JPH0715589B2 - 電子写真感光体、その基体の処理方法および電子写真感光体の製造方法 - Google Patents
電子写真感光体、その基体の処理方法および電子写真感光体の製造方法Info
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- JPH0715589B2 JPH0715589B2 JP63238877A JP23887788A JPH0715589B2 JP H0715589 B2 JPH0715589 B2 JP H0715589B2 JP 63238877 A JP63238877 A JP 63238877A JP 23887788 A JP23887788 A JP 23887788A JP H0715589 B2 JPH0715589 B2 JP H0715589B2
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- electrophotographic photosensitive
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- G03G5/00—Recording-members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat or to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
- G03G5/10—Bases for charge-receiving or other layers
- G03G5/102—Bases for charge-receiving or other layers consisting of or comprising metals
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F05—INDEXING SCHEMES RELATING TO ENGINES OR PUMPS IN VARIOUS SUBCLASSES OF CLASSES F01-F04
- F05C—INDEXING SCHEME RELATING TO MATERIALS, MATERIAL PROPERTIES OR MATERIAL CHARACTERISTICS FOR MACHINES, ENGINES OR PUMPS OTHER THAN NON-POSITIVE-DISPLACEMENT MACHINES OR ENGINES
- F05C2253/00—Other material characteristics; Treatment of material
- F05C2253/16—Fibres
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- Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、粗面化処理を施した基体の上に感光層を形成
した電子写真感光体に関し、詳しくは、レーザービーム
を像様にライン走査する方式の電子写真プリンタに適し
た電子写真感光体に関する。
した電子写真感光体に関し、詳しくは、レーザービーム
を像様にライン走査する方式の電子写真プリンタに適し
た電子写真感光体に関する。
従来の技術 従来、レーザービームをライン走査する方式の電子写真
プリンタは、レーザービームとして、ヘリウム−カドミ
ウムレーザー、アルゴンレーザー、ヘリウム−ネオンレ
ーザー等の比較的短波長のガスレーザーが使用され、し
かもそれに用いる電子写真感光体としては、肉厚の感光
層を形成するCdS−バインダー系感光層、電荷移動錯体
（IBM Journal of the Reserch and Development、1971
年１月、p.75〜p.89）が用いられていたので、感光層内
でレーザービームが多重反射を生じることがなく、した
がって実際上、画像形成時に干渉縞模様の画像が現れる
ことはなかった。
プリンタは、レーザービームとして、ヘリウム−カドミ
ウムレーザー、アルゴンレーザー、ヘリウム−ネオンレ
ーザー等の比較的短波長のガスレーザーが使用され、し
かもそれに用いる電子写真感光体としては、肉厚の感光
層を形成するCdS−バインダー系感光層、電荷移動錯体
（IBM Journal of the Reserch and Development、1971
年１月、p.75〜p.89）が用いられていたので、感光層内
でレーザービームが多重反射を生じることがなく、した
がって実際上、画像形成時に干渉縞模様の画像が現れる
ことはなかった。
ところが、前述のガスレーザーに代わって、装置を小型
化、低コスト化されるように設計するために、近年にな
って半導体レーザーが使用されるようになってきた。こ
の半導体レーザーは、一般的に750nm以上の長波長領域
で発振波長を有しているもので、このため長波長領域で
高感度特性を持つ電子写真感光体が必要となり、その為
の電子写真感光体が開発されてきた。
化、低コスト化されるように設計するために、近年にな
って半導体レーザーが使用されるようになってきた。こ
の半導体レーザーは、一般的に750nm以上の長波長領域
で発振波長を有しているもので、このため長波長領域で
高感度特性を持つ電子写真感光体が必要となり、その為
の電子写真感光体が開発されてきた。
これまで知られている長波長光（例えば600nm以上）に
感光性を持つ感光体としては、例えば銅フタロシアニ
ン、アルミニウムクロライドフタロシアニン等のフタロ
シアニン顔料を含有させた感光層、とりわけ電荷発生層
と電荷輸送層との積層構造の感光層を有する積層型電子
写真感光体、或いはセレン−テルルフィルムを用いた電
子写真感光体が知られている。
感光性を持つ感光体としては、例えば銅フタロシアニ
ン、アルミニウムクロライドフタロシアニン等のフタロ
シアニン顔料を含有させた感光層、とりわけ電荷発生層
と電荷輸送層との積層構造の感光層を有する積層型電子
写真感光体、或いはセレン−テルルフィルムを用いた電
子写真感光体が知られている。
この様な長波長光に対して感光性を持つ感光体をレーザ
ービーム走査方式電子写真プリンタに取り付けて、レー
ザービーム露光を行なうと、形成されたトナー画像には
干渉縞模様が現出し、良好な再生画像が形成できない欠
