JPH07131149A - リフローハンダ付け装置 - Google Patents
リフローハンダ付け装置Info
- Publication number
- JPH07131149A JPH07131149A JP27430893A JP27430893A JPH07131149A JP H07131149 A JPH07131149 A JP H07131149A JP 27430893 A JP27430893 A JP 27430893A JP 27430893 A JP27430893 A JP 27430893A JP H07131149 A JPH07131149 A JP H07131149A
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- Japan
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- reflow
- heating
- local heating
- electronic component
- wiring board
- Prior art date
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- Electric Connection Of Electric Components To Printed Circuits (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】狭ピッチ電子部品であっても、ボディ部への熱
的悪影響を抑制でき、ハンダブリッジを生じさせずに良
好なリフローハンダ付けを行える。 【構成】クリームハンダを介して狭ピッチ電子部品2を
搭載した印刷配線基板1をリフロー炉A内で搬送する。
局部加熱ヘッド7における多数の局部加熱ノズル8によ
り狭ピッチ電子部品2の個々のリードを押し付ける。そ
して、各局部加熱ノズル8より、熱伝導率の高いホット
ヘリウムHeをリードに吹き付けて、リードを印刷配線
基板1にリフローハンダ付けする。
的悪影響を抑制でき、ハンダブリッジを生じさせずに良
好なリフローハンダ付けを行える。 【構成】クリームハンダを介して狭ピッチ電子部品2を
搭載した印刷配線基板1をリフロー炉A内で搬送する。
局部加熱ヘッド7における多数の局部加熱ノズル8によ
り狭ピッチ電子部品2の個々のリードを押し付ける。そ
して、各局部加熱ノズル8より、熱伝導率の高いホット
ヘリウムHeをリードに吹き付けて、リードを印刷配線
基板1にリフローハンダ付けする。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、印刷配線基板に電子部
品を実装するためのリフローハンダ付け装置に係り、特
にリードが狭ピッチ(0.5mm以下)のSMT部品な
どの実装に有効なリフローハンダ付け装置に関するもの
である。
品を実装するためのリフローハンダ付け装置に係り、特
にリードが狭ピッチ(0.5mm以下)のSMT部品な
どの実装に有効なリフローハンダ付け装置に関するもの
である。
【0002】
【従来の技術】図4に従来のリフローハンダ付け装置の
概略構成を示す。図4において、81は印刷配線基板、
82は印刷配線基板81上にクリームハンダを介して搭
載された電子部品、Bはリフロー炉、83,84は予備
加熱部、85はリフロー部、86,87,88はヒータ
ー、89,90,91は吸引式循環機、92は冷却部、
93はコンベヤである。
概略構成を示す。図4において、81は印刷配線基板、
82は印刷配線基板81上にクリームハンダを介して搭
載された電子部品、Bはリフロー炉、83,84は予備
加熱部、85はリフロー部、86,87,88はヒータ
ー、89,90,91は吸引式循環機、92は冷却部、
93はコンベヤである。
【0003】リフロー炉B内のO2 濃度、ヒーター8
6,87,88の温度、コンベヤ93の速度などの条件
を作業者が設定する。電子部品82を搭載した印刷配線
基板81をコンベヤ93にてリフロー炉B内に搬入し、
リフロー炉B内を搬送していく。この過程で、印刷配線
基板81は予備加熱部83,84において予備加熱さ
れ、リフロー部85においてリフローされる。このと
き、吸引式循環機89,90,91による対流の中で、
予備加熱とリフローとが行われる。さらに、電子部品8
2がリフローハンダ付けされた印刷配線基板81は、冷
却部92によって冷却処理され、コンベヤ93によって
リフロー炉Bの外へ搬出される。予備加熱部83,84
およびリフロー部85においては、全体加熱方式での処
理が行われている。
6,87,88の温度、コンベヤ93の速度などの条件
を作業者が設定する。電子部品82を搭載した印刷配線
基板81をコンベヤ93にてリフロー炉B内に搬入し、
リフロー炉B内を搬送していく。この過程で、印刷配線
基板81は予備加熱部83,84において予備加熱さ
れ、リフロー部85においてリフローされる。このと
き、吸引式循環機89,90,91による対流の中で、
予備加熱とリフローとが行われる。さらに、電子部品8
2がリフローハンダ付けされた印刷配線基板81は、冷
却部92によって冷却処理され、コンベヤ93によって
リフロー炉Bの外へ搬出される。予備加熱部83,84
およびリフロー部85においては、全体加熱方式での処
理が行われている。
【0004】図5は上記した従来のリフローハンダ付け
装置の動作を示すフローチャートである。ハンダ付けス
