JPH07167606A - 干渉測定装置 - Google Patents
干渉測定装置Info
- Publication number
- JPH07167606A JPH07167606A JP5315445A JP31544593A JPH07167606A JP H07167606 A JPH07167606 A JP H07167606A JP 5315445 A JP5315445 A JP 5315445A JP 31544593 A JP31544593 A JP 31544593A JP H07167606 A JPH07167606 A JP H07167606A
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- Japan
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- light
- polarization
- polarized light
- optical path
- frequency
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- Instruments For Measurement Of Length By Optical Means (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】フレキシブルに富み、かつ高精度化を達成した
干渉測長器を提供すること。 【構成】互いに異なる第1の周波数の光と第2の周波数
の光とを生成する光源部(1) と、光源部からの第1及び
第2の周波数の光の経路を参照光路と測定光路とに分離
しかつ参照光路を経た光と測定光路を経た光とを互いに
干渉させる干渉計ヘッド部(4〜14A,B)と、光源部からの
第1の周波数の光のみを干渉計ヘッド部へ導く第1のラ
イトガイド手段(3A)と、光源部からの第2の周波数の光
のみを干渉計ヘッド部へ導く第2のライトガイド手段(3
B)とを有する。
干渉測長器を提供すること。 【構成】互いに異なる第1の周波数の光と第2の周波数
の光とを生成する光源部(1) と、光源部からの第1及び
第2の周波数の光の経路を参照光路と測定光路とに分離
しかつ参照光路を経た光と測定光路を経た光とを互いに
干渉させる干渉計ヘッド部(4〜14A,B)と、光源部からの
第1の周波数の光のみを干渉計ヘッド部へ導く第1のラ
イトガイド手段(3A)と、光源部からの第2の周波数の光
のみを干渉計ヘッド部へ導く第2のライトガイド手段(3
B)とを有する。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、干渉測長器に関し、特
にヘテロダイン干渉を用いた干渉測長器に関する。
にヘテロダイン干渉を用いた干渉測長器に関する。
【0002】
【従来の技術】光を用いた微小な物理量の測定、例えば
測長等には、各種の方法が知られているが、なかでも、
光干渉を利用した干渉測長器は、精度が高く有力な技術
として位置付けされている。しかしながら、このような
干渉計は、光源と干渉計ヘッドとを同軸に構成する必要
があり、精度を上げるためには、制約条件が多い問題点
がある。
測長等には、各種の方法が知られているが、なかでも、
光干渉を利用した干渉測長器は、精度が高く有力な技術
として位置付けされている。しかしながら、このような
干渉計は、光源と干渉計ヘッドとを同軸に構成する必要
があり、精度を上げるためには、制約条件が多い問題点
がある。
【0003】このため、光源からの光を光ファイバによ
って干渉計ヘッドに導く干渉計が提案されている。この
光ファイバを用いた干渉計は、制約条件が少なく、フレ
キシブルに富み、干渉計ヘッドの小型化とあいまって、
非常に使いやすくなっている。しかしながら、このよう
な干渉計の処理系としては、いわゆる干渉縞計数方式
(fringe count方式)のものが主流である。干渉縞計数
方式は、高分解能が要求される場合や、電気的なノイズ
を受けやすい場所で使用する場合においてはS/N比が
問題となるため適せず、また、光学系の調整が複雑にな
る問題点があり、例えば高精度が要求される半導体露光
装置のステージ位置の測定等には、利用されるに至って
いない。
って干渉計ヘッドに導く干渉計が提案されている。この
光ファイバを用いた干渉計は、制約条件が少なく、フレ
キシブルに富み、干渉計ヘッドの小型化とあいまって、
非常に使いやすくなっている。しかしながら、このよう
な干渉計の処理系としては、いわゆる干渉縞計数方式
(fringe count方式)のものが主流である。干渉縞計数