点を有している。この理由の１つとしては、例えば、長
波長レーザーが感光層内で完全に吸収されず、その透過
光が基体表面で正反射し、そのため感光層内でレーザー
ビームの多重反射光を生じ、それが感光層表面の反射光
との間で干渉を生じることが原因とされている。
ービーム走査方式電子写真プリンタに取り付けて、レー
ザービーム露光を行なうと、形成されたトナー画像には
干渉縞模様が現出し、良好な再生画像が形成できない欠
点を有している。この理由の１つとしては、例えば、長
波長レーザーが感光層内で完全に吸収されず、その透過
光が基体表面で正反射し、そのため感光層内でレーザー
ビームの多重反射光を生じ、それが感光層表面の反射光
との間で干渉を生じることが原因とされている。
この欠点を解消する方法としては、これまで、特開昭58
-162975号、同60-79360号、同60-112049号、同61-42663
号、同62-186270号公報等に記載されているように、電
子写真感光体で使用している導電性基体の表面を陽極酸
化法やバフ加工法等により粗面化する方法、或いは、特
開昭58-17105号、同59-158号、同59-204048号、同60-86
550号公報等に記載されているように、感光層と基体の
間に光吸収層或いは反射防止層を用いる方法などにより
感光層内で生じる多重反射を解消することが提案されて
いる。
-162975号、同60-79360号、同60-112049号、同61-42663
号、同62-186270号公報等に記載されているように、電
子写真感光体で使用している導電性基体の表面を陽極酸
化法やバフ加工法等により粗面化する方法、或いは、特
開昭58-17105号、同59-158号、同59-204048号、同60-86
550号公報等に記載されているように、感光層と基体の
間に光吸収層或いは反射防止層を用いる方法などにより
感光層内で生じる多重反射を解消することが提案されて
いる。
発明が解決しようとする課題 しかしながら、上記従来提案された方法は、実際問題と
して画像形成時に現出する干渉縞模様を完全に解消する
ことができるものではなかった。特に、導電性基体の表
面を粗面化する方法の場合は、均一な粗さを持つ粗面が
形成され難く、ある割合で比較的大きな粗さの部分を形
成することがあった。このため、その大きな粗さの部分
が、感光層内へのキャリア注入部として作用し、画像形
成時の白斑点（或いは反転現像方式を用いた場合には黒
斑点となって現れる）の原因となり、好ましい方法では
なかった。即ち、干渉縞模様の発生防止のみに注意すれ
ば、種々の解決策はあるが、干渉縞模様の発生と同時に
黒斑点、白斑点の画像上への現出を防止することは極め
て困難であり、上記の方法では実現できない、大きな問
題の一つとなっていた。しかも、導電性基体の表面を粗
面化する方法の場合には、製造上同一ロット内で均一な
粗面を持つ導電性基体の製造が困難であり、改善すべき
点が数多く存在している。
して画像形成時に現出する干渉縞模様を完全に解消する
ことができるものではなかった。特に、導電性基体の表
面を粗面化する方法の場合は、均一な粗さを持つ粗面が
形成され難く、ある割合で比較的大きな粗さの部分を形
成することがあった。このため、その大きな粗さの部分
が、感光層内へのキャリア注入部として作用し、画像形
成時の白斑点（或いは反転現像方式を用いた場合には黒
斑点となって現れる）の原因となり、好ましい方法では
なかった。即ち、干渉縞模様の発生防止のみに注意すれ
ば、種々の解決策はあるが、干渉縞模様の発生と同時に
黒斑点、白斑点の画像上への現出を防止することは極め
て困難であり、上記の方法では実現できない、大きな問
題の一つとなっていた。しかも、導電性基体の表面を粗
面化する方法の場合には、製造上同一ロット内で均一な
粗面を持つ導電性基体の製造が困難であり、改善すべき
点が数多く存在している。
尚、特開昭51-58594号公報には、ホーニング加工によ
り、導電性基体を粗面化すること、及び特開昭59-12855
3号公報には、特定の表面処理材によって粗面化するこ
とが記載されているが、これ等は、基体と感光層の密着
性を向上させることを目的としているものであって、上
記干渉縞模様の現出を防止できるものではなかった。
り、導電性基体を粗面化すること、及び特開昭59-12855
3号公報には、特定の表面処理材によって粗面化するこ
とが記載されているが、これ等は、基体と感光層の密着
性を向上させることを目的としているものであって、上
記干渉縞模様の現出を防止できるものではなかった。
また、光吸収層或いは反射防止層を用いる方法について
も、十分に干渉縞模様を解消することができず、しかも
製造上コストが上昇するなどの欠点を有している。
も、十分に干渉縞模様を解消することができず、しかも
製造上コストが上昇するなどの欠点を有している。
本発明は、従来の技術における上記のような問題点に鑑
みてなされたものである。
みてなされたものである。
したがって、本発明の目的は、上記従来の技術における
問題点を解消した新規な電子写真感光体及びその製造方
法を提供することにある。
問題点を解消した新規な電子写真感光体及びその製造方
法を提供することにある。
更に本発明の目的は、画像形成時に現出する干渉縞模様
と、画像形成時の白斑点又は斑点現像時の黒斑点の現出
を、同時にしかも完全に解消した電子写真感光体及びそ
の製造方法を提供することにある。
と、画像形成時の白斑点又は斑点現像時の黒斑点の現出
を、同時にしかも完全に解消した電子写真感光体及びそ
の製造方法を提供することにある。
本発明の他の目的は、電子写真感光体基体の処理方法を
提供するにある。
提供するにある。
課題を解決するための手段 光の干渉は、基体表面でのレーザー光の正反射が原因と
なるから、この反射をなくせばよいわけであるが、その
ためには、まず、基体表面に黒色の塗料を塗布して反射
を防ぐ方法が考えられる。しかしながらその場合、黒色
の塗膜の表面に光沢性があるので、やはり光は正反射さ
れ、干渉を完全に防止することはできなかった。そこ
で、本発明者等は、光を効果的に乱反射させて干渉を防
止することに着目したのである。
なるから、この反射をなくせばよいわけであるが、その
ためには、まず、基体表面に黒色の塗料を塗布して反射
を防ぐ方法が考えられる。しかしながらその場合、黒色
の塗膜の表面に光沢性があるので、やはり光は正反射さ