タートを起動し、スタート時に作業者が次の項目を決定
する。各予備加熱部83,84のヒーター86,87の
温度設定、リフロー部85のヒーター88の温度設定、
コンベヤ93の速度設定、O2 濃度の設定である。ステ
ップS31は、上記で決定した各条件を作業者が装置に
対して行う設定作業である。ステップS32で第1のヒ
ーター86の温度設定を実行し、安定するのを待って、
ステップS33で第2のヒーター87の温度設定を実行
し、安定するのを待って、ステップS34でリフロー部
85のヒーター88の温度設定を実行し、安定するのを
待つ。
装置の動作を示すフローチャートである。ハンダ付けス
タートを起動し、スタート時に作業者が次の項目を決定
する。各予備加熱部83,84のヒーター86,87の
温度設定、リフロー部85のヒーター88の温度設定、
コンベヤ93の速度設定、O2 濃度の設定である。ステ
ップS31は、上記で決定した各条件を作業者が装置に
対して行う設定作業である。ステップS32で第1のヒ
ーター86の温度設定を実行し、安定するのを待って、
ステップS33で第2のヒーター87の温度設定を実行
し、安定するのを待って、ステップS34でリフロー部
85のヒーター88の温度設定を実行し、安定するのを
待つ。
【0005】その後、ステップS35でO2 濃度,各ヒ
ーター温度,コンベヤ速度が安定するのを目視で確認す
る。そして、ステップS36で作業者による第1回目の
温度測定を行い、ステップS37で作業者が測定結果で
ある温度と時間の分析・判定を行う。ステップS38で
作業者による第2回目の温度測定を行い、ステップS3
9で作業者が測定結果である温度と時間の分析・判定を
行う。
ーター温度,コンベヤ速度が安定するのを目視で確認す
る。そして、ステップS36で作業者による第1回目の
温度測定を行い、ステップS37で作業者が測定結果で
ある温度と時間の分析・判定を行う。ステップS38で
作業者による第2回目の温度測定を行い、ステップS3
9で作業者が測定結果である温度と時間の分析・判定を
行う。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】従来のリフローハンダ
付け装置では、全体加熱方式のため、加熱媒体(ヒータ
ー)からの全体的な対流という熱源により、リードが狭
ピッチの電子部品はボディもリードも同時に加熱される
ことになる。すなわち、電子部品のボディへの熱的悪影
響を避けることができない。
付け装置では、全体加熱方式のため、加熱媒体(ヒータ
ー)からの全体的な対流という熱源により、リードが狭
ピッチの電子部品はボディもリードも同時に加熱される
ことになる。すなわち、電子部品のボディへの熱的悪影
響を避けることができない。
【0007】また、電子部品のリードの下面に印刷され
ているペーストハンダの成分である溶剤(フラックス)
が伝導熱により軟化するので、リード間全体にフラック
スが流出した状態となる。ハンダ粒子等も流出したフラ
ックスにより運ばれる傾向がある。電子部品の狭ピッチ
化が進むと、ハンダ粒子径を小さくする必要があるた
め、ハンダボールに対する対策が重要となってくる。ま
た、ハンダが固相線から液相線に達してハンダが完全に
溶けた状態になると、リード間には溶融したハンダが広
がってしまった状態となる。
ているペーストハンダの成分である溶剤(フラックス)
が伝導熱により軟化するので、リード間全体にフラック
スが流出した状態となる。ハンダ粒子等も流出したフラ
ックスにより運ばれる傾向がある。電子部品の狭ピッチ
化が進むと、ハンダ粒子径を小さくする必要があるた
め、ハンダボールに対する対策が重要となってくる。ま
た、ハンダが固相線から液相線に達してハンダが完全に
溶けた状態になると、リード間には溶融したハンダが広
がってしまった状態となる。
【0008】また、ハンダは固化時にロジン等の表面張
力によって前記のリード間に広がったハンダが凝集し各
ランドに戻るようになるが、加熱の不均一性やハンダの
活性度や表面張力バランスなどの相乗でハンダブリッジ
が生じるおそれがある。
力によって前記のリード間に広がったハンダが凝集し各
ランドに戻るようになるが、加熱の不均一性やハンダの
活性度や表面張力バランスなどの相乗でハンダブリッジ
が生じるおそれがある。
【0009】さらに、狭ピッチ電子部品(リードピッチ
0.5mm以下)の場合には、リードピッチが狭いこと
やボディ厚が薄くなることにより、良好なハンダ付けが
むずかしいものとなる。
0.5mm以下)の場合には、リードピッチが狭いこと
やボディ厚が薄くなることにより、良好なハンダ付けが
むずかしいものとなる。
【0010】本発明は、このような事情に鑑みて創案さ
れたものであって、狭ピッチ電子部品であっても、ボデ
ィ部への熱的悪影響を抑制できるとともに、ハンダブリ
ッジを生じさせずに良好なリフローハンダ付けが行える
リフローハンダ付け装置を提供することを目的とする。
れたものであって、狭ピッチ電子部品であっても、ボデ
ィ部への熱的悪影響を抑制できるとともに、ハンダブリ
ッジを生じさせずに良好なリフローハンダ付けが行える
リフローハンダ付け装置を提供することを目的とする。
【0011】
【課題を解決するための手段】本発明に係るリフローハ
ンダ付け装置は、狭ピッチ電子部品をクリームハンダを
介して搭載した印刷配線基板をリフロー炉内で搬送しな
がら加熱してリフローを行ってハンダ付けするリフロー
ハンダ付け装置であって、前記狭ピッチ電子部品の各リ
ードのそれぞれに対して局部加熱ヘッドの局部加熱ノズ
