JPH07138687A - 平版印刷版用アルミニウム合金基材 - Google Patents
平版印刷版用アルミニウム合金基材Info
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- JPH07138687A JPH07138687A JP30710893A JP30710893A JPH07138687A JP H07138687 A JPH07138687 A JP H07138687A JP 30710893 A JP30710893 A JP 30710893A JP 30710893 A JP30710893 A JP 30710893A JP H07138687 A JPH07138687 A JP H07138687A
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Landscapes
- Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 更に優れた砂目立の出来る、得率の良い平版
印刷版用アルミニウム合金基材を提供する 【構成】 アルミニウム溶湯から直接板状に連続鋳造圧
延し、冷間圧延，熱処理を適宜行い、更に矯正を行った
アルミニウム支持体を粗面化する平版印刷版用アルミニ
ウム合金基材において、アルミニウム合金基材の金属間
化合物の平均粒子サイズが０．５μｍ〜８μｍ，金属間
化合物数５００個／１ｍｍ2 〜１００００個／１ｍ
ｍ2 ，金属間化合物２０μｍ以上の個数が２％以下であ
り、前記アルミニウム合金基材の成分が、０．０５％＜
Ｆｅ＜０．８％，０．０１％＜Ｓｉ＜０．３％，０．０
０５％＜Ｔｉ＜０．１％，０．００５％＜Ｃｕ＜０．２
％，その他の合金成分合計０．３％未満を含む。
印刷版用アルミニウム合金基材を提供する 【構成】 アルミニウム溶湯から直接板状に連続鋳造圧
延し、冷間圧延，熱処理を適宜行い、更に矯正を行った
アルミニウム支持体を粗面化する平版印刷版用アルミニ
ウム合金基材において、アルミニウム合金基材の金属間
化合物の平均粒子サイズが０．５μｍ〜８μｍ，金属間
化合物数５００個／１ｍｍ2 〜１００００個／１ｍ
ｍ2 ，金属間化合物２０μｍ以上の個数が２％以下であ
り、前記アルミニウム合金基材の成分が、０．０５％＜
Ｆｅ＜０．８％，０．０１％＜Ｓｉ＜０．３％，０．０
０５％＜Ｔｉ＜０．１％，０．００５％＜Ｃｕ＜０．２
％，その他の合金成分合計０．３％未満を含む。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は平版印刷版用アルミニウ
ム合金基材に関する、特に電解粗面化性の良いアルミニ
ウム合金基材に関するものである。
ム合金基材に関する、特に電解粗面化性の良いアルミニ
ウム合金基材に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】印刷版用アルミニウム合金基材、とくに
オフセット印刷版用アルミニウム合金基材としては、ア
ルミニウム板（アルミニウム合金板を含む）が用いられ
ている。一般にアルミニウム板をオフセット印刷版用支
持体として使用するためには、感光材料との適度な接着
性と保水性を有していることが必要である。このために
はアルミニウム板の表面を均一かつ緻密な砂目を有する
ように粗面化しなければならない。この粗面化処理は製
版後実際にオフセット印刷を行ったときに版材の印刷性
能や耐刷力に著しい影響をおよぼすので、その良否は版
材製造上重要な要素となっている。
オフセット印刷版用アルミニウム合金基材としては、ア
ルミニウム板（アルミニウム合金板を含む）が用いられ
ている。一般にアルミニウム板をオフセット印刷版用支
持体として使用するためには、感光材料との適度な接着
性と保水性を有していることが必要である。このために
はアルミニウム板の表面を均一かつ緻密な砂目を有する
ように粗面化しなければならない。この粗面化処理は製
版後実際にオフセット印刷を行ったときに版材の印刷性
能や耐刷力に著しい影響をおよぼすので、その良否は版
材製造上重要な要素となっている。
【０００３】印刷版用アルミニウム合金基材の粗面化法
としては、交流電解エッチング法が一般的に採用されて
おり、電流としては、普通の正弦波交流電流、矩形波な
どの特殊交番波形電流が用いられている。そして、黒鉛
等の適当な電極を対極として交流電流により、アルミニ
ウム板の粗面化処理を行うもので、通常一回の処理で行
われているが、そこで得られるピット深さは全体的に浅