れ、干渉を完全に防止することはできなかった。そこ
で、本発明者等は、光を効果的に乱反射させて干渉を防
止することに着目したのである。
本発明者等は、検討の結果、画像形成時に現出する干渉
縞模様を解消するに必要な程度に基体の表面を粗面化す
ると、かえって粗面の程度に応じて画像形成時に白斑点
（反転現像方式を用いた場合では黒斑点となって現れ
る）の数が増大し、非常に不良なコピーとなっていた
が、基体の表面を、特定の研磨剤を用いて粗面化する
と、上記白斑点又は黒斑点が画像形成時に発生せず、同
時に干渉縞模様の現出も防止することができることを見
出だし、本発明を完成するに至った。
縞模様を解消するに必要な程度に基体の表面を粗面化す
ると、かえって粗面の程度に応じて画像形成時に白斑点
（反転現像方式を用いた場合では黒斑点となって現れ
る）の数が増大し、非常に不良なコピーとなっていた
が、基体の表面を、特定の研磨剤を用いて粗面化する
と、上記白斑点又は黒斑点が画像形成時に発生せず、同
時に干渉縞模様の現出も防止することができることを見
出だし、本発明を完成するに至った。
即ち、本発明の電子写真感光体は、TiO2およびCr2O3の
少なくとも一方を含有するアルミナ質材料よりなり、ヌ
ープ硬さが1500〜2900kg/mm2であり、累積百分率（％）
による50％粒径が５〜55μｍであり、かさ比重が0.75〜
1.6g/ccである研磨剤を用いて、吹き付け速度20〜75m/s
ecで湿式ホーニング処理した基体の上に感光層を形成し
たことを特徴とする。
少なくとも一方を含有するアルミナ質材料よりなり、ヌ
ープ硬さが1500〜2900kg/mm2であり、累積百分率（％）
による50％粒径が５〜55μｍであり、かさ比重が0.75〜
1.6g/ccである研磨剤を用いて、吹き付け速度20〜75m/s
ecで湿式ホーニング処理した基体の上に感光層を形成し
たことを特徴とする。
本発明の電子写真感光体基体の処理法は、TiO2およびCr
2O3の少なくとも一方を含有するアルミナ質材料よりな
り、ヌープ硬さが1500〜2900kg/mm2であり、累積百分率
（％）による50％粒径が５〜55μｍであり、かさ比重が
0.75〜1.6g/ccである研磨剤を、吹き付け速度20〜75m/s
ecで基体表面に吹き付けて、湿式ホーニング処理を行う
ことを特徴とする。
2O3の少なくとも一方を含有するアルミナ質材料よりな
り、ヌープ硬さが1500〜2900kg/mm2であり、累積百分率
（％）による50％粒径が５〜55μｍであり、かさ比重が
0.75〜1.6g/ccである研磨剤を、吹き付け速度20〜75m/s
ecで基体表面に吹き付けて、湿式ホーニング処理を行う
ことを特徴とする。
以下、本発明について詳細に説明する。
本発明の電子写真感光体において、基体としては、アル
ミニウム、銅、鉄、ニッケル、亜鉛等金属及び合金のド
ラム、シート等が使用される。
ミニウム、銅、鉄、ニッケル、亜鉛等金属及び合金のド
ラム、シート等が使用される。
本発明においては、これ等基体の表面が粗面化される
が、粗面化は、湿式ホーニング処理によって行われる。
基体の表面を粗面化する方法としては、表面切削の精度
を調節する方法、回転砥石を圧接する方法、陽極酸化処
理法、エッチング法、サンドペーパー加工法、湿式ホー
ニング処理法、サンドブラスト加工法、バフ加工法等が
あげられるが、これ等の中で、湿式ホーニング処理法
が、加工時間が短くて済むこと、作業が簡単であるこ
と、所望の表面粗度が得られやすいこと、安定性がある
こと等の理由により、好ましい方法である。本発明にお
いては、この湿式ホーニング処理法を使用し、特定の性
質を有する研磨剤を使用し、特定の吹き付け速度で吹き
付け処理することにより、均一な梨地面を形成するもの
である。
が、粗面化は、湿式ホーニング処理によって行われる。
基体の表面を粗面化する方法としては、表面切削の精度
を調節する方法、回転砥石を圧接する方法、陽極酸化処
理法、エッチング法、サンドペーパー加工法、湿式ホー
ニング処理法、サンドブラスト加工法、バフ加工法等が
あげられるが、これ等の中で、湿式ホーニング処理法
が、加工時間が短くて済むこと、作業が簡単であるこ
と、所望の表面粗度が得られやすいこと、安定性がある
こと等の理由により、好ましい方法である。本発明にお
いては、この湿式ホーニング処理法を使用し、特定の性
質を有する研磨剤を使用し、特定の吹き付け速度で吹き
付け処理することにより、均一な梨地面を形成するもの
である。
湿式ホーニング処理は、水等の液体に粉末状の研磨剤を
懸濁させ、高速度で基体表面に吹き付けて粗面化する方
法であるが、その場合、表面粗度は、吹き付け圧力、速
度、研磨時の量、種類、形状、大きさ、硬度、比重、及
び懸濁濃度等により制御することができる。本発明にお
いては、上記の湿式ホーニング処理に際して、研磨剤と
して、ヌープ硬さが1500〜2900kg/mm2であり、累積百分
率（％）による50％粒径が５〜55μｍであり、かさ比重
が0.75〜1.6g/ccであるものを使用する。
懸濁させ、高速度で基体表面に吹き付けて粗面化する方
法であるが、その場合、表面粗度は、吹き付け圧力、速
度、研磨時の量、種類、形状、大きさ、硬度、比重、及
び懸濁濃度等により制御することができる。本発明にお
いては、上記の湿式ホーニング処理に際して、研磨剤と
して、ヌープ硬さが1500〜2900kg/mm2であり、累積百分
率（％）による50％粒径が５〜55μｍであり、かさ比重
が0.75〜1.6g/ccであるものを使用する。
使用する研磨剤のヌープ硬さが1500kg/mm2より低いと、
十分な梨地面が得られず、所望の画質を得ることができ
ない。また2900kg/mm2よりも高いと、基体表面内で強度
の弱い部分が優先的に研削され、均一な梨地面が得られ
ず、画像欠陥が生じる。
十分な梨地面が得られず、所望の画質を得ることができ
ない。また2900kg/mm2よりも高いと、基体表面内で強度
の弱い部分が優先的に研削され、均一な梨地面が得られ
ず、画像欠陥が生じる。
また、研磨剤は、その粒径として、累積百分率（％）に
よる50％粒径（JIS R6002の方法による）が５〜55μｍ
であることが必要である。上記粒径が５μｍよりも小さ
いと、十分な梨地面が得られず、また、55μｍよりも大
きいと、必要以上に基体表面が研削され、画質欠陥が生
じる。
よる50％粒径（JIS R6002の方法による）が５〜55μｍ
