JPH07163955A - 電機部品または電子部品の洗浄方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 洗浄能力に優れ、しかも環境及び人体に対し
て安全な、炭化水素系溶剤による電機部品または電子部
品の洗浄方法を開発する。 【構成】 炭化水素系溶剤、好ましくは炭化水素系溶剤
中の芳香族系炭化水素の含有量が０〜２０重量％でかつ
該溶剤の飽和炭化水素成分中のナフテン系炭化水素の分
率が３０〜１００％の炭化水素系溶剤を用いて４０℃〜
１５０℃の温度範囲で電機部品または電子部品を洗浄す
ることを特徴とする電機部品または電子部品の洗浄方法
により目的を達成できる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は電機部品または電子部品
の洗浄方法に関するものであり、さらに詳しくは洗浄能
力に優れ、しかも環境及び人体に対して安全な、炭化水
素系溶剤による電機部品または電子部品の洗浄方法に関
するものである。

【０００２】

【従来の技術】金属部品、電機部品または電子部品など
の洗浄剤として、フロンが普及する以前はホワイトガソ
リン等が広く使用されていた。ホワイトガソリンとは炭
素数４〜９位の炭化水素で、石油を精製したものであ
り、洗浄性は非常に良く、後に汎用となるトリクロロエ
タンと同等であった。ホワイトガソリンは乾燥性も良
く、金属部品の脱脂、切り粉除去には最適であり、現在
でもかなり使用されている。しかし、ホワイトガソリン
は揮発性が良い反面、常温でも可燃性ガスがかなり発生
するので引火する危険性がある。また、成分にベンゼ
ン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素を含むので
環境衛生上問題となるおそれがある。

【０００３】その後普及したフロン１１３を代表とする
塩素、フッ素を含有するフロン系有機溶剤、およびトリ
クロロエチレン、トリクロロエタンなどの塩素系有機溶
剤はホワイトガソリンの欠点を改善した洗浄剤であった
といえる。しかしながら、塩素系およびフロン系の両洗
浄用有機溶剤は、オゾン層破壊物質としてその使用が規
制されることとなり、トリクロロエタンおよび特定フロ
ンは全廃のスケジュールが決定している。

【０００４】従って現在、様々な代替洗浄剤が開発され
ており、水系洗浄剤もそのひとつであるが、水系洗浄剤
は大がかりな設備が必要なことと多量の廃液処理が困難
であることから他の洗浄方法が嘱望されている。特に電
機部品または電子部品においては高い洗浄度が要求され
るうえ、半田付けした時に生ずるフラックス等の洗浄が
困難である。従来、これらの洗浄にはトリクロロエタン
などを用いた常温での洗浄方法が採用されていたが、ト
リクロロエタンは全廃の予定である。また、炭化水素系
溶剤は金属加工油など比較的洗浄の容易な汚れに対して
は一定の効果があるが、半田フラックスは洗浄できない
と考えられていた。しかしながら、トリクロロエタンな
どの代替品としての炭化水素系溶剤による洗浄が実現す
ればフロンなどと同じようなコンパクトな装置での洗浄
が可能で非常に経済的であり、廃液処理も水系溶剤に較
べて容易である。そこで本発明者等は炭化水素系溶剤に
よる半田フラックスなどの洗浄方法を鋭意研究した結
果、特定温度の炭化水素溶剤を用いることによって半田
フラックスなどを効果的に洗浄できることを見いだし、
さらに驚くべきことにその洗浄力は従来のトリクロロエ
タンなどを用いた常温での洗浄方法を凌ぐものであっ
た。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、洗浄能力に
優れ、しかも環境及び人体に対して安全な、電機部品ま
たは電子部品の洗浄方法を提供するものである。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明者等は上記の問題
点に鑑み鋭意研究した結果、特定の炭化水素系溶剤を用
い、かつ特定洗浄条件で電機部品または電子部品を洗浄
することにより上記課題を解決することができることを
見いだして本発明を成すにいたった。

【０００７】本発明の請求項１は、炭化水素系溶剤を用
いて４０℃〜１５０℃の温度範囲で電機部品または電子
部品を洗浄することを特徴とする電機部品または電子部
品の洗浄方法である。