く、耐刷性能に劣るものであった。このため、その直径
に比べて深さの深いピットが均一かつ緻密に存在する砂
目を有する印刷版用アルミニウム合金基材として好適な
アルミニウム板が得られるように、数々の方法が提案さ
れている。その方法としては、特殊電解電源波形を使っ
た粗面化方法（特開昭５３−６７５０７号公報）、交流
を使った電解粗面化時の陽極時と陰極時の電気量の比率
（特開昭５４−６５６０７号公報）、電源波形（特開昭
５５−２５３８１号公報）、単位面積あたりの通電量の
組み合わせ（特開昭５６−２９６９９号公報）などが知
られている。また、機械的な粗面化と組みあわせ（特開
昭５５−１４２６９５号公報）なども知られている。
としては、交流電解エッチング法が一般的に採用されて
おり、電流としては、普通の正弦波交流電流、矩形波な
どの特殊交番波形電流が用いられている。そして、黒鉛
等の適当な電極を対極として交流電流により、アルミニ
ウム板の粗面化処理を行うもので、通常一回の処理で行
われているが、そこで得られるピット深さは全体的に浅
く、耐刷性能に劣るものであった。このため、その直径
に比べて深さの深いピットが均一かつ緻密に存在する砂
目を有する印刷版用アルミニウム合金基材として好適な
アルミニウム板が得られるように、数々の方法が提案さ
れている。その方法としては、特殊電解電源波形を使っ
た粗面化方法（特開昭５３−６７５０７号公報）、交流
を使った電解粗面化時の陽極時と陰極時の電気量の比率
（特開昭５４−６５６０７号公報）、電源波形（特開昭
５５−２５３８１号公報）、単位面積あたりの通電量の
組み合わせ（特開昭５６−２９６９９号公報）などが知
られている。また、機械的な粗面化と組みあわせ（特開
昭５５−１４２６９５号公報）なども知られている。
【０００４】一方、アルミニウム合金基材の製造方法と
しては、アルミニウムのインゴットを溶解保持してスラ
ブ（厚さ４００〜６００ｍｍ，幅１０００〜２０００ｍ
ｍ，長さ２０００〜６０００ｍｍ）を鋳造し、スラブ表
面の不純物組織部分を面削機にかけて３〜１０ｍｍづつ
切削する面削工程を経た後、スラブ内部の応力の除去と
組織の均一化の為、均熱炉において４８０〜５４０℃，
６〜１２時間保持する均熱化処理工程を行い、しかる後
に熱間圧延を４８０〜５４０℃で行う。熱間圧延で５〜
４０ｍｍの厚みに圧延した後、室温で所定の厚みに冷間
圧延を行う。またその後組織の均一化のため焼鈍を行い
圧延組織等を均質化した後、規定の厚みに冷間圧延を行
い、平坦度の良い板にするため矯正する。この様にして
作られたアルミニウム合金基材を平版印刷版用支持体と
していた。
しては、アルミニウムのインゴットを溶解保持してスラ
ブ（厚さ４００〜６００ｍｍ，幅１０００〜２０００ｍ
ｍ，長さ２０００〜６０００ｍｍ）を鋳造し、スラブ表
面の不純物組織部分を面削機にかけて３〜１０ｍｍづつ
切削する面削工程を経た後、スラブ内部の応力の除去と
組織の均一化の為、均熱炉において４８０〜５４０℃，
６〜１２時間保持する均熱化処理工程を行い、しかる後
に熱間圧延を４８０〜５４０℃で行う。熱間圧延で５〜
４０ｍｍの厚みに圧延した後、室温で所定の厚みに冷間
圧延を行う。またその後組織の均一化のため焼鈍を行い
圧延組織等を均質化した後、規定の厚みに冷間圧延を行
い、平坦度の良い板にするため矯正する。この様にして
作られたアルミニウム合金基材を平版印刷版用支持体と
していた。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、電解粗
面化処理の場合は特に対象となるアルミニウム支持体の
影響を受けやすく、アルミニウム合金基材を溶解保持→
鋳造→面削→均熱という工程を通して製造する場合、加
熱，冷却をくり返し、面削という表面層を削り取る工程
があったとしても、表面層に金属合金成分などのばらつ
きを生じて平板印刷版としては得率低下の原因となって
いた。本発明者らは、先に０．２％＜Ｆｅ＜０．４％の
アルミ溶湯を板状にして直接鋳造し、冷間圧延，熱処理
等を経て得られた支持体で、Ｆｅ含有量の内２０％〜９
０％を結晶粒界に存在することを特徴とする発明を行っ
た（特願平４−２２３５３４号）。上記特許は非常にす
ぐれた特許であるが、更に金属間化合物の平均粒子サイ
ズ及び金属間化合物数等に着目した結果、本発明を見出
したものである。
面化処理の場合は特に対象となるアルミニウム支持体の
影響を受けやすく、アルミニウム合金基材を溶解保持→
鋳造→面削→均熱という工程を通して製造する場合、加
熱，冷却をくり返し、面削という表面層を削り取る工程