であることが必要である。上記粒径が５μｍよりも小さ
いと、十分な梨地面が得られず、また、55μｍよりも大
きいと、必要以上に基体表面が研削され、画質欠陥が生
じる。
更に、研磨剤は、かさ比重（JIS R61260の方法による）
0.75〜1.6g/ccであることが必要である。かさ比重が0.7
5g/ccよりも低い場合は、研磨剤粒子の長短径比が大き
くなり、針状粒子の占める割合が大きくなり過ぎ、研磨
剤の機械的強度が低くなって初期の湿式ホーニング処理
の安定性に欠け、かつ、基体表面への付着或いは突入研
磨剤量が増加し、画像欠陥が生じ易くなる。また、かさ
比重が1.6g/ccよりも大きくなると、十分な梨地面が得
られず、光沢度の高い表面となりやすく、やはり好適で
はない。
0.75〜1.6g/ccであることが必要である。かさ比重が0.7
5g/ccよりも低い場合は、研磨剤粒子の長短径比が大き
くなり、針状粒子の占める割合が大きくなり過ぎ、研磨
剤の機械的強度が低くなって初期の湿式ホーニング処理
の安定性に欠け、かつ、基体表面への付着或いは突入研
磨剤量が増加し、画像欠陥が生じ易くなる。また、かさ
比重が1.6g/ccよりも大きくなると、十分な梨地面が得
られず、光沢度の高い表面となりやすく、やはり好適で
はない。
研磨剤を構造する材料としては、上記の条件を満足する
TiO2およびCr2O3の少なくとも一方を含有するアルミナ
質材料が使用され、TiO2およびCr2O3の少なくとも一方
を包含する他の金属酸化物を合計30重量％以下含有する
ものが好ましい。
TiO2およびCr2O3の少なくとも一方を含有するアルミナ
質材料が使用され、TiO2およびCr2O3の少なくとも一方
を包含する他の金属酸化物を合計30重量％以下含有する
ものが好ましい。
アルミナ以外の他の金属酸化物の量が多くなり過ぎる
と、これ等他の金属酸化物が湿式ホーニング処理に影響
を及ぼすようになり、均一な粗面を持つ基体を得ること
ができなくなる場合がある。
と、これ等他の金属酸化物が湿式ホーニング処理に影響
を及ぼすようになり、均一な粗面を持つ基体を得ること
ができなくなる場合がある。
本発明において、アルミナ質材料には、靱性を付与する
ためにTiO2を含有させることが好ましい。TiO2は、原料
のボーキサイト中に存在しているが、さらに積極的にTi
O2の量を、添加等によって調整することにより、靱性を
制御することができる。即ち、靱性は、結晶境界に嵌り
込んでいるマトリックス微量成分による結晶内結合力の
相違などによって決まるが、アルミナにおいても、靱性
の大小は、アルミナ結晶格子内にTiO2等が固溶するか否
かによって決まる。本発明において、アルミナに強靱性
をもたせるには、１〜５重量％、好ましくは２〜３重量
％含有させることが必要である。
ためにTiO2を含有させることが好ましい。TiO2は、原料
のボーキサイト中に存在しているが、さらに積極的にTi
O2の量を、添加等によって調整することにより、靱性を
制御することができる。即ち、靱性は、結晶境界に嵌り
込んでいるマトリックス微量成分による結晶内結合力の
相違などによって決まるが、アルミナにおいても、靱性
の大小は、アルミナ結晶格子内にTiO2等が固溶するか否
かによって決まる。本発明において、アルミナに強靱性
をもたせるには、１〜５重量％、好ましくは２〜３重量
％含有させることが必要である。
TiO2は、アルミナ内に固溶し、空間格子相互間のすべり
に影響を与えて靱性を増すのであるが、その含有量が１
重量％より低くなると、靱性が乏しくなり、湿式ホーニ
ング処理の初期に、十分な梨地面が得られないのみなら
ず、湿式ホーニング処理後、即ち、基体に研磨剤が吹き
付けられた後に粒径が変化するので、安定した梨地面が
得られなくなり、また、５重量％を越えると、研磨剤の
靱性が大きくなり過ぎて均一な梨地面を作成することが
困難になるので、上記の範囲が好ましい。
に影響を与えて靱性を増すのであるが、その含有量が１
重量％より低くなると、靱性が乏しくなり、湿式ホーニ
ング処理の初期に、十分な梨地面が得られないのみなら
ず、湿式ホーニング処理後、即ち、基体に研磨剤が吹き
付けられた後に粒径が変化するので、安定した梨地面が
得られなくなり、また、５重量％を越えると、研磨剤の
靱性が大きくなり過ぎて均一な梨地面を作成することが
困難になるので、上記の範囲が好ましい。
尚、TiO2の含有量が１％以下である場合には、TiO2の代
わりにCr2O3を含有させればよい。Cr2O3を１〜５重量
％、好ましくは2.5重量％前後含有させることによっ
て、靱性を補うことが可能になる。TiO2及びCr2O3が共
に１重量％未満であると、研磨剤は靱性が乏しいものと
なり、湿式ホーニング処理の初期に十分な梨地面を形成
することが出来ないのみならず、湿式ホーニング処理
後、即ち、基体に研磨剤が吹き付けられた後に粒径が変
化するので、安定した梨地面が得られなくなる。
わりにCr2O3を含有させればよい。Cr2O3を１〜５重量
％、好ましくは2.5重量％前後含有させることによっ
て、靱性を補うことが可能になる。TiO2及びCr2O3が共
に１重量％未満であると、研磨剤は靱性が乏しいものと
なり、湿式ホーニング処理の初期に十分な梨地面を形成
することが出来ないのみならず、湿式ホーニング処理
後、即ち、基体に研磨剤が吹き付けられた後に粒径が変
化するので、安定した梨地面が得られなくなる。
尚、研磨剤として、鋳鋼、鋳鉄、ガラスビーズ等の小球
や粉砕片の使用も考えられるが、鋳鋼、鋳鉄を使用して
湿式ホーニング処理を施すと、これ等が基体表面に不純
物として残り易く、基体からの注入サイトとなり、画質
欠陥を生じることになり、好ましくない。また、ガラス
ビーズを使用すると、ガラスビーズは極めて真球に近い
形状を有しているので、処理後の表面の凹部がクレータ
ー状の丸みのあるものとなる。そのため、処理後の表面
が半光沢の滑らかな面になり、同じ表面粗度を有する場
合でも、光沢度が高く、干渉縞模様が発生し易くなるの
で好ましくない。
や粉砕片の使用も考えられるが、鋳鋼、鋳鉄を使用して
湿式ホーニング処理を施すと、これ等が基体表面に不純
物として残り易く、基体からの注入サイトとなり、画質
欠陥を生じることになり、好ましくない。また、ガラス
ビーズを使用すると、ガラスビーズは極めて真球に近い
形状を有しているので、処理後の表面の凹部がクレータ