【０００８】本発明の請求項２は、炭化水素系溶剤中の
芳香族系炭化水素の含有量が０〜２０重量％以下でかつ
該溶剤の飽和炭化水素成分中のナフテン系炭化水素の分
率が３０〜１００％の炭化水素系溶剤であることを特徴
とする請求項１に記載の電機部品または電子部品の洗浄
方法である。

【０００９】本発明の洗浄方法に用いられる炭化水素系
溶剤は特に限定されるものではなく、通常の鉱油系およ
び／または合成系炭化水素系溶剤として使用されている
ものであれば任意のものが使用できるが、中でも特に鉱
油系炭化水素系溶剤が好適に用いられる。

【００１０】鉱油系炭化水素系溶剤としては、例えば、
原油を常圧蒸留または減圧蒸留して得られた溶剤留分
を、水素化精製、硫酸洗浄、白土処理等の精製処理を適
宜組み合わせて精製した、パラフィン系、ナフテン系お
よびアロマティック系などの溶剤留分が使用できる。特
に水素化精製によって硫黄分０．０２％以下、窒素分
０．０１％以下、塩素分０．０１％以下にまで除去した
溶剤留分が好ましい。

【００１１】また、合成系炭化水素系溶剤としては、例
えば、パラフィン系、ナフテン系及びアロマティック系
溶剤留分が使用できる。

【００１２】ここでいうパラフィン系合成炭化水素系溶
剤としては、具体的には例えば、プロピレン、ブテンお
よびイソブチレンなどのオレフィンを単独で、またはそ
の混合物を重合して得られる低分子量オリゴマー、ある
いは更にその分子中に含まれる二重結合を水素化して製
造されるいわゆる合成イソパラフィンなどが挙げられ
る。

【００１３】またナフテン系合成炭化水素系溶剤として
は、具体的には例えば、α−メチルスチレンの２量体化
やベンゼン、トルエン、キシレンのスチレンによるアル
キル化により得られるジアリールアルカンをさらに核水
素化することにより製造されるいわゆる合成ナフテンな
どが挙げられる。

【００１４】またアロマティック系合成炭化水素系溶剤
としては、具体的には例えば、プロピレンオリゴマーで
ベンゼンをアルキル化することによって得られるハード
型アルキルベンゼンや、灯油より分離したノルマルパラ
フィンを脱水素化して得られるノルマルオレフィン、あ
るいはノルマルパラフィンを塩素化して得られる塩素化
パラフィンによってベンゼンをアルキル化して製造され
るソフト型アルキルベンゼンなどが挙げられる。

【００１５】これらの合成系炭化水素系溶剤は単独で使
用してもよく、また２種類以上併用してもよい。さらに
鉱油系炭化水素系溶剤との組み合わせでも使用できる。

【００１６】本発明で用いる炭化水素系溶剤としては、
任意の沸点範囲のものが使用できるが、通常、５０〜４
５０℃、好ましくは１２０〜３７０℃、より好ましくは
１４０〜３００℃の沸点範囲内の留分のものを用いるこ
とができる。沸点が５０℃に満たない留分のものを用い
た場合、洗浄時に可燃性ガスがかなり発生するため引火
するおそれがある。また、この可燃性ガスが作業環境に
悪影響を及ぼす。また沸点が４５０℃を越える留分のも
のを用いた場合は洗浄力及び乾燥性が不充分である。

【００１７】また、本発明で用いる炭化水素系溶剤とし
ては任意の引火点範囲のものが使用できるが、通常、２
０〜３００℃、好ましくは４０〜２００℃、更に好まし
くは７０〜１５０℃の引火点範囲内の留分のものを用い
ることができる。引火点が２０℃に満たない留分のもの
を用いた場合、昇温洗浄を行う本発明においては引火の
おそれがある。さらに引火の危険性を減らす為には引火
点が７０℃以上の留分のものを用いることが好ましい。
また、本発明で用いる炭化水素系溶剤の引火点は洗浄時
の液温度より高く設定することが安全上好ましい。あま
り高く設定すると洗浄力や乾燥性が不充分となるので、
洗浄力、乾燥性、引火性などを総合的に考慮して適宜選
択して設定することが好ましい。例えば、具体的には、
炭化水素系溶剤の引火点は洗浄時の液温度より約５℃、
好ましくは約１０℃、より好ましくは約１５℃以上高く
設定するのがよい。