ルを接近または当接させ、前記局部加熱ノズルからホッ
トヘリウムを供給することにより、リフローハンダ付け
することを特徴とするものである。
ンダ付け装置は、狭ピッチ電子部品をクリームハンダを
介して搭載した印刷配線基板をリフロー炉内で搬送しな
がら加熱してリフローを行ってハンダ付けするリフロー
ハンダ付け装置であって、前記狭ピッチ電子部品の各リ
ードのそれぞれに対して局部加熱ヘッドの局部加熱ノズ
ルを接近または当接させ、前記局部加熱ノズルからホッ
トヘリウムを供給することにより、リフローハンダ付け
することを特徴とするものである。
【0012】
【作用】各リードごとに局部加熱ノズルを接近または当
接させ、しかも、その局部加熱ノズルから熱伝導率の非
常に高いホットヘリウムを供給することで、狭ピッチ電
子部品のリードを印刷配線基板に対してリフローハンダ
付けするため、狭ピッチ電子部品であっても、ボディ部
への熱的悪影響が抑制され、また、ハンダブリッジを生
じさせずに良好なリフローハンダ付けが行える。
接させ、しかも、その局部加熱ノズルから熱伝導率の非
常に高いホットヘリウムを供給することで、狭ピッチ電
子部品のリードを印刷配線基板に対してリフローハンダ
付けするため、狭ピッチ電子部品であっても、ボディ部
への熱的悪影響が抑制され、また、ハンダブリッジを生
じさせずに良好なリフローハンダ付けが行える。
【0013】
【実施例】以下、本発明に係るリフローハンダ付け装置
の一実施例を図面に基づいて詳細に説明する。
の一実施例を図面に基づいて詳細に説明する。
【0014】図1は実施例に係る狭ピッチ電子部品(S
MT部品)対応のリフローハンダ付け装置の構造を示す
斜視図、図2はそのリフローハンダ付け装置の概略構成
を示す側面図である。
MT部品)対応のリフローハンダ付け装置の構造を示す
斜視図、図2はそのリフローハンダ付け装置の概略構成
を示す側面図である。
【0015】これらの図において、1は印刷配線基板、
2は印刷配線基板1上にクリームハンダを介して搭載さ
れたリードが狭ピッチの電子部品、Aはリフロー炉、A
1は局部加熱部、A2は全体加熱部である。3は基板搬
送用のコンベヤ、4は基板搬入側のシャッタ、5はO2
排気口、6は不活性ガス(ヘリウムHe)の供給口、7
は局部加熱ヘッド、8は局部加熱ノズル、9は予備ノズ
ル、10は加熱ヘッド昇降装置である。このような局部
加熱ユニットが2つ並設されている。11は耐熱ガラ
ス、12は温度センサー、13は赤外線カメラである。
温度センサー12と赤外線カメラ13は耐熱ガラス11
内に封入されている。このような測温ユニットが上下に
一対配置されている。14は冷却装置、15は基板位置
決めストッパーである。
2は印刷配線基板1上にクリームハンダを介して搭載さ
れたリードが狭ピッチの電子部品、Aはリフロー炉、A
1は局部加熱部、A2は全体加熱部である。3は基板搬
送用のコンベヤ、4は基板搬入側のシャッタ、5はO2
排気口、6は不活性ガス(ヘリウムHe)の供給口、7
は局部加熱ヘッド、8は局部加熱ノズル、9は予備ノズ
ル、10は加熱ヘッド昇降装置である。このような局部
加熱ユニットが2つ並設されている。11は耐熱ガラ
ス、12は温度センサー、13は赤外線カメラである。
温度センサー12と赤外線カメラ13は耐熱ガラス11
内に封入されている。このような測温ユニットが上下に
一対配置されている。14は冷却装置、15は基板位置
決めストッパーである。
【0016】16は再溶融防止シールド治具加工装置、
17は分割治具部押し棒、18は熱負荷・再溶融防止一
体型治具板、19は熱負荷・再溶融防止一体型治具板1
8をヒーターに対してセッティングするときのスライド
経路である。
17は分割治具部押し棒、18は熱負荷・再溶融防止一
体型治具板、19は熱負荷・再溶融防止一体型治具板1
8をヒーターに対してセッティングするときのスライド
経路である。
【0017】20は全体加熱用移動ヒーターであり、コ
ンベヤ3の上下においてそれぞれ循環移動するように配
置されている。21は耐熱ガラス、22は温度センサ
ー、23は赤外線カメラである。温度センサー22と赤
外線カメラ23は耐熱ガラス21内に封入されている。
このような測温ユニットが上下に一対配置されている。
ンベヤ3の上下においてそれぞれ循環移動するように配
置されている。21は耐熱ガラス、22は温度センサ
ー、23は赤外線カメラである。温度センサー22と赤
外線カメラ23は耐熱ガラス21内に封入されている。
このような測温ユニットが上下に一対配置されている。
【0018】24は冷却装置、25は出口側のシャッタ
である。
である。
【0019】30はパーソナルコンピュータ(パソコ
ン)であり、これには、データ入力部31、比較・判定
部32、第1メモリ部33、第2メモリ部34および補
正データ部35が含まれている。
ン)であり、これには、データ入力部31、比較・判定
部32、第1メモリ部33、第2メモリ部34および補
正データ部35が含まれている。
【0020】次に、図3に示すフローチャートを参照し
ながら動作を説明する。
ながら動作を説明する。
【0021】本実施例の狭ピッチ電子部品用のリフロー
ハンダ付け装置は、実際の製造過程に入る前に、リフロ
ー炉A内における不活性ガス(He)による雰囲気の状
態、局部加熱部A1や全体加熱部A2のトータルな状況
などを含めてハンダ付けを最適に行うための条件を、パ
ソコン30を用いて分析・判定させる。そのため、生産
のスタート時において、次のようなデータをデータ入力
