JPH0714880Y2 - 電極の汚れ診断機能付き残留塩素計 - Google Patents
電極の汚れ診断機能付き残留塩素計Info
- Publication number
- JPH0714880Y2 JPH0714880Y2 JP1988158605U JP15860588U JPH0714880Y2 JP H0714880 Y2 JPH0714880 Y2 JP H0714880Y2 JP 1988158605 U JP1988158605 U JP 1988158605U JP 15860588 U JP15860588 U JP 15860588U JP H0714880 Y2 JPH0714880 Y2 JP H0714880Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- standard solution
- electrode
- measured
- switching valve
- generating means
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
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- Electrolytic Production Of Non-Metals, Compounds, Apparatuses Therefor (AREA)
- Hybrid Cells (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】 〈産業上の利用分野〉 本考案は電極の汚れを自動で検知できる残留塩素計に関
する。
する。
〈従来の技術〉 残留塩素計において支持誤差の原因の一つとして電極の
感度低下の問題がある。電極の感度低下の原因の一つに
電極の汚れがある。
感度低下の問題がある。電極の感度低下の原因の一つに
電極の汚れがある。
第３図は無試薬形残留塩素計の測定セルを示す。図中、
１は測定槽で、底部に流入口２が設けられ、この部分か
ら被測定液Ｓが槽内に導かれる。オーバーフローした被
測定液は流出口３より排出される。測定槽１にはガラス
ビーズ４が入れられ、この部分に先端にスポット電極5a
を設けた回転電極５が挿入される。更にこの電極と対向
して比較電極６が設けられる。一点鎖線で囲んだ部分７
は検出回路である。
１は測定槽で、底部に流入口２が設けられ、この部分か
ら被測定液Ｓが槽内に導かれる。オーバーフローした被
測定液は流出口３より排出される。測定槽１にはガラス
ビーズ４が入れられ、この部分に先端にスポット電極5a
を設けた回転電極５が挿入される。更にこの電極と対向
して比較電極６が設けられる。一点鎖線で囲んだ部分７
は検出回路である。
回転電極５はガラスビーズ４の中で回転する際、電極表
面の汚れが洗浄される。ガラスビーズ４は流入口２から
導かれた被測定液Ｓのジェット噴流によって攪拌され、
表面に付着した汚れが洗浄される。
面の汚れが洗浄される。ガラスビーズ４は流入口２から
導かれた被測定液Ｓのジェット噴流によって攪拌され、
表面に付着した汚れが洗浄される。
このように測定セルを使用しても電極の汚れは避けられ
ず、感度低下が起こる。従来装置では定期的に電極の保
守、点検を行い、目視で電極の汚れをチェックしてい
た。しかし、残留塩素計がプロセス用の現場常設タイプ
の場合、計器室から遠く離れた現場に一々出向いてチェ
ックする必要があり、現場においても電極を測定セルか
ら取外したり、取付けたりする手作業が必要でチェック
作業が面倒であった。
ず、感度低下が起こる。従来装置では定期的に電極の保
守、点検を行い、目視で電極の汚れをチェックしてい
た。しかし、残留塩素計がプロセス用の現場常設タイプ
の場合、計器室から遠く離れた現場に一々出向いてチェ
ックする必要があり、現場においても電極を測定セルか
ら取外したり、取付けたりする手作業が必要でチェック
作業が面倒であった。
〈考案が解決しようとする課題〉 前記残留塩素計において、電極の感度の低下を、手作業
を排除して自動で診断できるようにすることにある。
を排除して自動で診断できるようにすることにある。
〈課題を解決するための手段〉 このような目的を達成するために、本考案は、 洗浄機構が設けられた測定セル内に回転電極と比較電極
とを入れ、これら電極間にポーラログラフ法により流れ
る電流から被測定液中の塩素濃度を測定する残留塩素計
において、 高濃度のNaCl水溶液を貯留し、電気分解で塩素を発生
し、一定塩素濃度の校正用標準液を得る標準液発生手段
と、 この標準液発生手段と前記被測定液側とを切換えて前記
測定セルに接続する切換弁と、 この切換弁及び前記洗浄機構を制御し、前記測定セルの
使用開始前に前記標準液を用いて測定した測定結果が記
憶された演算制御部、 を設け、電極試験時、前記切換弁を前記標準液発生手段
側に切換え、前記洗浄機構で洗浄された前記回転電極を
使用して前記標準液の測定を行い、予め記憶された測定
結果と比較し電極の汚れを検知するようにしている。
とを入れ、これら電極間にポーラログラフ法により流れ
