JPH07121818A - 磁気ヘッドおよびその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 金属磁性膜と融着ガラスの反応を防止し、ト
ラック幅精度を良好とし、かつギャップ長精度を良好と
する。 【構成】 酸化物磁性材料基板３，４の突き合わせ面３
ａ，４ａに金属磁性膜５，６の形成された一対の磁気コ
ア半体１，２が、突き合わせ面間に非磁性層よりなる磁
気ギャップｇ₁ を形成して接合一体化される磁気ヘッド
において、磁気コア半体１，２の磁気ギャップ形成部分
１ａ，２ａに非磁性層、例えばＳｉＯ₂ よりなるギャッ
プ膜１５，１６を形成し、他の部分１ｂ，２ｂにも非磁
性層、例えばＳｉＯ₂ よりなるギャップ膜１５，１６と
Ｃｒよりなる反応防止膜１７，１８を積層形成し、磁気
ギャップ形成部分１ａ，２ａにおける非磁性層の積層数
を他の部分１ｂ，２ｂにおける積層数よりも少なくす
る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、例えばビデオテープレ
コーダ等に搭載される高密度記録用磁気ヘッドに好適な
磁気ヘッドおよびその製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】例えば、ＶＴＲ（ビデオテープレコーダ
ー）等の磁気記録再生装置に組み込まれる磁気ヘッドと
しては、単結晶フェライトや多結晶フェライト，単結晶
フェライトと多結晶フェライトの接合材等の酸化物磁性
材料によって磁気コア半体を構成したものが一般的であ
る。また、上記磁気記録再生装置においては、高画質化
等を目的として情報信号の短波長記録化が進められてお
り、これに対応したメタルテープや蒸着テープ等の高抗
磁力磁気記録媒体用の磁気ヘッドとして磁気コア半体に
金属磁性材料を用いた磁気ヘッドが種々開発されてい
る。このような磁気ヘッドの代表的なものとしては、フ
ェライト等の酸化物磁性材料よりなる基板と金属磁性材
料よりなる金属磁性膜の複合型の磁気ヘッド、いわゆる
メタル・イン・ギャップ（Ｍｅｔａｌ ｉｎ ｇａｐ）
ヘッド（以下、ＭＩＧヘッドと略する。）が挙げられ
る。

【０００３】上記ＭＩＧヘッドは、フェライト等の酸化
物磁性材料よりなる基板の突き合わせ面に金属磁性膜が
被着形成された一対の磁気コア半体が、上記金属磁性膜
同士を突き合わせるようにして接合一体化されたもので
あり、当該金属磁性膜の突合わせ面間には磁気ギャップ
（フロントギャップ及びバックギャップ）が形成されて
いる。このとき、酸化物磁性材料基板の突き合わせ面の
磁気ギャップに相当する位置には磁気ギャップと平行な
ギャップ形成面が形成されており、上記ギャップ形成面
の両端には、磁気ギャップのトラック幅を規制するトラ
ック幅規制溝が設けられている。従って、酸化物磁性材
料基板の突き合わせ面にその形状に沿って被着形成され
る金属磁性膜は、ギャップ形成面上において磁気ギャッ
プと平行となり、その幅はトラック幅規制溝により規制
される。また、上記トラック幅規制溝により一対の磁気
コア半体間に形成される溝部に融着ガラスが充填されて
おり、上記のように一対の磁気コア半体は接合一体化さ
れている。

【０００４】ところで、上記のような磁気ヘッドにおい
ては、トラック幅規制溝により一対の磁気コア半体間に
形成される溝部内において金属磁性膜と融着ガラスは直
に接することとなり、これにより以下のような不都合が
生じる。例えば、上記融着ガラスは金属磁性膜と反応し
やすく、このような磁気ヘッドを製造するために一対の
磁気コア半体を融着ガラスで接合すると、融着ガラスと
金属磁性膜との反応によりこれらの界面の融着ガラスが
脆くなり、加工のための加圧等により界面からこれらの
剥離が発生する。また、上記融着ガラスと金属磁性膜が
反応しやすいことから、図１６に示すように、磁気コア
半体１０１，１０２の突き合わせ面において、溶融充填
される融着ガラス１０３と金属磁性膜１０４，１０５が
直に接すると、金属磁性膜１０４，１０５の融着ガラス
１０３との接触面１０４ａ，１０５ａに侵食が生じる。
特に、金属磁性膜１０４，１０５のエッジ部ｇｅ₁ ，ｇ
ｅ ₂ ，ｇｅ₃ ，ｇｅ₄ が侵食されると、これらの間に形
成される磁気ギャップｇ₃のトラック幅は本来Ｔｗであ
ったものがＴｗ´に減少してしまい、トラック幅精度が
著しく低下してしまう。