ー状の丸みのあるものとなる。そのため、処理後の表面
が半光沢の滑らかな面になり、同じ表面粗度を有する場
合でも、光沢度が高く、干渉縞模様が発生し易くなるの
で好ましくない。
本発明においては、研磨剤として、上記のものを使用
し、吹き付け速度20〜75m/secで基体表面に吹き付けて
粗面化を行なうことが必要である。吹き付け速度は、噴
射スプレーガンと基体表面の距離、及び圧縮空気圧、ノ
ズル口径等によって規定されるものであるが、吹き付け
速度が20m/secよりも低いと、十分な梨地面が得られ
ず、また、75m/secよりも高いと、前記したようにミク
ロ的に梨地面にむらが発生し、均一な梨地面が得られ
ず、白斑点、黒斑点が画像上に現れる。
し、吹き付け速度20〜75m/secで基体表面に吹き付けて
粗面化を行なうことが必要である。吹き付け速度は、噴
射スプレーガンと基体表面の距離、及び圧縮空気圧、ノ
ズル口径等によって規定されるものであるが、吹き付け
速度が20m/secよりも低いと、十分な梨地面が得られ
ず、また、75m/secよりも高いと、前記したようにミク
ロ的に梨地面にむらが発生し、均一な梨地面が得られ
ず、白斑点、黒斑点が画像上に現れる。
上記のように粗面化された基体の上には、所望により下
引層が設けられ、その上に感光層が形成される。
引層が設けられ、その上に感光層が形成される。
下引層は公知の樹脂を用いて形成される。下引層の膜厚
は0.05μｍ〜10μｍ、特に0.1μｍ〜２μｍの範囲に設
定するのが好ましい。
は0.05μｍ〜10μｍ、特に0.1μｍ〜２μｍの範囲に設
定するのが好ましい。
下引層の上には感光層が形成される。感光層が電荷発生
層と電荷輸送層との積層構造の場合、それらのいずれが
下引層の上に設けられてもよい。
層と電荷輸送層との積層構造の場合、それらのいずれが
下引層の上に設けられてもよい。
電荷発生層は、電荷発生材料を結着樹脂に分散させてな
り、電荷発生材料としては公知のものが使用される。例
えば、クロロダイアンブルー等のアゾ染料、アントアン
トロン、ピレンキノン等のキノン顔料、キノシアニン顔
料、ペリレン顔料、ペリノン顔料、インジゴ顔料、ビス
ベンゾイミダゾール顔料、銅フタロシアニン、バナジル
フタロシアニン等のフタロシアニン顔料、アズレニウム
塩、スクエアリウム顔料、キナクリドン顔料等が使用で
きる。
り、電荷発生材料としては公知のものが使用される。例
えば、クロロダイアンブルー等のアゾ染料、アントアン
トロン、ピレンキノン等のキノン顔料、キノシアニン顔
料、ペリレン顔料、ペリノン顔料、インジゴ顔料、ビス
ベンゾイミダゾール顔料、銅フタロシアニン、バナジル
フタロシアニン等のフタロシアニン顔料、アズレニウム
塩、スクエアリウム顔料、キナクリドン顔料等が使用で
きる。
電荷発生層の結着樹脂としては、ポリスチレン樹脂、ポ
リビニルアセタール樹脂、アクリル樹脂、メタクリル樹
脂、酢酸ビニル樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアクリレ
ート樹脂、ポリカーボネート樹脂、フェノール樹脂等公
知の材料が使用される。
リビニルアセタール樹脂、アクリル樹脂、メタクリル樹
脂、酢酸ビニル樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアクリレ
ート樹脂、ポリカーボネート樹脂、フェノール樹脂等公
知の材料が使用される。
電荷発生層は、電荷発生材料をこれ等結着樹脂の溶液中
に含有させ、下引層の上に塗布することによって形成さ
れる。分散に用いる溶剤としては、メタノール、エタノ
ール、ｎ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ベンジルア
ルコール、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、アセ
トン、メチルエチルケトン、シクロヘキサン、酢酸メチ
ル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、メチレンクロラ
イド、クロロホルム等、通常使用される有機溶剤が使用
できる。
に含有させ、下引層の上に塗布することによって形成さ
れる。分散に用いる溶剤としては、メタノール、エタノ
ール、ｎ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ベンジルア
ルコール、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、アセ
トン、メチルエチルケトン、シクロヘキサン、酢酸メチ
ル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、メチレンクロラ
イド、クロロホルム等、通常使用される有機溶剤が使用
できる。
電荷発生層の膜厚は一般に0.1〜５μｍ、好ましくは0.2
〜2.0μｍが適当である。
〜2.0μｍが適当である。
電荷輸送層は、電荷輸送材料を結着樹脂に分散させてな
るものであって、電荷輸送材料としては、例えば、アン
トラセン、ピレン、フェナントレン等の多環芳香族化合
物、または、インドール、カルバゾール、イミダゾール
等の含窒素複素環を有する化合物、ピラゾリン化合物、
ヒドラゾン化合物、トリフェニルメタン化合物、トリフ
ェニルアミン化合物、エナミン化合物、スチルベン化合
物等が使用できる。又、結着樹脂としては、成膜性のあ
る樹脂ならば如何なるものであってよく、例えば、ポリ
エステル、ポリサルサン、ポリカーボネート、ポリメチ
ルメタクリレート等が用いられる。
るものであって、電荷輸送材料としては、例えば、アン
トラセン、ピレン、フェナントレン等の多環芳香族化合
物、または、インドール、カルバゾール、イミダゾール
等の含窒素複素環を有する化合物、ピラゾリン化合物、
ヒドラゾン化合物、トリフェニルメタン化合物、トリフ
ェニルアミン化合物、エナミン化合物、スチルベン化合
物等が使用できる。又、結着樹脂としては、成膜性のあ
る樹脂ならば如何なるものであってよく、例えば、ポリ
エステル、ポリサルサン、ポリカーボネート、ポリメチ
ルメタクリレート等が用いられる。
電荷輸送層は、これ等結着樹脂を溶剤に溶解し、これに
上記電荷輸送材料を加えて得た溶液を、膜厚が５μｍ〜
30μｍになるように塗布することによって形成される。
溶剤としては、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香
