JPS6079360A - 電子写真感光体及びその製造方法 - Google Patents
電子写真感光体及びその製造方法Info
- Publication number
- JPS6079360A JPS6079360A JP58182432A JP18243283A JPS6079360A JP S6079360 A JPS6079360 A JP S6079360A JP 58182432 A JP58182432 A JP 58182432A JP 18243283 A JP18243283 A JP 18243283A JP S6079360 A JPS6079360 A JP S6079360A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- photosensitive layer
- electrophotographic photoreceptor
- laser light
- laser beam
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G5/00—Recording-members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat or to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
- G03G5/02—Charge-receiving layers
- G03G5/04—Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor
- G03G5/08—Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor characterised by the photoconductive material being inorganic
- G03G5/082—Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor characterised by the photoconductive material being inorganic and not being incorporated in a bonding material, e.g. vacuum deposited
- G03G5/08214—Silicon-based
- G03G5/08235—Silicon-based comprising three or four silicon-based layers
- G03G5/08242—Silicon-based comprising three or four silicon-based layers at least one with varying composition
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G5/00—Recording-members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat or to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
- G03G5/02—Charge-receiving layers
- G03G5/04—Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor
- G03G5/08—Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor characterised by the photoconductive material being inorganic
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G5/00—Recording-members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat or to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
- G03G5/02—Charge-receiving layers
- G03G5/04—Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor
- G03G5/08—Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor characterised by the photoconductive material being inorganic
- G03G5/082—Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor characterised by the photoconductive material being inorganic and not being incorporated in a bonding material, e.g. vacuum deposited
- G03G5/08214—Silicon-based
- G03G5/08221—Silicon-based comprising one or two silicon based layers
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G5/00—Recording-members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat or to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
- G03G5/10—Bases for charge-receiving or other layers
- G03G5/102—Bases for charge-receiving or other layers consisting of or comprising metals
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はレーザーラインプリンタに用いる電子写真感光