【０００５】そこで、従来においては、特開平４−３７
０５０９号公報および特開平４−２７４００７号公報に
示されるような、金属磁性膜上に反応防止膜を設けた磁
気ヘッドが提案されている。すなわち、これらの磁気ヘ
ッドにおいては、図１７に示すように、磁気コア半体１
１１，１１２の金属磁性膜１１４，１１５上に非磁性の
反応防止膜１１６，１１７を設け、さらに非磁性のギャ
ップ膜１１８，１１９を設けて、これらを接合一体化し
ている。従って、上記磁気ヘッドにおいては、金属磁性
膜１１４，１１５と融着ガラス１１３が直に接すること
はなく、これらの反応が防止され、上述のような不都合
が解消される。

【０００６】ところが、このような磁気ヘッドにおいて
は、磁気ギャップのギャップ長精度が良好ではないとい
う不都合が生じている。すなわち、図１７中にも示すよ
うに、上記の磁気ヘッドにおいては、磁気ギャップｇ₃
のギャップ長Ｗ₃ は反応防止膜１１６，１１７及びギャ
ップ膜１１８，１１９の膜厚によって決定されることと
なり、これら４層の膜厚のバラツキが全て膜厚精度に影
響する。従って、上記のような磁気ヘッドにおいて磁気
ギャップｇ₃ のギャップ長Ｗ₃ の精度を良好とすること
は非常に困難である。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】そこで本発明は、従来
の実情に鑑みて提案されたものであり、金属磁性膜と融
着ガラスの反応が防止されてトラック幅精度が良好であ
り、かつギャップ長精度の良好な磁気ヘッドを提供する
ことを目的とする。また、このような磁気ヘッドの製造
を可能とする磁気ヘッドの製造方法を提供することを目
的とする。

【０００８】

【課題を解決するための手段】上述の目的を達成するた
めに本発明は、酸化物磁性材料基板の突き合わせ面に金
属磁性膜が形成されてなる一対の磁気コア半体が、磁気
コア半体の突き合わせ面間に非磁性層よりなる磁気ギャ
ップを形成して接合一体化されてなる磁気ヘッドにおい
て、磁気ギャップ形成部分における非磁性層の積層数が
他の部分における積層数よりも少ないことを特徴とする
ものである。

【０００９】また、本発明は、上記のような磁気ヘッド
において、磁気ギャップにおける非磁性層が１層よりな
ることを特徴とするものである。

【００１０】さらに本発明は、上記のような磁気ヘッド
において、磁気ギャップにおける非磁性層がギャップ膜
であるＳｉＯ₂ 膜よりなり、他の部分における非磁性層
が少なくともギャップ膜であるＳｉＯ₂ 膜と反応防止膜
であるＣｒ膜よりなることを特徴とするものである。

【００１１】また、本発明の磁気ヘッドの製造方法は、
酸化物磁性材料基板の突き合わせ面に磁気ギャップのト
ラック幅を規制するトラック幅規制溝を形成する工程
と、上記トラック幅規制溝が形成された酸化物磁性材料
基板上に金属磁性膜を被着形成して磁気コア半体を形成
する工程と、上記金属磁性膜上にＣｒよりなる反応防止
膜を形成する工程と、磁気ギャップ形成部分の反応防止
膜を鏡面加工して該反応防止膜を除去する工程と、トラ
ック幅規制溝内を含む鏡面加工面にＳｉＯ₂ よりなるギ
ャップ膜を形成する工程と、一対の磁気コア半体を接合
一体化する工程を有することを特徴とするものである。

【００１２】

【作用】本発明は、酸化物磁性材料基板の突き合わせ面
に金属磁性膜が形成されてなる一対の磁気コア半体が、
磁気コア半体の突き合わせ面間に非磁性層よりなる磁気
ギャップを形成して接合一体化されてなる磁気ヘッドに
おいて、磁気ギャップ形成部分における非磁性層の積層
数を他の部分における積層数よりも少なくしており、こ
のとき磁気ギャップ形成部分における非磁性層を１層と
して該非磁性層をギャップ膜であるＳｉＯ₂ 膜で構成す
ると、磁気ギャップのギャップ長精度が良好なものとな
り、他の部分における非磁性層を少なくともギャップ膜
であるＳｉＯ₂ 膜と反応防止膜であるＣｒ膜で構成する
と、金属磁性膜と一対の磁気コア半体の接合の際に使用
される融着ガラスの反応が防止される。

