JPH07161036A - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体の製造方法Info
- Publication number
- JPH07161036A JPH07161036A JP5305112A JP30511293A JPH07161036A JP H07161036 A JPH07161036 A JP H07161036A JP 5305112 A JP5305112 A JP 5305112A JP 30511293 A JP30511293 A JP 30511293A JP H07161036 A JPH07161036 A JP H07161036A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- recording medium
- magnetic recording
- layer
- buffer layer
- thin film
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Magnetic Record Carriers (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 保護層の耐蝕性と耐磨耗性の劣化を防止した
磁気記録媒体の製造方法を提供することを目的とする。 【構成】 非磁性のアルミニウム合金等からなる基板６
の上にＮｉ−Ｐからなる中間層７を形成し、中間層７の
上にＣｒ等からなる下地膜８を形成し、下地膜８の上に
スパッタリング等によりＣｏＣｒ系からなる強磁性金属
薄膜層９を形成し、強磁性金属薄膜層９の上にスパッタ
リング等により、Ｃｒ，Ｓｉのうち少なくとも１種類の
元素からなる第１のバッファー層１０を形成し、第１の
バッファー層１０の上に炭素をスパッタリングによりア
ルゴンガスで第２のバッファー層１１を形成し、第２の
バッファー層１１の上にＤＣマグネトロンスパッタリン
グにより水素とアルゴンの混合ガスで水素を９％以上１
７％未満含有させて水素含有炭素膜１２を形成する。
磁気記録媒体の製造方法を提供することを目的とする。 【構成】 非磁性のアルミニウム合金等からなる基板６
の上にＮｉ−Ｐからなる中間層７を形成し、中間層７の
上にＣｒ等からなる下地膜８を形成し、下地膜８の上に
スパッタリング等によりＣｏＣｒ系からなる強磁性金属
薄膜層９を形成し、強磁性金属薄膜層９の上にスパッタ
リング等により、Ｃｒ，Ｓｉのうち少なくとも１種類の
元素からなる第１のバッファー層１０を形成し、第１の
バッファー層１０の上に炭素をスパッタリングによりア
ルゴンガスで第２のバッファー層１１を形成し、第２の
バッファー層１１の上にＤＣマグネトロンスパッタリン
グにより水素とアルゴンの混合ガスで水素を９％以上１
７％未満含有させて水素含有炭素膜１２を形成する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、情報産業分野等で利用
される磁気記録媒体の製造方法に関するものである。
される磁気記録媒体の製造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】近年、コンピュータの外部記録装置は軽
薄短小の市場の要請に沿って開発が進められている。こ
のような外部記録装置に用いられる磁気記録媒体には、
磁気記録媒体の磁気記録層を強磁性金属薄膜とする金属
薄膜型が、塗布型に比べて磁束密度が大きく、かつ薄
型、保持力が大きいために高密度磁気記録に適してい
る。ところで、磁気記録媒体を用いた外部記録装置で
は、停止した状態で磁気記録媒体に磁気ヘッドが接触し
ており、回転の開始時と停止時に、磁気記録媒体に磁気
ヘッドが摺動を行うコンタクト・スタート・ストップ
（以下、ＣＳＳと呼ぶ）方式が主流をなしている。従っ
て、金属薄膜型磁気記録媒体には、強磁性金属薄膜に直