があったとしても、表面層に金属合金成分などのばらつ
きを生じて平板印刷版としては得率低下の原因となって
いた。本発明者らは、先に０．２％＜Ｆｅ＜０．４％の
アルミ溶湯を板状にして直接鋳造し、冷間圧延，熱処理
等を経て得られた支持体で、Ｆｅ含有量の内２０％〜９
０％を結晶粒界に存在することを特徴とする発明を行っ
た（特願平４−２２３５３４号）。上記特許は非常にす
ぐれた特許であるが、更に金属間化合物の平均粒子サイ
ズ及び金属間化合物数等に着目した結果、本発明を見出
したものである。
【０００６】本発明の目的は、上記問題点に対処し、更
に優れた砂目立ての出来る、得率の良い平版印刷版用ア
ルミニウム合金基材を提供することにある。
に優れた砂目立ての出来る、得率の良い平版印刷版用ア
ルミニウム合金基材を提供することにある。
【０００７】
【発明を解決するための手段及び作用】本発明の上記目
的は、 アルミニウム溶湯から直接板状に連続鋳造圧延し、
冷間圧延，熱処理を適宜行い、更に矯正を行ったアルミ
ニウム支持体を粗面化する平版印刷版用アルミニウム合
金基材において、アルミニウム合金基材の金属間化合物
の平均粒子サイズが０．５μｍ〜８μｍ，金属間化合物
数５００個／１ｍｍ2 〜１００００個／１ｍｍ2 ，金属
間化合物２０μｍ以上の個数が２％以下であることを特
徴とする平版印刷版用アルミ合金基材 前記アルミニウム合金基材の成分が０．０５％＜Ｆ
ｅ＜０．８％，０．０１％＜Ｓｉ＜０．３％，０．００
５％＜Ｔｉ＜０．１％，０．００５％＜Ｃｕ＜０．２
％，その他の合金成分合計０．３％未満を含むことを特
徴とする前記請求項１記載の平版印刷版用アルミニウム
合金基材によって達成される。
的は、 アルミニウム溶湯から直接板状に連続鋳造圧延し、
冷間圧延，熱処理を適宜行い、更に矯正を行ったアルミ
ニウム支持体を粗面化する平版印刷版用アルミニウム合
金基材において、アルミニウム合金基材の金属間化合物
の平均粒子サイズが０．５μｍ〜８μｍ，金属間化合物
数５００個／１ｍｍ2 〜１００００個／１ｍｍ2 ，金属
間化合物２０μｍ以上の個数が２％以下であることを特
徴とする平版印刷版用アルミ合金基材 前記アルミニウム合金基材の成分が０．０５％＜Ｆ
ｅ＜０．８％，０．０１％＜Ｓｉ＜０．３％，０．００
５％＜Ｔｉ＜０．１％，０．００５％＜Ｃｕ＜０．２
％，その他の合金成分合計０．３％未満を含むことを特
徴とする前記請求項１記載の平版印刷版用アルミニウム
合金基材によって達成される。
【０００８】図１を用いて実施態様の説明をする。図１
（Ａ）において本発明のアルミニウム溶湯の溶解保持炉
１から直接板状に連続鋳造圧延して薄板のコイルを形成
させる方法としては、双ロール２を用いる方法としてハ
ンター法，３Ｃ法などの薄板連鋳技術が実用化されてい
る。またもう一つの方法としては図１（Ｂ）に示すよう
にアルミニウム溶湯から双冷却ベルトで連続鋳造装置７
の後、熱間圧延機８で圧延する方式があり、ハズレー法
等の技術が実用化されている。また図１（Ｄ）として熱
処理（焼鈍）装置５としては、バッチ式，連続焼鈍方
式，誘導加熱方式等があるが、昇温速度としては１℃／
ｓｅｃ以上，温度としては３００℃以上が好ましい。図
１（Ｃ），（Ｅ）にそれぞれ冷間圧延機，矯正装置６を
示す。
（Ａ）において本発明のアルミニウム溶湯の溶解保持炉
１から直接板状に連続鋳造圧延して薄板のコイルを形成
させる方法としては、双ロール２を用いる方法としてハ
ンター法，３Ｃ法などの薄板連鋳技術が実用化されてい
る。またもう一つの方法としては図１（Ｂ）に示すよう
にアルミニウム溶湯から双冷却ベルトで連続鋳造装置７
の後、熱間圧延機８で圧延する方式があり、ハズレー法
等の技術が実用化されている。また図１（Ｄ）として熱
処理（焼鈍）装置５としては、バッチ式，連続焼鈍方
式，誘導加熱方式等があるが、昇温速度としては１℃／
ｓｅｃ以上，温度としては３００℃以上が好ましい。図
１（Ｃ），（Ｅ）にそれぞれ冷間圧延機，矯正装置６を
示す。
【０００９】アルミニウム合金中の金属間化合物の解析
法としては、走査電子顕微鏡（ＳＥＭ），電子プローブ
微量分析（ＥＰＭＡ），Ｘ線解析，光学顕微鏡等の定性
的な方式があるが、定量的に求める方法として熱フェノ
ール抽出分離法がある。熱フェノール抽出分離法は、金
属アルミニウムが熱フェノールに溶解する性質を利用し
て金属間化合物の抽出分離を行う方式である。この様に
して抽出した金属間化合物の数，平均粒径を調べる。粒
径分布を調べる方法としては、コールターカウンター等
使用する。金属間化合物の粒子サイズとしては、１μｍ