【００１３】

【実施例】以下、本発明を適用した具体的な実施例につ
いて図面を参照しながら詳細に説明する。上記磁気ヘッ
ドは図１に示すように、磁性フェライト等の酸化物磁性
材料基板３，４の突き合わせ面に金属磁性膜５，６が被
着形成された一対の磁気コア半体１，２が、上記金属磁
性膜５，６を突き合わせるようにして接合一体化された
ものである。そして、上記磁気コア半体１，２の突き合
わせ面の磁気ギャップ形成部分には図示しないギャップ
膜、他の部分にはギャップ膜及び反応防止膜が形成さ
れ、当該金属磁性膜５，６の突合わせ面間にはギャップ
膜よりなり記録再生として動作する磁気ギャップｇ
₁ （フロントギャップ）と磁気ギャップｇ₂ （バックギ
ャップ）が形成されている。なお、本実施例の磁気ヘッ
ドにおいては、酸化物磁性材料基板３，４として、Ｍｎ
−Ｚｎ系フェライトの単結晶よりなる基板を用い、金属
磁性膜として、Ｆｅ−Ｒｕ−Ｇａ−Ｓｉよりなる膜を用
いた。

【００１４】このとき、上記磁気ヘッドにおいては、図
２に示すように、酸化物磁性材料基板３，４の突き合わ
せ面の磁気ギャップｇ₁ ，ｇ₂ に相当する位置に磁気ギ
ャップｇ₁ ，ｇ₂ と平行なギャップ形成面３ａ，４ａが
形成されており（図２中には磁気ギャップｇ₁ のみを示
す。）、その両端には、磁気ギャップｇ₁ ，ｇ₂ のトラ
ック幅を規制するためのトラック幅規制溝７，８が設け
られている。すなわち、酸化物磁性材料基板３，４の突
き合わせ面にその形状に沿って被着形成される金属磁性
膜５，６は、ギャップ形成面３ａ，４ａ上において磁気
ギャップｇ₁ と平行となる。また、トラック幅規制溝
７，８によって酸化物磁性材料基板３，４のギャップ形
成面３ａ，４ａの幅が規制されていることから、金属磁
性膜５，６の突き合わせ面の幅も自ずから規制されるこ
ととなる。従って、金属磁性膜５，６の突き合わせ面間
に形成される磁気ギャップｇ₁ のトラック幅Ｔｗも規制
されることとなる。

【００１５】また、磁気ギャップｇ₁ （フロントギャッ
プ）側及び磁気ギャップｇ₂ （バックギャップ）側のト
ラック幅規制溝７，８により形成される溝部には融着ガ
ラス９，１０が充填され、上述のように磁気コア半体
１，２は接合一体化されている。

【００１６】さらに、酸化物磁性材料基板３，４にはコ
イルを巻回するための巻線溝１１，１２及びこれらと相
対向する位置に巻線補助溝１３，１４が設けられてい
る。さらに、この磁気ヘッドにおいては、磁気記録媒体
に対する当たりを確保するために磁気記録媒体と摺接す
る磁気記録媒体摺動面に段差が設けられている。

【００１７】そして、このとき本実施例の磁気ヘッドに
おいては、前述したように（図２中にも示すが）、磁気
コア半体１，２の突き合わせ面の磁気ギャップ形成部分
１ａ，２ａにＳｉＯ₂ よりなるギャップ膜１５，１６が
形成され、他の部分にはＣｒよりなる反応防止膜１７，
１８とＳｉＯ₂ よりなるギャップ膜１５，１６が積層形
成されている。

【００１８】従って、本実施例の磁気ヘッドにおいて
は、磁気ギャップｇ₁ のギャップ長Ｗ ₁ はギャップ膜１
５，１６の膜厚のみにより決定されることとなり、その
精度は良好なものとなる。そして、本実施例の磁気ヘッ
ドにおいては、磁気ギャップ形成部分１ａ，２ａ以外の
他の部分１ｂ，２ｂにおいては、金属磁性膜５，６上に
反応防止膜１７，１８が設けられていることから、該金
属磁性膜１７，１８と融着ガラス９，１０の反応が防止
され、これらの剥離や金属磁性膜の侵食によるトラック
幅の減少といった不都合が生じない。

【００１９】次いで、本発明を適用した磁気ヘッドの製
造方法の実施例について説明する。先ず、図３に示され
るように、酸化物磁性材料基板を形成するための酸化物
磁性材料よりなるブロック２６を用意し、研削盤により
面出しを行い、その突き合わせ面２６ａに酸化物磁性材
料基板の突き合わせ幅、すなわち後工程によって形成さ
れる磁気ギャップのトラック幅を規制するためのトラッ
ク幅規制溝２７を機械加工により複数形成する。この
時、トラック幅規制溝２７の形状は、断面略半円形状と
し、図２中θで示す上記磁気ギャップｇ₁ のエッジ部の
開き角が９０゜以上となるようにする。なお、本実施例
においては、エッジ部の開き角θを１２０゜とするため
に、図４に示すように、ブロック２６の突き合わせ面２
６ａと垂直な線ａと断面略半円形状のトラック幅規制溝
２７の接線ｂのなす角が３０゜となるように砥石成形を
行い、溝入れを行ってトラック幅規制溝を設けた。