接磁気ヘッドを摺動させないように強磁性金属薄膜の表
面に保護層が設けられている。
薄短小の市場の要請に沿って開発が進められている。こ
のような外部記録装置に用いられる磁気記録媒体には、
磁気記録媒体の磁気記録層を強磁性金属薄膜とする金属
薄膜型が、塗布型に比べて磁束密度が大きく、かつ薄
型、保持力が大きいために高密度磁気記録に適してい
る。ところで、磁気記録媒体を用いた外部記録装置で
は、停止した状態で磁気記録媒体に磁気ヘッドが接触し
ており、回転の開始時と停止時に、磁気記録媒体に磁気
ヘッドが摺動を行うコンタクト・スタート・ストップ
（以下、ＣＳＳと呼ぶ）方式が主流をなしている。従っ
て、金属薄膜型磁気記録媒体には、強磁性金属薄膜に直
接磁気ヘッドを摺動させないように強磁性金属薄膜の表
面に保護層が設けられている。
【０００３】以下、従来の磁気記録媒体について説明す
る。図２は従来の磁気記録媒体の断面図を示すものであ
る。図２において、１は非磁性のアルミニウム合金等の
基板、２は基板１の上に設けられたＮｉＰからなる中間
層、３は中間層２の上に設けられたＣｒからなる下地
膜、４は下地膜３の上に設けられたＣｏＮｉ或いはＣｏ
Ｃｒ等からなる強磁性金属薄膜層、５は強磁性金属薄膜
層４の上に設けられた炭素膜からなる保護層である。
る。図２は従来の磁気記録媒体の断面図を示すものであ
る。図２において、１は非磁性のアルミニウム合金等の
基板、２は基板１の上に設けられたＮｉＰからなる中間
層、３は中間層２の上に設けられたＣｒからなる下地
膜、４は下地膜３の上に設けられたＣｏＮｉ或いはＣｏ
Ｃｒ等からなる強磁性金属薄膜層、５は強磁性金属薄膜
層４の上に設けられた炭素膜からなる保護層である。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】上記の従来の磁気記録
媒体では、初期には磁気記録媒体の保護層５を構成する
炭素膜は摩擦係数も低く潤滑性が良好である。しかしな
がら、長時間に亘り使用を続けると摩擦係数が悪化する
と共に、結露環境下及び高温多湿環境下で強磁性金属薄
膜層４と保護層５との間で電位差が生じて強磁性金属薄
膜層４の元素のＣｏが保護層５に溶出して保護層５の潤
滑性が劣化する。このように潤滑性が劣化すると磁気ヘ
ッドによるＣＳＳ動作を繰り返すと、磁気記録媒体の保
護層５の耐磨耗性が劣化していき保護層５が破壊される
という問題点を有していた。
媒体では、初期には磁気記録媒体の保護層５を構成する
炭素膜は摩擦係数も低く潤滑性が良好である。しかしな
がら、長時間に亘り使用を続けると摩擦係数が悪化する
と共に、結露環境下及び高温多湿環境下で強磁性金属薄
膜層４と保護層５との間で電位差が生じて強磁性金属薄
膜層４の元素のＣｏが保護層５に溶出して保護層５の潤
滑性が劣化する。このように潤滑性が劣化すると磁気ヘ
ッドによるＣＳＳ動作を繰り返すと、磁気記録媒体の保
護層５の耐磨耗性が劣化していき保護層５が破壊される
という問題点を有していた。
【０００５】本発明は上記の問題点を解決するもので、
保護層の耐蝕性と耐磨耗性の劣化を防止した磁気記録媒
体の製造方法を提供することを目的とする。
保護層の耐蝕性と耐磨耗性の劣化を防止した磁気記録媒
体の製造方法を提供することを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】この目的を達成するため
に本発明は、基板の上に形成された強磁性金属薄膜層の
上にＣｒ，Ｓｉのうち少なくとも１種類の元素からなる
第１のバッファー層を形成し、前記第１のバッファー層
の上にグラファイト構造を有する炭素膜で第２のバッフ
ァー層を形成し、前記第２のバッファー層の上にスパッ
タリングによりアルゴンと水素からなる混合ガスで前記
水素を９％以上１７％未満含有させて水素含有炭素膜を
形成することを有している。
に本発明は、基板の上に形成された強磁性金属薄膜層の