以下の数も多いので、測定は、慎重に行う必要がある。
また熱フェノールによる抽出分離法では、残渣の金属間
化合物をメンブランフィルターで濾過分離するので、フ
ィルターのメッシュサイズを最適化し、０．１μｍ程度
迄細く出来ることが重要である。
法としては、走査電子顕微鏡（ＳＥＭ），電子プローブ
微量分析（ＥＰＭＡ），Ｘ線解析，光学顕微鏡等の定性
的な方式があるが、定量的に求める方法として熱フェノ
ール抽出分離法がある。熱フェノール抽出分離法は、金
属アルミニウムが熱フェノールに溶解する性質を利用し
て金属間化合物の抽出分離を行う方式である。この様に
して抽出した金属間化合物の数，平均粒径を調べる。粒
径分布を調べる方法としては、コールターカウンター等
使用する。金属間化合物の粒子サイズとしては、１μｍ
以下の数も多いので、測定は、慎重に行う必要がある。
また熱フェノールによる抽出分離法では、残渣の金属間
化合物をメンブランフィルターで濾過分離するので、フ
ィルターのメッシュサイズを最適化し、０．１μｍ程度
迄細く出来ることが重要である。
【００１０】本発明における平版印刷版用アルミニウム
合金基板の粗面化の方法は機械的粗面化，化学的粗面
化，電気化学的粗面化及びそれらの組合わせ等各種用い
られる。機械的な砂目立て法としては、例えばボールグ
レイン，ワイヤーグレイン，ブラシグレイン，液体ホー
ニング法などがある。また電気化学的砂目立て方法とし
ては、交流電解エッチング法が一般的に採用されてお
り、電流としては、普通の正弦波交流電流、あるいは矩
形波など特殊交番電流が用いられている。またこの電気
化学的砂目立ての前処理として、苛性ソーダなどでエッ
チング処理をしても良い。
合金基板の粗面化の方法は機械的粗面化，化学的粗面
化，電気化学的粗面化及びそれらの組合わせ等各種用い
られる。機械的な砂目立て法としては、例えばボールグ
レイン，ワイヤーグレイン，ブラシグレイン，液体ホー
ニング法などがある。また電気化学的砂目立て方法とし
ては、交流電解エッチング法が一般的に採用されてお
り、電流としては、普通の正弦波交流電流、あるいは矩
形波など特殊交番電流が用いられている。またこの電気
化学的砂目立ての前処理として、苛性ソーダなどでエッ
チング処理をしても良い。
【００１１】また電気化学的粗面化を行う場合、塩酸ま
たは硝酸主体の水溶液で交番電流によって粗面化される
のが良い。以下詳細に説明する。アルミニウム支持体
は、まずアルカリエッチングされる。好ましいアルカリ
剤は、苛性ソーダ，苛性カリ，メタ珪酸ソーダ，炭酸ソ
ーダ，アルミン酸ソーダ，グルコン酸ソーダ等である。
濃度０．０１〜２０％，温度は２０〜９０℃，時間は５
ｓｅｃ〜５ｍｉｎ間の範囲から選択されるのが適当であ
り、好ましいエッチング量としては０．１〜５ｇ／ｍ2
である。特に不純物の多い合金基材の場合、０．０１〜
１ｇ／ｍ2 が適当である。（特開平１−２３７１９７号
公報）。引き続き、アルカリエッチングしたアルミニウ
ム板の表面にアルカリに不溶な物質（スマット）が残存
するので、必要に応じてデスマット処理を行っても良
い。
たは硝酸主体の水溶液で交番電流によって粗面化される
のが良い。以下詳細に説明する。アルミニウム支持体
は、まずアルカリエッチングされる。好ましいアルカリ
剤は、苛性ソーダ，苛性カリ，メタ珪酸ソーダ，炭酸ソ
ーダ，アルミン酸ソーダ，グルコン酸ソーダ等である。
濃度０．０１〜２０％，温度は２０〜９０℃，時間は５
ｓｅｃ〜５ｍｉｎ間の範囲から選択されるのが適当であ
り、好ましいエッチング量としては０．１〜５ｇ／ｍ2
である。特に不純物の多い合金基材の場合、０．０１〜
１ｇ／ｍ2 が適当である。（特開平１−２３７１９７号
公報）。引き続き、アルカリエッチングしたアルミニウ
ム板の表面にアルカリに不溶な物質（スマット）が残存
するので、必要に応じてデスマット処理を行っても良
い。
【００１２】前処理は上記の通りであるが、引き続き、
本発明として塩酸，または硝酸を主体とする電解液中で
交流電解エッチングされる。交流電解電流の周波数とし
ては、０．１〜１００Ｈｚ，より好ましくは０．１〜
１．０又は１０〜６０Ｈｚである。液濃度としては、３
〜１５０ｇ／ｌ，より好ましくは５〜５０ｇ／ｌ，浴内
のアルミニウムの溶解量としては５０ｇ／ｌ以下が適当
であり、より好ましくは２〜２０ｇ／ｌである。必要に
よって添加物を入れても良いが、大量生産をする場合
は、液濃度制御などが難しくなる。また、電流密度は、
５〜１００Ａ／ｄｍ2 が適当であるが、１０〜８０Ａ／
ｄｍ2 がより好ましい。また、電源波形としては、求め
