JPH07122183A - シャドウマスクの製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】金属基板に適用される水性エッッチングレジス
ト膜の硬度（硬化度）を従来よりも高めることによっ
て、エッチャントの昇温によるレジスト膜の耐熱性及び
耐エッチング性を向上させてエッチング能率を向上させ
ることにある。 【構成】金属基板１表裏のシャドウマスク孔設部相当部
にパターン凹部４，４を形成した後、該金属基板１表側
のパターン凹部４上より水性エッチングレジスト剤と、
続いて半乾燥状態の該水性エッチングレジスト剤上に架
橋硬化剤５とを塗布して第２エッチングレジスト膜６を
形成し、続いて該金属基板１裏側のパターン凹部４をエ
ッチングすることにより該金属基板１表裏のパターン凹
部４，４を導通させて規則的多数の微細な孔設部８を形
成するシャドウマスクの製造方法。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、カラーテレビジョン受
像機に使用されるシャドウマスクをエッチングにより製
造するためのシャドウマスクの製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来のシャドウマスクの製造は、図３
（ａ）に示すように鉄−ニッケル合金等の金属基板１１
に表裏にレジスト液を塗布して第１エッチングレジスト
膜を形成した後、該レジスト膜上にシャドウマスク孔設
部形成用のパターン露光を行い現像処理することによっ
て、該金属基板１１表裏に相対するシャドウマスク孔設
部相当部以外の部分にレジストパターン１２ａを設け、
該金属基板１１表裏にエッチャントＥを吹き付けて第１
エッチングを行い、図３（ｂ）に示すように該金属基板
１１表裏に規則的な配列をもって形成される多数の小孔
状のシャドウマスク孔設部相当部にパターン凹部１４を
形成し、次に図３（ｃ）に示すように前記レジストパタ
ーン１２ａ上よりパターン凹部１４を含めて金属基板１
１表面に油性有機溶媒（特にトリクロロエタンを使用す
る場合が多い）を含む油性のエッチングレジスト剤を塗
布して第２エッチングレジスト膜１３を形成し、続い
て、該金属基板１１裏面より塩化第二鉄等のエッチャン
トＥを吹き付けて第２エッチングを行って、図３（ｄ）
に示すように金属基板１１裏面側の前記パターン凹部１
４をエッチングし、該金属基板１１表裏のパターン凹部
１４，１４を導通させ、図３（ｅ）に示すようにその後
レジストパターン１２ａと第２エッチングレジスト膜１
３を除去することによってシャドウマスク孔設部１８を
形成してシャドウマスクを製造するものである。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】上記従来のシャドウマ
スクの製造方法においては、図３（ｃ）において第２エ
ッチングレジスト膜１３を塗布形成する際に、その第２
エッチングレジスト膜１３を形成するためのエッチング
レジスト剤の塗布溶媒として、脱泡を目的とする乾燥性
を備え且つ引火性の無いトリクロロエタン（例えば１・
１・１−トリクロロエタン）を主成分とする有機溶剤等
が適用されているが、このトリクロロエタンはオゾン層
を破壊するとともに毒性があることから環境公害を引き
起こす問題点がある。

【０００４】また、溶媒に溶解した上記エッチングレジ
スト剤を金属基板１１上よりスプレーコーティング又は
ローラーコーティングした際に、図４（ａ）に示すよう
に、塗布されたエッチングレジスト剤によるエッチング
レジスト膜１３と、金属基板１１のエッチング凹部１４
との間に部分的に不規則な気泡が生じ易く、生じた気泡
が脱泡される以前にエッチングレジスト膜１３が固化す
ると、該レジスト膜１３とエッチング凹部１４との間に
空間部１５となって残存する場合がある。

【０００５】このようにエッチング凹部１４に空間部１
５が残存した状態で図３（ｃ）に示すように金属基板１
１裏面のエッチング凹部１４のエッチングを進行させ
て、金属基板１１表裏のパターン凹部１４，１４を導通
させると、導通時にエッチャントが空間部１５で拡がっ
てしまい、該空間部１５周囲の金属基板１１のエッチン
グ速度が他の部分のエッチング速度よりも速く進行し
て、図４（ｂ）に示すように不必要なエッチング部１８
ａが形成され、エッチング後のシャドウマスク孔設部１
８の開口径は部分的に必要以上に大きくなって、該孔設
部１８の内部形状（断面形状）が不対称形になり易く、
孔設部１８の良好な形状精度が得られないと云う問題点
がある。