体及びその製造方法に関する。
体及びその製造方法に関する。
近時、小型軽量１つ低消費電力の高密度−高速記録方式
としてレーザー光を記録部材としたレーザーラインプリ
ンタがあり、例えば、半導体レーザープリンタ、及びそ
れに使われる主にアモルファスシリコン（以下、ａ −
Ｓｉと略す）から成る光？Ｅ部材が注目されている。
としてレーザー光を記録部材としたレーザーラインプリ
ンタがあり、例えば、半導体レーザープリンタ、及びそ
れに使われる主にアモルファスシリコン（以下、ａ −
Ｓｉと略す）から成る光？Ｅ部材が注目されている。
しかしながら、このレーザー光が単色光のため、感光層
の層内部に入射したレーザー光が光導電層で十分に吸収
されないで、光導電層を支持する導電性基板に達し、導
電性基板表面で反射することが多分にあり、次に述べる
ような問題を引き起こしていた。
の層内部に入射したレーザー光が光導電層で十分に吸収
されないで、光導電層を支持する導電性基板に達し、導
電性基板表面で反射することが多分にあり、次に述べる
ような問題を引き起こしていた。
即ち、第１図に示すような導電性基板（１）上に光導電
層（２トが積層された感光体によれば、半導体レーザー
光などの入射光１１の一部が導電性基板（１）で反射さ
れ、この反射光１２の一部が再び光導電層（２）の表面
で反射を起こすと、この二度反射した光Ｊａと入射光１
１が干渉作用を起こし、電荷潜像の縞模様が生じ、その
結果、現像後の画像に干渉縞状の濃度ムラが発生する。
層（２トが積層された感光体によれば、半導体レーザー
光などの入射光１１の一部が導電性基板（１）で反射さ
れ、この反射光１２の一部が再び光導電層（２）の表面
で反射を起こすと、この二度反射した光Ｊａと入射光１
１が干渉作用を起こし、電荷潜像の縞模様が生じ、その
結果、現像後の画像に干渉縞状の濃度ムラが発生する。
本発明は上記事情に鑑みて完成されたもので、その目的
は、レーザー光に対する入射光及び反射光の干渉作用を
低減させ、画像の縞模様発生が防止された電子写真感光
体を提供することにある。
は、レーザー光に対する入射光及び反射光の干渉作用を
低減させ、画像の縞模様発生が防止された電子写真感光
体を提供することにある。
本発明の他の目的は、画像の縞模様発生が防止された電
子写真感光体の製造方法を提供することにある。
子写真感光体の製造方法を提供することにある。
本発明によれば、導電性基板上に、少なくとも光導電層
から成る感光層が積層され、該感光層の表面側からレー
ザー光を照射して該光導電層に光キャリアを発生させる
電子写真感光体において、該レーザー光に対する前記感
光層の透過率をａとし、且つ該レーザー光に対する前記
基板の反射率をｂとした時、ａｘｂを０．２以下とした
ことを特徴とする電子写真感光体を提供することにある
。
から成る感光層が積層され、該感光層の表面側からレー
ザー光を照射して該光導電層に光キャリアを発生させる
電子写真感光体において、該レーザー光に対する前記感
光層の透過率をａとし、且つ該レーザー光に対する前記
基板の反射率をｂとした時、ａｘｂを０．２以下とした
ことを特徴とする電子写真感光体を提供することにある
。
更に、本発明によれば、導電性基板上に、少なくとも光
導電層から成る感光層が積層され、該感光層の表面側か
らレーザー光を照射して該光導電層に光キャリアを発生
させる電子写真感光体であり、該レーザー光に対する前
記感光層の透過率をａとし、且つ該レーザー光に対する
前記基板の反射率をｂとした時、ａＸｂを０．２以下と
したことを特徴とする電子写真感光体の製造方法におい
て、前記基板の表面を、予め０．２μｍ以下の表面粗度
となるように鏡面加工し、次いで、表面粗度が０．２〜
４μｍの範囲となるようにエツチング処理し、その後、
この基板の上に、前記感光層を積層することを特徴とす
る電子写真感光体の製造方法を提供することにある。
導電層から成る感光層が積層され、該感光層の表面側か
らレーザー光を照射して該光導電層に光キャリアを発生
させる電子写真感光体であり、該レーザー光に対する前
記感光層の透過率をａとし、且つ該レーザー光に対する
前記基板の反射率をｂとした時、ａＸｂを０．２以下と
したことを特徴とする電子写真感光体の製造方法におい
て、前記基板の表面を、予め０．２μｍ以下の表面粗度
となるように鏡面加工し、次いで、表面粗度が０．２〜
４μｍの範囲となるようにエツチング処理し、その後、
この基板の上に、前記感光層を積層することを特徴とす
る電子写真感光体の製造方法を提供することにある。
以下、本発明の詳細な説明する。
本発明のレーザーフィンプリンタ用の電子写真感光体に
よれば、レーザー光の発振波長にもよるが、このレーザ
ー光に対する反射率がｂである基板の上に、該レーザー
光の透過率がａである感光層を積層した場合、ａｘｂが
０．２以下となるようにすれば、この感光層が、光導電
層と八に、後述の障壁層及び表面保護層等々を有する積
層膜型式や、アルミニウム以外の材料から成る基板を使
った感光体など、種々の型式の感光体について１本発明
の目的が十分に達成される。
よれば、レーザー光の発振波長にもよるが、このレーザ
ー光に対する反射率がｂである基板の上に、該レーザー
光の透過率がａである感光層を積層した場合、ａｘｂが
０．２以下となるようにすれば、この感光層が、光導電
層と八に、後述の障壁層及び表面保護層等々を有する積
層膜型式や、アルミニウム以外の材料から成る基板を使
った感光体など、種々の型式の感光体について１本発明
の目的が十分に達成される。
このａＸｂの値が０．２を越えると、レーザーフィンプ
リンタ用の感光体に望まれる画質に対して、縞模様の悪
影響がほとんど無視できて実用上何ら支障がなく、好ま
しくは、ａｘｂ値を０．１以下とすれば肉眼で縞模様が
全く確認できない、著しく優れた画像が得られることを
知見した。尚、この透過率ａは、感光体に投光されるレ
ーザー光の強度に対して感光層を通過した該レーザー光
の強度の割合を表わす。
リンタ用の感光体に望まれる画質に対して、縞模様の悪
影響がほとんど無視できて実用上何ら支障がなく、好ま
しくは、ａｘｂ値を０．１以下とすれば肉眼で縞模様が
全く確認できない、著しく優れた画像が得られることを
知見した。尚、この透過率ａは、感光体に投光されるレ
ーザー光の強度に対して感光層を通過した該レーザー光
の強度の割合を表わす。
更に、本発明者は、所定の範囲の表面粗度となるように