る電流から被測定液中の塩素濃度を測定する残留塩素計
において、 高濃度のNaCl水溶液を貯留し、電気分解で塩素を発生
し、一定塩素濃度の校正用標準液を得る標準液発生手段
と、 この標準液発生手段と前記被測定液側とを切換えて前記
測定セルに接続する切換弁と、 この切換弁及び前記洗浄機構を制御し、前記測定セルの
使用開始前に前記標準液を用いて測定した測定結果が記
憶された演算制御部、 を設け、電極試験時、前記切換弁を前記標準液発生手段
側に切換え、前記洗浄機構で洗浄された前記回転電極を
使用して前記標準液の測定を行い、予め記憶された測定
結果と比較し電極の汚れを検知するようにしている。
〈作用〉 前記標準液発生手段は、例えば一定、高濃度のNaCl水溶
液を貯留し、必要に応じて電気分解で塩素を発生し、一
定塩素濃度の校正用標準液を作る。前記電極に汚れが全
くない初期時に、前記切換弁を前記標準液発生側に切換
え、前記校正用標準液を前記測定セルに流し測定を行
う。このときの測定電流を前記演算制御部に記憶させ
る。この後、前記切換弁を前記被測定液側に切換え測定
を行う。一定期間経過後、前記回転電極を洗浄した後、
前記切換弁を前記標準液発生側に切換え前記校正用標準
液を用いて測定を行う。この測定結果を前記初期時の測
定結果と比較し、初期時の測定結果を基準に設定した設
定値より感度が下がった場合、電極の劣化として異常信
号を出す。
液を貯留し、必要に応じて電気分解で塩素を発生し、一
定塩素濃度の校正用標準液を作る。前記電極に汚れが全
くない初期時に、前記切換弁を前記標準液発生側に切換
え、前記校正用標準液を前記測定セルに流し測定を行
う。このときの測定電流を前記演算制御部に記憶させ
る。この後、前記切換弁を前記被測定液側に切換え測定
を行う。一定期間経過後、前記回転電極を洗浄した後、
前記切換弁を前記標準液発生側に切換え前記校正用標準
液を用いて測定を行う。この測定結果を前記初期時の測
定結果と比較し、初期時の測定結果を基準に設定した設
定値より感度が下がった場合、電極の劣化として異常信
号を出す。
〈実施例〉 以下図面に従い本考案の実施例を説明する。第１図は本
考案実施例装置の構成図である。図中、第３図と同じ要
素には同一符号を付し、説明は省略する。Ｗは浄水、SA
は一定高濃度のNaCl水溶液、8,9は三方切換弁、10は三
方切換弁８の下流側に設けられた定流量ポンプである。
考案実施例装置の構成図である。図中、第３図と同じ要
素には同一符号を付し、説明は省略する。Ｗは浄水、SA
は一定高濃度のNaCl水溶液、8,9は三方切換弁、10は三
方切換弁８の下流側に設けられた定流量ポンプである。
11は三方切換弁12を介し一定高濃度のNaCl水溶液が供給
され、二方切換弁13を介し浄水Ｗが供給された校正用標
準液発生手段で、11aは密閉容器、11bはテフロン膜等の
隔膜、A,Bは隔膜11bで仕切られた室、11cは室Ａに設け
られた陽極、11dは室Ｂに設けられた陰極である。尚、
室ＢにはNaCl電解液が充填されている。
され、二方切換弁13を介し浄水Ｗが供給された校正用標
準液発生手段で、11aは密閉容器、11bはテフロン膜等の
隔膜、A,Bは隔膜11bで仕切られた室、11cは室Ａに設け
られた陽極、11dは室Ｂに設けられた陰極である。尚、
室ＢにはNaCl電解液が充填されている。
14は室Ａ内の液を攪拌する攪拌器、15は定電流源、16は
調圧弁、17はCl2除去器、18は流量計、19は演算制御部
である。
調圧弁、17はCl2除去器、18は流量計、19は演算制御部
である。
このような構成で、回転電極５の汚れが全くない初期時
に、校正用標準液を測定槽１に流して校正を行う。校正
用標準液は次のようにして作る。演算制御部19からの制
御信号で三方切換弁8,9が切換えられ、Cl2除去器17を介
し浄水Ｗが測定槽１に供給されゼロ校正が行われる。同
時に二方切換弁13が開とされ標準液発生手段11に浄水Ｗ
が導かれる。尚、このとき三方切換弁12のドレン側は開
とされ容器11a中に残されたNaCl水溶液はドレインされ
る。
に、校正用標準液を測定槽１に流して校正を行う。校正
用標準液は次のようにして作る。演算制御部19からの制
御信号で三方切換弁8,9が切換えられ、Cl2除去器17を介
し浄水Ｗが測定槽１に供給されゼロ校正が行われる。同
時に二方切換弁13が開とされ標準液発生手段11に浄水Ｗ
が導かれる。尚、このとき三方切換弁12のドレン側は開
とされ容器11a中に残されたNaCl水溶液はドレインされ
る。
容器11aが浄水Ｗで満たされた後、二方切換弁13が閉じ
られ、三方切換弁12が高濃度NaCl水溶液側に開となる。
また、三方切換弁９を一定時間切換え、定流量ポンプ10
により一定量の高濃度のNaCl水溶液を容器11aに導く。
三方切換弁9,12を切換え、NaCl水溶液を止め。測定槽１
に浄水Ｗを流す。
られ、三方切換弁12が高濃度NaCl水溶液側に開となる。
また、三方切換弁９を一定時間切換え、定流量ポンプ10
により一定量の高濃度のNaCl水溶液を容器11aに導く。
三方切換弁9,12を切換え、NaCl水溶液を止め。測定槽１
