JPH0713361A - 電子写真感光体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 高感度、高耐久性で、実写時の画質低下、感
度減退の少ない感光体の提供、またハロゲン化炭化水素
類を用いず環境汚染の少ない感光体の製造方法の提供。 【構成】 特定の繰返し構造単位を有するポリカーボネ
ート重合体またはその共重合体をバインダに用い、また
前記ポリカーボネートまたはその共重合体を非ハロゲン
溶媒に溶解し塗設する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は電子写真感光体及びその
製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】カールソン法の電子写真複写機において
は、感光体を一様に帯電させた後、露光によって画像様
に電荷を消去して静電潜像を形成し、その静電潜像をト
ナーによって現像、可視化し、次いでそのトナーを紙等
に転写、定着させる。

【０００３】一方、感光体は付着トナーの除去や除電等
の、表面の清浄化が施され、長期にわたって繰返し使用
される。

【０００４】従って、電子写真感光体としては、帯電特
性及び感度が良好で更に暗減衰が小さい等の電子写真特
性は勿論、繰返し使用での耐刷性、耐摩耗性、耐傷性の
物理的性質や、コロナ放電時に発生するオゾン、露光時
の紫外線等への耐性においても良好であることが要求さ
れる。

【０００５】従来、電子写真感光体としては、セレン、
酸化亜鉛、硫化カドミウム等の無機光導電性物質を感光
層主成分とする無機感光体が広く用いられていた。しか
し、これらの無機感光体は人体に有害であるため、その
廃棄に問題が生じている。

【０００６】近年、無公害である有機物を用いた有機感
光体の開発が盛んであり実用化が進んでいる。中でも電
荷発生機能と電荷輸送機能とを異なる物質に分担させ、
希望する特性に照らして各機能を発揮する物質を広い範
囲から選択できる機能分離型感光体が有望視されてい
る。

【０００７】しかし、このような有機感光体は無機感光
体に比べ、一般に機械的強度が劣っており、クリーニン
グブレード、現像ブラシ等の機械的外力による摺擦傷、
摩耗といった問題がある。これらは出力画像の低下を引
起し、常に安定した鮮明な画像を得ることができない。

【０００８】上記の様な問題は、感光体の最表層に含有
されるバインダ樹脂の特性に負うところが大きい。

【０００９】近年において種々の研究開発が行われ、電
荷発生と電荷輸送の機能を各層に分担させた積層型の感
光体が提案された。このような積層型有機感光体は従来
主として負帯電で用いられ、導電性支持体上に薄い電荷
発生層を設け、この上に比較的厚い電荷輸送層を設ける
構成がとられている。

【００１０】このような感光体に使用されるバインダと
しては、帯電特性、感度、残留電位及び繰返し特性等の
面で、ビスフェノールＡ型のポリカーボネート樹脂が良
好な特性を発揮することが良く知られている。

【００１１】

【発明が解決しようとする課題】しかし本発明者等が検
討を加えた結果、前記ビスフェノールＡ型ポリカーボネ
ート樹脂は、高分子の結晶性が高いためその溶液はゲル
化を起しやすく、１〜２日程度で使用不可能という欠点
を有している。又、塗布により膜形成を行うと塗膜形成
時に膜表面に結晶性のポリカーボネートが析出して凸部
が生じやすく、このために塗膜の尾引きが生じて収率が
低下したり、あるいは感光体としての使用時に凸部にト
ナーが付着してクリーニングされずに残り、いわゆるク
リーニング不良による画像欠陥が生じやすい。

【００１２】又、前記ビスフェノールＡ型ポリカーボネ
ート樹脂をバインダとして用いた電子写真感光体は、電
子写真複写機の感光体として用いると、磁気ブラシやク
リーニングブレードで擦過され感光層表面に傷が付いた
り、感光層が次第に摩耗するという欠点を有する。

【００１３】他方、高画質と順調な複写作業性は、感光
体の膜厚均一性、表面の均質性の良否にも依存するの
で、感光体構成層を形成する塗料組成、あるいは塗布、
乾燥に起因する柚木肌、ピンホール、塗布筋、亀裂（ソ
ルベントクラック）等の膜面故障は、複写特性上及び生
産技術上大いに問題にされるところである。

【００１４】前記したような故障に対して、ビスフェノ
ール型ポリカーボネートのフェニレン環間の炭素に弗素
を有する置換基の導入（特開昭63-65444号)、フェニレ
ン環へのアルキル基、ハロゲン原子の置換（特開昭63-1
48263号)、あるいは両フェニレン環にフェニル基又はシ
クロヘキシル基を置換したモノマーの共重合体（特開平
1-269942号、同1-269943号）等が提案されているが、未
だ充分な表面強度、表面平滑性がなく、摩耗、傷に弱
く、反復使用において画質の低下が起り、又膜厚の摩耗
減少による感度低下等の問題点を残している。