、基板を鏡面加工してがらエツチング処理すると、レー
ザー光に対する基板の反射率すを特定できることを見い
出した。
、基板を鏡面加工してがらエツチング処理すると、レー
ザー光に対する基板の反射率すを特定できることを見い
出した。
即ち、ドラム状のアルミニウム基板であれば、その素管
を、ダイヤモンドバイトを用いた超４゛Ｎ密旋盤などに
より、鏡面加工し、この時、表面粗度を０．２μｍ以下
となるように設定するのが望ましく、０．２μｍを超え
ると、エツチング処理をしだ時に、鏡面加工によって生
じるドラム周方向の縞模様が誇張して現われ、均一な粗
面とならないため、それを基板として成膜して得られた
感光体を使うと、コピー画像に縞模様があられれる。
を、ダイヤモンドバイトを用いた超４゛Ｎ密旋盤などに
より、鏡面加工し、この時、表面粗度を０．２μｍ以下
となるように設定するのが望ましく、０．２μｍを超え
ると、エツチング処理をしだ時に、鏡面加工によって生
じるドラム周方向の縞模様が誇張して現われ、均一な粗
面とならないため、それを基板として成膜して得られた
感光体を使うと、コピー画像に縞模様があられれる。
かように、０．２μｎ１以下の表面粗度となるように鏡
面加工されたアルミニウム基板各こは、その表面に、鏡
面加工の切削の際に、鋭角状の凹凸が局所的に生じてお
り、それを基板として成膜して得られた感光体を使うと
、突起状の成膜欠陥に起因して白抜けの画像ができる。
面加工されたアルミニウム基板各こは、その表面に、鏡
面加工の切削の際に、鋭角状の凹凸が局所的に生じてお
り、それを基板として成膜して得られた感光体を使うと
、突起状の成膜欠陥に起因して白抜けの画像ができる。
そこで、これをエツチング処理により、鋭角状の凹凸を
滑らかな凹凸にすると共に、表面粗度を０．２〜４μｍ
の範囲に設定すると、特に、レーザーチー光に対する基
板の反射率を著しく小さくすることができ、しかも、そ
の表面粗度が０．２μｍ未満では、例えば、アルミニウ
ム基板上にａ −ＳＬ感光層を積層する場合、その成膜
中、基板表面の微小な突起物を核として数ｌＯμｍのサ
イズの大きな突起物が成長し、これにより、画像に白抜
けが現われたり、クリーニング不良などの欠点が現われ
、通に、その表面粗度が４μｍを超えると、帯電電位の
低下、画像濃度の低下、トナーのクリーニング不良等々
の問題が生じ易くなることを知得した。
滑らかな凹凸にすると共に、表面粗度を０．２〜４μｍ
の範囲に設定すると、特に、レーザーチー光に対する基
板の反射率を著しく小さくすることができ、しかも、そ
の表面粗度が０．２μｍ未満では、例えば、アルミニウ
ム基板上にａ −ＳＬ感光層を積層する場合、その成膜
中、基板表面の微小な突起物を核として数ｌＯμｍのサ
イズの大きな突起物が成長し、これにより、画像に白抜
けが現われたり、クリーニング不良などの欠点が現われ
、通に、その表面粗度が４μｍを超えると、帯電電位の
低下、画像濃度の低下、トナーのクリーニング不良等々
の問題が生じ易くなることを知得した。
このエツチング処理は、ウェットエツチングもしくはド
ライエツチングのいずれでもよく、ウェットエツチング
であれば、リン酸−硫酸系、リン酸−硝酸系、リン酸−
硫酸一硝酸系、硝酸−フッ酸系などのケミカルエツチン
グ剤を用いて上記ノ効果が達成できる。ドライエツチン
グであれば、感光層を形成するグロー放電分解装置を用
いて、ＣＣＩ＜ 、 ＢＣ１＋ 、 ＣＦ４等のプラズ
マエツチング用ガスや水素ガスを導入し、プラズマエツ
チングをおこない、引き続いて、感光層の成膜用ガスに
切替えて感光層を形成することができ、これにより、基
板が大気に晒されず、酸化や汚染が防止されるため、感
光層の光電特性が十分に発揮されると共に、製造歩留り
が向上し、且つ連続工程による作業能率を高めることが
できる。
ライエツチングのいずれでもよく、ウェットエツチング
であれば、リン酸−硫酸系、リン酸−硝酸系、リン酸−
硫酸一硝酸系、硝酸−フッ酸系などのケミカルエツチン
グ剤を用いて上記ノ効果が達成できる。ドライエツチン
グであれば、感光層を形成するグロー放電分解装置を用
いて、ＣＣＩ＜ 、 ＢＣ１＋ 、 ＣＦ４等のプラズ
マエツチング用ガスや水素ガスを導入し、プラズマエツ
チングをおこない、引き続いて、感光層の成膜用ガスに
切替えて感光層を形成することができ、これにより、基
板が大気に晒されず、酸化や汚染が防止されるため、感
光層の光電特性が十分に発揮されると共に、製造歩留り
が向上し、且つ連続工程による作業能率を高めることが
できる。
更に、鏡面加工の切削の際に、アルミニウム基板の表面
にアルミニウム金属の微細な切粉が付着し、洗浄し７て
もなかなか取れないが、かようなエツチング処理により
、完全に清浄された基板が得られる。
にアルミニウム金属の微細な切粉が付着し、洗浄し７て
もなかなか取れないが、かようなエツチング処理により
、完全に清浄された基板が得られる。
本発明によれば、レーザー光の発振波長が６３３皿位ノ
）Ｉｅ’−Ｎｅ カスレーザーや、４４２ ｎｍ位のＨ
ｅ−Ｃｄガヌレーザーなど、４００〜８５０皿の範囲の
発振波長に亘って、各種の記録部材に適用でき、例えば
、７５０〜ｓｏｏ ｎｍ位の発振波長をもった半導体レ
ーザーを記録部材としたレーザーラインプリンタに対し
、ｓｏｏ ｎｍ付近の近赤外領域で優れた光感度特性を
もったａ −Ｓｉ光導電層から成る電子写真感光体など
、７００ ｎｍ以上の発振波長を有した記録部材に好適
である。
）Ｉｅ’−Ｎｅ カスレーザーや、４４２ ｎｍ位のＨ
ｅ−Ｃｄガヌレーザーなど、４００〜８５０皿の範囲の
発振波長に亘って、各種の記録部材に適用でき、例えば
、７５０〜ｓｏｏ ｎｍ位の発振波長をもった半導体レ
ーザーを記録部材としたレーザーラインプリンタに対し
、ｓｏｏ ｎｍ付近の近赤外領域で優れた光感度特性を
もったａ −Ｓｉ光導電層から成る電子写真感光体など
、７００ ｎｍ以上の発振波長を有した記録部材に好適
である。
本発明のレーザーラインプリンタ用の電子写真感光体に
おいては、基板上に形成された感光層の、レーザー光に
対する透過率をａとし、その基板の反射率をｂとした時
、ａｘｂを０．２以下としたことにより、レーザー光に
起因する画像の縞模様発生が防止された。
おいては、基板上に形成された感光層の、レーザー光に
対する透過率をａとし、その基板の反射率をｂとした時
、ａｘｂを０．２以下としたことにより、レーザー光に
起因する画像の縞模様発生が防止された。