【００２０】なお、ブロック２６を構成する酸化物磁性
材料としては、Ｍｎ−Ｚｎ系フェライト，Ｍｎ−Ｎｉ系
フェライトの単結晶或いはこれらの接合材等が挙げられ
る。なお、本実施例においては、Ｍｎ−Ｚｎ系フェライ
トの単結晶を用いた。

【００２１】次いで、図５に示すように、コイルを巻装
するための断面略台形形状の巻線溝２８、ガラス融着接
合を行うための断面略コ字状をなすガラス溝２９をトラ
ック幅規制溝２７と直交するように機械加工によって形
成し、ブロック２６のギャップ形成面２６ａ₁ をポリッ
シング等により鏡面に仕上げる。この時、巻線溝２８の
一方の側面２８ａは、形成される磁気ギャップｇ₁ （フ
ロントギャップ）の深さ（デプス）を規制することとな
るために傾斜面とする。なお、巻線溝２８の他方の側面
２８ｂは、傾斜面または垂直面のいずれでも良い。

【００２２】そして、上記ブロック２６の所定の位置に
各溝を形成した後にブロック２６を切断し、図６に示す
ような一対のブロック半体（図中には一方のブロック半
体３０のみを示す。）を形成する。

【００２３】次いで、図７に示すようにトラック幅規制
溝２７，巻線溝２８，ガラス溝２９の形成された上記ブ
ロック半体３０の突き合わせ面３０ａに、金属磁性膜３
１をスパッタリング法，蒸着法等により形成し、磁気コ
ア半体ブロック３３を完成する。この際、金属磁性膜３
１とブロック半体３０の付着力を向上させるために、図
８に示すように、これらの間に下地層３２を介在させて
も良い。上記金属磁性膜３１としては、センダスト（Ｆ
ｅ−Ａｌ−Ｓｉ）及びこれにＯ，Ｔｉを添加した結晶質
磁性金属膜、Ｆｅ−Ｒｕ−Ｇａ−Ｓｉ及びこれにＯ，Ｎ
を添加した結晶質磁性金属膜、或いはＦｅ系，Ｃｏ系の
微結晶磁性金属膜が挙げられ、これらの合金膜，積層膜
を用いても良い。また、下地膜３２としては、ＳｉＯ
₂ ，Ｔａ₂Ｏ₅ 等の酸化物膜、Ｓｉ₃ Ｎ₄ 等の窒化物
膜、Ｃｒ，Ａｌ，Ｐｔ等の金属膜が挙げられ、これらの
積層膜を用いても良い。なお、本実施例においては、金
属磁性膜３１としてＦｅ−Ｒｕ−Ｇａ−Ｓｉ膜を形成
し、下地膜３２としてＣｒ膜を形成した。

【００２４】そして、図９に示すように、磁気コア半体
ブロック３３の金属磁性膜３１上に反応防止膜３４を設
ける。上記反応防止膜３４としては、Ｚｒ₂ Ｏ₃ ，Ｔａ
₂ Ｏ ₅ 等の酸化物膜、Ｓｉ₃ Ｎ₄ 等の窒化物膜、Ｃｒ，
Ａｌ，Ｐｔ等の金属膜が挙げられ、これらの積層膜を用
いても良い。なお、本実施例においては、後工程の磁気
コア半体ブロック接合の際に使用される融着ガラスの流
れを向上させるために、反応防止膜３４としてＣｒ膜を
形成した。

【００２５】次に、本実施例の磁気ヘッドの製造方法に
おいては、図１０に示すように、磁気コア半体ブロック
３３のブロック２６のギャップ形成面２６ａ₁ 上の金属
磁性膜３１上に形成された反応防止膜３４を図中一点鎖
線の位置まで鏡面加工する。これにより、図中破線で示
す磁気ギャップ形成部分にあたる反応防止膜３４が研削
除去され、かつ金属磁性膜３１の一部が研削されて磁気
ギャップ形成部分３１ａの幅が所定のトラック幅Ｔｗと
なるとともにそのギャップエッジが明確化される。

【００２６】そして、本実施例の磁気ヘッドの製造方法
においては、図１１に示すように、磁気コア半体ブロッ
ク３３の突き合わせ面３３ａ上にＳｉＯ₂ よりなるギャ
ップ膜３５を形成する。その結果、磁気コア半体ブロッ
ク３３の磁気ギャップ形成部分３３ａ₁ においては、ギ
ャップ膜３５のみが積層形成され、他の部分３３ａ₂に
おいては、反応防止膜３４，ギャップ膜３５が形成され
ることとなる。