【００１５】一方、従来の感光層用のバインダに多く用
いられるポリカーボネートは、溶媒として溶解能の高い
メチレンクロライド、1,2-ジクロルエタン、クロロホル
ム、モノクロルベンゼン等のハロゲン化炭化水素類が多
く用いられてきた。

【００１６】これに対し、近年環境保護に関する声が高
まっており、有害物質や環境を汚染する物質に対する規
制が強められてきている。このような中で、前述のよう
なハロゲン化炭化水素類は将来的に使用できないか、も
しくはその使用量が制限される可能性がある。

【００１７】従って、感光層用のバインダ樹脂は、トル
エン、ベンゼン等の炭化水素類、アセトン、メチルエチ
ルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類、酢酸エチ
ル、酢酸ブチル等のエステル類、メタノール、エタノー
ル、ブタノール等のアルコール類、テトラヒドロフラ
ン、1,4-ジオキサン、フラン、フルフラール等のエーテ
ル、アセタール類等への溶解性の高いものが好ましい。

【００１８】このような樹脂は、下引き層用、電荷発生
層用には適当なものが見出されており、既に実用化され
ている。しかし、電荷輸送層用に上記の溶媒に溶解する
ようなポリカーボネート樹脂以外の樹脂を用いた場合に
は、低感度、繰返し使用による残留電位の上昇等の電子
写真特性や、反復使用時の摩耗、傷による画質の低下、
膜減耗による感度低下等の機械的耐久性に問題があり、
これらを満足するような樹脂は見出されていなかった。

【００１９】

【発明の目的】本発明の目的は、高感度、高耐久性で、
実写時の画質低下、感度減退の少ない感光体の提供にあ
り、また他の目的は、ハロゲン化炭化水素類を用いず環
境汚染の少ない感光体塗工液を用いて作成した感光体の
提供にある。

【００２０】

【課題を解決するための手段】本発明の目的は、導電性
基体上に感光層を設けてなる電子写真感光体において、
前記感光層のバインダ樹脂が前記「化１」、「化２」に
記載の構造諸元を特定した一般式〔Ｉ〕で表される繰返
し構造単位を有するポリカーボネート重合体またはその
共重合体を含有することを特徴とする電子写真感光体及
び前記ポリカーボネートまたはその共重合体を非ハロゲ
ン溶媒に溶解し、塗設することを特徴とする電子写真感
光体の製造方法によって解決される。

【００２１】前記一般式〔Ｉ〕中のＲ₁〜Ｒ₈のそれぞれ
の具体例としては、水素原子、メチル基、エチル基、プ
ロピル基、イソプロピル基、ブチル基、1-メチルプロピ
ル基、2-メチルプロピル基、t-ブチル基、ペンチル基、
イソペンチル基、ヘキシル基、イソヘキシル基、フェニ
ル基、トリル基、キシリル基、トリメチルフェニル基、
エチルフェニル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル
基、シクロオクチル基、弗素原子、塩素原子、臭素原子
等を挙げることができる。

【００２２】前記一般式〔Ｉ〕中の環状アルキリデン
基、Ｘに結合する少なくとも２つ以上の置換基の具体例
としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロ
ピル基、ブチル基、1-メチルプロピル基、2-メチルプロ
ピル基、t-ブチル基、ペンチル基、イソペンチル基、ヘ
キシル基、イソヘキシル基、フェニル基、トリル基、シ
クロペンチル基、シクロヘキシル基等を挙げることがで
きる。

【００２３】前記一般式〔Ｉ〕で表される繰返し単位か
らなるポリカーボネートは例えば１種あるいは２種以上
の次の一般式（Ａ）で示される２価フェノール類とホス
ゲン等のカーボネート前駆体とを適当な酸結合剤の存在
下に適当な中性極性溶媒中で縮合重合するか、あるいは
２価フェノール類（Ａ）とビスアリールカーボネートと
のエステル交換反応などの方法によって得ることができ
る。

【００２４】

【化３】

【００２５】前記酸結合剤としては、公知の各種のもの
が使用でき、具体的には、水酸化ナトリウム、水酸化カ
リウム等のアルカリ金属水酸化物、ピリジン等の有機塩
基、あるいはこれらの混合物などが用いられる。

【００２６】また、溶媒としては、例えば塩化メチレ
ン、クロルベンゼン、キシレン等が用いられる。さらに
縮重合反応を促進するために、トリエチルアミンのよう
な第３級アミン又は第４級アンモニウム塩などの触媒
を、また重合度を調整するためにp-t-ブチルフェノール
やフェニルフェノールなどの分子量調節剤を添加して反
応を行うことが望ましい。

【００２７】また、適宜、亜硫酸ナトリウム、ハイドロ
サルファイドなどの酸化防止剤を少量添加してもよい。
反応は通常０〜150℃、好ましくは５〜40℃の範囲の温
度で行われる。反応中は反応系のpＨを10以上に保持す
ることが望ましい。