族炭化水素、アセトン、２−ブタノン等のケトン類、塩
化メチレン、モノクロロベンゼン、クロロホルム等のハ
ロゲン化炭化水素、テトラヒドロフラン、エチルエーテ
ル等の通常使用される有機溶剤を使用することができ
る。
上記電荷輸送材料を加えて得た溶液を、膜厚が５μｍ〜
30μｍになるように塗布することによって形成される。
溶剤としては、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香
族炭化水素、アセトン、２−ブタノン等のケトン類、塩
化メチレン、モノクロロベンゼン、クロロホルム等のハ
ロゲン化炭化水素、テトラヒドロフラン、エチルエーテ
ル等の通常使用される有機溶剤を使用することができ
る。
実施例 以下、本発明を実施例によって説明する。
実施例１〜９及び比較例１〜11 1mm厚×40mmφ×310mmのアルミニウムパイプを用意し、
これにダイヤモンドバイトを用いた鏡面旋盤により切削
加工を行ない、表面をRa0.04μｍの平滑面に仕上げた。
このアルミニウムパイプを第１図に示される液体ホーニ
ング装置により粗面化処理を行なった。第１図におい
て、１は基体、２はポンプ、３はガン、４は空気導入
管、５は処理容器である。液体ホーニング処理は、第１
表に示す研磨剤10kgを水40lに懸濁させ、それをポンプ
２で6l/分の流量でガン３に送液しながら、所定の圧搾
空気圧で、第１表に示す吹き付け速度でアルミニウムパ
イプに吹き付けた。ガンは40cm/分でアルミニウムパイ
プの軸方向に移動させ、一方、アルミニウムパイプは10
0rpmで回転させた。
これにダイヤモンドバイトを用いた鏡面旋盤により切削
加工を行ない、表面をRa0.04μｍの平滑面に仕上げた。
このアルミニウムパイプを第１図に示される液体ホーニ
ング装置により粗面化処理を行なった。第１図におい
て、１は基体、２はポンプ、３はガン、４は空気導入
管、５は処理容器である。液体ホーニング処理は、第１
表に示す研磨剤10kgを水40lに懸濁させ、それをポンプ
２で6l/分の流量でガン３に送液しながら、所定の圧搾
空気圧で、第１表に示す吹き付け速度でアルミニウムパ
イプに吹き付けた。ガンは40cm/分でアルミニウムパイ
プの軸方向に移動させ、一方、アルミニウムパイプは10
0rpmで回転させた。
尚、使用した研磨剤、及びそれに相当する市販品は次の
通りであった。
通りであった。
実施例１ 昭和電工（株）製：モランダムＡ（Ａ−40）。
実施例２ 昭和電工（株）製：モランダムＡ（Ａ−43）。
実施例３ 昭和電工（株）製：モランダムＡ（Ａ−40）。
実施例４ 昭和電工（株）製:ZモランダムZA−１。
実施例５ 白色アルミナ質砥粒において、原料アルミナに含まれる
Na2Oにより不安定な結晶βアルミナ（Na2O・11Al2O3・ヌ
ープ硬さ1000）を形成させ、硬度を調節したもの。
Na2Oにより不安定な結晶βアルミナ（Na2O・11Al2O3・ヌ
ープ硬さ1000）を形成させ、硬度を調節したもの。
実施例６ ジルコニアを多く含むもの。
実施例７ 酸化クロムを含むもの。昭和電工（株）製：ピンクモラ
ンダム（PW）、日本研磨材（株）製:RA、西独Degussa社
製：ルビーグリーン、西独MSO社製：エレクトロフビン
等。
ンダム（PW）、日本研磨材（株）製:RA、西独Degussa社
製：ルビーグリーン、西独MSO社製：エレクトロフビン
等。
実施例８ アルミナ以外の金属酸化物の合計量50％のアルミナ−ジ
ルコニア系の研磨剤。（昭和電工（株）製：モランダム
A2） 実施例９ TiO2含有量5.1％の溶融アルミナよりなる研磨剤。
ルコニア系の研磨剤。（昭和電工（株）製：モランダム
A2） 実施例９ TiO2含有量5.1％の溶融アルミナよりなる研磨剤。
比較例１ 白色アルミナ質砥粒において、原料アルミナに含まれる
Na2Oにより不安定な結晶βアルミナ（Na2O・11Al2O3・ヌ
ープ硬さ1000）を形成させ、硬度を低くしたもの。
Na2Oにより不安定な結晶βアルミナ（Na2O・11Al2O3・ヌ
ープ硬さ1000）を形成させ、硬度を低くしたもの。
比較例２ 炭化硼素。
比較例３ 昭和電工（株）製：モランダムＡ♯3000。
比較例４ 比較例３の研磨剤と同一組成であるが、平均粒径60μｍ
の研磨剤。
の研磨剤。
比較例５ 昭和電工（株）製：モランダムＡ♯240。
比較例６ 比較例５の研磨剤と同一組成であるが、粒径が６μｍ、
かさ比重が0.70g/ccの研磨剤。
かさ比重が0.70g/ccの研磨剤。
比較例７及び８ 実施例１と同一の研磨剤。
比較例９ 溶融ジルコンを主成分とする研磨剤。
比較例10 窒化鋼を主成分とする研磨剤。
比較例11 ガラスビーズ。（不二精機製作所製：フジブライト） 上記のようにして湿式ホーニング処理を施したアルミニ
ウムパイプに、各々共重合ナイロン樹脂（CM8000、東レ
（株）製）のメタノール／ブタノール溶液を、リング塗
布器によって塗布し、膜厚0.7μｍの下引層を障壁層と
して形成した。
ウムパイプに、各々共重合ナイロン樹脂（CM8000、東レ
（株）製）のメタノール／ブタノール溶液を、リング塗
布器によって塗布し、膜厚0.7μｍの下引層を障壁層と
して形成した。
次いで３部のバナジルフタロシアニンをポリエステル樹
脂（PE100、グッドイヤーケミカル社製）の10％シクロ
ヘキサノン溶液70部に分散した。分散操作は10mmφボー
ルを用いて、混合物をボールミルで２時間混合すること
によって行なった。これに２−ブタノン10部を加えて塗
布液とし、上記障壁層上にリング塗布機で塗布して、膜
厚0.4μｍの電荷発生層を形成した。
脂（PE100、グッドイヤーケミカル社製）の10％シクロ
ヘキサノン溶液70部に分散した。分散操作は10mmφボー
ルを用いて、混合物をボールミルで２時間混合すること
によって行なった。これに２−ブタノン10部を加えて塗
布液とし、上記障壁層上にリング塗布機で塗布して、膜
厚0.4μｍの電荷発生層を形成した。
形成された電荷発生層の上に、電荷輸送層を形成した。
即ち、N,N′−ジフェニル−N,N′−ビス（３−メチルフ
ェニル）−［1,1−ビフェニル］−4,4′−ジアミン４部
を電荷輸送材料とし、ポリカーボネートＺ樹脂６部と共
にモノクロロベンゼン40部に溶解させ、得られた溶液を
浸漬塗布装置によって11cm/分の引上げ速度で塗布し