部31より入力し第1メモリ部33に格納しておく。す
なわち、O2 濃度、印刷配線基板の材質(紙フェノー
ル,ガラスエポキシその他)、基板の大きさ(縦×横×
厚み)、目標搭載部品である狭ピッチ電子部品のリード
ピッチ,ピン数,ランド面積,ボディ材質,リード材
質,部品点数,XY座標、基準温度(予熱温度,リフロ
ー温度,時間の規定)などのデータを入力する(ステッ
プS1)。
ハンダ付け装置は、実際の製造過程に入る前に、リフロ
ー炉A内における不活性ガス(He)による雰囲気の状
態、局部加熱部A1や全体加熱部A2のトータルな状況
などを含めてハンダ付けを最適に行うための条件を、パ
ソコン30を用いて分析・判定させる。そのため、生産
のスタート時において、次のようなデータをデータ入力
部31より入力し第1メモリ部33に格納しておく。す
なわち、O2 濃度、印刷配線基板の材質(紙フェノー
ル,ガラスエポキシその他)、基板の大きさ(縦×横×
厚み)、目標搭載部品である狭ピッチ電子部品のリード
ピッチ,ピン数,ランド面積,ボディ材質,リード材
質,部品点数,XY座標、基準温度(予熱温度,リフロ
ー温度,時間の規定)などのデータを入力する(ステッ
プS1)。
【0022】狭ピッチ電子部品についての上記のような
入力データに基づいて、局部加熱ノズル8の移動および
位置決めを自動的に行う。また、対象となる狭ピッチ電
子部品をシールド保護するため、前記の入力データに基
づいて、再溶融防止シールド治具加工装置16における
分割治具部押し棒17を動作させ、印刷配線基板1上に
クリームハンダを介して搭載されている狭ピッチ電子部
品2の配置に合わせて、熱負荷・再溶融防止一体型治具
板18の加工を行う。この加工が完了した再溶融防止シ
ールド治具加工装置16はスライド経路19に沿って自
動的にスライド移動し、全体加熱部A2における全体加
熱用移動ヒーター20に対してセッティングする。これ
と並行して、O2 排気口5より酸化の要因であるO2 を
リフロー炉Aから排出するとともに、不活性ガス供給口
6よりヘリウムHeをリフロー炉A内に供給する。酸素
レス雰囲気で、ヘリウムHeによる雰囲気が安定した後
は、予めパソコン30に登録してある物質との材質の違
いによる熱伝導率データおよび前記入力データを加味し
た演算処理を行い、局部加熱部A1についての加熱時の
温度上昇カーブを推測する。さらに、これと並行して、
前記入力データに基づいて全体加熱部A2における全体
加熱用移動ヒーター20についての加熱時の温度上昇カ
ーブを推測する。そして、前記入力データのうちの基準
温度条件(予熱温度,リフロー温度,時間の規定)のデ
ータと前記の推測データとの比較・分析を行い、これに
より、この時点での最適条件(局部加熱部A1および全
体加熱部A2の温度条件、コンベヤ3の速度)が決定さ
れることになる(以上、ステップS2)。
入力データに基づいて、局部加熱ノズル8の移動および
位置決めを自動的に行う。また、対象となる狭ピッチ電
子部品をシールド保護するため、前記の入力データに基
づいて、再溶融防止シールド治具加工装置16における
分割治具部押し棒17を動作させ、印刷配線基板1上に
クリームハンダを介して搭載されている狭ピッチ電子部
品2の配置に合わせて、熱負荷・再溶融防止一体型治具
板18の加工を行う。この加工が完了した再溶融防止シ
ールド治具加工装置16はスライド経路19に沿って自
動的にスライド移動し、全体加熱部A2における全体加
熱用移動ヒーター20に対してセッティングする。これ
と並行して、O2 排気口5より酸化の要因であるO2 を
リフロー炉Aから排出するとともに、不活性ガス供給口
6よりヘリウムHeをリフロー炉A内に供給する。酸素
レス雰囲気で、ヘリウムHeによる雰囲気が安定した後
は、予めパソコン30に登録してある物質との材質の違
いによる熱伝導率データおよび前記入力データを加味し
た演算処理を行い、局部加熱部A1についての加熱時の
温度上昇カーブを推測する。さらに、これと並行して、
前記入力データに基づいて全体加熱部A2における全体
加熱用移動ヒーター20についての加熱時の温度上昇カ
ーブを推測する。そして、前記入力データのうちの基準
温度条件(予熱温度,リフロー温度,時間の規定)のデ
ータと前記の推測データとの比較・分析を行い、これに
より、この時点での最適条件(局部加熱部A1および全
体加熱部A2の温度条件、コンベヤ3の速度)が決定さ
れることになる(以上、ステップS2)。
【0023】次に、以上のようにして決定された最適条
件をベースにして複数回のシミュレーションを実施す
る。O2 濃度の設定を実行し(ステップS3)、安定す
るのを待って、局部加熱ヘッド7の温度設定を実行し
(ステップS4)、安定するのを待って、全体加熱部A
2の全体加熱用移動ヒーター20の温度設定を実行し
(ステップS5)、安定するのを待って、コンベヤ3の
速度設定を実行し(ステップS6)、安定するのを待
つ。
件をベースにして複数回のシミュレーションを実施す
る。O2 濃度の設定を実行し(ステップS3)、安定す
るのを待って、局部加熱ヘッド7の温度設定を実行し
(ステップS4)、安定するのを待って、全体加熱部A
2の全体加熱用移動ヒーター20の温度設定を実行し
(ステップS5)、安定するのを待って、コンベヤ3の
速度設定を実行し(ステップS6)、安定するのを待
つ。
【0024】次に、1回目のシミュレーションに入る。
狭ピッチ電子部品2を搭載した印刷配線基板1を自動的