【００２８】一方後者のエステル交換法においては、前
記２価フェノール類とビスアリールカーボネートとを混
合し、減圧下で高温において反応させる。反応は通常15
0〜350℃、好ましくは200〜300℃の温度範囲で行われ、
また減圧度は最終で好ましくは１mmHg以下にして、エス
テル交換反応により生成した該ビスアリールカーボネー
トから由来するフェノール類を系外へ溜去させる。反応
は窒素やアルゴンなどの不活性ガス雰囲気下で行うこと
が好ましく、また適宜、前記の分子量調節剤や酸化防止
剤などを添加して反応を行ってもよい。

【００２９】本発明に用いられるポリカーボネート共重
合体の例としては、前記一般式〔Ｉ〕と下記一般式〔I
I〕で示される繰返し構造単位を含む。

【００３０】

【化４】

【００３１】Ｒ₉〜Ｒ₁₆；水素原子，ハロゲン原子，炭
素数１〜10の置換若しくは無置換のアルキル基、シクロ
アルキル基、アリール基。

【００３２】Ｙ；炭素数１〜10の直鎖、分岐鎖、環状の
アルキレン基、アリール置換アルキリデン基、スルホニ
ル基、スルファイド基、エーテル基を示し、２つのフェ
ニレン環はＹを介さないで直接結合してもよい。

【００３３】これら共重合体は１種又は２種以上の前記
２価フェノール類（Ａ）と１種又は２種以上の下記２価
フェノール類（Ｂ）とをホスゲン等のカーボネート前駆
体とを適当な酸結合剤の存在下に適当な溶媒中で結合重
合するかあるいは、これら２価フェノール類（Ａ）及び
２価フェノール類（Ｂ）とビスアリールカーボネートと
のエステル交換反応などの方法によって得ることができ
る。

【００３４】

【化５】

【００３５】前記一般式〔II〕で示される繰返し単位を
有するポリカーボネートの具体例としては、特開昭50-9
8332号、同60-172045号、同61-62040号、特開平1-26994
2号、同1-269943号、同1-273046号、同4-268365号等に
記載されている。

【００３６】本発明のポリカーボネートは１種類の前記
一般式〔Ｉ〕で表される繰返し単位からなる単独重合体
であってもよく、あるいは任意の割合の２種以上の一般
式〔Ｉ〕からなる共重合体であってもよい。これらは１
種単独で用いてもよく、あるいは２種以上を混合して用
いてもよい。

【００３７】本発明の別のポリカーボネート共重合体と
しては、１種又は２種以上の前記一般式〔Ｉ〕で表され
る繰返し単位と１種又は２種以上の前記一般式〔II〕で
表される繰返し単位とを含む。前記繰返し単位〔Ｉ〕と
〔II〕との割合としては、少なくとも〔Ｉ〕が20モル
％、好ましくは30モル％以上である。

【００３８】本発明のポリカーボネート及び／又はポリ
カーボネート共重合体は本発明の目的に支障がない限
り、他の公知のポリカーボネート等の公知バインダと併
用することもできる。

【００３９】本発明のポリカーボネートは重量平均分子
量が5000〜300,000、好ましくは20,000〜200,000で用い
られる。

【００４０】本発明で用いられるポリカーボネート重合
体あるいは共重合体の溶媒としては塩化メチレン、エチ
レンクロライド、クロルベンゼン等のハロゲン系溶剤も
使用できるが、環境問題等から特に非ハロゲン系溶剤が
好ましい。

【００４１】非ハロゲン溶剤としては、 ケトン類…メチルエチルケトン(ＭＥＫ)、メチルブチル
ケトン、メチルイソブチルケトン(ＭＩＢＫ)、メチルイ
ソプロピルケトン(ＭＩＰＫ)、シクロヘキサノン、イソ
ホロン、ジアセトンアルコール エステル類…酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、
酢酸イソプロピル、 フラン類…テトラヒドロフラン エーテル類…ジオキサン 炭化水素類…ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベ
ンゼン 等が良い。

【００４２】更に好ましくは、ＭＥＫ、トルエン、酢酸
エチルが挙げられるが、塗布蒸発速度、粘度、膜厚形成
性等から２種以上混合して用いてもよい。この場合上記
以外の有機溶媒も有利に用いられる。