た。110℃で１時間乾燥して、膜厚20μｍの電荷輸送層
を形成し、電子写真感光体を得た。
即ち、N,N′−ジフェニル−N,N′−ビス（３−メチルフ
ェニル）−［1,1−ビフェニル］−4,4′−ジアミン４部
を電荷輸送材料とし、ポリカーボネートＺ樹脂６部と共
にモノクロロベンゼン40部に溶解させ、得られた溶液を
浸漬塗布装置によって11cm/分の引上げ速度で塗布し
た。110℃で１時間乾燥して、膜厚20μｍの電荷輸送層
を形成し、電子写真感光体を得た。
得られた電子写真感光体を400dpiのドット密度のレーザ
ープリンター（LBP）に取り付けた。このLBPの出力画像
を調べたところ、実施例１〜７の場合には、干渉縞模様
及び白斑点、黒斑点等の画像欠陥は見られなかった。ま
た、画像2000枚の出力試験を行なっても何等異常は発生
しなかった。また、実施例８及び９の場合にも、干渉縞
模様は発生せず、ただ僅かに黒斑点が見られたに過ぎな
かった。
ープリンター（LBP）に取り付けた。このLBPの出力画像
を調べたところ、実施例１〜７の場合には、干渉縞模様
及び白斑点、黒斑点等の画像欠陥は見られなかった。ま
た、画像2000枚の出力試験を行なっても何等異常は発生
しなかった。また、実施例８及び９の場合にも、干渉縞
模様は発生せず、ただ僅かに黒斑点が見られたに過ぎな
かった。
これに対して、比較例の場合は、次のような結果が得ら
れた。即ち、比較例１の場合は、十分な梨地面が得られ
ず、画像に干渉縞模様が発生した。研磨剤の高度が低い
ことを補うために、吹き付け速度を強くしたところ、湿
式ホーニング処理初期に十分な梨地面が得られず、ま
た、1000本の連続湿式ホーニング処理後の研磨剤の光学
顕微鏡による観察では、粒径が約25％減少していること
が判明し、研磨剤の寿命が著しく劣っていた。
れた。即ち、比較例１の場合は、十分な梨地面が得られ
ず、画像に干渉縞模様が発生した。研磨剤の高度が低い
ことを補うために、吹き付け速度を強くしたところ、湿
式ホーニング処理初期に十分な梨地面が得られず、ま
た、1000本の連続湿式ホーニング処理後の研磨剤の光学
顕微鏡による観察では、粒径が約25％減少していること
が判明し、研磨剤の寿命が著しく劣っていた。
比較例２の場合は、基体表面で強度の弱い部分が優先的
に研削され、均一な梨地面が得られず、画像に干渉縞模
様の発生はなかったが、黒斑点が白地部に多数発生し
た。
に研削され、均一な梨地面が得られず、画像に干渉縞模
様の発生はなかったが、黒斑点が白地部に多数発生し
た。
比較例３の場合は、画像に干渉縞模様が発生した。
比較例４の場合は、画像に干渉縞模様の発生はなかった
が、種々の画像欠陥、例えば黒斑点、しみ等が発生し
た。
が、種々の画像欠陥、例えば黒斑点、しみ等が発生し
た。
比較例５の場合は、均一な梨地面が得られず、画像に画
像欠陥が発生した。
像欠陥が発生した。
比較例６及び７の場合は、画像に干渉縞模様が発生し
た。
た。
比較例８の場合には、画像に干渉縞模様の発生はなかっ
たが、多数の黒斑点が発生した。
たが、多数の黒斑点が発生した。
比較例９及び10の場合は、画像に干渉縞模様の発生はな
かったが、多数の画像欠陥（黒斑点、白斑点、しみ状デ
ィフェクト）が発生した。
かったが、多数の画像欠陥（黒斑点、白斑点、しみ状デ
ィフェクト）が発生した。
比較例11の場合は、基体表面に十分な梨地面が得られ
ず、干渉縞模様が発生した。
ず、干渉縞模様が発生した。
発明の効果 本発明においては、基体の表面を上記のように湿式ホー
ニング処理して粗面化するから、基体表面には、表面粗
さの平均値が十分に大きく、かつ、表面粗さの分布の幅
が小さい表面状態を有する均一な梨地面が形成される。
したがって、この基体を使用して形成された電子写真感
光体は、半導体レーザー等のレーザー光によって画像形
成を行なった場合、干渉縞模様及び黒斑点、白斑点等の
画像欠陥のない良好な画像を形成する。したがって、本
発明の電子写真感光体は、レーザー光を利用する電子写
真複写装置、特に、レーザービームを像様にライン走査
する方式の電子写真プリンタに好適である。
ニング処理して粗面化するから、基体表面には、表面粗
さの平均値が十分に大きく、かつ、表面粗さの分布の幅
が小さい表面状態を有する均一な梨地面が形成される。
したがって、この基体を使用して形成された電子写真感
光体は、半導体レーザー等のレーザー光によって画像形
成を行なった場合、干渉縞模様及び黒斑点、白斑点等の
画像欠陥のない良好な画像を形成する。したがって、本
発明の電子写真感光体は、レーザー光を利用する電子写
真複写装置、特に、レーザービームを像様にライン走査
する方式の電子写真プリンタに好適である。
第１図は、本発明において使用する湿式ホーニング装置
の概略構成図である。 １……基体、２……ポンプ、３……ガン、４……空気導
入管、５……処理容器。
の概略構成図である。 １……基体、２……ポンプ、３……ガン、４……空気導
入管、５……処理容器。
Claims (6)
- 【請求項１】TiO2およびCr2O3の少なくとも一方を含有
するアルミナ質材料よりなり、ヌープ硬さが1500〜2900
kg/mm2であり、累積百分率（％）による50％粒径が５〜
55μｍであり、かさ密度が0.75〜1.6g/ccである研磨剤
を用いて、吹き付け速度20〜75m/secで湿式ホーニング
処理した基体の上に感光層を形成したことを特徴とする
電子写真感光体。 - 【請求項２】アルミナ質材料がAl2O3を主成分とし、TiO
2およびCr2O3の少なくとも一方を包含する他の金属酸化
物を合計30重量％以下含有することを特徴とする特許請
求の範囲第１項に記載の電子写真感光体。 - 【請求項３】研磨剤がTiO2を１〜５重量％含むものであ
る特許請求の範囲第２項に記載の電子写真感光体。 - 【請求項４】研磨剤がTiO2を１重量％以下含み、Cr2O3
を１〜５重量％含むものである特許請求の範囲第２項に
記載の電子写真感光体。 - 【請求項５】TiO2およびCr2O3の少なくとも一方を含有
するアルミナ質材料よりなり、ヌープ硬さが1500〜2900
kg/mm2であり、累積百分率（％）による50％粒径が５〜
55μｍであり、かさ密度が0.75〜1.6g/ccである研磨剤
を、吹き付け速度20〜75m/secで基体表面に吹き付けて
湿式ホーニング処理を行うことを特徴とする電子写真感
光体基体の処理方法。 - 【請求項６】TiO2およびCr2O3の少なくとも一方を含有