方式は、高分解能が要求される場合や、電気的なノイズ
を受けやすい場所で使用する場合においてはS/N比が
問題となるため適せず、また、光学系の調整が複雑にな
る問題点があり、例えば高精度が要求される半導体露光
装置のステージ位置の測定等には、利用されるに至って
いない。
【0004】ここで、高精度化するためには、処理系を
ヘテロダイン方式とすれば良く、このような干渉計は、
例えば特開昭61-219803 号公報に開示されている。図5
は、特開昭61-219803 号公報に開示されている干渉計の
概略図である。図5において、光源101 は、例えば横ゼ
ーマンレーザからなり、偏光方向が直交し、かつ互いに
周波数(波長)の異なる2つの直線偏光を射出する。光
源101 からの2周波数の直線偏光は、偏波面保存フィル
タ102 を介して、ビームスプリッタ103 に達する。ビー
ムスプリッタ103 にて反射された2周波数の直線偏光
は、これらの直線偏光の偏光方向に対して45°の偏光軸
を持つ偏光板181 を経て、互いに参照ビート光を生成す
る。この参照ビート光は、光ファイバ183 によって、デ
ィテクタ127aへ伝達される。
ヘテロダイン方式とすれば良く、このような干渉計は、
例えば特開昭61-219803 号公報に開示されている。図5
は、特開昭61-219803 号公報に開示されている干渉計の
概略図である。図5において、光源101 は、例えば横ゼ
ーマンレーザからなり、偏光方向が直交し、かつ互いに
周波数(波長)の異なる2つの直線偏光を射出する。光
源101 からの2周波数の直線偏光は、偏波面保存フィル
タ102 を介して、ビームスプリッタ103 に達する。ビー
ムスプリッタ103 にて反射された2周波数の直線偏光
は、これらの直線偏光の偏光方向に対して45°の偏光軸
を持つ偏光板181 を経て、互いに参照ビート光を生成す
る。この参照ビート光は、光ファイバ183 によって、デ
ィテクタ127aへ伝達される。
【0005】一方、ビームスプリッタ103 を透過した2
周波数の直線偏光は、偏光ビームスプリッタ104 に達す
る。これらの直線偏光のうちS偏光成分の直線偏光は、
ビームスプリッタ104 にて反射され、λ/4板161 を経
て円偏光となり固定鏡171 で反射され、再びλ/4板16
1 を介してビームスプリッタ104 に達する。また、P偏
光成分の直線偏光は、ビームスプリッタ104 を透過し、
λ/4板162 を介して円偏光となり、移動鏡172 にて反
射される。この反射光は、再びλ/4板162 を介してビ
ームスプリッタ104 に達する。
周波数の直線偏光は、偏光ビームスプリッタ104 に達す
る。これらの直線偏光のうちS偏光成分の直線偏光は、
ビームスプリッタ104 にて反射され、λ/4板161 を経
て円偏光となり固定鏡171 で反射され、再びλ/4板16
1 を介してビームスプリッタ104 に達する。また、P偏
光成分の直線偏光は、ビームスプリッタ104 を透過し、
λ/4板162 を介して円偏光となり、移動鏡172 にて反
射される。この反射光は、再びλ/4板162 を介してビ
ームスプリッタ104 に達する。
【0006】ここで、固定鏡171 からの直線偏光は、λ
/4板161 によってP偏光成分に変換されているため、
ビームスプリッタ104 を透過する。また、移動鏡172 か
らの直線偏光は、λ/4板162 によってS偏光成分に変
換されているため、ビームスプリッタ104 にて反射され
る。そして、これらの直線偏光は、これらの直線偏光の
偏光方向に対して45°の偏光軸を持つ偏光板182 を経て
測定ビート光を生成する。この測定ビート光は、光ファ
イバ184 によって、ディテクタ127bへ伝達される。
/4板161 によってP偏光成分に変換されているため、
ビームスプリッタ104 を透過する。また、移動鏡172 か
らの直線偏光は、λ/4板162 によってS偏光成分に変
換されているため、ビームスプリッタ104 にて反射され
る。そして、これらの直線偏光は、これらの直線偏光の
偏光方向に対して45°の偏光軸を持つ偏光板182 を経て
測定ビート光を生成する。この測定ビート光は、光ファ
イバ184 によって、ディテクタ127bへ伝達される。
【0007】測定ビート光は、移動鏡172 の位置によ
り、その位相が変化する。従って、位相差計110 にて参
照ビート光と測定ビート光との位相差を検出することに
よって、移動鏡172 の位置を高精度に検出することがで
きる。
り、その位相が変化する。従って、位相差計110 にて参
照ビート光と測定ビート光との位相差を検出することに