【００４３】溶液の濃度（溶媒に対するポリカーボネー
トの重量％）は通常１〜30重量％、好ましくは５〜20％
である。

【００４４】本発明のポリカーボネート及びポリカーボ
ネート共重合体の化合物例としては以下のものが挙げら
れる。

【００４５】

【化６】

【００４６】

【化７】

【００４７】

【化８】

【００４８】

【化９】

【００４９】

【化１０】

【００５０】

【化１１】

【００５１】

【化１２】

【００５２】

【化１３】

【００５３】前記したバインダとして用いられるカーボ
ネートコポリマーに併用して用いてもよいバインダとし
ては、例えば次のものを挙げることができる。

【００５４】(１) ポリエステル (２) メタクリル樹脂 (３) アクリル樹脂 (４) ポリ塩化ビニル (５) ポリ塩化ビニリデン (６) ポリスチレン (７) ポリビニルアセテート (８) スチレン共重合樹脂 (例えば、スチレン-ブタヂ
エン共重合体、スチレン-メタクリル酸メチル共重合
体、等) (９) アクリロニトリル系共重合体樹脂 (例えば、塩化
ビニリデン-アクリトロニトリル共重合体、等) (10) 塩化ビニル-酢酸ビニル共重合体 (11) 塩化ビニル-酢酸ビニル-無水マレイン酸共重合体 (12) シリコーン樹脂 (13) シリコーン-アルキッド樹脂 (14) フェノール樹脂 (たとえば、フェノール-ホルム
アルデヒド樹脂、クレゾールホルムアルデヒド樹脂、
等) (15) スチレン-アルキッド樹脂 (16) ポリ-N-ビニルカルバゾール (17) ポリビニルブチラール (18) ポリビニルホルマール (19) ポリヒドロキシスチレン これらのバインダは、単独で或は２種以上の混合物とし
て本発明に係るカーボネートに併用することができる。

【００５５】次に本発明に用いられる光導電性材料、即
ちキャリア発生物質及びキャリア輸送物質について説明
する。

【００５６】本発明の感光体においては、キャリア発生
物質（ＣＧＭ）として次の代表例で示される様な有機顔
料が用いられる。

【００５７】(１) モノアゾ顔料、ビスアゾ顔料、トリ
アゾ顔料、金属錯塩アゾ顔料等のアゾ顔料 (２) ペリレン酸無水物、ペリレン酸イミド等のペリレ
ン顔料 (３) アントラキノン誘導体、アントアントロン誘導
体、ジベンズピレンキノン誘導体、ピラントロン誘導
体、ビオラントロン誘導体及びイソビオラントロン誘導
体等多環キノン顔料 (４) インジゴ誘導体及びチオインジゴ誘導体等のイン
ジゴイド顔料 (５) 金属フタロシアニン及び無金属フタロシアニン等
のフタロシアニン顔料 特に本発明の電子写真感光体においては、ＣＧＭとして
フルオレノン系ジスアゾ顔料、フルオレニリデン系ジス
アゾ顔料、多環キノン顔料、無金属系フタロシアニン顔
料又はオキシチタニル系フタロシアニン顔料等の有機系
顔料が用いられることが好ましい。特に次に示すフルオ
レノン系ジスアゾ顔料、フルオレニリデン系ジスアゾ顔
料、多環キノン顔料、Ｘ及びτ型無金属フタロシアニン
を本発明に用いると、感度、耐久性及び画質等の点で著
しく改良された効果を示す。

【００５８】本発明に好ましく用いられるフルオレノン
系ジスアゾ顔料は、下記一般式〔Ｆ₁〕で表される。

【００５９】

【化１４】

【００６０】Ｘ₁及びＸ₂は、それぞれ、ハロゲン原子、
アルキル基、アルコキシ基、ニトロ基、シアノ基、ヒド
ロキシ基又は置換若しくは無置換のアミノ基を表す。ｐ
及びｑはそれぞれ０，１又は２の整数を表し、ｐ及びｑ
が２のときは、Ｘ₁及びＸ₂はそれぞれ同一又は異なる基
であってもよい。Ａは下記一般式〔Ｆ₁−１〕で表され
る基を示す。

【００６１】

【化１５】

【００６２】式中、Ａrは弗素化炭化水素基又は置換基
を有する芳香族炭素環基又は芳香族複素環基を表す。Ｚ
は置換若しくは無置換の芳香族炭素環又は置換若しくは
無置換の芳香族複素環を形成するのに必要な非金属原子
群を表す。ｍ及びｎはそれぞれ０，１又は２の整数を表
す。但し、ｍ及びｎが同時に０となることはない。

【００６３】下記に本発明に用いられるフルオレノン系
ジスアゾ顔料の具体例を挙げるが、これによって限定さ
れるものではない。

【００６４】

【化１６】

【００６５】

【化１７】

【００６６】

【化１８】

【００６７】本発明に用いられる前記一般式〔Ｆ₁〕で
表されるフルオレノン系ジスアゾ顔料は、公知の方法に
より容易に合成され、例えば特願昭62-304862号等の方
法により合成される。

【００６８】本発明に用いられるフルオレニリデン系ジ
スアゾ顔料は下記一般式〔Ｆ₂〕で表される。

【００６９】

【化１９】

【００７０】Ｚ：置換、無置換の次記２つの基；芳香族
炭素環、芳香族複素環を構成するに必要な原子群 Ｙ：水素原子、ヒドロキシ基、カルボキシ基、若しくは
そのエステル基、スルホ基、置換、無置換の次記２つの
基；カルバモイル基、スルファモイル基 Ｒ₁：水素原子、置換、無置換の続記４つの基；アルキ
ル基、アミノ基、カルバモイル基、カルボキシ基若しく
はそのエステル基又はシアノ基 Ａr：置換、無置換のアリール基 Ｒ₂：置換、無置換の続記３つの基；アルキル基、アラ
ルキル基、アリール基を表す。

