JPH071543B2 - 保護膜の製造方法 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は強磁性金属薄膜を磁気記録層とする磁気ディス
クの製造方法に関するものであり、特にヘッドの接触に
伴う記録層が耐久性に優れた磁気ディスクの製造法を提
供せんとするものである。

（従来の技術） 従来強磁性金属薄膜を記録層とする磁気ディスクは金属
材料を真空蒸着或は樹脂マトリックスに磁性材料と分散
させたエマルジョンをスピンコートなどによりAl等の基
板上に薄膜として設けているものである。これらの材料
は高密度記録に優れた特性を有するがヘッドとの接触に
よって記録層の磨耗や損傷をうけやい。又金属層は空気
中で酸化され易く特性を変化せしめるという欠点を有す
る。このため金属記録層の上に種々の保護膜を設けるこ
とにより耐久性並に耐食性を改善することが実施されて
おり、この保護膜として金属膜や樹脂皮膜を形成するこ
とがしばしば行われている。

然しながら樹脂皮膜を保護膜として使用する場合にはス
ペーシングロスの原因となる厚膜化になる傾向があると
共に均一膜のものをうることが出来ず、又ヘッド材質に
よってはヘッドの磨耗を生じることがあり、CSSテスト
などによる耐久性の評価もよくない。更に樹脂皮膜と記
録層との接着強度も劣るものであった。

又カーボン膜や金属膜を保護膜として使用する場合に
は、薄膜成長の過程で、最初核が多数でき、互いに接触
合体して島状構造になり、これらがつながって、一様な
連続膜となる。この成長メカニズムからも容易に分る通
り有機膜と異なり、連続膜の一部にピンホールがとり残
されることがあり、そこを起点としてふしょくが始まる
ことがしばしば見られる。

（発明が解決しようとする問題点） 本発明はかかる現状に鑑み鋭意研究を行った結果、磁気
記録層上に設ける保護膜として均一性、耐久性及び潤滑
性に優れた皮膜を開発したものである。

（問題点を解決するための手段） 本発明方法はアルミニウム基板面上に強磁性金属膜から
なる磁気記録層を形成する。即ちアルミニウム基板上に
Ni−Ｐなどの化学メッキ層を付着せしめた後研磨仕上げ
を行って物理的或は化学的の手段により強磁性金属皮膜
を形成する。

次いで図面に示す如き対極形プラズマ重合装置に上記の
強磁性金属薄膜付金属板を固定しフッ素を含む有機化合
物の蒸気を導入し、強磁性金属薄膜上にプラズマ重合に
より保護膜を形成させるものである。

なお図において１はキャリヤガス源、２はモノマーガス
源、３は真空ポンプ、４は高周波電源、５は対向電極、
６は磁気ディスク、７はモノマー導入ノズル、８はベル
ジャー、９は絶対真空計である。

而して本発明方法はフッ素を含む有機化合物として下記
の如く特殊な物質を使用するものである。即ち一般式 からなるものである。

この有機化合物は一般に液体であり、これを定圧、定温
下で飽和蒸気圧が得られるようなクローズド系でガス化
を行って反応容器内に導入する。この場合、該有機化合
物を単独又はアルゴン、ヘリウム、窒素などの不活性ガ
スを混合せしめて反応容器内に導入し、その内圧を0.00
5〜3Torr望ましくは0.01〜1.5Torrの範囲に保持してプ
ラズマ重合を行うものである。

このときのプラズマ発生は高周波プラズマが使用され、
その出力は50W〜500W、周波数は13.56MHzである。又プ
ラズマ重合の反応時間は数十秒から通常数分以内にて終
了する。

なおガスの流入量はキャリヤガス及びモノマーガス共に
100〜5cc/分（at20℃）にて流入する。

斯くして得られた保護膜の厚さは通常10Å〜1000Åの範
囲のものがよく、特に好ましくは100Å〜600Å程度のも
のが良結果をもたらす。

なおプラズマ重合に際しモノマーを反応容器内に導入す
るに高熱配管を使用して高沸点モノマーを使用すること
により均一な保護膜をうることができる。

（実施例） ５インチ径のAl板上にNi−Ｐのメッキ層を密着せしめこ
れに研磨を施して強磁性金属薄膜による記録層を設けた
磁気ディスクの表面にプラズマ重合法により本発明保護
膜をえた。

即ち図面に示す対電極型プラズマ重合装置を使用し、そ
のステンレス製電極（直径130m/m）5,5′を50m/mの間隔
を保ち、アース側電極５の上に上記の磁気ディスク６を
載置する。なお反応容器８内は予め真空ポンプ３による
吸引して10^-6mmHgまで真空にした後、純アルゴンガスを
そのガス源１より2Kg/cm²の背圧をかけて60cc/分の条件
で供給しながら安定状態になった後高周波電源４より1
3.56MHzの高周波プラズマを発生せしめた。然る後上記
アルゴンガスとほぼ同量のモノマーガスとして からなる弗素系メトキンシラン化合物をノズル７を介し
てモノマーガス源２より導入し系が安定した後、第１表
に示す所望の反応時間経過後種々の膜厚を有する本発明
保護膜（本発明品）を被着せしめた。

なお本発明方法による保護膜と比較するために上記の磁
気ディスクにカーボン被膜による保護膜を被着せしめた
比較例品をえた。

斯くして得た本発明品及び比較例品についてその性能を
試みるためにCSS測定機により22℃、70％RHの雰囲気に
保ったクリーンブース内で耐久性テストを行った。

なおディスクの回転数は3600r.p.m.2.5MHzの信号入力を
与えながらスピンタイム3secに設定した。その結果は第
１表に併記した通りである。

上表より明らかな如く本発明方法によれば耐久性に優れ
た保護膜を被着しうることが確認された。さらに60℃、
80％RHの環境下に10日間放置して最大磁束密度を測定し
た。放置前の磁気ディスクの最大磁束密度を100％とし
これと比較した値でその耐蝕性を調べた。

（効果） 以上詳述した如く本発明方法によれば耐摩耗性、耐食性
及び磁気特性に優れた磁気ディスク用保護膜をうるため
ヘッドに磨耗を生ぜしめることなく且つCSSテストにお
いても実用上何等支障のない等工業上極めて有用のもの
である。

【図面の簡単な説明】

図面は本発明方法により磁気ディスク用保護膜をうるた
めの概略説明図である。 １…キャリヤガス源、２…モノマーガス源、３…真空ポ
ンプ、４…高周波電源、５…対向電極、６…磁気ディス
ク、７…モノマー導入ノズル、８…ベルジャー。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】基板上に強磁性金属膜からなる磁気記録層
   を形成した後、該磁気記録層を からなる化合物の一つを用いて、その蒸気中に曝してプ
   ラズマ重合を行ってえたプラズマ重合保護膜にて被着し
   たことを特徴とする保護膜の製造方法。