【０００６】また、一般に上記エッチングレジスト剤
（第１エッチングレジスト剤、第２エッチングレジスト
剤）を構成する材料は耐熱性が無く、それによって形成
される第１エッチングレジストパターン１２ａ又は第２
エッチングレジスト膜１３は、エッチング速度を速める
ためにエッチャントＥの温度を、例えば６０℃以上に昇
温した場合は変色したり剥離を生じ易くなって耐エッチ
ング性が低下し、エッチャントＥの昇温によってエッチ
ング速度を速めることができないと云う問題点がある。

【０００７】本発明は、金属基板のエッチングによるシ
ャドウマスクの製造に適用されるエッッチングレジスト
膜の全部若しくは一部に水性エッチングレジスト剤を採
用した際における水性エッチングレジスト剤の乾燥硬化
時間を短縮してエッチング能率を向上させ、且つレジス
ト剤の硬化度合をより高めることによって、エッチャン
トの昇温によるレジスト膜の耐熱性及び耐エッチング性
を向上させることにある。

【０００８】

【課題を解決するための手段】本発明の第１の発明は、
金属基板１相対表裏のシャドウマスク孔設部相当部にパ
ターン凹部４，４を形成した後、該金属基板１表側のパ
ターン凹部４上より水性エッチングレジスト剤と、続い
て半乾燥状態の該水性エッチングレジスト剤上に架橋硬
化剤５とを塗布して第２エッチングレジスト膜６を形成
し、続いて該金属基板１裏側のパターン凹部４をエッチ
ングすることにより該金属基板１表裏のパターン凹部
４，４を導通させて規則的多数の微細なシャドウマスク
孔設部８を形成することを特徴とするシャドウマスクの
製造方法である。

【０００９】また本発明の第２の発明は、金属基板１相
対表裏のシャドウマスク孔設部相当部にパターン凹部
４，４を形成した後、該金属基板１表側のパターン凹部
４上より水性エッチングレジスト剤と、続いて半乾燥状
態の該水性エッチングレジスト剤上に架橋硬化剤５とを
塗布して第２エッチングレジスト膜６を形成し、該第２
エッチングレジスト膜６上より水性エッチングレジスト
剤を塗布して第３エッチングレジスト膜７を形成し、続
いて該金属基板１裏側のパターン凹部４をエッチングす
ることにより該金属基板１表裏のパターン凹部４，４を
導通させて規則的多数の微細なシャドウマスク孔設部８
を形成することを特徴とするシャドウマスクの製造方法
である。

【００１０】また本発明は、上記第１の発明又は第２の
発明における前記水性エッチングレジスト剤が、ポリビ
ニルアルコールであることを特徴とするシャドウマスク
の製造方法である。

【００１１】また本発明は、前記ポリビニルアルコール
が、ケン化度８０％〜１００％の変性ポリビニルアルコ
ールであることを特徴とするシャドウマスクの製造方法
である。

【００１２】また本発明は、上記第１の発明又は第２の
発明における前記金属基板１表側のパターン凹部４上に
塗布する前記水性エッチングレジスト剤は、水置換法若
しくはマイクログラビアコート法により塗布することを
特徴とするシャドウマスクの製造方法である。

【００１３】

【実施例】本発明の第１の発明のシャドウマスクの製造
方法を、図１（ａ）〜（ｆ）に示す一実施例に従って詳
細に説明する。上記第１の発明は、金属基板１表裏に油
性若しくは水性のエッチングレジスト液を塗布して第１
エッチングレジスト膜２を形成した後、該レジスト膜２
上にシャドウマスク孔設部形成用のパターン露光３を行
い現像処理して、金属基板１表裏に相対するシャドウマ
スク孔設部相当部以外の部分にレジストパターン２ａを
設け、該金属基板１表裏にエッチャントを吹き付けて第
１エッチングを行って、該金属基板１表裏のシャドウマ
スク孔設部相当部にパターン凹部４を形成し、次に前記
レジストパターン２ａ上よりパターン凹部４を含めて金
属基板１表面に水性エッチングレジスト剤（例えばポリ
ビニルアルコール）を塗布し、続いて半乾燥状態の該水
性エッチングレジスト剤上に架橋硬化剤５を塗布して第
２エッチングレジスト膜６を形成した後、該金属基板１
裏面よりエッチャントを吹き付けて第２エッチングを行
って金属基板１裏面側の前記パターン凹部４をエッチン
グして、該金属基板１表裏のパターン凹部４，４を導通
させてシャドウマスク孔設部８を形成するものである。