る品質，使用されるアルミニウム支持体の成分によって
適時選択されるが、特公昭５６−１９２８０号，特公昭
５５−１９１９１号各公報に記載の特殊交番波形を用い
るのがより好ましい。この様な波形，液条件は、電気量
と共に求める品質，使用れれるアルミニウム支持体の成
分などによって適時選択される。
本発明として塩酸，または硝酸を主体とする電解液中で
交流電解エッチングされる。交流電解電流の周波数とし
ては、０．１〜１００Ｈｚ，より好ましくは０．１〜
１．０又は１０〜６０Ｈｚである。液濃度としては、３
〜１５０ｇ／ｌ，より好ましくは５〜５０ｇ／ｌ，浴内
のアルミニウムの溶解量としては５０ｇ／ｌ以下が適当
であり、より好ましくは２〜２０ｇ／ｌである。必要に
よって添加物を入れても良いが、大量生産をする場合
は、液濃度制御などが難しくなる。また、電流密度は、
５〜１００Ａ／ｄｍ2 が適当であるが、１０〜８０Ａ／
ｄｍ2 がより好ましい。また、電源波形としては、求め
る品質，使用されるアルミニウム支持体の成分によって
適時選択されるが、特公昭５６−１９２８０号，特公昭
５５−１９１９１号各公報に記載の特殊交番波形を用い
るのがより好ましい。この様な波形，液条件は、電気量
と共に求める品質，使用れれるアルミニウム支持体の成
分などによって適時選択される。
【００１３】電解粗面化されたアルミニウム合金基材
は、次にスマット処理の一部としてアルカリ溶液に浸漬
しスマットを溶解する。アルカリ剤としては、苛性ソー
ダなど各種あるが、ＰＨ１０以上，温度２５〜６０℃、
浸漬時間１〜１０ｓｅｃの極めて短時間で行うことが好
ましい。次に硫酸主体の液に浸漬する。硫酸の液条件と
しては、従来より一段と低い濃度５０〜４００ｇ／ｌ，
温度２５〜６５℃が好ましい。硫酸の濃度を４００ｇ／
ｌ以上，又は温度を６５℃以上にすると処理槽などの腐
食が大きくなる。しかも、マンガンが０．３％以上ある
アルミニウム合金基材では、電気化学的に粗面化された
砂目が崩れてしまう。また、アルミニウム素地の溶解量
が０．２ｇ／ｍ2以上エッチングされると、耐刷力が低
下して来るので、０．２ｇ／ｍ2 以下にすることが好ま
しい。
は、次にスマット処理の一部としてアルカリ溶液に浸漬
しスマットを溶解する。アルカリ剤としては、苛性ソー
ダなど各種あるが、ＰＨ１０以上，温度２５〜６０℃、
浸漬時間１〜１０ｓｅｃの極めて短時間で行うことが好
ましい。次に硫酸主体の液に浸漬する。硫酸の液条件と
しては、従来より一段と低い濃度５０〜４００ｇ／ｌ，
温度２５〜６５℃が好ましい。硫酸の濃度を４００ｇ／
ｌ以上，又は温度を６５℃以上にすると処理槽などの腐
食が大きくなる。しかも、マンガンが０．３％以上ある
アルミニウム合金基材では、電気化学的に粗面化された
砂目が崩れてしまう。また、アルミニウム素地の溶解量
が０．２ｇ／ｍ2以上エッチングされると、耐刷力が低
下して来るので、０．２ｇ／ｍ2 以下にすることが好ま
しい。
【００１４】陽極酸化被膜は、０．１〜１０ｇ／ｍ2 、
より好ましくは０．３〜５ｇ／ｍ2を表面に形成するの
が良い。陽極酸化の処理条件は、使用される電解液によ
って種々変化するので一概には決定されていないが、一
般的には電解液の濃度が１〜８０重量％、液温５〜７０
℃、電流密度０．５〜６０Ａ／ｃｍ2 、電圧１〜１００
Ｖ、電解時間１秒〜５分の範囲が適当である。この様に
して得られた陽極酸化皮膜を持つ砂目のアルミニウム板
はそれ自身安定で親水性に優れたものであるから、直ち
に感光性塗膜を上に設ける事も出来るが、必要により更
に表面処理を施す事が出来る。
より好ましくは０．３〜５ｇ／ｍ2を表面に形成するの
が良い。陽極酸化の処理条件は、使用される電解液によ
って種々変化するので一概には決定されていないが、一
般的には電解液の濃度が１〜８０重量％、液温５〜７０
℃、電流密度０．５〜６０Ａ／ｃｍ2 、電圧１〜１００
Ｖ、電解時間１秒〜５分の範囲が適当である。この様に
して得られた陽極酸化皮膜を持つ砂目のアルミニウム板
はそれ自身安定で親水性に優れたものであるから、直ち
に感光性塗膜を上に設ける事も出来るが、必要により更
に表面処理を施す事が出来る。
【００１５】たとえば、先に記載したアルカリ金属珪酸
塩によるシリケート層あるいは、親水性高分子化合物よ
りなる下塗層を設けることができる。下塗層の塗布量は
５〜１５０ｍｇ／ｍ2 が好ましい。
塩によるシリケート層あるいは、親水性高分子化合物よ
りなる下塗層を設けることができる。下塗層の塗布量は
５〜１５０ｍｇ／ｍ2 が好ましい。