上にＣｒ，Ｓｉのうち少なくとも１種類の元素からなる
第１のバッファー層を形成し、前記第１のバッファー層
の上にグラファイト構造を有する炭素膜で第２のバッフ
ァー層を形成し、前記第２のバッファー層の上にスパッ
タリングによりアルゴンと水素からなる混合ガスで前記
水素を９％以上１７％未満含有させて水素含有炭素膜を
形成することを有している。
【０００７】
【作用】この構成によって、水素含有炭素膜の付着力が
炭素膜と同等であり、耐蝕性が向上し、耐磨耗特性を向
上させることができる。
炭素膜と同等であり、耐蝕性が向上し、耐磨耗特性を向
上させることができる。
【０００８】
【実施例】以下、本発明の一実施例における磁気記録媒
体の製造方法について図を参照しながら説明する。図１
は本発明の一実施例における磁気記録媒体の断面図であ
る。図１に示すように、０．６〜１．２５ｍｍの厚みで
円盤状に形成された非磁性のアルミニウム合金等からな
る基板６の上にメッキ等によりＮｉ−Ｐからなる中間層
７を２０μｍの厚みに形成する。さらに、中間層７の上
にスパッタリング等によりＣｒ等からなる下地膜８を１
００ｎｍ程度の厚みに形成する。さらに、下地膜８の上
にスパッタリング等によりＣｏＣｒＴａ，ＣｏＣｒＮ
ｉ，ＣｏＣｒＰｔ，ＣｏＣｒＰｔＴａ，ＣｏＣｒＰｔＢ
等のＣｏＣｒ系磁性材料からなる強磁性金属薄膜層９を
４０〜６０ｎｍの厚みに形成する。
体の製造方法について図を参照しながら説明する。図１
は本発明の一実施例における磁気記録媒体の断面図であ
る。図１に示すように、０．６〜１．２５ｍｍの厚みで
円盤状に形成された非磁性のアルミニウム合金等からな
る基板６の上にメッキ等によりＮｉ−Ｐからなる中間層
７を２０μｍの厚みに形成する。さらに、中間層７の上
にスパッタリング等によりＣｒ等からなる下地膜８を１
００ｎｍ程度の厚みに形成する。さらに、下地膜８の上
にスパッタリング等によりＣｏＣｒＴａ，ＣｏＣｒＮ
ｉ，ＣｏＣｒＰｔ，ＣｏＣｒＰｔＴａ，ＣｏＣｒＰｔＢ
等のＣｏＣｒ系磁性材料からなる強磁性金属薄膜層９を
４０〜６０ｎｍの厚みに形成する。
【０００９】さらに、強磁性金属薄膜層９の上にスパッ
タリング等により、Ｃｒ，Ｓｉのうち少なくとも１種類
の元素からなる第１のバッファー層１０を５〜１５ｎｍ
の厚みに形成する。さらに第１のバッファー層１０の上
にスパッタリングにより炭素をターゲットとしてアルゴ
ンガスを用いて第２のバッファー層１１を１０〜２５ｎ
ｍの厚みに形成する。さらに、第２のバッファー層１１
の上にＤＣマグネトロンスパッタリングにより水素とア
ルゴンの混合ガスの流量比を変えて、スパッタガス圧力
を１〜１０ｍＴｏｒｒ、成膜電力を５００Ｗ、成膜時間
を１５０ｓｅｃで水素含有炭素膜１２を２０〜３５ｎｍ
の厚みに形成する。
タリング等により、Ｃｒ，Ｓｉのうち少なくとも１種類
の元素からなる第１のバッファー層１０を５〜１５ｎｍ
の厚みに形成する。さらに第１のバッファー層１０の上
にスパッタリングにより炭素をターゲットとしてアルゴ
ンガスを用いて第２のバッファー層１１を１０〜２５ｎ
ｍの厚みに形成する。さらに、第２のバッファー層１１
の上にＤＣマグネトロンスパッタリングにより水素とア
ルゴンの混合ガスの流量比を変えて、スパッタガス圧力
を１〜１０ｍＴｏｒｒ、成膜電力を５００Ｗ、成膜時間
を１５０ｓｅｃで水素含有炭素膜１２を２０〜３５ｎｍ
の厚みに形成する。
【００１０】このように水素とアルゴンの混合ガスの流
量比を変えて水素含有炭素膜１２を形成した磁気記録媒
体の試験について説明する。先ず、水素含有炭素膜１２
の剥離強度を測定した。装置は島津製作所製走査型スク
ラッチＳＳＴ１０１を用いて、測定条件は触針曲率１５
μｍ、スクラッチスピード２０μｍ／ｓ、振幅５０μ
ｍ、触針押し付けスピード１μｍ／ｓである。
量比を変えて水素含有炭素膜１２を形成した磁気記録媒
体の試験について説明する。先ず、水素含有炭素膜１２
の剥離強度を測定した。装置は島津製作所製走査型スク