【００１４】まず図１（ａ）に示すように、鉄、又は鉄
−ニッケル合金等の金属基板１表裏に、油性エッチング
レジスト剤（溶剤揮散性の油溶性樹脂液）を塗布して第
１エッチングレジスト膜２を形成する。なお、第１エッ
チングレジスト膜２については、上記油性エッチングレ
ジスト剤を使用する以外に、ポリビニルアルコール又は
ポリビニルアルコールを主体とする水性エッチングレジ
スト剤（水性溶媒を使用した水溶性ポリビニルアルコー
ル系樹脂液等）、あるいは水性エッチングレジスト剤と
架橋硬化剤とを用いて形成してもよい。

【００１５】次に、該第１エッチングレジスト膜２上
に、規則的多数の微細なシャドウマスク用孔設部に相当
する遮光パターン部３ａと露光パターン部３ｂとによる
紫外線パターン露光３（マスクパターン露光、又は投影
パターン露光若しくは収束光線走査によるパターン露
光）を行ない、露光パターン部３ｂ領域の第１エッチン
グレジスト膜２を紫外線露光硬化させて水性溶媒に対し
て不溶化する。

【００１６】続いて、上記第１エッチングレジスト膜２
を現像処理して、上記遮光パターン部３ａ領域相当部の
未硬化の第１エッチングレジスト膜２を水性溶媒等にて
溶解して現像除去し、図１（ｂ）に示すように、金属基
板１表裏に相対する前記シャドウマスク用孔設部相当部
以外の部分に露光硬化したレジストパターン２ａを設け
る。

【００１７】次に、上記金属基板１表裏に、塩化第二鉄
等のエッチャントＥを吹き付けて所望のエッチング深度
まで第１エッチングを行い、図１（ｃ）に示すように該
金属基板１表裏のシャドウマスク孔設部相当部に、パタ
ーン凹部４，４を形成する。

【００１８】続いて、図１（ｄ）に示すように、金属基
板１表面に前記レジストパターン２ａ上よりパターン凹
部４を含めてポリビニルアルコール（水性エッチングレ
ジスト剤）を塗布し、続いて半乾燥状態のポリビニルア
ルコール上に架橋硬化剤５を塗布して第２エッチングレ
ジスト膜６を形成する。また必要に応じて該第２エッチ
ングレジスト膜６を紫外線露光により露光硬化させる。

【００１９】そして、同図１（ｄ）、該金属基板１裏面
より、塩化第二鉄等のエッチャントＥを吹き付けて第２
エッチングを行い、図１（ｅ）に示すように、金属基板
１裏面側の前記パターン凹部４を前記第２エッチングレ
ジスト膜６が露呈するまでエッチング継続することによ
り、該金属基板１表裏の前記パターン凹部４，４を導通
させて、シャドウマスク孔設部８を形成する。

【００２０】その後に、エッチングレジストパターン２
ａと第２エッチングレジスト膜６とを、苛性ソーダ等の
アルカリ溶液にて溶解して剥膜除去することによって、
図１（ｆ）に示すように金属基板１に規則的多数の微細
なシャドウマスク孔設部８（電子ビームの通過する小
孔）の孔設されたシャドウマスクを得るものである。

【００２１】本発明の第２の発明のシャドウマスクの製
造方法を、図２（ａ）〜（ｇ）に示す一実施例に従って
詳細に説明する。第２の発明は、鉄−ニッケル合金等の
金属基板１表裏にレジスト液を塗布して第１エッチング
レジスト膜２を形成した後、該レジスト膜２上にシャド
ウマスク孔設部形成用のパターン露光３を行い現像処理
して、金属基板１表裏に相対するシャドウマスク孔設部
相当部以外の部分にレジストパターン２ａを設け、該金
属基板１表裏にエッチャントを吹き付けて第１エッチン
グを行って、該金属基板１表裏のシャドウマスク孔設部
相当部にパターン凹部４を形成し、次に前記レジストパ
ターン２ａ上よりパターン凹部４を含めて金属基板１表
面に水性エッチングレジスト剤を塗布し、続いて半乾燥
状態の水性エッチングレジスト剤上に架橋硬化剤５を塗
布して第２エッチングレジスト膜６を形成した後、該第
２エッチングレジスト膜６上より水性エッチングレジス
ト剤を塗布して第３エッチングレジスト膜７を形成し、
該金属基板１裏面よりエッチャントを吹き付けて第２エ
ッチングを行って金属基板１裏面側の前記パターン凹部
４をエッチングし、該金属基板１表裏のパターン凹部
４，４を導通させてシャドウマスク孔設部８を形成する
ものである。