【００２７】次に、上記のようにして反応防止膜３４，
ギャップ膜３５の形成された磁気コア半体ブロック３３
とこれと同様に形成される磁気コア半体ブロック３６の
接合を図１２に示されるように行う。なお、磁気コア半
体ブロック３３，３６の接合を行うにあたっては、それ
ぞれに形成される金属磁性膜３１，４０を対向させて突
き合わせ面とし、トラック幅規制溝２７，３７、巻線溝
２８，３８、ガラス溝２９，３９の位置合わせを行った
上で、巻線溝２８，３８、ガラス溝２９，３９間に融着
ガラス４１，４２を配し、加圧しながら図中に示すよう
に溶融充填して磁気コア半体ブロック３３，３６を接合
する。

【００２８】このようにして接合された磁気コア半体ブ
ロック３３，３６の金属磁性膜３１，４０の突き合わせ
面間には、磁気ギャップｇ₁ （フロントギャップ），磁
気ギャップｇ₂ （バックギャップ）が形成される（図中
には、磁気ギャップｇ₁ のみを示す。）。そして、この
とき上述のように、各磁気コア半体ブロック半体３３，
３６の突き合わせ面３３ａ，３６ａの磁気ギャップ形成
部分３３ａ₁ ，３６ａ ₁ には、ギャップ膜３５，４３の
みが形成されており、金属磁性膜３１，４０の突き合わ
せ面間には上記ギャップ膜３５，４３の膜厚によって決
定される所定のギャップ長を有する磁気ギャップｇ₁ が
形成されることとなる。

【００２９】最後に、磁気コア半体ブロック３３，３６
の巻線溝２８，３８に相対向する位置に巻線補助溝を形
成し、これらの媒体対向面に円筒研削を施し、所定のア
ジマス角に傾斜させ、当たり幅加工を行い、所定のチッ
プ厚に切断して図１に示すような磁気ヘッドを完成す
る。

【００３０】本実施例の磁気ヘッドの製造方法により製
造される磁気ヘッドにおいては、磁気ギャップのギャッ
プ長がギャップ膜の膜厚のみで決定されるため、その精
度は良好なものとなる。

【００３１】そして、本実施例の磁気ヘッドの製造方法
においては、製造工程中、金属磁性膜の磁気ギャップ形
成部分にも鏡面加工を施すことから、磁気ギャップのエ
ッジ部を明確化することができ、製造される磁気ヘッド
の記録時における磁気ギャップのエッジ部からの漏洩磁
界を小さくすることができ、サイドイレーズを防ぎ、再
生時に良好な再生特性を得ることができる。また、本実
施例の磁気ヘッドの製造方法においては、磁気ギャップ
形成部分が平坦化されることからギャップ膜の磁気ギャ
ップ形成部分における製造不良が発生しにくく、生産性
が大きく向上される。

【００３２】また、本実施例の磁気ヘッドの製造方法に
おいては、磁気コア半体ブロックの磁気ギャップ形成部
分以外の部分においては、反応防止膜とギャップ膜を積
層形成していることから、磁気コア半体接合工程におい
て融着ガラスを溶融充填しても融着ガラスと金属磁性膜
間の反応が生じることはなく、接合時の加圧によりこれ
らの剥離が生じる、あるいは製造された磁気ヘッドにお
いて金属磁性膜の侵食が生じて磁気ギャップのトラック
幅が変動するといった不都合が生じない。

【００３３】これまで、磁気ギャップがギャップ膜のみ
により構成される磁気ヘッドの実施例について述べてき
たが、本発明を適用した磁気ヘッドの実施例としては、
以下のように磁気ギャップがギャップ膜と薄い反応防止
膜により構成される磁気ヘッドも挙げられる。

【００３４】上記磁気ヘッドも前述の磁気ヘッドの実施
例と略同様であり、図１３に示すように、磁性フェライ
ト等の酸化物磁性材料基板５３，５４の突き合わせ面に
金属磁性膜５５，５６が被着形成された一対の磁気コア
半体５１，５２が、上記金属磁性膜５５，５６を突き合
わせるようにして接合一体化されたものであり、磁気コ
ア半体５１，５２の突き合わせ面５１ａ，５２ａ間に、
記録再生として動作する磁気ギャップｇ₁ （フロントギ
ャップ）と図示しないバックギャップが形成されてなる
ものである。

