JPS5968148A - シヤドウマスクの製造方法 - Google Patents
シヤドウマスクの製造方法Info
- Publication number
- JPS5968148A JPS5968148A JP17630882A JP17630882A JPS5968148A JP S5968148 A JPS5968148 A JP S5968148A JP 17630882 A JP17630882 A JP 17630882A JP 17630882 A JP17630882 A JP 17630882A JP S5968148 A JPS5968148 A JP S5968148A
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- JP
- Japan
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- shadow mask
- mask material
- exposure
- liquid
- case
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J9/00—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture, installation, removal, maintenance of electric discharge tubes, discharge lamps, or parts thereof; Recovery of material from discharge tubes or lamps
- H01J9/02—Manufacture of electrodes or electrode systems
- H01J9/14—Manufacture of electrodes or electrode systems of non-emitting electrodes
- H01J9/142—Manufacture of electrodes or electrode systems of non-emitting electrodes of shadow-masks for colour television tubes
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- ing And Chemical Polishing (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の技術分野〕
本発明はカラーブラウン管に使用するシャドウマスクの
製造方法に関するものである。
製造方法に関するものである。
最近コンピュータなどの普及に伴い、文字や図形の情報
表示装置として高解像度を有するカラーブラウン管（以
下単に高解像度管と云う）の需要が高１っている。
表示装置として高解像度を有するカラーブラウン管（以
下単に高解像度管と云う）の需要が高１っている。
この高解像度管においては、シャドウマスクに穿設され
る電子ビーム通過孔部のピッチ（以下孔ピッチと云う）
及び電子ビーム通過孔部の孔径が共に家庭用などに一般
に使用されているカラーブラウン管のシャドウマスクに
比較して極めて微細となり、かつ厳密な寸法精度が要求
される。即ち、例えば孔ピッチ０．３喘孔径１４３μｍ
となり、更に漢字表示のためには孔ピツチ０２圏、孔径
９５μｍ程度のものを製作しなければならない。
る電子ビーム通過孔部のピッチ（以下孔ピッチと云う）
及び電子ビーム通過孔部の孔径が共に家庭用などに一般
に使用されているカラーブラウン管のシャドウマスクに
比較して極めて微細となり、かつ厳密な寸法精度が要求
される。即ち、例えば孔ピッチ０．３喘孔径１４３μｍ
となり、更に漢字表示のためには孔ピツチ０２圏、孔径
９５μｍ程度のものを製作しなければならない。
このような寸法精度全厳密に制御する条件としては、先
ず原板ネガパターンの寸法を如何にして純鉄軟鋼板やア
ンバー板などのシャドウマスク素材に被着形成した感光