【００２２】上記第２の発明は、まず上記第１の発明と
同様にして、鉄、又は鉄−ニッケル合金等の金属基板１
表裏に、ポリビニルアルコールを主体とするエッチング
レジスト液を塗布して第１エッチングレジスト膜２を形
成し、そして、該第１エッチングレジスト膜２上に、規
則的多数の微細なシャドウマスク用孔設部に相当する遮
光パターン部３ａと露光パターン部３ｂとによるパター
ン露光３（マスクパターン露光、又は投影パターン露光
若しくは収束光線走査によるパターン露光）を行ない、
露光パターン部３ｂ領域の第１エッチングレジスト膜２
を紫外線露光硬化させて水性溶媒に対して不溶化し、続
いて、上記第１エッチングレジスト膜２を現像処理し
て、上記遮光パターン部３ａ領域相当部の未硬化の第１
エッチングレジスト膜２を水性溶媒等にて溶解して現像
除去し、図２（ａ）に示すように、金属基板１表裏に相
対する前記シャドウマスク用孔設部相当部以外の部分に
紫外線露光硬化したレジストパターン２ａを設ける。

【００２３】次に、上記金属基板１表裏に、塩化第二鉄
等のエッチャントＥを吹き付けて、所望のエッチング深
度まで第１エッチングを行い、図２（ｂ）に示すように
該金属基板１表裏のシャドウマスク孔設部相当部にパタ
ーン凹部４，４を形成する。

【００２４】続いて、図２（ｃ）に示すように、金属基
板１表面に前記レジストパターン２ａ上よりパターン凹
部４を含めてポリビニルアルコール（水性エッチングレ
ジスト剤）を塗布し、続いて半乾燥状態の該ポリビニル
アルコール上に架橋硬化剤５を塗布して第２エッチング
レジスト膜６を形成する。該第２エッチングレジスト膜
６は、必要に応じて紫外線露光硬化させる。

【００２５】続いて、図２（ｄ）に示すように、該第２
エッチングレジスト膜６上より、ポリビニルアルコール
のエッチングレジスト剤を塗布して、第３エッチングレ
ジスト膜７を形成する。第３エッチングレジスト膜７
は、必要に応じて紫外線露光硬化させる。

【００２６】次に、該金属基板１裏面より、塩化第二鉄
等のエッチャントＥを吹き付けて、第２エッチングを行
い、図２（ｅ）に示すように、金属基板１裏面側の前記
パターン凹部４を前記第２エッチングレジスト膜６が露
呈するまでエッチング継続することにより、該金属基板
１表裏の前記パターン凹部４，４を導通させて、シャド
ウマスク孔設部８を形成する。

【００２７】その後に、エッチングレジストパターン２
ａと第２エッチングレジスト膜６と第３エッチングレジ
スト膜７とを、適宜水性溶媒（水、アルコール等）、又
は油性溶媒（トルエン、アセトン等）にて溶解して剥膜
除去することによって、図２（ｆ）に示すように、金属
基板１に規則的多数の微細なシャドウマスク孔設部８
（電子ビームの通過する小孔）の孔設されたシャドウマ
スクを得るものである。

【００２８】本発明の上記第１の発明又は第２の発明に
おいて使用する水性エッチングレジスト剤としての前記
ポリビニルアルコールは、けん化度が８０％〜１００％
の範囲の変性ポリビニルアルコールを使用するものであ
り、特にけん化度１００％（完全けん化）のポリビニル
アルコールを使用することが適当である。

