JPH08254602A - 光学部品用洗浄剤 - Google Patents

光学部品用洗浄剤

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JPH08254602A JP7083544A JP8354495A JPH08254602A JP H08254602 A JPH08254602 A JP H08254602A JP 7083544 A JP7083544 A JP 7083544A JP 8354495 A JP8354495 A JP 8354495A JP H08254602 A JPH08254602 A JP H08254602A
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(57)【要約】 【目的】 塩素系化合物を含まず、研磨、加工する際に
表面に付着したアスファルトピッチ、樹脂やワックス類
等を洗浄、除去するための洗浄力の優れた光学部品用洗
浄剤を提供すること。 【構成】 沸点範囲が150〜450℃であって、芳香
族化合物と脂肪族化合物とを3:7〜7:3の重量比割
合で混合した溶剤を主成分とすることからなる光学部品
用洗浄剤。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、光学部品用洗浄剤、特
には、光学レンズや光学プリズム等の光学部品を研磨、
加工する際に、仮固定あるいは表面を保護するために用
いたアスファルトピッチ、樹脂やワックス類を研磨、加
工後に、洗浄、除去するための光学部品用洗浄剤に関す
る。
【0002】
【従来の技術】従来、光学部品用洗浄剤としては、例え
ばパークロルエチレン、トリクロロエチレン、塩化メチ
レンなどの塩素系洗浄剤が用いられていた。このような
光学部品用洗浄剤は、オゾン層破壊等の環境問題や毒性
を有するために、代替品の開発が切望されていた。代替
洗浄剤のうち低沸点の芳香族溶剤は、臭気が強く、引火
点が低いなどの欠点を有しており、一方、高沸点の芳香
族溶剤は、臭気は非常に弱く、引火点も高いが、常温で
の動粘度が高いために汚れが拡散しにくく、加熱下に使
用しなければならないという問題があり、また脂肪族溶
剤は、強固に付着した汚れは、ほとんど除去できず、満
足できる代替の光学部品用洗浄剤はいまだなかった。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記課題を
解決するもので、本発明の目的は、塩素系化合物を含ま
ず、研磨、加工する際に表面に付着したアスファルトピ
ッチ、樹脂やワックス類等を洗浄、除去するための洗浄
力の優れた光学部品用洗浄剤を提供することにある。
【0004】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
の手段としての本発明は、沸点範囲150〜450℃で
あって、芳香族化合物、好ましくは主成分が下記一般式
(I)
【化2】 (式中、R1はメチル基、エチル基、プロピル基または
ブチル基、R2はプロピル基またはブチル基、mは1〜
3、nは1〜3で、置換基の位置は問わない)で表され
る少なくとも1種のアルキルナフタレン化合物と、脂肪
族化合物、好ましくはノルマルパラフィンとを3:7〜
7:3の重量比割合で混合した溶剤を主成分とすること
からなるものである。
【0005】上記の芳香族化合物とは、アルキルベンゼ
ン、2個以上のベンゼン環からなる化合物やこれらの環
にアルキル基等が付加した多環芳香族を主成分とするも
ので、沸点150〜450℃の範囲のものである。この
化合物は、アスファルトピッチ、樹脂やワックス類に対
する溶解力は高い。しかしながら、浸透力が弱いため、
光学部品からアスファルトピッチ等を剥がす能力は小さ
く、この芳香族化合物のみでは、洗浄スピードが遅い。
なお、この芳香族化合物としては、特には、アスファル
トピッチ等の溶解力が高く、しかも臭気が非常に弱い、
上記一般式(I)で表される少なくとも1種のアルキル
ナフタレン化合物を主成分としたものを用いることが好
ましい。
【0006】上記式(I)のアルキルナフタレン化合
物、すなわちナフタレン環に1〜3個のメチル基、エチ