【００７１】前記一般式〔Ｆ₂〕で示される本発明に有
効なジスアゾ顔料の具体例としては、例えば次の構造式
で示されるものを挙げることができるが、これによって
本発明に用いられるべきジスアゾ顔料が限定されるもの
ではない。

【００７２】

【化２０】

【００７３】

【化２１】

【００７４】

【化２２】

【００７５】本発明に用いられる多環キノン顔料は、下
記一般式〔Ｑ₁〕〜〔Ｑ₃〕で表される。

【００７６】

【化２３】

【００７７】各式中、Ｘはハロゲン原子、ニトロ基、シ
アノ基、アシル基、又はカルボキシ基を表し、ｎは０〜
４の整数を、ｍは０〜６の整数を表す。

【００７８】前記一般式〔Ｑ₁〕〜〔Ｑ₃〕で示される本
発明に用いられる多環キノン顔料の具体例を下記に示す
が、これに限定されるものではない。

【００７９】一般式〔Ｑ₁〕で示されるアントアントロ
ン顔料の具体的化合物例を挙げると次の通りである。

【００８０】

【化２４】

【００８１】一般式〔Ｑ₂〕で示されるジベンズピレン
キノン顔料の具体的化合物例を挙げると次の通りであ
る。

【００８２】

【化２５】

【００８３】一般式〔Ｑ₃〕で示されるピラントロン顔
料の具体的化合物例を挙げると次の通りである。

【００８４】

【化２６】

【００８５】本発明に用いられる前記一般式〔Ｑ₁〕〜
〔Ｑ₃〕で表される多環キノン顔料は、公知の方法によ
り容易に合成できる。

【００８６】本発明に使用できる無金属フタロシアニン
系顔料としては、光導電性を有する無金属フタロシアニ
ン及びその誘導体すべてが使用可能であるが、例えばα
型、β型、τ，τ′型、η，η′型、Ｘ型、及び特開昭
62-103651号で述べた結晶形及びその誘導体等を使用で
きる。特にτ，Ｘ，Ｋ／Ｒ−Ｘ型を使用することが望ま
しい。Ｘ型無金属フタロシアニンについては米国特許3,
357,989号に記載があり、τ型無金属フタロシアニンに
ついては特開昭58-182639号に記載がある。Ｋ／Ｒ−Ｘ
型は特開昭62-103651号にあるように、CuKα、1.541Å
のＸ線に対するブラッグ角度（２θ±0.2度）におい
て、7.7，9.2，16.8，17.5，22.4，28.8度に主要なピー
クを有し、且つ9.2度のピーク強度に対して16.8度のピ
ーク強度比が0.8〜1.0であり、又22.4度に対する28.8度
のピーク強度比が0.4以上である事を特徴とするフタロ
シアニンである。 本発明において使用可能なキャリア輸送物質（ＣＴＭ）
としては、特に制限はないが、例えばオキサゾール誘導
体、オキサジアゾール誘導体、チアゾール誘導体、チア
ジアゾール誘導体、トリアゾール誘導体、イミダゾール
誘導体、イミダゾロン誘導体、イミダゾリジン誘導体、
ビスイミダゾリジン誘導体、スチリル化合物、ヒドラゾ
ン化合物、ピラゾリン誘導体、アミン誘導体、オキサゾ
ロン誘導体、ベンゾチアゾール誘導体、ベンズイミダゾ
ール誘導体、キナゾリン誘導体、ベンゾフラン誘導体、
アクリジン誘導体、フェナジン誘導体、アミノスチルベ
ン誘導体、ポリ-N-ビニルカルバゾール、ポリ-1-ビニル
ピレン、ポリ-9-ビニルアントラセン等である。

【００８７】本発明に用いられる有機系顔料の分散媒と
しては、例えばヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレ
ン等の炭化水素類、メチレンクロライド、メチレンブロ
マイド、1,2-ジクロルエタン、syn-テトラクロルエタ
ン、cis-1,2-ジクロルエチレン、1,1,2-トリクロルエタ
ン、1,1,1-トリクロルエタン、1,2-ジクロルプロパン、
クロロホルム、ブロモホルム、クロルベンゼン等のハロ
ゲン化炭化水素、アセトン、メチルエチルケトン、シク
ロヘキサノン等のケトン類、酢酸エチル、酢酸ブチル等
のエステル類、メタノール、エタノール、プロパノー
ル、ブタノール、シクロヘキサノール、ヘプタノール、
エチレングリコール、メチルセロソルブ、エチルセロソ
ルブ、酢酸セロソルブ等のアルコール及びこの誘導体、
テトラヒドロフラン、1,4-ジオキサン、フラン、フルフ
ラール等のエーテル、アセタール類、ピリジンやブチル
アミン、ジエチルアミン、エチレンジアミン、イソプロ
パノールアミン等のアミン類、N,N-ジメチルホルムアミ
ド等のアミド類等の窒素化合物他に脂肪酸及びフェノー
ル類、二硫化炭素や燐酸トリエチル等の硫黄、燐化合物
等が挙げられる。