【００１８】また、本発明で用いる炭化水素系溶剤とし
ては任意の粘度のものが使用できるが、通常、０．５〜
１０mm²/s(@40 ℃）、好ましくは１〜３mm²/s(@40 ℃）
である。

【００１９】また、本発明で用いる炭化水素系溶剤とし
ては任意のアニリン点のものが使用できるが、通常、２
０〜１００℃、好ましくは４０〜９０℃、更に好ましく
は６０〜７５℃である。

【００２０】また、本発明で用いる炭化水素系溶剤とし
ては任意のカウリブタノール価のものが使用できるが、
通常、２０〜５０、好ましくは２０〜４０である。

【００２１】また、本発明で用いる炭化水素系溶剤とし
ては、上記に例示したようなものが使用可能であるが、
パラフィン系やナフテン系などの飽和炭化水素系溶剤は
臭気や肌荒れ性が少ないためアロマティック系より好ま
しい。中でもナフテン系の炭化水素系溶剤は洗浄力が良
いため、より好ましい。

【００２２】より具体的には、炭化水素系溶剤中、溶出
クロマトグラフィー分析による芳香族系炭化水素の組成
は０〜２０重量％、好ましくは０〜１０重量％、更に好
ましくは０〜２重量％、特に好ましくは０重量％であ
る。芳香族系炭化水素の組成が２０重量％を越える場合
には労働安全衛生法上、および環境安全性上問題がある
ため好ましくなく、芳香族系炭化水素の組成は少ない程
好ましい。

【００２３】また溶出クロマトグラフィー分析により分
離された飽和炭化水素成分中、質量分析計によるタイプ
分析によるナフテン系炭化水素の組成は３０〜１００
％、好ましくは４０〜１００％、より好ましくは６０〜
１００％、更に好ましくは７０〜１００％である。ナフ
テン系炭化水素の組成が３０％に満たない場合には洗浄
力が充分でないため好ましくない。

【００２４】本発明で言う質量分析計によるタイプ分析
を以下に説明する。試料の前処理は溶出クロマトグラフ
ィー分析により、飽和分、芳香族分に分別する。前処理
法の概略は以下の通りである。 径１８ｍｍ、長さ９８０ｍｍの溶出クロマト用吸着管
に、約１７５℃、３時間の乾燥により活性化された呼び
径７４〜１４９μｍシリカゲル（富士デビソン化学
（株）製ｇｒａｄｅ９２３）１２０ｇを充填する。 ｎ−ペンタン７５ｍｌを注入し、シリカゲルを予め湿
す。 試料約２ｇを精秤し、等容量のｎ−ペンタンで希釈
し、得られた試料溶液を注入する。 試料溶液の液面がシリカゲル上端に達したとき、飽和
炭化水素成分を分離するためｎ−ペンタン１４０ｍｌを
注入し、吸着管の下端より溶出液を回収する。 ｎ−ペンタンの液面がシリカゲルの上端に達したと
き、芳香族炭化水素成分を分離するためベンゼン１２０
ｍｌを注入し、吸着管の下端より溶出液を回収する。 ベンゼンの液面がシリカゲルの上端に達したとき、樹
脂炭化水素成分を分離するためメタノール１２０ｍｌを
注入し、吸着管の下端より溶出液を回収する。 各溶出液区分からロータリーエバポレーターにより溶
媒を注意深く留去し、冷却精秤する。 こうして試料中の飽和炭化水素成分（パラフィンおよび
ナフテン系炭化水素成分）、芳香族炭化水素成分および
樹脂炭化水素成分（硫黄、窒素、酸素などを比較的多く
含む炭化水素成分）の重量比率が計算できる。分別され
た飽和炭化水素成分はその後質量分析計で測定される。
質量分析におけるイオン化方法としてはガラスリザーバ
を使用したＦＩイオン化法が用いられる。質量分析計は
日本電子（株）製ＪＭＳ−ＡＸ５０５Ｈを用いた。測定
条件を以下に示す。 加速電圧：３．０ｋＶ カソード電圧：−５〜−６ｋＶ、 分解能：約５００ エミッター：カーボン エミッター電流：５ｍＡ 測定範囲：質量数３５〜７００ Ｓｕｂ Ｏｖｅｎ温度：３００℃ セパレータ温度：３００℃ Ｍａｉｎ Ｏｖｅｎ温度：３５０℃ 試料注入量：１μｌ