【００３５】そして、本実施例の磁気ヘッドにおいて
は、磁気コア半体５１，５２の突き合わせ面の磁気ギャ
ップ形成部分５１ａ，５２ａにＺｒＯ₂ よりなる極薄い
膜厚の第２の反応防止膜５７，５８とＳｉＯ₂ よりなる
ギャップ膜５９，６０が積層形成されており、他の部分
５１ｂ，５２ｂにはＣｒよりなる第１の反応防止膜６
１，６２および第２の反応防止膜５７，５８とギャップ
膜５９，６０が積層形成されている。

【００３６】従って、本実施例の磁気ヘッドにおいて
は、磁気ギャップｇ₁ のギャップ長Ｗ ₁ は第２の反応防
止膜５７，５８とギャップ膜５９，６０の膜厚の和によ
り決定されることとなるが、第２の反応防止膜５７，５
８の膜厚が極薄いものであるため、殆どギャップ膜５
９，６０の膜厚で決定されることとなり、その精度は前
記の実施例と同様に良好なものとなる。そして、本実施
例の磁気ヘッドにおいても、磁気ギャップ形成部分５１
ａ，５２ａ以外の他の部分５１ｂ，５２ｂにおいて、金
属磁性膜５５，５６上に第１，第２の反応防止膜６１，
６２，５７，５８が設けられていることから、該金属磁
性膜５５，５６と融着ガラス６２の反応が防止され、こ
れらの剥離や金属磁性膜の侵食によるトラック幅の減少
といった不都合が生じない。

【００３７】なお、このような磁気ヘッドを製造するに
際しても、前述の磁気ヘッドの製造方法に準じて製造を
行えば良く、磁気コア半体ブロック上に第１の反応防止
膜を形成し、磁気ギャップ形成部分に鏡面加工を行った
後、極薄い膜厚の第２の反応防止膜を形成し、ギャップ
膜を形成し、磁気コア半体ブロック同士の接合を行えば
良い。

【００３８】次に、本実施例の磁気ヘッドの効果を確認
すべく、以下のような実験を行った。 実験例 １ 先ず、金属磁性膜上に設ける反応防止膜の効果について
調査した。すなわち、図１６に示すような金属磁性膜上
に反応防止膜の形成されない磁気ヘッド（磁気ヘッド比
較例サンプル１）を形成し、図１７に示すような金属磁
性膜上全体にわたって反応防止膜が形成されている磁気
ヘッド（磁気ヘッド比較例サンプル２）を特開平４−３
７０５０９号公報に記載される製造方法に従って形成
し、これらの製造工程中における融着ガラスと金属磁性
膜間の剥離、金属磁性膜の融着ガラスとの接触面の侵食
の発生を調査した。その結果、製造工程中の融着ガラス
と金属磁性膜間の剥離の発生率は、磁気ヘッド比較例サ
ンプル１においては１０％、磁気ヘッド比較例サンプル
２においては１％であった。一方、金属磁性膜の侵食
は、磁気ヘッド比較例サンプル１においては観察された
が、磁気ヘッド比較例サンプル２においては観察されな
かった。従って、金属磁性膜上に反応防止膜を設けるこ
とにより、融着ガラスと金属磁性膜間の剥離や金属磁性
膜の侵食が抑えられることが確認された。すなわち、本
実施例の磁気ヘッドにおいても金属磁性膜上に反応防止
膜が設けられていることから同様の効果が期待される。

【００３９】実験例 ２ 本実験例においては、本実施例の磁気ヘッドにおいてギ
ャップ長精度が向上していることを確認する実験を行っ
た。すなわち、図１，２に示すような磁気ギャップ形成
部分にはギャップ膜のみ形成され、他の部分には反応防
止膜とギャップ膜が積層形成される磁気ヘッド（磁気ヘ
ッド実施例サンプル１）を本実施例の磁気ヘッドの製造
方法に従って形成し、磁気ヘッド比較例サンプル２も上
記のように形成し、これらのギャップ長精度を比較し
た。なお、ギャップ長精度は、ギャップ長のずれ量が±
１００オングストローム以上である場合をずれが生じて
いるものとし、その発生率により評価した。その結果、
磁気ヘッド実施例サンプル１のずれの発生率は２％以下
であり、磁気ヘッド比較例サンプル２のずれの発生率は
１５〜２０％であった。このことから、従来の磁気ヘッ
ドの磁気ギャップのギャップ長が反応防止膜とギャップ
膜の膜厚の和で決定されるのに対し、本実施例の磁気ヘ
ッドの磁気ギャップのギャップ長はギャップ膜の膜厚の
みで決定されているために、ギャップ長にずれが生じ難
く、本実施例の磁気ヘッドの磁気ギャップのギャップ長
精度が向上していることが確認された。