ラッチＳＳＴ１０１を用いて、測定条件は触針曲率１５
μｍ、スクラッチスピード２０μｍ／ｓ、振幅５０μ
ｍ、触針押し付けスピード１μｍ／ｓである。
【００１１】次に、摩擦係数の測定について説明する。
摩擦係数の測定には、ＣＳＳ動作を試験する装置を用い
る。測定に用いた薄膜磁気ヘッドは浮上面に２本のレー
ルが設けられ、それぞれのレールの大きさは幅３８０μ
ｍ、長さ４．０ｍｍである。この薄膜磁気ヘッドのヘッ
ド支持機構に動摩擦係数計が取り付けられ、薄膜磁気ヘ
ッドに９．５ｇの荷重を加えた状態で薄膜磁気ヘッドの
浮上面を磁気記録媒体に接触させ、磁気記録媒体を２
３．６ｍｍ／ｓの速度で走行させて初期状態の摩擦係数
の測定を行う。
摩擦係数の測定には、ＣＳＳ動作を試験する装置を用い
る。測定に用いた薄膜磁気ヘッドは浮上面に２本のレー
ルが設けられ、それぞれのレールの大きさは幅３８０μ
ｍ、長さ４．０ｍｍである。この薄膜磁気ヘッドのヘッ
ド支持機構に動摩擦係数計が取り付けられ、薄膜磁気ヘ
ッドに９．５ｇの荷重を加えた状態で薄膜磁気ヘッドの
浮上面を磁気記録媒体に接触させ、磁気記録媒体を２
３．６ｍｍ／ｓの速度で走行させて初期状態の摩擦係数
の測定を行う。
【００１２】その後に、ＣＳＳ動作を試験する。ＣＳＳ
動作の試験には、薄膜磁気ヘッドに９．５ｇの荷重を加
えた状態で浮上面を磁気記録媒体に接触させる。この状
態で磁気記録媒体を回転させ摺動しながら５秒間で薄膜
磁気ヘッドが浮上する。浮上した状態（周速８．５ｍ／
ｓ）で薄膜磁気ヘッドを５秒間保持した後に、１０秒間
で磁気記録媒体の回転が減少し浮上した薄膜磁気ヘッド
の浮上量が低下し薄膜磁気ヘッドが接触し摺動しながら
停止する。このようなＣＳＳ動作のサイクルを１回とし
て、磁気記録媒体の同じ周軌道でＣＳＳ動作を１万回行
なった後に、摩擦係数を測定する。さらに、摺動面の外
観状態を調べる。
動作の試験には、薄膜磁気ヘッドに９．５ｇの荷重を加
えた状態で浮上面を磁気記録媒体に接触させる。この状
態で磁気記録媒体を回転させ摺動しながら５秒間で薄膜
磁気ヘッドが浮上する。浮上した状態（周速８．５ｍ／
ｓ）で薄膜磁気ヘッドを５秒間保持した後に、１０秒間
で磁気記録媒体の回転が減少し浮上した薄膜磁気ヘッド
の浮上量が低下し薄膜磁気ヘッドが接触し摺動しながら
停止する。このようなＣＳＳ動作のサイクルを１回とし
て、磁気記録媒体の同じ周軌道でＣＳＳ動作を１万回行
なった後に、摩擦係数を測定する。さらに、摺動面の外
観状態を調べる。
【００１３】次に、結露環境下における耐蝕性を試験す
る。試験条件は温度４５℃、湿度９５％ＲＨの環境内に
６０時間放置し、水素含有炭素膜１２の上のＣｏの析出
状況をＥＳＣＡで調べた。
る。試験条件は温度４５℃、湿度９５％ＲＨの環境内に
６０時間放置し、水素含有炭素膜１２の上のＣｏの析出
状況をＥＳＣＡで調べた。
【００１４】以上のように試験した本実施例の磁気記録
媒体の試験結果と従来品の試験結果を（表１）に比較し
て示している。
媒体の試験結果と従来品の試験結果を（表１）に比較し
て示している。
【００１５】
【表１】
【００１６】以下（表１）の結果について説明する。
（表１）でも明らかなように、剥離強度については、本
実施例の磁気記録媒体によれば剥離強度が１９〜２１ｇ
ｆであり、又、従来の磁気記録媒体も２０ｇｆであるの
で剥離強度の差は僅かである。次に、摩擦係数について
は、本実施例の磁気記録媒体によれば、ＣＳＳ動作を１
万回繰り返すと摩擦係数が増加するものの破壊には至ら
ず良好である。しかしながら、従来の磁気記録媒体では
ＣＳＳ動作を１万回繰り返すと保護層５が劣化して破壊
し、摩擦係数の測定ができなかった。次に、結露環境下
における耐蝕性の試験では、本実施例の磁気記録媒体で
は変化が無く、従来の磁気記録媒体ではＣｏの析出が認
められる。
（表１）でも明らかなように、剥離強度については、本
実施例の磁気記録媒体によれば剥離強度が１９〜２１ｇ