に浄水Ｗを流す。
攪拌器14によって容器11a内の溶液を攪拌しNaCl濃度を
一定にした後、定電流源15から電極11c,11d間に一定時
間、定電流を流す。これにより一定量のCl2が発生し容
器11内に一定塩素濃度の標準液が作られる。
一定にした後、定電流源15から電極11c,11d間に一定時
間、定電流を流す。これにより一定量のCl2が発生し容
器11内に一定塩素濃度の標準液が作られる。
この後、三方切換弁９を標準液発生手段11側に開とし標
準液を測定槽１に供給し測定を行う。この初期時の測定
電流は演算制御部19のメモリに記憶される。
準液を測定槽１に供給し測定を行う。この初期時の測定
電流は演算制御部19のメモリに記憶される。
次に三方切換弁８を被測定液Ｓ側を切換えて測定槽１に
被測定液Ｓを供給し測定を行う。検出回路７より演算制
御部19に導かれた測定信号は所定の演算が施され、指示
出力S0として図示されていない表示部に出力される。一
定時間経過後、演算制御部19からの制御信号に基づき初
期時に行った校正と同じ手順で一定塩素濃度の標準液を
作り、この標準液を用いて測定を行い、この測定結果を
前記初期時の測定結果と比較する。異常検知について第
２図に従い説明を行う。本図において、C1は初期時に標
準液発生手段11で生成した標準液を用いて行った測定結
果を表わし、i0はそのときのプラトー電流値である。C2
は一定時間経過後に、初期時と同じ一定塩素濃度の標準
液を用いて行った測定結果を表わし、ｉはそのときのプ
ラトー電流値である。Ｉは予め設定された異常信号レベ
ルで、測定電流ｉがＩ以下になった場合、異常信号SAが
演算制御部19より発せられ、計器室に伝送される。異常
信号SAがあったとき電極の感度が校正の範囲を越えて低
下したと判断し、現場に出向いて電極の交換を行う。
被測定液Ｓを供給し測定を行う。検出回路７より演算制
御部19に導かれた測定信号は所定の演算が施され、指示
出力S0として図示されていない表示部に出力される。一
定時間経過後、演算制御部19からの制御信号に基づき初
期時に行った校正と同じ手順で一定塩素濃度の標準液を
作り、この標準液を用いて測定を行い、この測定結果を
前記初期時の測定結果と比較する。異常検知について第
２図に従い説明を行う。本図において、C1は初期時に標
準液発生手段11で生成した標準液を用いて行った測定結
果を表わし、i0はそのときのプラトー電流値である。C2
は一定時間経過後に、初期時と同じ一定塩素濃度の標準
液を用いて行った測定結果を表わし、ｉはそのときのプ
ラトー電流値である。Ｉは予め設定された異常信号レベ
ルで、測定電流ｉがＩ以下になった場合、異常信号SAが
演算制御部19より発せられ、計器室に伝送される。異常
信号SAがあったとき電極の感度が校正の範囲を越えて低
下したと判断し、現場に出向いて電極の交換を行う。
〈考案の効果〉 本考案によれば、電極の汚れを自動で検知でき、計器室
から遠く離れた現場に一々出向いてチェックする必要が
ない。またチェックの際に附随する手作業が一切要ら
ず、保守がし易くなり、トラブルを未然に防止できる。
から遠く離れた現場に一々出向いてチェックする必要が
ない。またチェックの際に附随する手作業が一切要ら
ず、保守がし易くなり、トラブルを未然に防止できる。
第１図は本考案実施例装置の構成図、第２図は本考案実
施例装置の動作説明図、第３図は従来の残留塩素計の測
定セルを示す断面図である。 １…測定槽、５…回転電極、６…比較電極、７…検出回
路、8,9,12…三方切換弁、13…二方切換弁、10…定流量
ポンプ、11…標準液発生手段、15…定電流源、17…Cl2
除去器、19…演算抑制部、Ｓ…被測定液、Ｗ…浄水、SA
…一定、高濃度のNaCl水溶液
施例装置の動作説明図、第３図は従来の残留塩素計の測
定セルを示す断面図である。 １…測定槽、５…回転電極、６…比較電極、７…検出回
路、8,9,12…三方切換弁、13…二方切換弁、10…定流量
ポンプ、11…標準液発生手段、15…定電流源、17…Cl2
除去器、19…演算抑制部、Ｓ…被測定液、Ｗ…浄水、SA
…一定、高濃度のNaCl水溶液
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)考案者 緒方 清徳 東京都武蔵野市中町２丁目９番32号 横河 電機株式会社内 (56)参考文献 実開 昭62−93760（ＪＰ，Ｕ) 実開 昭54−58092（ＪＰ，Ｕ) 実開 平１−120655（ＪＰ，Ｕ)
Claims (1)
- 【請求項１】洗浄機構が設けられた測定セル内に回転電
極と比較電極とを入れ、これら電極間にポーラログラフ
法により流れる電流から被測定液中の塩素濃度を測定す
る残留塩素計において、 高濃度のNaCl水溶液を貯留し、電気分解で塩素を発生
し、一定塩素濃度の校正用標準液を得る標準液発生手段
と、 この標準液発生手段と前記被測定液側とを切換えて前記
測定セルに接続する切換弁と、 この切換弁及び前記洗浄機構を制御し、前記測定セルの
使用開始前に前記標準液を用いて測定した測定結果が記