【００２９】また上記第１の発明又は第２の発明におい
て、金属基板１の表面側の前記パターン凹部４を含めて
レジストパターン２ａ上より金属基板１表面に塗布され
る水性エッチングレジスト剤（例えばポリビニルアルコ
ール等の水溶性の光架橋硬化性樹脂、あるいはゼラチ
ン、カゼイン、セルロース、卵白、メタクリル酸樹脂等
の水可溶性のタンパク質や水性樹脂に、硬化剤として重
クロム酸アンモニウム、重クロム酸カリウム等の重クロ
ム酸塩やタンニン酸を用いたもの等）は、水置換法若し
くはマイクログラビアコート法により塗布することが適
当である。

【００３０】また、上記第１の発明又は第２の発明にお
いて、水性エッチングレジスト剤を架橋硬化させる架橋
硬化剤としては、多官能系モノマー（例えばヒドロキシ
メチルメタアクリレート、エチレングリコールジメタク
リレート等の多官能アクリレート系モノマー）、あるい
は６価のクロム塩（重クロム酸アンモニウム、重クロム
酸カリウム等）等が使用でき、架橋硬化剤の塗布は、ス
プレー又はディッピング等により行なうのが適当であ
る。

【００３１】

【作用】本発明の第１の発明のシャドウマスクの製造方
法は、金属基板１表裏に互いに相対するシャドウマスク
孔設部相当部にパターン凹部４，４を形成した後に、該
金属基板１表側のパターン凹部４をポリビニルアルコー
ルと、続いて半乾燥状態の該ポリビニルアルコール上に
架橋硬化剤５を塗布して第２エッチングレジスト膜６を
形成して、該金属基板１裏側のパターン凹部４をエッチ
ングして、該金属基板１表裏のパターン凹部４，４を導
通させてシャドウマスク孔設部８を形成するものであ
り、上記第１の発明は、前記半乾燥状態のポリビニルア
ルコールへの直接的な架橋硬化剤５の塗布によって短時
間で十分な架橋硬化が得られ、６０℃以上に加熱したエ
ッチャントにも十分耐え得る従来よりも強固な耐熱性の
ある第２エッチングレジスト膜６が得られる。

【００３２】また第２の発明のシャドウマスクの製造方
法は、金属基板１表裏に互いに相対するシャドウマスク
孔設部相当部にパターン凹部４，４を形成した後に、該
金属基板１表側のパターン凹部４をポリビニルアルコー
ルと、続いて半乾燥状態の該ポリビニルアルコール上に
架橋硬化剤５を塗布して、第２エッチングレジスト膜
６、続いてポリビニルアルコールを塗布して第３エッチ
ングレジスト膜７を形成し、該金属基板１裏側のパター
ン凹部４をエッチングして該金属基板１表裏のパターン
凹部４，４を導通させてシャドウマスク孔設部８を形成
するものであり、前記半乾燥状態のポリビニルアルコー
ルへの直接的な架橋硬化剤５の塗布によって、短時間で
十分に架橋硬化した第２エッチングレジスト膜６が得ら
れ、特に上記第２の発明は、前記第２エッチングレジス
ト膜６上に第３エッチングレジスト膜７を形成すること
によって、不十分な膜厚の第２エッチングレジスト膜６
の補強膜としての役目を果たし、６０℃以上に加熱した
エッチャントにも十分耐え得る従来よりも強固な耐熱性
のある第２エッチングレジスト膜６が得られる。

【００３３】また、本発明の第１の発明及び第２の発明
のシャドウマスクの製造方法において、特に第２エッチ
ングレジスト膜６を形成するために用いるレジスト剤と
して水性タイプのポリビニルアルコールが用いられるの
で、トリクロロエタン等の油性溶媒を使用しなくても良
い。

【００３４】また、本発明の第１の発明及び第２の発明
のシャドウマスクの製造方法において、該ポリビニルア
ルコールには、けん化度８０％以上、望ましくは１００
％のポリビニルアルコールを使用することによって、ま
た金属基板１表側のパターン凹部４上より該金属基板１
表面に、第２エッチングレジスト膜の形成のために塗布
されるポリビニルアルコールを水置換法若しくはマイク
ログラビアコート法により塗布することによって、第２
エッチングレジスト膜６を形成するためにポリビニルア
ルコールを塗布する際におけるパターン凹部４内に発生
する気泡を減少させる作用が得られ、該気泡に因り発生
するパターン凹部４内の空間部１５（図４（ａ）〜
（ｂ）参照）の発生率と、その大きさを減少させる良好
な作用が得られ、よって精度の良い整った断面形状を備
えたシャドウマスク孔設部８を得ることができる。