よって、移動鏡172 の位置を高精度に検出することがで
きる。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、図5に
示す如き特開昭61-219803 号公報の干渉計においては、
1本のファイバによって、互いに直交した偏光状態の2
つの周波数の光を干渉計ヘッド(ビームスプリッタ103
、偏光ビームスプリッタ104 、λ/4板161,162、固定
鏡171 、移動鏡172 、偏光板181,182 )に導いているた
め、このファイバが折れ曲がる場合やファイバに圧力が
かかる場合には、ファイバの射出端において2つの周波
数の光の偏光方向が極微小量回転する恐れがある。
示す如き特開昭61-219803 号公報の干渉計においては、
1本のファイバによって、互いに直交した偏光状態の2
つの周波数の光を干渉計ヘッド(ビームスプリッタ103
、偏光ビームスプリッタ104 、λ/4板161,162、固定
鏡171 、移動鏡172 、偏光板181,182 )に導いているた
め、このファイバが折れ曲がる場合やファイバに圧力が
かかる場合には、ファイバの射出端において2つの周波
数の光の偏光方向が極微小量回転する恐れがある。
【0009】このとき、ファイバからの光は、本来は互
いに直交した偏光状態の2つの周波数の光に分離される
べきところ、互いに他の周波数の成分が混入し、この混
入した光が元の光とビートを作り、測定精度が低下する
問題が生じる。そこで、本発明は、フレキシブルに富
み、かつ高精度化を達成した干渉測長器を提供すること
を目的とする。
いに直交した偏光状態の2つの周波数の光に分離される
べきところ、互いに他の周波数の成分が混入し、この混
入した光が元の光とビートを作り、測定精度が低下する
問題が生じる。そこで、本発明は、フレキシブルに富
み、かつ高精度化を達成した干渉測長器を提供すること
を目的とする。
【0010】
【課題を解決するための手段】上述の目的を達成するた
めに、本発明による干渉測定装置は、以下の構成を有す
る。例えば図1に示す如く、本発明による干渉測定装置
は、互いに異なる第1の周波数の光と第2の周波数の光
とを生成する光源部(1) と、光源部からの第1及び第2
の周波数の光の経路を参照光路と測定光路とに分離しか
つ参照光路を経た光と測定光路を経た光とを互いに干渉
させる干渉計ヘッド部(4〜14A,B)とを有し、干渉計ヘッ
ド部からの光出力に基づいて所望の物理量を測定するも
のであって、光源部からの第1の周波数の光のみを干渉
計ヘッド部へ導く第1のライトガイド手段(3A)と、光源
部からの第2の周波数の光のみを干渉計ヘッド部へ導く
第2のライトガイド手段(3B)とを有するように構成され
る。
めに、本発明による干渉測定装置は、以下の構成を有す
る。例えば図1に示す如く、本発明による干渉測定装置
は、互いに異なる第1の周波数の光と第2の周波数の光
とを生成する光源部(1) と、光源部からの第1及び第2
の周波数の光の経路を参照光路と測定光路とに分離しか
つ参照光路を経た光と測定光路を経た光とを互いに干渉
させる干渉計ヘッド部(4〜14A,B)とを有し、干渉計ヘッ
ド部からの光出力に基づいて所望の物理量を測定するも
のであって、光源部からの第1の周波数の光のみを干渉
計ヘッド部へ導く第1のライトガイド手段(3A)と、光源
部からの第2の周波数の光のみを干渉計ヘッド部へ導く
第2のライトガイド手段(3B)とを有するように構成され
る。
【0011】
【作用】上述の構成の如き本発明においては、互いに直
交する偏光方向である第1及び第2の周波数の光をそれ
ぞれ独立に干渉計ヘッド部へ導く構成としているため、
ライトガイド手段の射出端において2つの周波数の光の
偏光方向が極微小量回転した場合においても、一方の周
波数の光に他の周波数の成分が混入する恐れがない。従
って、どのような測定環境のもとでも測定精度の低下を
招かない利点がある。
交する偏光方向である第1及び第2の周波数の光をそれ
ぞれ独立に干渉計ヘッド部へ導く構成としているため、
ライトガイド手段の射出端において2つの周波数の光の
偏光方向が極微小量回転した場合においても、一方の周
波数の光に他の周波数の成分が混入する恐れがない。従
って、どのような測定環境のもとでも測定精度の低下を
招かない利点がある。
【0012】また、上述の構成のもとで、干渉計ヘッド
部は、第1の周波数の光と第2の周波数の光とを互いに
干渉させて参照ビート光を生成するように構成されるこ
とが望ましい。これにより、第1及び第2のライトガイ
ド手段間に光路長差が生じたとしても、参照光路を経た
光と測定光路を経た光とを互いに干渉させることにより