そして、本発明の電子写真感光体の製造方法においては
、基板用素材を、予め鏡面加工して、その表面粗度を０
．２μｍ以下とし、次いで、エツチング処理して０．２
〜４μｍの範囲の表面粗度とした場合、基板の反射率す
が低減されるため、縞模様の発生を防止する働きをし、
加えて、このエツチング処理により、基板表面を十分に
洗浄するだめ、安定した動作特性の電子写真感光体とな
る。
、基板用素材を、予め鏡面加工して、その表面粗度を０
．２μｍ以下とし、次いで、エツチング処理して０．２
〜４μｍの範囲の表面粗度とした場合、基板の反射率す
が低減されるため、縞模様の発生を防止する働きをし、
加えて、このエツチング処理により、基板表面を十分に
洗浄するだめ、安定した動作特性の電子写真感光体とな
る。
次に、本発明者が先に提案した、後述の実施例に使われ
るａ −Ｓｊ−感光体を述べる。
るａ −Ｓｊ−感光体を述べる。
この感光体は、第２図に示す如く、導電性城板（１）上
に、障壁層（３）、光導電層（２）及び表面保護層（４
）を積層して感光層を構成し、いずれの層もａ−８ｉか
ら成ることを特徴とし、各層の成分比及び厚みは第１表
の通りである。
に、障壁層（３）、光導電層（２）及び表面保護層（４
）を積層して感光層を構成し、いずれの層もａ−８ｉか
ら成ることを特徴とし、各層の成分比及び厚みは第１表
の通りである。
第 １ 表
障壁層（３）の酸素含有量については、障薙層（３）の
形成開始時に酸素含有量を０．１〜２０．０ ａｔｏｍ
ｉｃ％とし、且つ層形成中に酸素含有量を漸次減少させ
、好ましくは層形成終了時の酸素含有量を前記光導電層
（２）の酸素含有量と同じにするのがよい。
形成開始時に酸素含有量を０．１〜２０．０ ａｔｏｍ
ｉｃ％とし、且つ層形成中に酸素含有量を漸次減少させ
、好ましくは層形成終了時の酸素含有量を前記光導電層
（２）の酸素含有量と同じにするのがよい。
また、表面保護層（４）の酸素含有量については、層形
成中に酸素含有量を漸次増加させ、且つ表面保護層（４
）の形成終了時の酸素含有量を１．０〜６０．０ａｔｏ
ｍｉＱ％とし、好ましくは、層形成開始時の酸素含有量
を前記光導電層（２）の酸素含有量と同じにするのがよ
い。
成中に酸素含有量を漸次増加させ、且つ表面保護層（４
）の形成終了時の酸素含有量を１．０〜６０．０ａｔｏ
ｍｉＱ％とし、好ましくは、層形成開始時の酸素含有量
を前記光導電層（２）の酸素含有量と同じにするのがよ
い。
かかるａ −Ｓｊ、感光体は、電荷保持能力が極めて大
きくなり、且つ暗減衰速度の小さい特性を示すと共に、
近赤外光に対する光感度が著しく向上した好適な感光体
となることが判っている。
きくなり、且つ暗減衰速度の小さい特性を示すと共に、
近赤外光に対する光感度が著しく向上した好適な感光体
となることが判っている。
更に、障壁層の、基板との界面を最大酸素含有量とし、
この界面から漸次酸素含有量を減少させたため、残留電
位はほとんど零寥こまで下げることができた。
この界面から漸次酸素含有量を減少させたため、残留電
位はほとんど零寥こまで下げることができた。
前述の如き、優れた光電適性をもったａ−Ｓｉ感光体を
、発振波長７７０〜７８０ ｎＩｎの半導体レーザー光
を記録部材としたレーザーラインプリンタに使い、以下
、その実施例を説明する。
、発振波長７７０〜７８０ ｎＩｎの半導体レーザー光
を記録部材としたレーザーラインプリンタに使い、以下
、その実施例を説明する。
〔実施例１〕
ダイヤモンドバイトを用いた超精密旋盤により、表面粗
度０．０２μｎ１の鏡面に仕上げた基板用アルミニウム
製ドラムを、アルカリ脱脂、水洗、乾燥をおこなって清
浄し、５０℃に保ったエツチング液（リン酸：硝酸：酢
酸：水＝１３：ｌ：２：１）中に、３分間浸漬してエツ
チング処理した。
度０．０２μｎ１の鏡面に仕上げた基板用アルミニウム
製ドラムを、アルカリ脱脂、水洗、乾燥をおこなって清
浄し、５０℃に保ったエツチング液（リン酸：硝酸：酢
酸：水＝１３：ｌ：２：１）中に、３分間浸漬してエツ
チング処理した。
このエツチング後、再び、水洗、乾燥をおこなって成膜
前のアルミニウム基板（１）を得り。
前のアルミニウム基板（１）を得り。
この基板（１）の表面粗度は１．２μＭであり、その表
面に発振波長７７０ ｎ＋ｎの半導体レーザー光を投光
したところ、反射率は約５％であった。
面に発振波長７７０ ｎ＋ｎの半導体レーザー光を投光
したところ、反射率は約５％であった。
次に、グロー放電分解装置によって、このアルミニウム
基板ｆｉｌ上に、酸素を約ｓ、ｏ ａｔｏｍｉｃ％、硼
素を約２０（ｌ ｐｐｍ 、水素を約１０ ａｔｏｍｌ
Ｃ％含有の組成から出発して、漸次、連続的に酸素の含
有量を減少させていき、２．Ｏｔｉｐｓの層厚になった
時１こ、酸素約０．０２ ａｔｏｍｉｃ％、１ｌｌｌ１
１素を約２００ ｐｐｍ、水素ヲ約１５ ａｔｏｍｉｏ
％とし、障壁層（３）を得た。次いで、このままの組成
で厚さ２１．８μｍの光導電層（２）を得て、これから
、更に、？ｆｉ次、連続的に硼素を少なくすると共に、
酸素を多くして、感光層の外表面が酸素約５０ ａｔｏ
ｎｌｉｏ％、水素を約１５ ａｔｏｍｉｏ％含有し、且
つ硼素を含まないようにした厚さ０．２μｍの表面保護
層（４）を得た。
基板ｆｉｌ上に、酸素を約ｓ、ｏ ａｔｏｍｉｃ％、硼
素を約２０（ｌ ｐｐｍ 、水素を約１０ ａｔｏｍｌ
Ｃ％含有の組成から出発して、漸次、連続的に酸素の含
有量を減少させていき、２．Ｏｔｉｐｓの層厚になった
時１こ、酸素約０．０２ ａｔｏｍｉｃ％、１ｌｌｌ１
１素を約２００ ｐｐｍ、水素ヲ約１５ ａｔｏｍｉｏ
％とし、障壁層（３）を得た。次いで、このままの組成
で厚さ２１．８μｍの光導電層（２）を得て、これから
、更に、？ｆｉ次、連続的に硼素を少なくすると共に、
酸素を多くして、感光層の外表面が酸素約５０ ａｔｏ
ｎｌｉｏ％、水素を約１５ ａｔｏｍｉｏ％含有し、且
つ硼素を含まないようにした厚さ０．２μｍの表面保護
層（４）を得た。
上記に従い、成膜された積層膜感光体の層厚に対する酸
素濃度分布の概略図を第３図に示す。
素濃度分布の概略図を第３図に示す。
同図中、横軸は酸素濃度を示し、縦軸についてはｄｏ
−ｄ＋間は障壁層（３）の、α１−ｄ２間は光導電層（
２）の、ｄｇ−ｄｏ間は表面保護層（４）のそれぞれの
層厚を示す。
−ｄ＋間は障壁層（３）の、α１−ｄ２間は光導電層（
２）の、ｄｇ−ｄｏ間は表面保護層（４）のそれぞれの
層厚を示す。
かくして得られたａ −Ｓｉ感光体は、電荷保持能力が