にコンベヤ3にてリフロー炉A内に搬入し、リフロー炉
A内を搬送していく。搬入後には、基板位置決めストッ
パー15が印刷配線基板1を位置決めする。加熱ヘッド
昇降装置10が動作して局部加熱ヘッド7が下降する。
不活性ガス供給口6から供給されたヘリウムHeが局部
加熱ヘッド7によって加熱され、そのホットヘリウムH
eを局部加熱ヘッド7における多数の局部加熱ノズル8
から狭ピッチ電子部品2の各リードに吹き付け、これら
リードを局部加熱し、リードをハンダ付けする。各リー
ドごとの加熱方法であるため、狭ピッチ電子部品2のボ
ディに対する直接的な熱的悪影響がない。また、酸化要
因をもたないヘリウムHeを加熱媒体としているため、
ハンダに対して効率良く活性を与えることができる。熱
伝導率の点でも、従来の窒素N2 と本実施例のヘリウム
Heとの比較では、窒素N2 が286kcal/mh3
50℃であるのに対し、ヘリウムHeは1649kca
l/mh350℃と、約5.7倍もヘリウムHeの方が
熱伝導に優れている。また、ヘリウムHeの方が熱伝導
率が高いので、リードに吹き付けるホットヘリウムHe
も短時間で温度上昇し、その使用量は少なくてすむとと
もに、処理時間も短くてすむ。このように、熱伝導特性
のすぐれたヘリウムHeと局部加熱ノズル8による局部
加熱との組み合わせにより、狭ピッチ電子部品2のリー
ドに対するハンダ付けが可能となる。
狭ピッチ電子部品2を搭載した印刷配線基板1を自動的
にコンベヤ3にてリフロー炉A内に搬入し、リフロー炉
A内を搬送していく。搬入後には、基板位置決めストッ
パー15が印刷配線基板1を位置決めする。加熱ヘッド
昇降装置10が動作して局部加熱ヘッド7が下降する。
不活性ガス供給口6から供給されたヘリウムHeが局部
加熱ヘッド7によって加熱され、そのホットヘリウムH
eを局部加熱ヘッド7における多数の局部加熱ノズル8
から狭ピッチ電子部品2の各リードに吹き付け、これら
リードを局部加熱し、リードをハンダ付けする。各リー
ドごとの加熱方法であるため、狭ピッチ電子部品2のボ
ディに対する直接的な熱的悪影響がない。また、酸化要
因をもたないヘリウムHeを加熱媒体としているため、
ハンダに対して効率良く活性を与えることができる。熱
伝導率の点でも、従来の窒素N2 と本実施例のヘリウム
Heとの比較では、窒素N2 が286kcal/mh3
50℃であるのに対し、ヘリウムHeは1649kca
l/mh350℃と、約5.7倍もヘリウムHeの方が
熱伝導に優れている。また、ヘリウムHeの方が熱伝導
率が高いので、リードに吹き付けるホットヘリウムHe
も短時間で温度上昇し、その使用量は少なくてすむとと
もに、処理時間も短くてすむ。このように、熱伝導特性
のすぐれたヘリウムHeと局部加熱ノズル8による局部
加熱との組み合わせにより、狭ピッチ電子部品2のリー
ドに対するハンダ付けが可能となる。
【0025】次に、赤外線カメラ13によって、局部加
熱の終了した印刷配線基板1の表面温度と裏面温度の分
布を測定する(ステップS7)。なお、この赤外線カメ
ラ13は耐熱ガラス11で覆われており、耐熱ガラス1
1内には図示しない冷却ノズルより冷却空気を供給する
ことで赤外線カメラ13を冷却している。上記のように
ハンダ付け直後に温度測定されたデータはパソコン30
へ伝送され、データ入力部31より第1メモリ部33に
格納され、比較・判定部32において先の最適条件とし
ての温度データと比較・判定され、その結果、補正デー
タ部35から適当な補正データがフィードバック的に出
力される(ステップS8)。赤外線カメラ13での測温
の終了した印刷配線基板1は冷却装置14に送られて冷
却され、確実で信頼性の高いハンダ付けが行われること
となる。
熱の終了した印刷配線基板1の表面温度と裏面温度の分
布を測定する(ステップS7)。なお、この赤外線カメ
ラ13は耐熱ガラス11で覆われており、耐熱ガラス1
1内には図示しない冷却ノズルより冷却空気を供給する
ことで赤外線カメラ13を冷却している。上記のように
ハンダ付け直後に温度測定されたデータはパソコン30
へ伝送され、データ入力部31より第1メモリ部33に
格納され、比較・判定部32において先の最適条件とし
ての温度データと比較・判定され、その結果、補正デー
タ部35から適当な補正データがフィードバック的に出
力される(ステップS8)。赤外線カメラ13での測温
の終了した印刷配線基板1は冷却装置14に送られて冷
却され、確実で信頼性の高いハンダ付けが行われること
となる。
【0026】その印刷配線基板1は、引き続いてコンベ
ヤ3により全体加熱部A2へと自動的に搬入される。全
体加熱用移動ヒーター20は回路ブロック別加熱が行え
る構造をもっている。多数の縦横に配列されたノズル状
熱風噴出口を有している。そして、すでに局部加熱部A
1においてリードがハンダ付けされた狭ピッチ電子部品
2に対する熱負荷印加と再溶融を防止する構造を伴って
いる。それが再溶融防止シールド治具加工装置16であ
る。また、他の電子部品2に対しては均一加熱の機能を
備えている。
ヤ3により全体加熱部A2へと自動的に搬入される。全
体加熱用移動ヒーター20は回路ブロック別加熱が行え
る構造をもっている。多数の縦横に配列されたノズル状
熱風噴出口を有している。そして、すでに局部加熱部A
1においてリードがハンダ付けされた狭ピッチ電子部品
2に対する熱負荷印加と再溶融を防止する構造を伴って
いる。それが再溶融防止シールド治具加工装置16であ
る。また、他の電子部品2に対しては均一加熱の機能を