【００４０】実験例 ３ 本実験例においては、本実施例の磁気ヘッドの再生特性
が向上していることを確認する実験を行った。本実施例
の磁気ヘッドは、通常ＶＴＲに搭載され、このような磁
気ヘッドにおいては、記録時に隣接トラックの一部に重
ね書きを行ってしまう、いわゆるサイドイレーズが発生
しやすく、このために再生特性が低下しやすい。

【００４１】そこで、上述の磁気ヘッド実施例サンプル
１と磁気ヘッド比較例サンプル２についてサイドイレー
ズ量を測定した。上記サイドイレーズ量は、次のように
して測定した。すなわち、磁気記録再生装置として記録
された信号のトラックピッチが１０μｍとなるように改
造された８ｍｍ用ビデオテープレコーダ（ソニー社製Ｈ
ｉ８（商品名））を用い、磁気記録媒体として（Ｈｉ８
用）蒸着テープを使用し、上記２種類の磁気ヘッドによ
って記録を行った際のサイドイレーズ量をビッターパタ
ーンで測定した。

【００４２】その結果、磁気ヘッド実施例サンプル１に
おいては、図１４に示すように、図中Ｔｐで示されるＡ
チャンネル，Ｂチャンネルの記録トラックのトラックピ
ッチ１０μｍに対して図中Ｅ₁ で示される０．５μｍ以
内のサイドイレーズ量が測定された。一方、磁気ヘッド
比較例サンプルにおいては、図１５に示すように、図中
Ｔｐで示されるＡチャンネル，Ｂチャンネルの記録トラ
ックのトラックピッチ１０μｍに対して図中Ｅ₂ で示さ
れる約２μｍのイレーズ量が測定された。これは、磁気
ヘッド実施例サンプル１は製造工程中に金属磁性膜に対
しても鏡面加工を施しており、磁気ギャップのエッジ部
が明確化されていることから、記録時の該エッジ部から
の漏洩磁界が小さくなり、サイドイレーズが防止されて
いるためと思われる。従って、磁気ヘッド実施例サンプ
ル１においては、良好な再生出力が期待される。

【００４３】そこで、磁気ヘッド実施例サンプル１と磁
気ヘッド比較例サンプル２について再生出力を測定し
た。測定は、周波数を１０ＭＨｚ，２０ＭＨｚとし、速
度を１０ｍ／ｓｅｃとして行った。その結果、磁気ヘッ
ド実施例サンプル１においては、１０ＭＨｚで＋１ｄ
Ｂ、２０ＭＨｚで＋０．８ｄＢという結果が得られ、磁
気ヘッド比較例サンプル２においては、１０ＭＨｚ，２
０ＭＨｚともに０ｄＢという結果が得られた。従って、
本実施例の磁気ヘッドにおいては、サイドイレーズ量が
減少し、このことから再生出力が向上し、再生特性が向
上していることが確認された。

【００４４】すなわち、実験例１〜３の結果から、本実
施例の磁気ヘッドにおいては、金属磁性膜の侵食が発生
せず、磁気ギャップのトラック幅の変動が生じないこ
と、磁気ギャップのギャップ長精度が良好であること、
サイドイレーズが生じ難く、再生が向上していることが
確認された。

【００４５】

【発明の効果】以上の説明からも明らかなように、本発
明は、酸化物磁性材料基板の突き合わせ面に金属磁性膜
が形成されてなる一対の磁気コア半体が、磁気コア半体
の突き合わせ面間に非磁性層よりなる磁気ギャップを形
成して接合一体化されてなる磁気ヘッドにおいて、磁気
ギャップ形成部分における非磁性層の積層数を他の部分
における積層数よりも少なくしており、このとき磁気ギ
ャップ形成部分における非磁性層を１層として該非磁性
層をギャップ膜であるＳｉＯ₂ 膜で構成すると、磁気ギ
ャップのギャップ長精度が良好なものとなり、他の部分
における非磁性層を少なくともギャップ膜であるＳｉＯ
₂ 膜と反応防止膜であるＣｒ膜で構成すると、金属磁性
膜と一対の磁気コア半体の接合の際に使用される融着ガ
ラスの反応が防止され、トラック幅の変動が生じ難い。

【００４６】また、本発明の磁気ヘッドの製造方法にお
いては、酸化物磁性材料基板の突き合わせ面に磁気ギャ
ップのトラック幅を規制するトラック幅規制溝を形成す
る工程と、上記トラック幅規制溝が形成された酸化物磁
性材料基板上に金属磁性膜を被着形成して磁気コア半体
を形成する工程と、上記金属磁性膜上にＣｒよりなる反
応防止膜を形成する工程と、磁気ギャップ形成部分の反
応防止膜を鏡面加工して該反応防止膜を除去する工程
と、トラック幅規制溝内を含む鏡面加工面にＳｉＯ₂ よ
りなるギャップ膜を形成する工程と、一対の磁気コア半
体を接合一体化する工程を有し、反応防止膜に鏡面加工
する際に、その下層の金属磁性膜にも鏡面加工を行う
と、磁気ギャップのエッジ部が明確化され、サイドイレ
ーズが防止され、その結果再生特性が向上する。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明を適用した磁気ヘッドの一実施例を示す
斜視図である。