極めて大きくなり、且つ暗減衰速度の小さい特性を示す
と共に、近赤外光に対する光感度が著しく向上した好適
な感光体となり、半導体レーザプリンタ（波長７７０罷
、印刷速度２０枚／分）に実装し、印字したところ、縞
模様が全くなく。
極めて大きくなり、且つ暗減衰速度の小さい特性を示す
と共に、近赤外光に対する光感度が著しく向上した好適
な感光体となり、半導体レーザプリンタ（波長７７０罷
、印刷速度２０枚／分）に実装し、印字したところ、縞
模様が全くなく。
高コントラストで解像度が高い、高品質画像が得られ、
３０万回の繰り返しテスト後においても濃度低下、白地
のかぶり、ドラム表面の傷による白抜けなどの劣化が全
く見られず、極めて高い耐久性を有していることが確認
された。
３０万回の繰り返しテスト後においても濃度低下、白地
のかぶり、ドラム表面の傷による白抜けなどの劣化が全
く見られず、極めて高い耐久性を有していることが確認
された。
〔実施例２〕
次に、エツチングの処理時間以外は実施例１と全く同一
の方法にしたがって、幾曲りもの表面粗度をつくって、
第２表に示す如く、感光体（Ａｌ乃至＋Ｇｌを得た。
の方法にしたがって、幾曲りもの表面粗度をつくって、
第２表に示す如く、感光体（Ａｌ乃至＋Ｇｌを得た。
１印の感光体は本発明の範囲外のものである。
第２表中、感光体ｆＡ＋乃至Ｏ）に使われているアルミ
ニウム基板に対して、７７０〜７８０ ｎｍの半導体レ
ーザー光を投光して、反射率をめ、感光層の透過率（０
，２６）を乗じた値も記載した。
ニウム基板に対して、７７０〜７８０ ｎｍの半導体レ
ーザー光を投光して、反射率をめ、感光層の透過率（０
，２６）を乗じた値も記載した。
−フイングリンタに感光体（Ａｌ乃至（Ｇｌを実装して
、画像の評価をした。０印は肉眼で縞模様が全く確認で
きなかったことを表わし、Ｏ印はレーザーラインプリン
タ用の感光体に望まれる画質に対して、縞模様の悪影響
がほとんど無視できて実用上、何ら支障がないことを表
わし、Δ印は縞模様の悪影響がほとんど無視できたが、
帯ｗｉ、ｗｔ、位の低下、画像濃度の低下、トナーのク
リーニング不良等々が見受けられ、良質な画像が得られ
ず、Ｘ印は画像シこ縞模様が現われた他に、帯電電位の
低下、画像濃度の低下、トナーのクリーニング不良等々
の不良画像となったことを表わす。
、画像の評価をした。０印は肉眼で縞模様が全く確認で
きなかったことを表わし、Ｏ印はレーザーラインプリン
タ用の感光体に望まれる画質に対して、縞模様の悪影響
がほとんど無視できて実用上、何ら支障がないことを表
わし、Δ印は縞模様の悪影響がほとんど無視できたが、
帯ｗｉ、ｗｔ、位の低下、画像濃度の低下、トナーのク
リーニング不良等々が見受けられ、良質な画像が得られ
ず、Ｘ印は画像シこ縞模様が現われた他に、帯電電位の
低下、画像濃度の低下、トナーのクリーニング不良等々
の不良画像となったことを表わす。
第２表から明らかなように、感光体＋Ｃ＋乃至（Ｆ）で
は、実用上支障なく、縞模様の影響が無視でき、特に感
光体（Ｄ）（Ｅ）では縞模様の全くない良質な画像とな
った。又、感光体（Ｆｌ （Ｇｌでは、この縞模様の問
題は解決できたが、クリーニング不良などにより未だ良
質な画像が得られなかった。そして、感光体ＩＡＩ Ｉ
ＢＩでは、クリーニング不良などと共に、画像に縞模様
がはっきり確認でき、実用的でな力１つた。
は、実用上支障なく、縞模様の影響が無視でき、特に感
光体（Ｄ）（Ｅ）では縞模様の全くない良質な画像とな
った。又、感光体（Ｆｌ （Ｇｌでは、この縞模様の問
題は解決できたが、クリーニング不良などにより未だ良
質な画像が得られなかった。そして、感光体ＩＡＩ Ｉ
ＢＩでは、クリーニング不良などと共に、画像に縞模様
がはっきり確認でき、実用的でな力１つた。
〔実施例３〕
実施例１及び２と同様に、幾通りにも表面粗度及び反射
率を変えたアルミニウム基板を製作し、このアルミニウ
ム基板上に、第１表に示す通りに各１３の成分比及び厚
みが特定されたａ −Ｓ’ｒ積層型感光層蚤こ絨づいて
、種々の透過率をもった感光層を形成し、第３表に示す
ように感光体＠）乃至（Ｐｉを得だ。かかる感光体部）
乃至ｔＰｌを、７７０ ｎｍの半導体レーザー光を記録
部材としたレーザーラインプリンタに実装して画像の評
価をおこなった。その結果は第３表に示す通りである。
率を変えたアルミニウム基板を製作し、このアルミニウ
ム基板上に、第１表に示す通りに各１３の成分比及び厚
みが特定されたａ −Ｓ’ｒ積層型感光層蚤こ絨づいて
、種々の透過率をもった感光層を形成し、第３表に示す
ように感光体＠）乃至（Ｐｉを得だ。かかる感光体部）
乃至ｔＰｌを、７７０ ｎｍの半導体レーザー光を記録
部材としたレーザーラインプリンタに実装して画像の評
価をおこなった。その結果は第３表に示す通りである。
第 ３ 表
φ印の感光体は本発明の範囲外のものである第３表から
明らかなように、感光体（Ｉｌ乃至（Ｎｌでは、実用上
支障がないほど、画像に発生する縞模様の影響が無視で
き、特に感光体σ）βｌ（Ｍｌ及び（Ｎｌでは縞模様の
全くない良質の画像となった。又、感光体（０）及び（
Ｐ３では、かかる縞模様発生の問題は解決できたが、ク
リーニング不良などによって未だ良質な画像が得られず
、感光体口では、クリーニング不良などと共に、縞模様
が画像に顕著に現われ、実用的でなかった。
明らかなように、感光体（Ｉｌ乃至（Ｎｌでは、実用上
支障がないほど、画像に発生する縞模様の影響が無視で
き、特に感光体σ）βｌ（Ｍｌ及び（Ｎｌでは縞模様の
全くない良質の画像となった。又、感光体（０）及び（
Ｐ３では、かかる縞模様発生の問題は解決できたが、ク
リーニング不良などによって未だ良質な画像が得られず
、感光体口では、クリーニング不良などと共に、縞模様
が画像に顕著に現われ、実用的でなかった。
更に、感光体σ）（Ｊ）のように基板の反射率が大きく
ても感光層の透過率が小さい時、逆に、感光体Ｍ（Ｎ＋
のように感光層の透過率が大きくても基板の反射率が小
さければ、画像に縞模様が発生するのが防止されること
が判る。
ても感光層の透過率が小さい時、逆に、感光体Ｍ（Ｎ＋
のように感光層の透過率が大きくても基板の反射率が小
さければ、画像に縞模様が発生するのが防止されること
が判る。
以上の通り、レーザープリンター用の本発明の電子写真
感光体によれば、レーザー光に対する感光層の透過率、
及び基板の反射率の積を特定することにより、縞模様の
ない良質な画像が得られ、そして、この基板の反射率と