【００８８】本発明において感光層には感度の向上、残
留電位〜反復使用時の疲労低減等を目的として、一種又
は二種以上の電子受容性物質を含有せしめることができ
る。

【００８９】ここに用いることのできる電子受容性物質
としては、例えば、無水琥珀酸、無水マレイン酸、ジブ
ロム無水マレイン酸、無水フタル酸、テトラクロル無水
フタル酸、テトラブロム無水フタル酸、3-ニトロ無水フ
タル酸、4-ニトロ無水フタル酸、無水ピロメリット酸、
無水メリット酸、テトラシアノエチレン、テトラシアノ
キノジメタン、o-ジニトロベンゼン、m-ジニトロベンゼ
ン、1,3,5-トリニトロベンゼン、パラニトロベンゾニト
リル、ピクリルクロライド、キノンクロルイミド、クロ
ラニル、ブルマニル、ジクロルジシアノパラベンゾキノ
ン、アントラキノン、ジニトロアントラキノン、2,7-ジ
ニトロフルオレノン、2,4,7-トリニトロフルオレノン、
2,4,5,7-テトラニトロフルオレノン、9-フルオレニリデ
ン[ジシアノメチレンマロノジニトリル]、ポリニトロ-9
-フルオレニリデン-[ジシアノメチレンマロノジニトリ
ル]、ピクリン酸、o-ニトロ安息香酸、p-ニトロ安息香
酸、3,5-ジニトロ安息香酸、ペンタフルオロ安息香酸、
5-ニトロサリチル酸、3,5-ジニトロサリチル酸、フタル
酸、メリット酸、その他の電子親和力の大きい化合物を
挙げることができる。又、電子受容性物質の添加割合
は、重量比で本発明に用いられる有機系顔料：電子受容
性物質＝100：0.01〜200、好ましくは100：０．１〜１
００である。

【００９０】かかる層への電子受容性物質の添加割合は
重量比で全ＣＴＭ：電子受容性物質＝100：0.01〜100、
好ましくは100：0.1〜50である。

【００９１】又、本発明の感光層中にはＣＧＭの電荷発
生機能を改善する目的で有機アミン類を添加することが
でき、特に２級アミンを添加するのが好ましい。これら
の化合物は特開昭59-218447号、同62-8160号に記載され
ている。

【００９２】又本発明の感光体には、その他、必要によ
り感光層を保護する目的で紫外線吸収剤等を含有しても
よく、又感色性補正の染料を含有してもよい。又本発明
に係る保護層中には加工性及び物性の改良（亀裂防止、
柔軟性付与等）を目的として必要により熱可塑性樹脂を
50wt％未満含有せしめることができる。

【００９３】又、前記中間層は接着層又はブロッキング
層等として機能するもので、上記バインダ樹脂の外に、
例えばポリビニルアルコール、エチルセルロース、カル
ボキシメチルセルロース、塩化ビニル-酢酸ビニル共重
合体、塩化ビニル-酢酸ビニル-無水マレイン酸共重合
体、カゼイン、ポリアミド、N-アルコキシメチル化ナイ
ロン、澱粉等が用いられる。

【００９４】本発明の電子写真感光体の構成に用いられ
る導電性支持体としては、主として下記のものが用いら
れるが、これらにより限定されるものではない。

【００９５】１）アルミニウム板、ステンレス板などの
金属板。

【００９６】２）紙或はプラスチックフィルムなどの支
持体上に、アルミニウム、パラジウム、金などの金属薄
層をラミネートもしくは蒸着によって設けたもの。

【００９７】３）紙或はプラスチックフィルムなどの支
持体上に、導電性ポリマ、酸化インジウム、酸化錫など
の導電性化合物の層を塗布もしくは蒸着によって設けた
もの。 本発明の感光体は、導電性支持体上にＣＧＭを主成分と
する電荷発生層（ＣＧＬ）と本発明に係るＣＴＭを主成
分として含有する電荷輸送層（ＣＴＬ）との積層体より
成る感光層を設ける。この感光層は、導電性支持体上に
設けた中間層を介して設けてもよい。このように感光層
を二層構成としたときに最もすぐれた電子写真特性を有
する電子写真感光体が得られる。又本発明においては、
前記ＣＴＭを主成分とするＣＴＬ中に微粒子状のＣＧＭ
を分散してなる感光層を導電性支持体上に直接或は、中
間層を介して設けてもよい。

【００９８】更に前記感光層の上には必要に応じ保護層
を設けてもよい。

【００９９】又、二層構成の感光層を構成するＣＧＬ
は、導電性支持体上に直接或は必要に応じて接着層もし
くはブロッキング層などの中間層を設けた上に、次の方
法によって形成することができる。

【０１００】(１) 真空蒸着法 (２) ＣＧＭを適当な溶剤に溶解した溶液を塗布する方
法 (３) ＣＧＭをボールミル、サンドグラインダ等によっ
て分散媒中で微細粒子状とし必要に応じて、バインダと
混合分散して得られる分散液を塗布する方法。