膜に忠実に再現するかである１、そしてこの忠実な再現
はシャドウマスクの製造工程中の蝕刻工程に入る迄の感
光膜の処理方法が大きなポイン）ｋ占めている。
ず原板ネガパターンの寸法を如何にして純鉄軟鋼板やア
ンバー板などのシャドウマスク素材に被着形成した感光
膜に忠実に再現するかである１、そしてこの忠実な再現
はシャドウマスクの製造工程中の蝕刻工程に入る迄の感
光膜の処理方法が大きなポイン）ｋ占めている。
次に、従来のこの種のシャドウマスクの製造方法の一例
を説明する。
を説明する。
先ず、両主面ｋｍ浄にしたシャドウマスク素材の両主面
にカゼインと重クロム酸アンモニウムを主成分とする感
光液を塗布する感光液塗布工程を行なう。
にカゼインと重クロム酸アンモニウムを主成分とする感
光液を塗布する感光液塗布工程を行なう。
次に１００℃約２．５秒の乾燥工程によυ膜厚約４．５
μｍの感光膜を形成する１、 次に所定のネガパターンを有するネガ原板を密接し、約
５ｋｗの水銀ランプを使用し、約ｌｒｎのところから露
光時間約３０秒間程度露光する露光工程を行なう。
μｍの感光膜を形成する１、 次に所定のネガパターンを有するネガ原板を密接し、約
５ｋｗの水銀ランプを使用し、約ｌｒｎのところから露
光時間約３０秒間程度露光する露光工程を行なう。
次に約４５℃の温水を約１分間スプレィ噴霧し未感光部
、即ち電子ビーム通過孔部形成位置の感光膜な除去し、
シャドウマスク素材の面を露出する現像工程を行なう。
、即ち電子ビーム通過孔部形成位置の感光膜な除去し、
シャドウマスク素材の面を露出する現像工程を行なう。
次に界面活性剤として例えば市販品Ｐ３Ｎｅｘｏ １２
９Ｔ（商品名）の０．２チ溶液を使用して水切りを行な
い、続いて１５０℃約２分間の乾燥工程を行なう。
９Ｔ（商品名）の０．２チ溶液を使用して水切りを行な
い、続いて１５０℃約２分間の乾燥工程を行なう。
次に感光膜を硬化するため、２００℃約２分間のバーユ
ング工程を行なう。
ング工程を行なう。
次に塩化第２鉄溶液を比重１．４６７２、液温６５℃で
両主面にスプレィ噴務し、約８分間腐蝕することにより
所望形状の電子ビーム通過孔部を穿設する腐蝕工程を行
なう。
両主面にスプレィ噴務し、約８分間腐蝕することにより
所望形状の電子ビーム通過孔部を穿設する腐蝕工程を行
なう。
このようなシャドウマスクの製造方法において、特に問
題となるのはバーミング工程などにおいて、第１図に示
すように例えば小孔側ネガ原版寸法（Ｄｌ）全５０μｍ
１大孔側ネガ原版寸法（Ｄ２）を１１０μｍとした場合
、シャドウマスク素材（１）に沿って両主面の感光膜（
２） （３）から未反応の高分子物質であるカゼイン（
４） （５）がそれぞれ（△Ｄｌ）、（△Ｄ２）だけ滲
み出し、この滲み出し量は例えば小孔側ネガ原版寸法（
Ｄｔ）においては両側から計４．４Ｐｍも滲み出すこと
が実験的に確かめられており、またこの滲み出し量も均
一ではなく、ばらつきがある、 つまり、ネガ原版の寸法をそのままシャドウマスク素材
上に再現することは困難であり、このことは後の腐蝕工
程に影響を及ぼし、例えば小孔側ネガ原版寸法（Ｄｌ）
で社ネガ寸法による径よりも８．８％近く小さくなり、
その形状も悪く、極めて品位の低いシャドウマスクしか
得らないと云う問題点があった。
題となるのはバーミング工程などにおいて、第１図に示
すように例えば小孔側ネガ原版寸法（Ｄｌ）全５０μｍ
１大孔側ネガ原版寸法（Ｄ２）を１１０μｍとした場合
、シャドウマスク素材（１）に沿って両主面の感光膜（
２） （３）から未反応の高分子物質であるカゼイン（
４） （５）がそれぞれ（△Ｄｌ）、（△Ｄ２）だけ滲
み出し、この滲み出し量は例えば小孔側ネガ原版寸法（
Ｄｔ）においては両側から計４．４Ｐｍも滲み出すこと
が実験的に確かめられており、またこの滲み出し量も均
一ではなく、ばらつきがある、 つまり、ネガ原版の寸法をそのままシャドウマスク素材
上に再現することは困難であり、このことは後の腐蝕工
程に影響を及ぼし、例えば小孔側ネガ原版寸法（Ｄｌ）
で社ネガ寸法による径よりも８．８％近く小さくなり、
その形状も悪く、極めて品位の低いシャドウマスクしか