ル基、プロピル基またはブチル基が付加したものに、1
〜3個のプロピル基またはブチル基が付加したものであ
るが、これらの化合物としては、メチルプロピルナフタ
レン、ジメチルプロピルナフタレン、トリメチルプロピ
ルナフタレン、メチルジプロピルナフタレン、ジメチル
ジプロピルナフタレン、トリメチルジプロピルナフタレ
ン、メチルトリプロピルナフタレン、ジメチルトリプロ
ピルナフタレン、トリメチルトリプロピルナフタレン、
エチルプロピルナフタレン、ジエチルプロピルナフタレ
ン、トリエチルプロピルナフタレン、エチルジプロピル
ナフタレン、ジエチルジプロピルナフタレン、トリエチ
ルジプロピルナフタレン、エチルトリプロピルナフタレ
ン、ジエチルトリプロピルナフタレン、トリエチルトリ
プロピルナフタレン、ジプロピルナフタレン、トリプロ
ピルナフタレン、テトラプロピルナフタレン、ペンタプ
ロピルナフタレン、ヘキサプロピルナフタレン、プロピ
ルブチルナフタレン、ジプロピルブチルナフタレン、ト
リプロピルブチルナフタレン、プロピルジブチルナフタ
レン、ジプロピルジブチルナフタレン、トリプロピルジ
ブチルナフタレン、プロピルトリブチルナフタレン、ジ
プロピルトリブチルナフタレン、トリプロピルトリブチ
ルナフタレン、ジブチルナフタレン、トリブチルナフタ
レン、テトラブチルナフタレン、ペンタブチルナフタレ
ン、ヘキサブチルナフタレン、メチルエチルプロピルナ
フタレン、ジメチルエチルプロピルナフタレン、メチル
ジエチルプロピルナフタレン、メチルエチルジプロピル
ナフタレン、ジメチルエチルジプロピルナフタレン、メ
チルジエチルジプロピルナフタレン、メチルエチルトリ
プロピルナフタレン、ジメチルエチルトリプロピルナフ
タレン、メチルジエチルトリプロピルナフタレン、メチ
ルエチルブチルナフタレン、ジメチルエチルブチルナフ
タレン、メチルジエチルブチルナフタレン、メチルエチ
ルジブチルナフタレン、ジメチルエチルジブチルナフタ
レン、メチルジエチルジブチルナフタレン、メチルエチ
ルトリブチルナフタレン、ジメチルエチルトリブチルナ
フタレン、メチルジエチルトリブチルナフタレン、メチ
ルプロピルブチルナフタレン、ジメチルプロピルブチル
ナフタレン、メチルジプロピルブチルナフタレン、メチ
ルプロピルジブチルナフタレン、ジメチルプロピルジブ
チルナフタレン、メチルジプロピルジブチルナフタレ
ン、メチルプロピルトリブチルナフタレン、ジメチルプ
ロピルトリブチルナフタレン、メチルジプロピルトリブ
チルナフタレン、エチルプロピルブチルナフタレン、ジ
エチルプロピルブチルナフタレン、エチルジプロピルブ
チルナフタレン、エチルプロピルジブチルナフタレン、
ジエチルプロピルジブチルナフタレン、エチルジプロピ
ルジブチルナフタレン、エチルプロピルトリブチルナフ
タレン、ジエチルプロピルトリブチルナフタレン、エチ
ルジプロピルトリブチルナフタレン等が挙げられ、これ
らの化合物において、メチル基、エチル基、プロピル
基、ブチル基は、ナフタレン環上のどの位置に付加して
いてもよい。またこれらのアルキルナフタレン化合物
は、単独であっても、2種以上が混合したものであって
もよい。
【0007】なお、この芳香族化合物には、上記化合物
以外にも、他の有機化合物、例えば、ベンゼン、ナフタ
レン、インダン、インデン、ビフェニルあるいはこれら
の環にアルキル基等が付加した化合物が混合していても
特に支障とはならない。しかし、本発明の顕著な効果の
ためには上記沸点範囲150〜450℃の芳香族化合物
が50重量%以上、好ましくは70重量%以上、特に好
ましくは90重量%以上含まれているものがよい。
【0008】本発明にいう芳香族化合物は、石油タール
油中やナフサ、灯油等の留分を接触改質した生成油中に
含まれるメチルナフタレン、ジメチルナフタレンあるい
はエチルナフタレン等を蒸留操作等により分離、回収
し、これらをプロピル化することにより簡便に得ること
ができる。
【0009】一方、本発明にいう脂肪族化合物は、沸点
範囲が150〜450℃のノルマルパラフィン、イソパ
ラフィン、ナフテンなどからなる化合物である。これら
の化合物は、単品で用いても良いが、2種以上混合した
ものを用いても良い。