【００１６】次に、このように処理したアルミニウム支
持体上に感光性塗膜を設け、画像露光、現像して製版し
た後に、印刷機にセットし、印刷を開始する。
持体上に感光性塗膜を設け、画像露光、現像して製版し
た後に、印刷機にセットし、印刷を開始する。
【００１７】
（実施例−１〜５，比較例−１〜５）図１に示す設備を
用いて連続鋳造圧延し、冷間圧延，熱処理を行い、更に
矯正を行って、合金成分及び金属間化合物の各条件を変
化させ、最終板厚０．４ｍｍの板を１０種類作成し、こ
の様にして出来たアルミニウム板を、１５％苛性ソーダ
水溶液でエッチング量が７ｇ／ｍ2 になる様に温度５０
℃でエッチングし、硝酸１５ｇ／ｌの液中に１０ｓｅｃ
浸漬してデスマットし、水洗した。更に支持体を１５ｇ
／ｌ硝酸水溶液中で、特公昭５５−１９１９１号公報に
記載の交番波形電流を用いて電気化学的に粗面化した。
電解条件としては、アノード電圧ＶA ＝１４ボルト，カ
ソード電圧ＶC ＝１２ボルトとして、陽極電気量が、３
５０クーロン／ｄｍ2 になる様にした。その後３００ｇ
／ｌ，６０℃の硫酸中に２０ｓｅｃ浸漬し、デスマット
を行い、走査電子顕微鏡写真で砂目の生成を観察した。
作成した基板の金属間化合物を量を明らかにする為、Ｅ
ＰＭＡマッピング並びに光学顕微鏡による観察を行い、
金属間化合物の数を求めた。その結果と走査電子顕微鏡
（ＳＥＭ）の観察結果を表１に示す。
用いて連続鋳造圧延し、冷間圧延，熱処理を行い、更に
矯正を行って、合金成分及び金属間化合物の各条件を変
化させ、最終板厚０．４ｍｍの板を１０種類作成し、こ
の様にして出来たアルミニウム板を、１５％苛性ソーダ
水溶液でエッチング量が７ｇ／ｍ2 になる様に温度５０
℃でエッチングし、硝酸１５ｇ／ｌの液中に１０ｓｅｃ
浸漬してデスマットし、水洗した。更に支持体を１５ｇ
／ｌ硝酸水溶液中で、特公昭５５−１９１９１号公報に
記載の交番波形電流を用いて電気化学的に粗面化した。
電解条件としては、アノード電圧ＶA ＝１４ボルト，カ
ソード電圧ＶC ＝１２ボルトとして、陽極電気量が、３
５０クーロン／ｄｍ2 になる様にした。その後３００ｇ
／ｌ，６０℃の硫酸中に２０ｓｅｃ浸漬し、デスマット
を行い、走査電子顕微鏡写真で砂目の生成を観察した。
作成した基板の金属間化合物を量を明らかにする為、Ｅ
ＰＭＡマッピング並びに光学顕微鏡による観察を行い、
金属間化合物の数を求めた。その結果と走査電子顕微鏡
（ＳＥＭ）の観察結果を表１に示す。
【００１８】
【表１】
【００１９】表１より実施例１〜５はアルミニウム合金
基材の成分が０．０５％＜Ｆｅ，０．０１＜Ｓｉ＜０．
３，０．００５％＜Ｃｕ＜０．２％，０．００５％＜Ｔ
ｉ＜０．１％で、その他の合金成分合計０．３％未満で
あり、金属間化合物の平均粒子サイズが０．５〜８μｍ
で、金属間化合物数５００個／１ｍｍ2 〜１０，０００
個／ｌｍｍ3 で金属間化合物２０μｍ以上の個数が２％
以下であるものにおいてＳＥＭ砂目観察結果が良又は可
という結果が得られた。
基材の成分が０．０５％＜Ｆｅ，０．０１＜Ｓｉ＜０．
３，０．００５％＜Ｃｕ＜０．２％，０．００５％＜Ｔ
ｉ＜０．１％で、その他の合金成分合計０．３％未満で
あり、金属間化合物の平均粒子サイズが０．５〜８μｍ
で、金属間化合物数５００個／１ｍｍ2 〜１０，０００
個／ｌｍｍ3 で金属間化合物２０μｍ以上の個数が２％
以下であるものにおいてＳＥＭ砂目観察結果が良又は可
という結果が得られた。
【００２０】
【発明の効果】本発明の平版印刷版用アルミニウム合金
基材により、従来より更に優れた砂目立の出来る、そし
て得率の良い平版印刷版用アルミニウム合金基材が得ら
れた。
基材により、従来より更に優れた砂目立の出来る、そし
て得率の良い平版印刷版用アルミニウム合金基材が得ら
れた。
【図１】本発明の平版印刷版用アルミニウム合金基材の
製造方法の一実施例を表現する連続鋳造圧延工程
（Ａ），（Ｂ）、冷間圧延工程（Ｃ），熱処理工程
（Ｄ），矯正工程（Ｅ）の概略図。
製造方法の一実施例を表現する連続鋳造圧延工程
（Ａ），（Ｂ）、冷間圧延工程（Ｃ），熱処理工程
（Ｄ），矯正工程（Ｅ）の概略図。
１ 溶解保持炉 ２ 双ロール連続鋳造装置 ３ コイラー ４ 冷間圧延機 ５ 熱処理機 ６ 矯正装置 ７ 双ベルト連続鋳造装置 ８ 熱間圧延機
Claims (2)
- 【請求項１】 アルミニウム溶湯から直接板状に連続鋳
造圧延し、冷間圧延，熱処理を適宜行い、更に矯正を行
ったアルミニウム支持体を粗面化する平版印刷版用アル
ミニウム合金基材において、アルミニウム合金基材の金
属間化合物の平均粒子サイズが０．５μｍ〜８μｍ，金
