
Family
ID=26467831
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6133488A Pending JPH07114793A (en) | 1993-08-26 | 1994-06-16 | Semiconductor memory |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07114793A (en) |
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1994
- 1994-06-16 JP JP6133488A patent/JPH07114793A/en active Pending
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| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 19960716 |