するアルミナ質材料よりなり、ヌープ硬さが1500〜2900
kg/mm2であり、累積百分率（％）による50％粒径が５〜
55μｍであり、かさ密度が0.75〜1.6g/ccである研磨剤
を、吹き付け速度20〜75m/secで基体表面に吹き付けて
湿式ホーニング処理を行ない、粗面化された基体表面に
感光層塗布液を塗布して感光層を形成することを特徴と
する電子写真感光体の製造方法。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63238877A JPH0715589B2 (ja) | 1988-09-26 | 1988-09-26 | 電子写真感光体、その基体の処理方法および電子写真感光体の製造方法 |
| GB8921587A GB2224224B (en) | 1988-09-26 | 1989-09-25 | Electrophotographic photoreceptor |
| DE3932093A DE3932093C2 (de) | 1988-09-26 | 1989-09-26 | Elektrophotographisches Aufzeichnungsmaterial |
| US08/120,399 US5332643A (en) | 1988-09-26 | 1993-09-14 | Method of wet honing a support for an electrophotographic photoreceptor |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63238877A JPH0715589B2 (ja) | 1988-09-26 | 1988-09-26 | 電子写真感光体、その基体の処理方法および電子写真感光体の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02191963A JPH02191963A (ja) | 1990-07-27 |
| JPH0715589B2 true JPH0715589B2 (ja) | 1995-02-22 |
Family
ID=17036592
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63238877A Expired - Fee Related JPH0715589B2 (ja) | 1988-09-26 | 1988-09-26 | 電子写真感光体、その基体の処理方法および電子写真感光体の製造方法 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5332643A (ja) |
| JP (1) | JPH0715589B2 (ja) |
| DE (1) | DE3932093C2 (ja) |
| GB (1) | GB2224224B (ja) |
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| US5573445A (en) * | 1994-08-31 | 1996-11-12 | Xerox Corporation | Liquid honing process and composition for interference fringe suppression in photosensitive imaging members |
| US5586927A (en) * | 1994-11-30 | 1996-12-24 | Xerox Corporation | Constant concentration rinseable slurry device |
| US5709587A (en) * | 1996-03-25 | 1998-01-20 | Kennametal Inc. | Method and apparatus for honing an elongate rotary tool |
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| ITMO20070064A1 (it) * | 2007-02-28 | 2008-09-01 | Italtecno S R L | Apparecchiatura per la satinatura e finitura di manufatti preferibilmente in alluminio. |
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| JP5793014B2 (ja) * | 2011-07-21 | 2015-10-14 | 株式会社不二製作所 | 硬質脆性材料基板の側部研磨方法 |
| GB2507364B (en) * | 2013-03-28 | 2015-07-15 | Messier Dowty Ltd | Deformation Apparatus |
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| JPS58162975A (ja) * | 1982-03-24 | 1983-09-27 | Canon Inc | 電子写真感光体 |
| DE3321648A1 (de) * | 1982-06-15 | 1983-12-15 | Konishiroku Photo Industry Co., Ltd., Tokyo | Photorezeptor |
| JPS59158A (ja) * | 1982-06-25 | 1984-01-05 | Canon Inc | 電子写真感光体 |
| JPS59128553A (ja) * | 1983-01-14 | 1984-07-24 | Toshiba Corp | 電子写真用感光体 |
| JPS59204048A (ja) * | 1983-05-06 | 1984-11-19 | Kyocera Corp | 電子写真感光体 |
| JPS6079360A (ja) * | 1983-09-29 | 1985-05-07 | Kyocera Corp | 電子写真感光体及びその製造方法 |
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