関係するが、基板の表面粗度を所定の範囲にすることに
よって、縞模様の発生防止と共に、帯１１Ｅ電位の低下
、画像濃度の低下、トナーのクリーニング不良等々が解
決されることになった。
感光体によれば、レーザー光に対する感光層の透過率、
及び基板の反射率の積を特定することにより、縞模様の
ない良質な画像が得られ、そして、この基板の反射率と
関係するが、基板の表面粗度を所定の範囲にすることに
よって、縞模様の発生防止と共に、帯１１Ｅ電位の低下
、画像濃度の低下、トナーのクリーニング不良等々が解
決されることになった。
第１図は干渉作用を起こす感光体の説明図、第２図は本
発明の実施例に係る感光体の拡大断面図、第３図は本発
明の実施例に係る感光体の層厚に対する酸素の濃度分布
を示す概略図である。 （１）・・・導電性基板 （２）・・・光導電層＋３１
・・・障 壁 層 （４）・・・表面保護層特許出願
人 京セ ラ株式会社 手続補正書く自発） 昭和５８年１１月τ口 １、事件の表示 昭和５８年特許願第１？２牛３２号２
、発明の名称 電子写真感光体及びその製造方法 ３、ネ市正をする者 事件との関係 特許出願人 住 所 京都市山科区東野井上町５２番地１１５、補正
の対象 願書及び明細店 手続補正書（自発） 昭和５９年１１月口日 １、事件の表示 昭和５８年特許願第１８２４３２号 ２、発明の名称 電子写真感光体及びその製造方法 ３、補正をする者 事件との関係 特許出願人 住所 京都市山科区東野北井ノ、上町５番地の２２４、
補正命令の日付 自 発 ６、補正の内容 （１）明細書中年６頁第１０行目の［このａｘｂの値が
０．２を越えると、」を「このａＸｂの値が０．２以下
であると、」と補正する。 （２）明細１中第１５員第２表における感光体りの基板
の表面粗度（μｍ）のｌｌＡ＋こ記載されているｒ １
．２ Ｊをｒ １．４ Ｊと補正する。 （３）明細豊中第１６頁第１４行目の［感光体（Ｃ１乃
至（Ｆ）］を「感光体（Ｃ１乃至但）」と補正する。 以上
発明の実施例に係る感光体の拡大断面図、第３図は本発
明の実施例に係る感光体の層厚に対する酸素の濃度分布
を示す概略図である。 （１）・・・導電性基板 （２）・・・光導電層＋３１
・・・障 壁 層 （４）・・・表面保護層特許出願
人 京セ ラ株式会社 手続補正書く自発） 昭和５８年１１月τ口 １、事件の表示 昭和５８年特許願第１？２牛３２号２
、発明の名称 電子写真感光体及びその製造方法 ３、ネ市正をする者 事件との関係 特許出願人 住 所 京都市山科区東野井上町５２番地１１５、補正
の対象 願書及び明細店 手続補正書（自発） 昭和５９年１１月口日 １、事件の表示 昭和５８年特許願第１８２４３２号 ２、発明の名称 電子写真感光体及びその製造方法 ３、補正をする者 事件との関係 特許出願人 住所 京都市山科区東野北井ノ、上町５番地の２２４、
補正命令の日付 自 発 ６、補正の内容 （１）明細書中年６頁第１０行目の［このａｘｂの値が
０．２を越えると、」を「このａＸｂの値が０．２以下
であると、」と補正する。 （２）明細１中第１５員第２表における感光体りの基板
の表面粗度（μｍ）のｌｌＡ＋こ記載されているｒ １
．２ Ｊをｒ １．４ Ｊと補正する。 （３）明細豊中第１６頁第１４行目の［感光体（Ｃ１乃
至（Ｆ）］を「感光体（Ｃ１乃至但）」と補正する。 以上
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 （１） 導電性基板上に、少なくとも光導電層から成る
感光層が積層され、該感光層の表面側からレーザー光を
照射して該光導電層に光キャリアを発生させる電子写真
感光体において、該レーザー光に対する前記感光層の透
過率をａとし、且つ該レーザー光に対するＩ）ｔＪ記法
板の反射率をｂとした時、ａｘｂを０．２以下としたこ
とを特徴とする電子写真感光体。 （２） 前記感光層が主にアモルファスシリコンから成
ることを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の電子写
真感光体。 （３） 前記基板が主にアルミニウムから成ることを特
徴とする特許請求の範囲第１項記載の電子写真感光体。 （４） 前記基板の表面粗度を０．２〜４μｍとしたこ
とを特徴とする特許請求の範囲第１項又は第３項記載の
電子写真感光体。 （５）前記レーザー光の発振波長が４００〜８５０ ｎ
Ｔｎであることを特徴とする特許請求の範囲第１項記載
の電子写真感光体。 （６）導電性基板上に、少なくとも光導電層から成る感
光層が積層され、該感光層の表面側からレーザー光を照
射して該光導電層に光キャリアを発生させる電子写真感
光体であり、該レーザー光に対する前記感光層の透過率
をａとし、且つ該レーザー光に対する前記基板の反射率
をｂとした時、ａｘｂを０．２以下としたことを特徴と
する電子写真感光体の製造方法において、前記基板の表
面を、予め０，２μｍ以下の表面粗度となるように鏡面
加工し、次いで、表面粗度が０，２〜４μｍの範囲とな
るようにエツチング処理し、その後、この基板の上に、
前記感光層を積層することを特徴とする電子写真感光体
の製造方法。 （７１前記感光層が主にアモルファスシリコンから成る
ことを特徴とする特許請求の範囲第６項記載の電子写真
感光体の製造方法。 （８） 前記基板が主にアルミニウムから成ることを特
徴とする特許請求の範囲第６項記載の電子写真感光体の
製造方法。 （９） 前記レーザー光の発振波長が４００〜８５０ｎ
ｍであることを特徴とする特許請求の範囲第６項記載の
電子写真感光体の製造方法。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58182432A JPS6079360A (ja) | 1983-09-29 | 1983-09-29 | 電子写真感光体及びその製造方法 |
| DE19843435757 DE3435757A1 (de) | 1983-09-29 | 1984-09-28 | Elektrophotographisch empfindliches element und verfahren zur herstellung desselben |