【００３５】

【発明の効果】本発明は、水性エッチングレジスト剤と
架橋硬化剤とを用いることによって、短時間で十分に硬
化したエッチングレジスト膜、特に第２エッチングレジ
スト膜を形成でき、トリクロロエタン等の油性溶剤を使
用せずに、水性溶媒を用いて処理できるため環境公害の
発生を防止できる。

【００３６】また、水性エッチングレジスト剤を、水置
換法若しくはマイクログラビアコート法により塗布する
ことによって、また水性エッチングレジスト剤としてポ
リビニルアルコールを使用した場合には、けん化度８０
％以上、望ましくは１００％のポリビニルアルコールを
使用することによって、金属基板エッチング凹部内の第
２エッチングレジスト膜内に生じる気泡を減少でき、エ
ッチングにより導通したシャドウマスク孔設部の形状精
度を向上でき、レジスト膜の耐熱性及び耐エッチング性
の向上、エッチング能率の向上、及びエッチング精度の
向上に効果的である。

【図面の簡単な説明】

【図１】（ａ）〜（ｆ）は本発明のシャドウマスクの製
造方法の一実施例を示す側断面図である。

【図２】（ａ）〜（ｆ）は本発明のシャドウマスクの製
造方法の他の実施例を示す側断面図である。

【図３】（ａ）〜（ｅ）は従来のシャドウマスクの製造
方法を示す側断面図である。

【図４】（ａ）〜（ｂ）は従来のシャドウマスクの製造
方法において生ずる空間部を説明する側断面図である。

【符号の説明】

１…金属基板 ２…第１エッチングレジスト膜 ２ａ…
レジストパターン ３…パターン露光 ３ａ…遮光部 ３ｂ…露光部 ４…
エッチング凹部 ５…架橋硬化剤 ６…第２エッチングレジスト膜 ７…
第３エッチングレジス膜 ８…シャドウマスク孔設部 １１…金属基板 １２ａ…
レジストパターン １３…第２エッチングレジスト膜１４…エッチング凹部
１５…空間部 １８…シャドウマスク孔設部 １８ａ…不必要なエッチ
ング部 Ｅ…エッチャント

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】金属基板１相対表裏のシャドウマスク孔設
   部相当部にパターン凹部４，４を形成した後、該金属基
   板１表側のパターン凹部４上より水性エッチングレジス
   ト剤と、続いて半乾燥状態の該水性エッチングレジスト
   剤上に架橋硬化剤５とを塗布して第２エッチングレジス
   ト膜６を形成し、続いて該金属基板１裏側のパターン凹
   部４をエッチングすることにより該金属基板１表裏のパ
   ターン凹部４，４を導通させて規則的多数の微細なシャ
   ドウマスク孔設部８を形成することを特徴とするシャド
   ウマスクの製造方法。
2. 【請求項２】金属基板１相対表裏のシャドウマスク孔設
   部相当部にパターン凹部４，４を形成した後、該金属基
   板１表側のパターン凹部４上より水性エッチングレジス
   ト剤と、続いて半乾燥状態の該水性エッチングレジスト
   剤上に架橋硬化剤５とを塗布して第２エッチングレジス
   ト膜６を形成し、該第２エッチングレジスト膜６上より
   水性エッチングレジスト剤を塗布して第３エッチングレ
   ジスト膜７を形成し、続いて該金属基板１裏側のパター
   ン凹部４をエッチングすることにより該金属基板１表裏
   のパターン凹部４，４を導通させて規則的多数の微細な
   シャドウマスク孔設部８を形成することを特徴とするシ
   ャドウマスクの製造方法。
3. 【請求項３】前記水性エッチングレジスト剤が、ポリビ
   ニルアルコールである請求項１又は請求項２に記載のシ
   ャドウマスクの製造方法。
4. 【請求項４】前記ポリビニルアルコールが、ケン化度８
   ０％〜１００％の変性ポリビニルアルコールである請求
   項１乃至請求項３に記載のシャドウマスクの製造方法。
5. 【請求項５】前記金属基板１表側のパターン凹部４上に
   水置換法若しくはマイクログラビアコート法により前記
   水性エッチングレジスト剤を塗布する請求項１又は請求
   項２に記載のシャドウマスクの製造方法。