【０１０１】即ち具体的には、真空蒸着、スパッタリン
グ、ＣＶＤ等の気相堆積法或はデイッピング、スプレ
ィ、ブレード、ロール法等の塗布方法が任意に用いられ
る。

【０１０２】このようにして形成されるＣＧＬの厚さ
は、0.01μm〜５μmであることが好しく、更に好しくは
0.05μm〜３μmである。

【０１０３】又ＣＴＬの厚さは、必要に応じて変更し得
るが通常５μm〜30μmであることが好ましい。このＣＴ
Ｌにおける組成割合は、本発明のＣＴＭ１重量部に対し
てバインダ0.1〜５重量部とするのが好ましいが、微粒
子状のＣＧＭを分散せしめた感光層を形成する場合は、
ＣＧＭ１重量部に対してバインダを５重量部以下の範囲
で用いることが好ましい。

【０１０４】又ＣＧＬをバインダ中分散型のものとして
構成する場合には、ＣＧＭ１重量部に対してバインダを
５重量部以下の範囲で用いることが好ましい。

【０１０５】本発明の感光体は以上のような構成であっ
て、後述するような実施例からも明らかなように帯電特
性、感度特性、画像形成特性に優れたものである。特に
反復転写式電子写真方式に供したときにも疲労劣化が少
なく耐久性が優れたものである。

【０１０６】

【実施例】以下本発明の実施例を具体的に説明する。

【０１０７】実施例１ ポリアミド樹脂ＣＭ−8000（東レ社製）30ｇをメタノー
ル900ml、1-ブタノール100mlの混合液中に投入し、50℃
で加熱溶解した。この液を用いて外径80mm、355.5mmの
アルミニウムドラム基体上に浸漬塗布し、0.3μmの中間
層を形成した。次に、ポリビニルブチラール樹脂エスレ
ックＢＭ−Ｓ（積水化学社製）10ｇをメチルエチルケト
ン1000mlに溶解し、これにＣＧＭとして例示化合物（Ｆ
₁−23）30ｇを混入し、サンドミルを用いて20時間分散
した。この液を用いて前記中間層上に浸漬塗布し、0.5
μm厚のＣＧＬを形成した。

【０１０８】次に、下記構造式のＣＴＭ（Ｔ−１）150
ｇとＣＴＬバインダとして例示化合物（Ａ９）200ｇを
メチルエチルケトン1000mlに溶解した。

【０１０９】

【化２７】

【０１１０】この液を用いて、前記ＣＧＬ上に浸漬塗布
を行った後、100℃で60分乾燥し、平均膜厚22μmのＣＴ
Ｌを形成した。

【０１１１】このようにして中間層、ＣＧＬ、ＣＴＬか
らなる積層感光体試料１を得た。

【０１１２】実施例２ 実施例１において、ＣＴＬバインダを例示化合物（Ａ
３）にした以外は同様にして積層感光体試料２を得た。

【０１１３】実施例３ 実施例１において、ＣＴＬバインダを例示化合物（Ａ
１）にした以外は同様にして積層感光体試料３を得た。

【０１１４】実施例４ 実施例１において、ＣＴＬバインダを例示化合物（Ａ
６）にした以外は同様にして積層感光体試料４を得た。

【０１１５】実施例５ 実施例１において、ＣＴＬバインダを例示化合物（Ａ
２）にした以外は同様にして積層感光体試料５を得た。

【０１１６】実施例６ ポリアミド樹脂ラッカマイド5003（大日本インキ社製）
15ｇをメタノール800ml、1-ブタノール200mlの混合溶液
中に投入し、50℃で加熱溶解した。この液を用いて外径
80mm、355.5mmのアルミニウムドラム基体上に浸漬塗布
し、0.5μmの中間層を形成した。

【０１１７】次に、シリコーン樹脂ＫＲ−5240（固形分
20％）（信越化学社製）10ｇをメチルエチルケトン700m
l、シクロヘキサノン300mlの混合溶媒に溶解し、これに
ＣＧＭとして例示化合物（Ｑ₁−３）10ｇを混入し、サ
ンドミルを用いて20時間分散した。この液を用いて前記
中間層上に浸漬塗布し、1.0μm厚のＣＧＬを形成した。