【0010】この脂肪族化合物は、アスファルトピッ
チ、樹脂やワックス類に対する溶解力は低いが、浸透力
が高いため、光学部品からアスファルトピッチ等を剥が
す能力が大きい。
【0011】なお、この脂肪族化合物としては、特に
は、浸透力が非常に強く、しかも臭気が非常に弱い、ノ
ルマルパラフィン、特には炭素数が9〜18のノルマル
パラフィンを用いることが好ましい。
【0012】本発明の洗浄剤は、上記芳香族化合物と脂
肪族化合物を、重量比で、3:7〜7:3の範囲で混合
した溶剤であり、これにより、アスファルトピッチ、樹
脂やワックス類に対する溶解力が高く、しかも浸透力も
強く、先ず、光学部品からアスファルトピッチ等を剥が
し、次いで、これらを溶解、除去する能力に優れ、洗浄
スピードが速い洗浄剤としたものである。上記芳香族化
合物:脂肪族化合物の重量比が3:7の比より、芳香族
化合物の割合が小さいと、汚れが完全に除去されず、ま
た逆に、芳香族化合物:脂肪族化合物の重量比が7:3
の比より、芳香族化合物が多いと、洗浄スピードが遅く
なる。
【0013】本発明の洗浄剤は、上記芳香族化合物と脂
肪族化合物とを上記比で混合した溶剤を主成分とするも
ので、本発明の顕著な効果のためには、この溶剤が50
重量%以上、好ましくは70重量%以上、特に好ましく
は90重量%以上含まれているものがよい。
【0014】なお、本発明の光学部品用洗浄剤には、グ
リコールエーテル類やラクトン類などの溶解助剤、界面
活性剤、防腐剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、或いは消
泡剤等を添加しても良い。また、乳化剤を添加し、水と
混合して使用しても良い。
【0015】
【実施例】
(洗浄力試験)表1に示す一般性状及び成分を有するア
ルキルナフタレン系化合物(比較例1、比較例2、比較
例3)、表2に示す一般性状を有する炭素数11〜12
のノルマルパラフィン(比較例4、比較例5)、比較例
3の5重量部と比較例4の5重量部とを混合した洗浄剤
(実施例1)、比較例3の3重量部と比較例4の7重量
部とを混合した洗浄剤(実施例2)、4-ブチロラクト
ン(比較例6)を用いて、研磨工程での仮固定用接着剤
であるアスファルトピッチおよび保護膜であるアスファ
ルトピッチと塩化ビニールの混合物の付着した光学レン
ズを、表3に示した温度で、1分間超音波洗浄した。洗
浄結果を、次の評価基準で評価し、その結果を表3に示
した。 A:汚れの残存が全く認められない。 B:汚れの残留が僅かに認められる。 C:汚れの残留がかなり認められる。 D:汚れがほとんど除去されない。 E:汚れが全く除去されない。
【0016】
【表1】
【0017】
【表2】
【0018】
【表3】
【0019】実施例1および実施例2は、比較例1、比
較例2、比較例3、比較例4、比較例5、比較例6に比
べて残留汚れの量が少なく、光学部品用洗浄剤として優
れていることが分かる。
【0020】
【発明の効果】本発明の光学部品用洗浄剤は、塩素系化
合物を含まず、研磨、加工する際に表面に付着したアス
ファルトピッチ、樹脂やワックス類等に対して優れた洗
浄力を有するという格別の効果を奏する。

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 沸点範囲が150〜450℃であって、
    芳香族化合物と脂肪族化合物とを3:7〜7:3の重量
    比割合で混合した溶剤を主成分とすることからなる光学
    部品用洗浄剤。
  2. 【請求項2】 請求項1に記載の芳香族化合物の主成分
    が下記一般式(I) 【化1】 (式中、R1はメチル基、エチル基、プロピル基または
    ブチル基、R2はプロピル基またはブチル基、mは1〜
    3、nは1〜3で、置換基の位置は問わない)で表され
    る少なくとも1種のアルキルナフタレン化合物であるこ
    とを特徴とする光学部品用洗浄剤。
  3. 【請求項3】 請求項1に記載の脂肪族化合物がノルマ
    ルパラフィンであることを特徴とする光学部品用洗浄
    剤。
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