| US06/655,931 US4654285A (en) | 1983-09-29 | 1984-09-28 | Electrophotographic sensitive member suitable for coherent beams and method of producing same |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58182432A JPS6079360A (ja) | 1983-09-29 | 1983-09-29 | 電子写真感光体及びその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6079360A true JPS6079360A (ja) | 1985-05-07 |
| JPH0514902B2 JPH0514902B2 (ja) | 1993-02-26 |
Family
ID=16118164
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58182432A Granted JPS6079360A (ja) | 1983-09-29 | 1983-09-29 | 電子写真感光体及びその製造方法 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4654285A (ja) |
| JP (1) | JPS6079360A (ja) |
| DE (1) | DE3435757A1 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH031157A (ja) * | 1989-05-30 | 1991-01-07 | Fuji Xerox Co Ltd | 電子写真感光体及び画像形成方法 |
| US5332643A (en) * | 1988-09-26 | 1994-07-26 | Fuji Xerox Co., Ltd. | Method of wet honing a support for an electrophotographic photoreceptor |
Families Citing this family (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4618552A (en) * | 1984-02-17 | 1986-10-21 | Canon Kabushiki Kaisha | Light receiving member for electrophotography having roughened intermediate layer |
| JPS6191665A (ja) * | 1984-10-11 | 1986-05-09 | Kyocera Corp | 電子写真感光体 |
| US4808504A (en) * | 1985-09-25 | 1989-02-28 | Canon Kabushiki Kaisha | Light receiving members with spherically dimpled support |
| US4834501A (en) * | 1985-10-28 | 1989-05-30 | Canon Kabushiki Kaisha | Light receiving member having a light receiving layer of a-Si(Ge,Sn)(H,X) and a-Si(H,X) layers on a support having spherical dimples with inside faces having minute irregularities |
| JPH079541B2 (ja) * | 1987-11-30 | 1995-02-01 | 富士電機株式会社 | 電子写真用感光体 |
| JPH01207756A (ja) * | 1988-02-16 | 1989-08-21 | Fuji Electric Co Ltd | 電子写真用感光体の製造方法 |
| JPH079539B2 (ja) * | 1988-09-14 | 1995-02-01 | 富士電機株式会社 | 電子写真用感光体の製造方法 |
| JPH0282262A (ja) * | 1988-09-20 | 1990-03-22 | Fuji Electric Co Ltd | 電子写真用感光体の製造方法 |
| US5573445A (en) * | 1994-08-31 | 1996-11-12 | Xerox Corporation | Liquid honing process and composition for interference fringe suppression in photosensitive imaging members |
| JP3566621B2 (ja) | 2000-03-30 | 2004-09-15 | キヤノン株式会社 | 電子写真感光体及びそれを用いた装置 |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5835544A (ja) * | 1981-08-28 | 1983-03-02 | Ricoh Co Ltd | 電子写真用感光体 |
| JPS5882249A (ja) * | 1981-11-11 | 1983-05-17 | Canon Inc | レ−ザ−プリンタ用電子写真感光体 |
| JPS58100138A (ja) * | 1981-12-09 | 1983-06-14 | Canon Inc | 電子写真感光体 |
| JPS58162975A (ja) * | 1982-03-24 | 1983-09-27 | Canon Inc | 電子写真感光体 |
Family Cites Families (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5827496B2 (ja) * | 1976-07-23 | 1983-06-09 | 株式会社リコー | 電子写真用セレン感光体 |
| GB2077154B (en) * | 1980-04-24 | 1984-03-07 | Konishiroku Photo Ind | A method of polishing a peripheral surface of a cylindrical drum for electrophotography |