【００２５】上記質量分析法により得られた分子イオン
同位体補正後、ナフテン分とパラフィン分に分類・整理
し、それぞれのイオン強度の分率を求め、組成結果とす
る。タイプ分析法によるデータ処理の詳細は「日石レビ
ュー」VOL.33/NO.４，第１９６号, P135〜142 の特に
「２．２．３データ処理」の項に記載されている。こう
して飽和炭化水素成分中のナフテン分およびパラフィン
分のイオン強度の分率が計算できる。

【００２６】なお炭化水素系溶剤を用いる場合、ナフテ
ン系以外の基油、例えばパラフィン系炭化水素系溶剤を
ナフテン系炭化水素系溶剤と混合使用することも可能で
あるが、その場合でも混合した炭化水素系溶剤のナフテ
ン分の割合が大きい方が好ましく、炭化水素系溶剤中、
タイプ分析によるナフテン系炭化水素の組成が３０〜９
９％、好ましくは４０〜９０％となるように混合するの
が望ましい。

【００２７】本発明の洗浄方法で用いる炭化水素系溶剤
の各種性能をさらに高める目的で公知の洗浄用溶剤用添
加剤を単独で、または数種類組み合わせた形で使用する
ことができる。

【００２８】これらの添加剤としては、例えば、アルケ
ニルコハク酸エステルなどの錆止め剤；こはく酸イミ
ド、こはく酸エステル、ベンジルアミンなどの無灰分散
剤；シリコーンなどの消泡剤；ベンゾトリアゾール、チ
アジアゾールなどの金属不活性化剤などが挙げられ、こ
れらを単独または２種以上組み合わせて添加することが
できる。

【００２９】消泡剤の含有量は通常０．０００５〜１重
量％、金属不活性化剤の含有量は通常０．００５〜１重
量％、その他の添加剤の含有量は、それぞれ通常０．１
〜１５重量％（いずれも組成物全量基準）である。

【００３０】本発明は電機部品または電子部品の洗浄方
法であるが、電機部品または電子部品としてはプリント
基板、発電機、モーター、整流器、実装基板、ビデオ部
品、ハイブリッドＩＣ及びリードフレーム等が挙げられ
る。

【００３１】本発明の方法は、電機部品または電子部品
に付着した、半田付けした時に生ずる半田フラックス又
は半田ボール等の半田付着物、切り粉、加工油及びペー
スト等の洗浄に有効である。

【００３２】次に本発明の洗浄方法を説明する。洗浄剤
である炭化水素系溶剤の洗浄時の温度は４０〜１５０
℃、好ましくは６０〜１００℃である。４０℃に満たな
い場合には洗浄効果が充分ではなく、１５０℃を越える
場合には被洗浄物に影響が出やすくなる。

【００３３】被洗浄物を洗浄（以降「本洗浄」と呼ぶ）
する方法に特に制限はない。通常、超音波洗浄、揺動洗
浄、超音波・揺動洗浄、浸せき洗浄、攪拌洗浄、回転洗
浄及び蒸気洗浄が好適に使用される。炭化水素系溶剤は
液体でも蒸気でも良い。本洗浄は１回行われる場合もあ
るが、高度な洗浄度が求められる場合は２回以上行われ
る。洗浄時間にも特に制限はない。通常１０秒〜２０
分、好ましくは３０秒〜５分の範囲である。本洗浄で用
いる洗浄液としては未使用のもの、既使用のもの、既使
用のものを蒸留再生したもの及び既使用のものを減圧蒸
留再生したものを用いることができる。本洗浄を蒸気洗
浄で行う場合、炭化水素系溶剤の引火点以上で洗浄を行
うことが多いため、密閉系で洗浄を行うことが好まし
い。そのときは無酸素状態で洗浄するのが好ましい。