備えている。
【0027】上下の全体加熱用移動ヒーター20はとも
に、コンベヤ3による印刷配線基板1の搬送方向と同一
の方向に循環するようになっている。その循環の過程に
おいて、全体加熱用移動ヒーター20は印刷配線基板1
に対して回路ブロック別加熱を行う。すなわち、リフロ
ーハンダ付けの中で最も重要な工程の一つである予備加
熱を効率良く行うためである。予備加熱が正しく行われ
るか否かでハンダ付けの良否が決定されるといっても過
言ではない。
に、コンベヤ3による印刷配線基板1の搬送方向と同一
の方向に循環するようになっている。その循環の過程に
おいて、全体加熱用移動ヒーター20は印刷配線基板1
に対して回路ブロック別加熱を行う。すなわち、リフロ
ーハンダ付けの中で最も重要な工程の一つである予備加
熱を効率良く行うためである。予備加熱が正しく行われ
るか否かでハンダ付けの良否が決定されるといっても過
言ではない。
【0028】リフローハンダの場合、ペースト状フラッ
クス(天然・合成樹脂+溶剤+増粘剤+チクソ剤+活性
剤)とハンダ粉末を混練したものを使用する。フラック
スの主成分である天然・合成樹脂とは松ヤニと活性化さ
せたロジンを示し、これは部品固定のための粘性機材で
もあるが、ほかに酸化銅の洗浄作用やリフローときのハ
ンダ付け部の再酸化防止機能も有する。さらに、溶剤
(カルビトール系,エーテル系)を用いて調整を行う。
次に、ハンダ粉末とフラックス分離抑制とチクソ性の向
上のために、増粘剤とチクソ剤を付与し、さらにハンダ
付け性の向上のために活性剤を添加する。
クス(天然・合成樹脂+溶剤+増粘剤+チクソ剤+活性
剤)とハンダ粉末を混練したものを使用する。フラック
スの主成分である天然・合成樹脂とは松ヤニと活性化さ
せたロジンを示し、これは部品固定のための粘性機材で
もあるが、ほかに酸化銅の洗浄作用やリフローときのハ
ンダ付け部の再酸化防止機能も有する。さらに、溶剤
(カルビトール系,エーテル系)を用いて調整を行う。
次に、ハンダ粉末とフラックス分離抑制とチクソ性の向
上のために、増粘剤とチクソ剤を付与し、さらにハンダ
付け性の向上のために活性剤を添加する。
【0029】前記のフラックスの調整剤としては、印刷
配線基板1に対して銅箔面に自動的に塗布することによ
りペースト状になっていた方が都合が良いことから、溶
剤を使用している。そのため、予備加熱で余分な溶剤は
揮発させ、リフロー時に残留した溶剤による飛散などの
発生がないようにし、また、部品,基板に対してリフロ
ー時の急激な加熱に起因して起こる曲がりや反りや微小
クラックなどの問題を防止するようにしている。
配線基板1に対して銅箔面に自動的に塗布することによ
りペースト状になっていた方が都合が良いことから、溶
剤を使用している。そのため、予備加熱で余分な溶剤は
揮発させ、リフロー時に残留した溶剤による飛散などの
発生がないようにし、また、部品,基板に対してリフロ
ー時の急激な加熱に起因して起こる曲がりや反りや微小
クラックなどの問題を防止するようにしている。
【0030】以上のようなことから、予備加熱が効率良
く行われていないと良好なハンダ付けがむずかしくな
る。本実施例では、回路ブロック別加熱もさることなが
ら、従来の窒素N2 に比べてはるかに熱伝導率の高いヘ
リウムHeを使用しているので、均一加熱性が充分に高
いものとなる。
く行われていないと良好なハンダ付けがむずかしくな
る。本実施例では、回路ブロック別加熱もさることなが
ら、従来の窒素N2 に比べてはるかに熱伝導率の高いヘ
リウムHeを使用しているので、均一加熱性が充分に高
いものとなる。
【0031】予備加熱が行われた印刷配線基板1はコン
ベヤ3により終端のリフロー部へと搬入されるととも
に、全体加熱用移動ヒーター20によって均一に加熱さ
れる。
ベヤ3により終端のリフロー部へと搬入されるととも
に、全体加熱用移動ヒーター20によって均一に加熱さ
れる。
【0032】リフロー工程では、適当な温度(均一加熱
度)と時間によって、ハンダ中のスズ(Sn)が母材金
属に対して拡散する現象により金属間化合物層が生成さ
れる。
度)と時間によって、ハンダ中のスズ(Sn)が母材金
属に対して拡散する現象により金属間化合物層が生成さ
れる。
【0033】つまり、金属間化合物層の形成の度合い
は、特に温度的な要因(均一加熱)が重要となる。本実
施例では、不活性ガスとしてのヘリウムHeを予備加熱
およびリフローにおいて、ホットヘリウムHeを用いた
回路ブロック別加熱を行うので、一層効率の良い均一加
熱が行える。すなわち、熱伝導率が良い分、電子部品2
に対する加熱時間が短くてよく、かつ、吹き付け量も少
なくてよい。したがって、電子部品2に与えるダメージ
を大幅に軽減することができる。また、均一加熱により
金属間化合物層の形成度合いも向上し、品質の良いハン
ダ付けが可能となる。
は、特に温度的な要因(均一加熱)が重要となる。本実
施例では、不活性ガスとしてのヘリウムHeを予備加熱
およびリフローにおいて、ホットヘリウムHeを用いた
回路ブロック別加熱を行うので、一層効率の良い均一加
熱が行える。すなわち、熱伝導率が良い分、電子部品2
に対する加熱時間が短くてよく、かつ、吹き付け量も少
なくてよい。したがって、電子部品2に与えるダメージ
を大幅に軽減することができる。また、均一加熱により
金属間化合物層の形成度合いも向上し、品質の良いハン
ダ付けが可能となる。
【0034】リフロー部でのハンダ付けが完了すると、
リフロー部の後方にある赤外線カメラ23によってリフ