得らないと云う問題点があった。
本発明は前述した従来の諸欠点に鑑みなされたものであ
り、蝕刻工程に入るまでの感光膜の処理方法金変えるこ
とにより電子ビーム通過孔部形成位置のシャドウマスク
素材の露出面に残存または滲み出した感光膜を減少させ
る肌出し処理を施しシャドウマスク素材上にネガ原板の
ネガパターンに極めて近い露出面を得ること可能であり
、かつ腐蝕工程における腐蝕液の制御を容易に行なうこ
とが可能なシャドウマスクの製造方法を提供することを
目的としている。
り、蝕刻工程に入るまでの感光膜の処理方法金変えるこ
とにより電子ビーム通過孔部形成位置のシャドウマスク
素材の露出面に残存または滲み出した感光膜を減少させ
る肌出し処理を施しシャドウマスク素材上にネガ原板の
ネガパターンに極めて近い露出面を得ること可能であり
、かつ腐蝕工程における腐蝕液の制御を容易に行なうこ
とが可能なシャドウマスクの製造方法を提供することを
目的としている。
即ち、本発明Ｈシャドウマスク素材の両主面に感光液を
塗布後、乾燥工程、現像工程、バーニングエ稈及び腐蝕
工程を経て多数の電子ビーム通過孔部を穿設するように
なされたシャドウマスクの製造方法において、前記明１
像工程とバーニング工程間に硬膜工程、水洗・水切り工
程を設けると共に前記バーユング工程と腐蝕工程間に肌
出し工程と、この肌出し工程に使用する肌出し液と前記
腐蝕工程に使用する腐蝕液の置換工程を設けたことを特
徴とするシャドウマスクの製造方法である。
塗布後、乾燥工程、現像工程、バーニングエ稈及び腐蝕
工程を経て多数の電子ビーム通過孔部を穿設するように
なされたシャドウマスクの製造方法において、前記明１
像工程とバーニング工程間に硬膜工程、水洗・水切り工
程を設けると共に前記バーユング工程と腐蝕工程間に肌
出し工程と、この肌出し工程に使用する肌出し液と前記
腐蝕工程に使用する腐蝕液の置換工程を設けたことを特
徴とするシャドウマスクの製造方法である。
次に本発明のシャドウマスクの製造方法の一実施例とし
て１４インチ形の高解像度管に使用する孔ピッチ０．２
０冒、電子銃（ＩＩＩ （小孔側）孔径０．１０間螢光
面側（太孔側）孔径０．１８＋ｍｎの電子ビーム通過孔
部を有するシャドウマスクの製造方法全説明する。
て１４インチ形の高解像度管に使用する孔ピッチ０．２
０冒、電子銃（ＩＩＩ （小孔側）孔径０．１０間螢光
面側（太孔側）孔径０．１８＋ｍｎの電子ビーム通過孔
部を有するシャドウマスクの製造方法全説明する。
先ず、拐厚０．１０ｍのアンバー板からなるシャドウマ
スク素材を用意し、このシャドウマスク素材の両主面を
清浄にしたのち、カゼイン金主成分とし、重クロム酸ア
ンモニウムを感光剤として加えた感光液を塗布する感光
液塗布工程を行なう。
スク素材を用意し、このシャドウマスク素材の両主面を
清浄にしたのち、カゼイン金主成分とし、重クロム酸ア
ンモニウムを感光剤として加えた感光液を塗布する感光
液塗布工程を行なう。
次に１００℃約２，５秒の乾燥工程により膜厚約４．５
μｍの感光膜を形成する。
μｍの感光膜を形成する。
次に所定のネガパターンを有するネガ原板を密接し、約
５ｋｗの水銀ランプを使用し、約１ｍのところから露出
時間約３０秒間稈度露光する露光工程を行なう。このネ
ガパターンは螢光面側け１１０１相、電子銃側は５０μ
ｍとなっている。
５ｋｗの水銀ランプを使用し、約１ｍのところから露出
時間約３０秒間稈度露光する露光工程を行なう。このネ
ガパターンは螢光面側け１１０１相、電子銃側は５０μ
ｍとなっている。
次に約４５℃の温純水をスプレィ圧約Ｉ Ｋ９／ｃｒｌ
＝で約１分間処理する現像工程全行なう。更に硬膜処理
液として無水クロム酸約１０％溶液に約３０秒間浸し、
その後純水で約２０秒スプレィ洗浄する。
＝で約１分間処理する現像工程全行なう。更に硬膜処理
液として無水クロム酸約１０％溶液に約３０秒間浸し、
その後純水で約２０秒スプレィ洗浄する。
次に界面活性剤として例えば市販品ＰＨＮｅ Ｘｏ １
２９Ｔ（商品名）の０．鏝溶液を使用して水切りを行な
い、ｉ′１いて１５０℃の雰囲気で約２分間乾燥後、２