憶された演算制御部、 を設け、電極試験時、前記切換弁を前記標準液発生手段
側に切換え、前記洗浄機構で洗浄された前記回転電極を
使用して前記標準液の測定を行い、予め記憶された測定
結果と比較し電極の汚れを検知するようにした電極の汚
れ診断機能付き残留塩素計。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1988158605U JPH0714880Y2 (ja) | 1988-12-06 | 1988-12-06 | 電極の汚れ診断機能付き残留塩素計 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1988158605U JPH0714880Y2 (ja) | 1988-12-06 | 1988-12-06 | 電極の汚れ診断機能付き残留塩素計 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0295846U JPH0295846U (ja) | 1990-07-31 |
| JPH0714880Y2 true JPH0714880Y2 (ja) | 1995-04-10 |
Family
ID=31439083
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1988158605U Expired - Lifetime JPH0714880Y2 (ja) | 1988-12-06 | 1988-12-06 | 電極の汚れ診断機能付き残留塩素計 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0714880Y2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7214555B2 (en) | 1995-03-18 | 2007-05-08 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Method for producing display device |
| US8873011B2 (en) | 2000-03-16 | 2014-10-28 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Liquid crystal display device and method of manufacturing the same |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2585972Y2 (ja) * | 1992-09-22 | 1998-11-25 | 電気化学計器株式会社 | 自動校正機能付き残留塩素計 |
| JP6372302B2 (ja) * | 2014-10-20 | 2018-08-15 | 東亜ディーケーケー株式会社 | 遊離残留塩素測定装置 |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5458092U (ja) * | 1977-09-30 | 1979-04-21 | ||
| JPS6293760U (ja) * | 1985-12-04 | 1987-06-15 |
-
1988
- 1988-12-06 JP JP1988158605U patent/JPH0714880Y2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7214555B2 (en) | 1995-03-18 | 2007-05-08 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Method for producing display device |
| US7271858B2 (en) | 1995-03-18 | 2007-09-18 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Method for producing display-device |
| US7483091B1 (en) | 1995-03-18 | 2009-01-27 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor display devices |
| US8873011B2 (en) | 2000-03-16 | 2014-10-28 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Liquid crystal display device and method of manufacturing the same |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0295846U (ja) | 1990-07-31 |
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