ロー直後の印刷配線基板1の表面温度と裏面温度の分布
を測定する(ステップS7)。なお、この赤外線カメラ
23も耐熱ガラス21で覆われており、耐熱ガラス21
内には図示しない冷却ノズルより冷却空気を供給するこ
とで赤外線カメラ23を冷却している。上記のようにリ
フロー直後に温度測定されたデータはパソコン30へ伝
送され、データ入力部31より第1メモリ部33に格納
され、比較・判定部32において先の最適条件としての
温度データと比較・判定され、その結果、補正データ部
35から適当な補正データがフィードバック的に出力さ
れる(ステップS8)。赤外線カメラ23での測温の終
了した印刷配線基板1は冷却装置24に送られて冷却さ
れ、さらにリフロー炉Aの外側へと搬出される。以上に
よって、リフローハンダ付けの1回目のシミュレーショ
ンが終了する。
リフロー部の後方にある赤外線カメラ23によってリフ
ロー直後の印刷配線基板1の表面温度と裏面温度の分布
を測定する(ステップS7)。なお、この赤外線カメラ
23も耐熱ガラス21で覆われており、耐熱ガラス21
内には図示しない冷却ノズルより冷却空気を供給するこ
とで赤外線カメラ23を冷却している。上記のようにリ
フロー直後に温度測定されたデータはパソコン30へ伝
送され、データ入力部31より第1メモリ部33に格納
され、比較・判定部32において先の最適条件としての
温度データと比較・判定され、その結果、補正データ部
35から適当な補正データがフィードバック的に出力さ
れる(ステップS8)。赤外線カメラ23での測温の終
了した印刷配線基板1は冷却装置24に送られて冷却さ
れ、さらにリフロー炉Aの外側へと搬出される。以上に
よって、リフローハンダ付けの1回目のシミュレーショ
ンが終了する。
【0035】次に、2回目のシミュレーションに移る。
1回目のシミュレーションの判定データを基にして、測
定データとの比較・判定後、次の最適条件を決定する。
上記と同様に、局部加熱ヘッド7の温度設定を実行し
(ステップS9)、安定するのを待って、全体加熱部A
2の全体加熱用移動ヒーター20の温度設定を実行し
(ステップS10)、安定するのを待って、コンベヤ3
の速度設定を実行し(ステップS11)、安定するのを
待つ。そして、再び、狭ピッチ電子部品2を搭載した印
刷配線基板1を自動的にコンベヤ3にてリフロー炉A内
に搬入し、リフロー炉A内を搬送していく。前記と同様
にして、局部加熱部A1と全体加熱部A2とでハンダ付
けが行われ、シミュレーションは終了し、最終目的であ
る最適条件が分析・判定されることとなる。
1回目のシミュレーションの判定データを基にして、測
定データとの比較・判定後、次の最適条件を決定する。
上記と同様に、局部加熱ヘッド7の温度設定を実行し
(ステップS9)、安定するのを待って、全体加熱部A
2の全体加熱用移動ヒーター20の温度設定を実行し
(ステップS10)、安定するのを待って、コンベヤ3
の速度設定を実行し(ステップS11)、安定するのを
待つ。そして、再び、狭ピッチ電子部品2を搭載した印
刷配線基板1を自動的にコンベヤ3にてリフロー炉A内
に搬入し、リフロー炉A内を搬送していく。前記と同様
にして、局部加熱部A1と全体加熱部A2とでハンダ付
けが行われ、シミュレーションは終了し、最終目的であ
る最適条件が分析・判定されることとなる。
【0036】以上、詳述したように、本実施例によれ
ば、 (1)狭ピッチ電子部品(SMT部品:リードピッチ
0.5mm以下)のハンダ付けが可能となる。
ば、 (1)狭ピッチ電子部品(SMT部品:リードピッチ
0.5mm以下)のハンダ付けが可能となる。
【0037】(2)リードを局部加熱ノズル8で押さえ
るため、リードの浮き上がりを防止することができる。
るため、リードの浮き上がりを防止することができる。
【0038】(3)局部加熱方式をとったため、電子部
品2のボディ部に対する熱的悪影響が少ない。
品2のボディ部に対する熱的悪影響が少ない。
【0039】(4)加熱媒体として熱伝導率の非常に高
いヘリウムHeを用いたので、ハンダ部に対する熱伝導
性が良く、均一加熱が可能となる。
いヘリウムHeを用いたので、ハンダ部に対する熱伝導
性が良く、均一加熱が可能となる。
【0040】(5)シミュレーションシステムを採用し
ているので、従来は温度管理が困難であったリフローハ
ンダ付け装置において、最適条件に近づけることができ
る。
ているので、従来は温度管理が困難であったリフローハ
ンダ付け装置において、最適条件に近づけることができ
る。
【0041】(6)ハンダ付けの基礎データを入力する
ことにより、条件が異なるハンダ付けであっても、最適
条件に近づけることができる。
ことにより、条件が異なるハンダ付けであっても、最適
条件に近づけることができる。
【0042】(7)局部加熱方式を採用しているため、
ハンダブリッジの発生がない。
ハンダブリッジの発生がない。
【0043】(8)局部加熱方式を採用しているため、
ハンダボールの発生がない。
ハンダボールの発生がない。
【0044】(9)局部加熱方式を採用しているため、
TABやプラスチックパッケージなどへの対応も容易で
ある。
TABやプラスチックパッケージなどへの対応も容易で
ある。
【0045】(10)局部加熱方式のみによるリフロー
ハンダ付け装置としても使用できるし、全体加熱方式の
みによるリフローハンダ付け装置としても使用できる。
ハンダ付け装置としても使用できるし、全体加熱方式の
みによるリフローハンダ付け装置としても使用できる。