ｆであり、又、従来の磁気記録媒体も２０ｇｆであるの
で剥離強度の差は僅かである。次に、摩擦係数について
は、本実施例の磁気記録媒体によれば、ＣＳＳ動作を１
万回繰り返すと摩擦係数が増加するものの破壊には至ら
ず良好である。しかしながら、従来の磁気記録媒体では
ＣＳＳ動作を１万回繰り返すと保護層５が劣化して破壊
し、摩擦係数の測定ができなかった。次に、結露環境下
における耐蝕性の試験では、本実施例の磁気記録媒体で
は変化が無く、従来の磁気記録媒体ではＣｏの析出が認
められる。
【００１７】
【発明の効果】以上のように本発明は、基板の上に形成
された強磁性金属薄膜層の上にＣｒ，Ｓｉのうち少なく
とも１種類の元素からなる第１のバッファー層を形成
し、第１のバッファー層の上にグラファイト構造を有す
る炭素膜で第２のバッファー層を形成し、第２のバッフ
ァー層の上に水素含有炭素膜を形成したので、強磁性金
属薄膜層とバッファー層との間の電位差が低下して耐蝕
性が向上し、耐磨耗特性を向上させた磁気記録媒体の製
造方法を実現するものである。
された強磁性金属薄膜層の上にＣｒ，Ｓｉのうち少なく
とも１種類の元素からなる第１のバッファー層を形成
し、第１のバッファー層の上にグラファイト構造を有す
る炭素膜で第２のバッファー層を形成し、第２のバッフ
ァー層の上に水素含有炭素膜を形成したので、強磁性金
属薄膜層とバッファー層との間の電位差が低下して耐蝕
性が向上し、耐磨耗特性を向上させた磁気記録媒体の製
造方法を実現するものである。
【図１】本発明の一実施例における磁気記録媒体の断面
図
図
【図２】従来の磁気記録媒体の断面図
６ 基板 ７ 中間層 ８ 下地膜 ９ 強磁性金属薄膜層 １０，１１ バッファー層 １２ 水素含有炭素膜
Claims (2)
- 【請求項１】基板の上に形成された強磁性金属薄膜層の
上にＣｒ，Ｓｉのうち少なくとも１種類の元素からなる
第１のバッファー層を形成し、前記第１のバッファー層
の上にグラファイト構造を有する炭素膜で第２のバッフ
ァー層を形成し、前記第２のバッファー層の上にスパッ
タリングによりアルゴンと水素からなる混合ガスで前記
水素を９％以上１７％未満含有させて水素含有炭素膜を
形成することを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。 - 【請求項２】強磁性金属薄膜層がＣｏＣｒ系を有するこ
とを特徴とする請求項１記載の磁気記録媒体の製造方
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5305112A JPH07161036A (ja) | 1993-12-06 | 1993-12-06 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5305112A JPH07161036A (ja) | 1993-12-06 | 1993-12-06 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07161036A true JPH07161036A (ja) | 1995-06-23 |
Family
ID=17941248
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5305112A Pending JPH07161036A (ja) | 1993-12-06 | 1993-12-06 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07161036A (ja) |
-
1993
- 1993-12-06 JP JP5305112A patent/JPH07161036A/ja active Pending
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