【００３４】本洗浄の後は、通常、すすぎ洗浄を行うが
その方法に特に制限はない。通常、前述したような炭化
水素系溶剤やアルコール系溶剤で洗浄する。特に好適な
溶剤としては前述したナフテン系炭化水素やイソプロピ
ルアルコールが挙げられる。炭化水素系溶剤は液体でも
蒸気でも良い。すすぎ洗浄は常圧下でも減圧下でも行わ
れる。真空蒸留装置を使用しても良い。すすぎ洗浄は１
回行われる場合もあるが、高度な洗浄度が求められる場
合は２回以上行われる。すすぎ洗浄の温度は特に制限は
ないが、通常、１０〜１５０℃、好ましくは２０〜１５
０℃である。洗浄時間は通常３０秒〜２０分、好ましく
は１分〜５分である。

【００３５】すすぎ洗浄後は必要に応じて蒸気洗浄を行
う。通常、蒸気としては前述したような炭化水素系溶剤
やアルコール系溶剤で洗浄する。特に好適には前述した
ナフテン系炭化水素やイソプロピルアルコールが挙げら
れる。蒸気の温度は８０〜２００℃、好ましくは８０〜
１５０℃である。

【００３６】最後に必要に応じて温風等により乾燥を行
うがその方法にも特に制限はない。通常、６０〜１５０
℃の範囲で３０秒〜２０分行う。

【００３７】尚、本洗浄、すすぎ洗浄、蒸気洗浄及び乾
燥の工程は任意に組み合わせることができ、またそれぞ
れ工程の回数にも制限はない。例えば、本洗浄後、すす
ぎ洗浄を行い、さらに蒸気洗浄を行った後乾燥を行う方
法、本洗浄後、すすぎ洗浄を２回行った後乾燥を行う方
法、本洗浄後、乾燥を行う方法等が挙げられる。

【００３８】

【実施例】以下に本発明の内容を実施例及び比較例によ
りさらに具体的に説明するが、本発明はこれらの内容に
何ら限定されるものではない。 （実施例１）半田フラックスに対する実用上の洗浄性能
を確認するため、プリント基板の洗浄を洗浄機を用いて
行った。 被洗浄物：プリント基板にクリームハンダ約１ｇを秤取
り、ホットプレート上で２００℃で１００秒加熱溶融し
たもの。 洗浄液：テクリーンＮ−２０（日本石油（株）製、鉱油
系ナフテン系油、引火点７１℃、初留点１９５℃、終点
２２２℃、粘度１．４mm²/ｓ（＠４０℃）、アニリン点
６５℃、カウリブタノール価３５、溶出クロマトグラフ
ィー分析による芳香族分０重量％、質量分析による飽和
炭化水素成分中のナフテン分７４．８％）

【００３９】洗浄液のタイプ分析 ＦＩイオン化法（ガラスリザーバ使用）による質量分析
を実施した。質量分析条件は以下の通りである。 装置：ＪＥＯＬ ＪＭＳ−ＡＸ５０５Ｈ 加速電圧（カソード電圧）：３．０ｋＶ（−６．０ｋ
Ｖ） Ｓｕｂ Ｏｖｅｎ温度：３００℃ セパレータ温度：３００℃ 質量数測定範囲：質量数 ３５〜７００ Ｍａｉｎ Ｏｖｅｎ温度：３５０℃ 試料注入量：１μｌ 得られた分子イオンの強度を基にして炭化水素のタイプ
分析を行った。タイプ分析は「日石レビュー」VOL.33/N
O.４，４１９６号, P135〜142 に記載の方法に従った。

【００４０】被洗浄物を６０℃の洗浄液にて超音波洗浄
した後、未使用の洗浄液で２５℃で１分間すすぎ洗浄
し、その後、溶剤を８５℃で２０分間乾燥した。洗浄試
験後の試料に残存しているフラックスの重量から残存率
を求め、その結果を表１に示す。

【００４１】（実施例２）洗浄液として以下のものを用
いたこと以外は実施例１と同様に行った。結果を表１に
合わせて示す。 洗浄液：テクリーンＮ−１６（日本石油（株）製、鉱油
系ナフテン系油、引火点４４℃、初留点１５５℃、終点
１９８℃、粘度１．０mm²/s （＠４０℃）、アニリン点
６１℃、カウリブタノール価３７、溶出クロマトグラフ
ィー分析による芳香族分０重量％、質量分析による飽和
炭化水素成分中のナフテン分７５．０％）