【図２】本発明を適用した磁気ヘッドの一実施例を示す
要部拡大平面図である。

【図３】本発明を適用した磁気ヘッドの製造方法の実施
例を工程順に示すものであり、ブロックにトラック幅規
制溝を形成する工程を示す斜視図である。

【図４】ブロックに形成されたトラック幅規制溝を示す
要部拡大側面図である。

【図５】ブロックに巻線溝，ガラス溝を形成する工程を
示す斜視図である。

【図６】ブロックを一対のブロック半体に切断する工程
を示す斜視図である。

【図７】ブロック半体に金属磁性膜を形成し、磁気コア
半体ブロックを完成させる工程を示す斜視図である。

【図８】ブロック半体に形成された金属磁性膜近傍を示
す要部拡大側面図である。

【図９】磁気コア半体ブロックの金属磁性膜上に反応防
止膜を形成する工程を示す要部拡大側面図である。

【図１０】反応防止膜に鏡面加工を行う工程を示す要部
拡大側面図である。

【図１１】磁気コア半体ブロック上にギャップ膜を形成
する工程を示す要部拡大側面図である。

【図１２】一対の磁気コア半体ブロックを接合する工程
を示す斜視図である。

【図１３】本発明を適用した磁気ヘッドの他の実施例を
示す要部拡大平面図である。

【図１４】磁気ヘッド実施例サンプル１によって記録を
行った場合の記録パターンを示す模式図である。

【図１５】磁気ヘッド比較例サンプル２によって記録を
行った場合の記録パターンを示す模式図である。

【図１６】従来の磁気ヘッドの一例を示す要部拡大平面
図である。

【図１７】従来の磁気ヘッドの他の例を示す要部拡大平
面図である。

【符号の説明】

１，２，５１，５２・・・・磁気コア半体 １ａ，２ａ，５１ａ，５２ａ・・・・磁気ギャップ形成
部分 １ｂ，２ｂ，５１ｂ，５２ｂ・・・・他の部分 ３，４，５３，５４・・・・酸化物磁性材料基板 ５，６，３１，５５，５６・・・・金属磁性膜 １５，１６，３５，５９，６０・・・・ギャップ膜 １７，１８，３４・・・・反応防止膜 ２６・・・・ブロック ２７・・・トラック幅規制溝 ３３，３６・・・・磁気コア半体ブロック ５７，５８・・・・第２の反応防止膜 ６１，６２・・・・第１の反応防止膜 ｇ₁ ・・・・磁気ギャップ

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 酸化物磁性材料基板の突き合わせ面に金
   属磁性膜が形成されてなる一対の磁気コア半体が、磁気
   コア半体の突き合わせ面間に非磁性層よりなる磁気ギャ
   ップを形成して接合一体化されてなる磁気ヘッドにおい
   て、 磁気ギャップ形成部分における非磁性層の積層数が他の
   部分における積層数よりも少ないことを特徴とする磁気
   ヘッド。
2. 【請求項２】 磁気ギャップ形成部分における非磁性層
   が１層よりなることを特徴とする請求項１記載の磁気ヘ
   ッド。
3. 【請求項３】 磁気ギャップ形成部分における非磁性層
   がギャップ膜であるＳｉＯ₂ 膜よりなり、他の部分にお
   ける非磁性層が少なくともギャップ膜であるＳｉＯ₂ 膜
   と反応防止膜であるＣｒ膜よりなることを特徴とする請
   求項２記載の磁気ヘッド。
4. 【請求項４】 酸化物磁性材料基板の突き合わせ面に磁
   気ギャップのトラック幅を規制するトラック幅規制溝を
   形成する工程と、 上記トラック幅規制溝が形成された酸化物磁性材料基板
   上に金属磁性膜を被着形成して磁気コア半体を形成する
   工程と、 上記金属磁性膜上にＣｒよりなる反応防止膜を形成する
   工程と、 磁気ギャップ形成部分の反応防止膜を鏡面加工して該反
   応防止膜を除去する工程と、 トラック幅規制溝内を含む鏡面加工面にＳｉＯ₂ よりな
   るギャップ膜を形成する工程と、 一対の磁気コア半体を接合一体化する工程を有すること
   を特徴とする磁気ヘッドの製造方法。