| US4464451A (en) * | 1981-02-06 | 1984-08-07 | Canon Kabushiki Kaisha | Electrophotographic image-forming member having aluminum oxide layer on a substrate |
| JPS57172344A (en) * | 1981-04-17 | 1982-10-23 | Minolta Camera Co Ltd | Electrophotographic photorecepter |
| US4438188A (en) * | 1981-06-15 | 1984-03-20 | Fuji Electric Company, Ltd. | Method for producing photosensitive film for electrophotography |
| DE3321648A1 (de) * | 1982-06-15 | 1983-12-15 | Konishiroku Photo Industry Co., Ltd., Tokyo | Photorezeptor |
| JPS5995538A (ja) * | 1982-11-24 | 1984-06-01 | Olympus Optical Co Ltd | 電子写真感光体 |
-
1983
- 1983-09-29 JP JP58182432A patent/JPS6079360A/ja active Granted
-
1984
- 1984-09-28 DE DE19843435757 patent/DE3435757A1/de active Granted
- 1984-09-28 US US06/655,931 patent/US4654285A/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5835544A (ja) * | 1981-08-28 | 1983-03-02 | Ricoh Co Ltd | 電子写真用感光体 |
| JPS5882249A (ja) * | 1981-11-11 | 1983-05-17 | Canon Inc | レ−ザ−プリンタ用電子写真感光体 |
| JPS58100138A (ja) * | 1981-12-09 | 1983-06-14 | Canon Inc | 電子写真感光体 |
| JPS58162975A (ja) * | 1982-03-24 | 1983-09-27 | Canon Inc | 電子写真感光体 |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5332643A (en) * | 1988-09-26 | 1994-07-26 | Fuji Xerox Co., Ltd. | Method of wet honing a support for an electrophotographic photoreceptor |
| JPH031157A (ja) * | 1989-05-30 | 1991-01-07 | Fuji Xerox Co Ltd | 電子写真感光体及び画像形成方法 |
| US5166023A (en) * | 1989-05-30 | 1992-11-24 | Fuji Xerox Corporation, Ltd. | Electrophotographic photoreceptor and related method |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE3435757C2 (ja) | 1990-04-05 |
| JPH0514902B2 (ja) | 1993-02-26 |
| US4654285A (en) | 1987-03-31 |
| DE3435757A1 (de) | 1985-04-18 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP3658257B2 (ja) | 洗浄方法及び洗浄装置及び電子写真感光体及び電子写真感光体の製造方法 | |
| JPS6079360A (ja) | 電子写真感光体及びその製造方法 | |
| JP3262529B2 (ja) | 位相シフトマスク及び位相シフトマスクブランク | |
| KR100843417B1 (ko) | 포토마스크 블랭크 및 포토마스크의 제조 방법 | |
| JPS6031144A (ja) | 感光体およびこれを用いた電子写真装置 | |
| US7635544B2 (en) | Transparent substrate for mask blank and mask blank | |
| JP3890153B2 (ja) | 電子写真感光体の製造方法及び製造装置 | |
| JPH06273955A (ja) | 電子写真感光体の製造方法 | |
| JP2000162789A (ja) | 基体の洗浄方法および洗浄装置 | |
| JP2682188B2 (ja) | 電子写真用感光体の製造方法 | |
| JPH07209849A (ja) | ハーフトーン位相シフトフォトマスク及びハーフトーン位相シフトフォトマスク用ブランクス | |
| JP3566516B2 (ja) | 電子写真感光体の製造方法 | |
| JPS62150259A (ja) | 電子写真用感光体 | |
| JPS6191665A (ja) | 電子写真感光体 | |
| JP3272774B2 (ja) | 位相シフトマスクの製造方法 | |
| JPH11194515A (ja) | 電子写真感光体の製造方法 | |
| JPH11212287A (ja) | 電子写真感光体の製造方法及びその装置 | |
| JPS6152649A (ja) | 非晶質シリコン系電子写真用感光体の製造方法 | |
| JP2844929B2 (ja) | 電子写真感光体用支持体およびその製造方法 | |
| JPH0651493A (ja) | フォトマスク | |
| JPH0514901B2 (ja) | ||
| JPS61107252A (ja) | 電子写真用光受容部材 | |
| JPH11119447A (ja) | 電子写真感光体の製造方法 | |
| JPS60203963A (ja) | 光受容部材 | |
| JPH03288861A (ja) | 電子写真用感光体 |