【0046】
【発明の効果】以上のように、本発明によれば、狭ピッ
チ電子部品であっても、ボディ部への熱的悪影響を抑制
できるとともに、ハンダブリッジを生じさせない良好な
状態で電子部品を印刷配線基板にリフローハンダ付けす
ることができる。
チ電子部品であっても、ボディ部への熱的悪影響を抑制
できるとともに、ハンダブリッジを生じさせない良好な
状態で電子部品を印刷配線基板にリフローハンダ付けす
ることができる。
【図1】本発明の一実施例に係る狭ピッチ電子部品対応
のリフローハンダ付け装置の構造を示す斜視図である。
のリフローハンダ付け装置の構造を示す斜視図である。
【図2】実施例のリフローハンダ付け装置の概略構成図
である。
である。
【図3】実施例のリフローハンダ付け装置の動作説明に
供するフローチャートである。
供するフローチャートである。
【図4】従来のリフローハンダ付け装置を示す概略構成
図である。
図である。
【図5】従来のリフローハンダ付け装置の動作説明に供
するフローチャートである。
するフローチャートである。
A……リフロー炉 A1…局部加熱部 A2…全体加熱部 1……印刷配線基板 2……狭ピッチ電子部品 3……コンベヤ 4……シャッタ 5……O2 排気口 6……不活性ガス(ヘリウム)供給口 7……局部加熱ヘッド 8……局部加熱ノズル 9……予備ノズル 10……加熱ヘッド昇降装置 11……耐熱ガラス 12……温度センサー 13……赤外線カメラ 14……冷却装置 15……基板位置決めストッパー 16……再溶融防止シールド治具加工装置 17……分割治具部押し棒 18……熱負荷・再溶融防止一体型治具板 19……スライド経路 20……全体加熱用移動ヒーター 21……耐熱ガラス 22……温度センサー 23……赤外線カメラ 24……冷却装置 25……シャッタ 30……パソコン 31……データ入力部 32……比較・判定部 33……第1メモリ部 34……第2メモリ部 35……補正データ部
Claims (1)
- 【請求項1】 狭ピッチ電子部品をクリームハンダを介
して搭載した印刷配線基板をリフロー炉内で搬送しなが
ら加熱してリフローを行ってハンダ付けするリフローハ
ンダ付け装置であって、前記狭ピッチ電子部品の各リー
ドのそれぞれに対して局部加熱ヘッドの局部加熱ノズル
を接近または当接させ、前記局部加熱ノズルからホット
ヘリウムを供給することにより、リフローハンダ付けす
ることを特徴とするリフローハンダ付け装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27430893A JPH07131149A (ja) | 1993-11-02 | 1993-11-02 | リフローハンダ付け装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27430893A JPH07131149A (ja) | 1993-11-02 | 1993-11-02 | リフローハンダ付け装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07131149A true JPH07131149A (ja) | 1995-05-19 |
Family
ID=17539841
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP27430893A Pending JPH07131149A (ja) | 1993-11-02 | 1993-11-02 | リフローハンダ付け装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07131149A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH09232747A (ja) * | 1996-02-27 | 1997-09-05 | Kofu Nippon Denki Kk | はんだ付け方法および装置 |
| EP1734136A2 (en) | 2005-06-15 | 2006-12-20 | Rolls-Royce plc | Method and apparatus for the treatment of a component |
| KR100741834B1 (ko) * | 2005-10-25 | 2007-07-24 | 삼성전기주식회사 | 연성인쇄회로기판용 리플로우 장치 |
-
1993
- 1993-11-02 JP JP27430893A patent/JPH07131149A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH09232747A (ja) * | 1996-02-27 | 1997-09-05 | Kofu Nippon Denki Kk | はんだ付け方法および装置 |
| EP1734136A2 (en) | 2005-06-15 | 2006-12-20 | Rolls-Royce plc | Method and apparatus for the treatment of a component |
| KR100741834B1 (ko) * | 2005-10-25 | 2007-07-24 | 삼성전기주식회사 | 연성인쇄회로기판용 리플로우 장치 |
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