００℃の雰囲気で約２分バーユング工程を行なう。
２９Ｔ（商品名）の０．鏝溶液を使用して水切りを行な
い、ｉ′１いて１５０℃の雰囲気で約２分間乾燥後、２
００℃の雰囲気で約２分バーユング工程を行なう。
次にバーユング工程の終了したシャドウマスク累月の表
面に残存する溶出した感光膜を後述する肌出し液をスプ
レィ圧約ＩＫｖ／ａｄで約２０秒間処理する工程を設け
る。
面に残存する溶出した感光膜を後述する肌出し液をスプ
レィ圧約ＩＫｖ／ａｄで約２０秒間処理する工程を設け
る。
この肌出し液としては、例えば蓚酸と過酸化水素水と、
濃硫酸の混液とか、蓚酸と苛性ソーダの混液で処理後過
マンガン酸カリウム溶液で更に処理する安ど種々の方法
が考えられるが、そのうち前者について説明すると、濃
硫酸５０ｃｃ 、蓚酸（固形） １．２５に？、過酸化
水素水（３６チ） ７５０ｃｃ 、純水５０ｔを混合し
て使用する。
濃硫酸の混液とか、蓚酸と苛性ソーダの混液で処理後過
マンガン酸カリウム溶液で更に処理する安ど種々の方法
が考えられるが、そのうち前者について説明すると、濃
硫酸５０ｃｃ 、蓚酸（固形） １．２５に？、過酸化
水素水（３６チ） ７５０ｃｃ 、純水５０ｔを混合し
て使用する。
これら薬剤の作用は濃硫酸が緩衝剤、蓚酸がシャドウマ
スク素材の清浄剤、過酸化水素水は溶出した感光膜中の
カゼインの分解剤となっている。
スク素材の清浄剤、過酸化水素水は溶出した感光膜中の
カゼインの分解剤となっている。
この肌出し工程を加えることにより第２図に示すように
小孔側ネガ原版寸法（ＤＩ）、大孔側ネガ原版寸法（Ｄ
ｚ）をそれぞれ５０ｐｔｔｔ 、 １１０μｍとした場
合、従来の滲み出し量が約２．２μｍあったのに比較し
、本実施例では滲み出し量は皆無となり、ネガ原版寸法
（Ｄｌ）及び（Ｄ２）を忠実に再現することができた。
小孔側ネガ原版寸法（ＤＩ）、大孔側ネガ原版寸法（Ｄ
ｚ）をそれぞれ５０ｐｔｔｔ 、 １１０μｍとした場
合、従来の滲み出し量が約２．２μｍあったのに比較し
、本実施例では滲み出し量は皆無となり、ネガ原版寸法
（Ｄｌ）及び（Ｄ２）を忠実に再現することができた。
但し第２図で第１図と同一符号は同一部分を示し、特に
説明しない。
説明しない。
次にこの肌出し工程において使用した肌出し液が次の腐
蝕工程における腐蝕液例えば塩化第二鉄溶液中に持ち込
まれ腐蝕の制御が困難になるのを防止する肌出し液と腐
蝕液の置換工程を設け、その後腐蝕工程を行なうように
している。この肌出し液の除去方法としては肌出し工程
後一度水洗してから腐蝕工程を行なうことも考えられる
が、実験の結果、この方法はシャドウマスク素材上の水
が腐蝕液に触れた直後腐蝕液の濃度が稀薄となり極めて
活性化され、過度の腐蝕現象を呈し電子ビーム通過孔部
の寸法のばらつきや感光膜の耐酸性劣化の原因と々す、
シャドウマスクとしての品位が極めて悪くなるという結
果が得られているうこの置換工程における腐蝕液として
の塩化第二鉄溶液は約２５℃、比重１，４８５、スプレ
ィ圧Ｉ Ｋｆ／１で約３０秒で完全に置換することがで
きる。
蝕工程における腐蝕液例えば塩化第二鉄溶液中に持ち込
まれ腐蝕の制御が困難になるのを防止する肌出し液と腐
蝕液の置換工程を設け、その後腐蝕工程を行なうように
している。この肌出し液の除去方法としては肌出し工程
後一度水洗してから腐蝕工程を行なうことも考えられる
が、実験の結果、この方法はシャドウマスク素材上の水
が腐蝕液に触れた直後腐蝕液の濃度が稀薄となり極めて
活性化され、過度の腐蝕現象を呈し電子ビーム通過孔部
の寸法のばらつきや感光膜の耐酸性劣化の原因と々す、
シャドウマスクとしての品位が極めて悪くなるという結
果が得られているうこの置換工程における腐蝕液として
の塩化第二鉄溶液は約２５℃、比重１，４８５、スプレ
ィ圧Ｉ Ｋｆ／１で約３０秒で完全に置換することがで
きる。
次に置換工程の終了したシャドウマスク素材に塩化第二
鉄溶液を液温６７℃、比重１．４６７、スプレィ圧を小
孔側（上面）で約１．５ Ｋｙ／ ’ 、大孔側（下面
）で約２．０Ｋｑ／−とし、約１２分間腐蝕して通常の
感光膜除去］：程などを経て所定の電子ビーム通過孔部