属間化合物数５００個／１ｍｍ2 〜１００００個／１ｍ
ｍ2 ，金属間化合物２０μｍ以上の個数が２％以下であ
ることを特徴とする平版印刷版用アルミ合金基材 - 【請求項２】 前記アルミニウム合金基材の成分が０．
０５％＜Ｆｅ＜０．８％，０．０１％＜Ｓｉ＜０．３
％，０．００５％＜Ｔｉ＜０．１％，０．００５％＜Ｃ
ｕ＜０．２％，その他の合金成分合計０．３％未満を含
むことを特徴とする前記請求項１記載の平版印刷版用ア
ルミニウム合金基材
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30710893A JPH07138687A (ja) | 1993-11-15 | 1993-11-15 | 平版印刷版用アルミニウム合金基材 |
| EP94117623A EP0652298A1 (en) | 1993-11-09 | 1994-11-08 | Aluminum alloy support for planographic printing plate |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30710893A JPH07138687A (ja) | 1993-11-15 | 1993-11-15 | 平版印刷版用アルミニウム合金基材 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07138687A true JPH07138687A (ja) | 1995-05-30 |
Family
ID=17965135
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP30710893A Pending JPH07138687A (ja) | 1993-11-09 | 1993-11-15 | 平版印刷版用アルミニウム合金基材 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07138687A (ja) |
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0770911A1 (en) | 1995-10-23 | 1997-05-02 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Light-sensitive sheet having aluminum alloy support and silver halide light-sensitive material using the same |
| US5779824A (en) * | 1994-08-05 | 1998-07-14 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Aluminum alloy support for planographic printing plate and method for producing the same |
| EP1625944A1 (en) | 2004-08-13 | 2006-02-15 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Method of manufacturing lithographic printing plate support |
| EP1712368A1 (en) | 2005-04-13 | 2006-10-18 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Method of manufacturing a support for a lithographic printing plate |
| WO2010038812A1 (ja) | 2008-09-30 | 2010-04-08 | 富士フイルム株式会社 | 電解処理方法および電解処理装置 |
| WO2010150810A1 (ja) | 2009-06-26 | 2010-12-29 | 富士フイルム株式会社 | 光反射基板およびその製造方法 |
| WO2011078010A1 (ja) | 2009-12-25 | 2011-06-30 | 富士フイルム株式会社 | 絶縁基板、絶縁基板の製造方法、配線の形成方法、配線基板および発光素子 |