【０１１８】次に、下記構造式のＣＴＭ（Ｔ−２）150
ｇとＣＴＬバインダとして例示化合物（Ａ15）150ｇを
酢酸エチル1000mlに溶解した。

【０１１９】

【化２８】

【０１２０】この液を用いて、前記ＣＧＬ上に浸漬塗布
を行った後、100℃で60分乾燥し、平均膜厚20μmのＣＴ
Ｌを形成した。

【０１２１】このようにして中間層、ＣＧＬ、ＣＴＬか
らなる積層感光体試料６を得た。

【０１２２】実施例７ 実施例６において、ＣＴＬバインダを例示化合物（Ａ1
2）にした以外は同様にして積層感光体試料７を得た。

【０１２３】実施例８ 実施例６において、ＣＴＬバインダを例示化合物（Ａ1
6）にした以外は同様にして積層感光体試料８を得た。

【０１２４】実施例９ 実施例６において、ＣＴＬバインダを例示化合物（Ａ1
4）にした以外は同様にして積層感光体試料９を得た。

【０１２５】実施例10 中間層の形成までは実施例１と同様に行った。次に、ポ
リビニルブチラール樹脂エスレックＢＸ−１（積水化学
社製）2.5ｇをメチルイソブチルケトン1000mlに溶解
し、これにＣＧＭとして例示化合物（Ｆ₂−８）10ｇを
混入し、サンドミルを用いて10時間分散した。この液を
用いて前記中間層上に、浸漬塗布し、0.5μm厚のＣＧＬ
を形成した。

【０１２６】次に、実施例６においてＣＴＬバインダと
して例示化合物（Ｂ４）を用いた以外は同様にしてＣＴ
Ｌを形成した。

【０１２７】このようにして中間層、ＣＧＬ、ＣＴＬか
らなる積層感光体試料10を得た。

【０１２８】実施例11 実施例10において、ＣＴＬバインダを例示化合物（Ｂ
７）にした以外は同様にして積層感光体試料11を得た。

【０１２９】−比較例− 比較例（１） 実施例１においてＣＴＬバインダとして下記構造式のポ
リカーボネート樹脂にかえた以外は同様にして積層感光
体比較試料（１）を得た。

【０１３０】

【化２９】

【０１３１】比較例（２） 実施例６においてＣＴＬバインダとして下記構造式のポ
リカーボネート樹脂にかえた以外は同様にして積層感光
体比較試料（２）を得た。

【０１３２】

【化３０】

【０１３３】−塗布液の評価− 実施例及び比較例で用いたポリカーボネートのＭＥＫ10
重量％溶液を常温下（23℃）、１週間放置した時の濁り
の有無を目視判明。有（×），無（○）。

【０１３４】この結果を感光体評価結果表とともに掲げ
た。

【０１３５】−粘度の測定− 本発明のポリカーボネートのＭＥＫ7.5重量％溶液を常
温下（23℃）でＢ型粘度計を用いて、調液直後と、常温
下（23℃）、１ケ月放置後の粘度を測定し、以下で示す
比で評価を行った。この結果を感光体評価結果とともに
掲げた。

【０１３６】Ｖis比＝１ケ月後の粘度／調液後の粘度 −感光体の評価− 実施例１〜11及び比較例（１），（２）で得られた感光
体試料を「U-Bix4045」（コニカ社製）に搭載し、10万
コピー実写テストを行い、実写テスト前後の画像不良の
有無、表面電位の変化及び膜厚減耗量について調べた。

【０１３７】黒紙電位Ｖｂ：反射濃度1.3の原稿に対す
る表面電位 白紙電位Ｖｗ：反射濃度0.0の原稿に対する表面電位 残留電位Ｖｒ：除電後の表面電位 表面の摩擦による膜減耗については、10万コピー終了
後、感光体膜厚を測定し、初期と比較した。

【０１３８】以下、結果を表１に示す。

【０１３９】

【表１】

【０１４０】

【発明の効果】高感度、高耐久性であり実用性の高い感
光体が得られ、しかも環境汚染のない製造方法が得られ
る。

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 導電性基体上に感光層を設けてなる電子
   写真感光体において、前記感光層のバインダ樹脂が下記
   一般式〔Ｉ〕で表される繰返し構造単位を有するポリカ
   ーボネート重合体またはその共重合体を含有することを
   特徴とする電子写真感光体。 【化１】 〔式中、Ｒ₁〜Ｒ₈は水素原子、ハロゲン原子又は炭素数
   １〜10の置換もしくは無置換のアルキル基、シクロアル
   キル基、アリール基の３つの基を表す。Ｘは少なくとも
   ２つ以上のアルキル、シクロアルキル、アリール置換基
   を有し、２つのフェニレン環に結合する炭素原子を含ん
   で形成される環状アルキリデン基を表す。〕
2. 【請求項２】 導電性基体上に少なくとも光導電性材料
   とバインダとを含有する溶液を塗布して感光層を形成す
   るに際して、前記バインダとして下記一般式〔Ｉ〕で表
   される繰返し構造単位を含むポリカーボネート重合体又
   はその共重合体を非ハロゲン溶媒に溶解し、塗設するこ
   とを特徴とする電子写真感光体の製造方法。 【化２】 〔式中、Ｒ₁〜Ｒ₈は水素原子、ハロゲン原子又は炭素数
   １〜10の置換もしくは無置換のアルキル基、シクロアル
   キル基、アリール基の３つの基を表す。また、Ｘは少な
   くとも２つ以上のアルキル、シクロアルキル、アリール
   置換基を有し、２つのフェニレン環に結合する炭素原子
   を含んで形成される環状アルキリデン基を表す。〕