【００４２】（実施例３）洗浄液として以下のものを用
いたこと以外は実施例１と同様に行った。結果を表１に
合わせて示す。 洗浄液：０号ソルベントＬ（日本石油（株）製、鉱油系
ノルマルパラフィン、引火点６５℃、初留点１８２℃、
終点２１２℃、粘度１．２mm²/ｓ（＠４０℃）、アニリ
ン点８０℃、カウリブタノール価２４、溶出クロマトグ
ラフィー分析による芳香族分０重量％、質量分析による
飽和炭化水素成分中のナフテン分０％）

【００４３】（比較例１）洗浄温度を室温(23 〜25℃)
にしたこと以外は実施例１と同様に行った。結果を表１
に合わせて示す。

【００４４】（比較例２）洗浄液としてトリクロロエタ
ンを用いたこと以外は比較例１と同様に行った。結果を
表１に合わせて示す。

【００４５】

【表１】

【００４６】表１から明らかなように、常温で本洗浄を
行った比較例１に較べて６０℃で本洗浄を行った実施例
１の方が洗浄力が優れている。また、トリクロロエタン
を用いて室温で洗浄した比較例２に較べて実施例１の方
が洗浄力が優れる。これは、本発明の方法が従来の洗浄
剤であるトリクロロエタンを用いて従来通り室温で洗浄
する方法と充分代替できることを示している。

【００４７】（実施例４）ハイブリッドＩＣ基板の洗浄
を実際の洗浄装置を用いて行った。被洗浄物を第１槽で
６０〜７０℃に加熱したテクリーンＮ−２０で３分間超
音波・揺動洗浄し、第２槽で３０℃のイソプロピルアル
コールで３分間すすぎ洗浄し、更に第３槽で８２℃のイ
ソプロピルアルコール蒸気で２分間蒸気洗浄した。洗浄
後、被洗浄物の表面を反射式顕微鏡で観察した。被洗浄
物表面のフラックス及び半田ボールはきれいに落ち、白
色残渣、しみ等は全く残らず、洗浄は完璧に行われた。
この試験からもわかるように本発明の方法により、実際
の洗浄装置においても充分な洗浄効果を得ることができ
る。

【００４８】

【発明の効果】本発明の電機部品または電子部品の洗浄
方法によると電機部品または電子部品の洗浄、特にプリ
ント基板上に残る半田フラックスや半田ボールの清浄に
特に優れ、洗浄速度が大きく、洗浄液として使用する炭
化水素系溶剤による錆の発生も少ない特徴がある。ま
た、本発明で用いる炭化水素系溶剤が特に鉱油系の炭化
水素系溶剤である場合は、石油から製造したものなので
低コストであり、供給能力については全く不安がない。
洗浄液は蒸発ロスが少なく汚れがかなり高濃度になるま
で使え、繰り返し使用しても洗浄性が高いので、使用量
はフロン113 等のフロン系有機溶剤やトリクロロエタン
等の塩素系有機溶剤と比較してかなり少なくすることが
できる。例え洗浄液を多量に使用する場合であっても、
減圧蒸留再生した洗浄液を利用すれば経済性を向上させ
ることができる。廃液は良質な重油に相当するので、ボ
イラー等があれば燃料として利用することができ、廃液
処理にはあまりコストがかからない。フロン代替洗浄剤
として炭化水素系溶剤を採用すれば、防爆型の洗浄機に
切り替えるための設備投資はかかるが、ランニングコス
トは安いので、大幅なコストダウンが期待できる。本発
明の電機部品または電子部品の洗浄方法は、経済的であ
り、汎用品なので世界中どこでも容易に入手でき、且つ
人体に対して安全で、廃液処理などに伴う二次汚染がな
い、地球環境に優しい炭化水素系溶剤を洗浄剤として用
いるので、産業上の利用価値が大きい。

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 炭化水素系溶剤を用いて４０℃〜１５０
   ℃の温度範囲で電機部品または電子部品を洗浄すること
   を特徴とする電機部品または電子部品の洗浄方法。
2. 【請求項２】 炭化水素系溶剤中の芳香族系炭化水素の
   含有量が０〜２０重量％でかつ該溶剤の飽和炭化水素成
   分中のナフテン系炭化水素の分率が３０〜１００％の炭
   化水素系溶剤であることを特徴とする請求項１に記載の
   電機部品または電子部品の洗浄方法。