| JP2012089481A (ja) * | 2010-09-24 | 2012-05-10 | Fujifilm Corp | 異方導電性部材 |
| US20160294002A1 (en) * | 2014-01-31 | 2016-10-06 | Fujifilm Corporation | Method for manufacturing aluminum plate, aluminum plate, collector for storage device, and storage device |
| CN110142568A (zh) * | 2019-05-31 | 2019-08-20 | 山东松竹铝业股份有限公司 | 一种高光镭射铝型材加工工艺 |
-
1993
- 1993-11-15 JP JP30710893A patent/JPH07138687A/ja active Pending
Cited By (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5779824A (en) * | 1994-08-05 | 1998-07-14 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Aluminum alloy support for planographic printing plate and method for producing the same |
| EP0770911A1 (en) | 1995-10-23 | 1997-05-02 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Light-sensitive sheet having aluminum alloy support and silver halide light-sensitive material using the same |
| EP1625944A1 (en) | 2004-08-13 | 2006-02-15 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Method of manufacturing lithographic printing plate support |
| EP1712368A1 (en) | 2005-04-13 | 2006-10-18 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Method of manufacturing a support for a lithographic printing plate |
| WO2010038812A1 (ja) | 2008-09-30 | 2010-04-08 | 富士フイルム株式会社 | 電解処理方法および電解処理装置 |
| WO2010150810A1 (ja) | 2009-06-26 | 2010-12-29 | 富士フイルム株式会社 | 光反射基板およびその製造方法 |
| WO2011078010A1 (ja) | 2009-12-25 | 2011-06-30 | 富士フイルム株式会社 | 絶縁基板、絶縁基板の製造方法、配線の形成方法、配線基板および発光素子 |
| JP2012089481A (ja) * | 2010-09-24 | 2012-05-10 | Fujifilm Corp | 異方導電性部材 |
| US20160294002A1 (en) * | 2014-01-31 | 2016-10-06 | Fujifilm Corporation | Method for manufacturing aluminum plate, aluminum plate, collector for storage device, and storage device |
| US10593989B2 (en) * | 2014-01-31 | 2020-03-17 | Fujifilm Corporation | Method for manufacturing aluminum plate, aluminum plate, collector for storage device, and storage device |
| CN110142568A (zh) * | 2019-05-31 | 2019-08-20 | 山东松竹铝业股份有限公司 | 一种高光镭射铝型材加工工艺 |
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