が穿設された品位の良好なシャドウマスク（実際にはフ
ラットマヌク）が得られる。
鉄溶液を液温６７℃、比重１．４６７、スプレィ圧を小
孔側（上面）で約１．５ Ｋｙ／ ’ 、大孔側（下面
）で約２．０Ｋｑ／−とし、約１２分間腐蝕して通常の
感光膜除去］：程などを経て所定の電子ビーム通過孔部
が穿設された品位の良好なシャドウマスク（実際にはフ
ラットマヌク）が得られる。
上述のように本発明のシャドウマスクの製造方法によれ
ば、シャドウマスク素材に極めて正確な電子ビーム通過
孔部を穿設することが可能となるので、その工業的価値
は極めて大である。
ば、シャドウマスク素材に極めて正確な電子ビーム通過
孔部を穿設することが可能となるので、その工業的価値
は極めて大である。
第１図は従来のシャドウアスクの製造方法による腐蝕工
程前のシャドウマスク素材上の感光膜の状態を示す説明
図、第２図は本発明のシャドウマスクの製造方法による
腐蝕工程前の感光膜の状態金星す説明図である。 １・・・シャドウマスク素材 ２．３・・・感光膜 ４．５・・・カゼイン代理
人 弁理士 井 上 −男
程前のシャドウマスク素材上の感光膜の状態を示す説明
図、第２図は本発明のシャドウマスクの製造方法による
腐蝕工程前の感光膜の状態金星す説明図である。 １・・・シャドウマスク素材 ２．３・・・感光膜 ４．５・・・カゼイン代理
人 弁理士 井 上 −男
Claims (1)
- シャドウマスク素材の両学部に感光液を塗布後、乾燥工
程、現像工程、バーニング工程及び腐蝕工程を経て多数
の電子ビーム通過孔部を突設するようになされたシャド
ウマスクの製造方法において、前記現像工程とバーニン
グ工程間に硬膜工程、水洗・水切り工程’（ｒ−ｆｊけ
ると共に前記バーニング工程と腐蝕工程間に肌出し工程
と、この肌出し工程に使用する肌出し液と前記腐蝕工程
に使用する腐蝕液の置換工程を設けたことを特徴とする
シャドウマスクの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17630882A JPS5968148A (ja) | 1982-10-08 | 1982-10-08 | シヤドウマスクの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17630882A JPS5968148A (ja) | 1982-10-08 | 1982-10-08 | シヤドウマスクの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5968148A true JPS5968148A (ja) | 1984-04-18 |
Family
ID=16011310
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17630882A Pending JPS5968148A (ja) | 1982-10-08 | 1982-10-08 | シヤドウマスクの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5968148A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04268084A (ja) * | 1991-02-22 | 1992-09-24 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 面出し方法及び装置 |
-
1982
- 1982-10-08 JP JP17630882A patent/JPS5968148A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04268084A (ja) * | 1991-02-22 | 1992-09-24 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 面出し方法及び装置 |
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