生じる測定ビート光と、上記参照ビート光との位相差を
計測すれば、第1及び第2のライトガイド手段間の位相
ずれを打ち消すことができる。
部は、第1の周波数の光と第2の周波数の光とを互いに
干渉させて参照ビート光を生成するように構成されるこ
とが望ましい。これにより、第1及び第2のライトガイ
ド手段間に光路長差が生じたとしても、参照光路を経た
光と測定光路を経た光とを互いに干渉させることにより
生じる測定ビート光と、上記参照ビート光との位相差を
計測すれば、第1及び第2のライトガイド手段間の位相
ずれを打ち消すことができる。
【0013】
【実施例】以下、図面を参照して本発明による実施例を
説明する。図1は、本発明による第1実施例の構成を示
す平面図である。図1において、光源部1は、例えばH
e−Ne横ゼーマンレーザで構成され、互いに偏光方向
が直交しかつ互いに周波数(波長)の異なる2つの直線
偏光を射出する。光源部1からの光は、偏光ビームスプ
リッタ2の偏光分離面2aにて互いに直交する2つの偏
光成分の直線偏光に分割される。ここで、偏光分離面2
aを透過するP偏光成分の直線偏光(以下P偏光と略記
する)は、偏光ビームスプリッタ2から射出され、第1
のライトガイド手段としての偏波面保存ファイバ3Aに
入射する。
説明する。図1は、本発明による第1実施例の構成を示
す平面図である。図1において、光源部1は、例えばH
e−Ne横ゼーマンレーザで構成され、互いに偏光方向
が直交しかつ互いに周波数(波長)の異なる2つの直線
偏光を射出する。光源部1からの光は、偏光ビームスプ
リッタ2の偏光分離面2aにて互いに直交する2つの偏
光成分の直線偏光に分割される。ここで、偏光分離面2
aを透過するP偏光成分の直線偏光(以下P偏光と略記
する)は、偏光ビームスプリッタ2から射出され、第1
のライトガイド手段としての偏波面保存ファイバ3Aに
入射する。
【0014】一方、偏光分離面2aにて反射されたS偏
光成分の直線偏光(以下S偏光と略記する)は、偏光ビ
ームスプリッタ2の内面反射により光路が略90°偏向さ
れ、偏光分離面2aを透過するP偏光と平行に偏光ビー
ムスプリッタ2から射出し、第2のライトガイド手段と
しての偏波面保存フィルタ3Bに入射する。偏波面保存
フィルタ3AからのP偏光は、偏光ビームスプリッタ4
に入射し、偏光ビームスプリッタ4の偏光分離面4aを
透過する。また、偏波面保存フィルタ3BからのS偏光
は、偏光ビームスプリッタ4の内面反射により、光路が
略90°偏向され、偏光分離面4aにて反射される。偏光
ビームスプリッタ4の射出面側には、ハーフプリズム5
が設けられており、この偏光ビームスプリッタ4の偏光
分離面4aからのP及びS偏光は、ハーフプリズム5の
振幅分割面にて、それぞれ振幅分割される。ここで、ハ
ーフプリズム5の振幅分割面5aにて反射されるP及び
S偏光は、その反射側に設けられた偏光板14Aに達す
る。この偏光板14Aは、偏光板14Aに達するP及び
S偏光の偏光方向と45°の偏光軸を持つものであって、
これらのP及びS偏光は、互いに干渉し、それらの周波
数差によってビートが生成される。これを参照ビート光
とする。
光成分の直線偏光(以下S偏光と略記する)は、偏光ビ
ームスプリッタ2の内面反射により光路が略90°偏向さ
れ、偏光分離面2aを透過するP偏光と平行に偏光ビー
ムスプリッタ2から射出し、第2のライトガイド手段と
しての偏波面保存フィルタ3Bに入射する。偏波面保存
フィルタ3AからのP偏光は、偏光ビームスプリッタ4
に入射し、偏光ビームスプリッタ4の偏光分離面4aを
透過する。また、偏波面保存フィルタ3BからのS偏光
は、偏光ビームスプリッタ4の内面反射により、光路が
略90°偏向され、偏光分離面4aにて反射される。偏光
ビームスプリッタ4の射出面側には、ハーフプリズム5
が設けられており、この偏光ビームスプリッタ4の偏光
分離面4aからのP及びS偏光は、ハーフプリズム5の
振幅分割面にて、それぞれ振幅分割される。ここで、ハ
ーフプリズム5の振幅分割面5aにて反射されるP及び
S偏光は、その反射側に設けられた偏光板14Aに達す
る。この偏光板14Aは、偏光板14Aに達するP及び
S偏光の偏光方向と45°の偏光軸を持つものであって、
これらのP及びS偏光は、互いに干渉し、それらの周波
数差によってビートが生成される。これを参照ビート光
とする。
【0015】また、ハーフプリズム5の振幅分割面5a
を透過したP及びS偏光は、ハーフプリズム5から射出
し、その射出側に設けられたプリズムブロック6に達す
る。このプリズムブロック6は、振幅分割面5aからの
P及びS偏光を偏光分離する偏光分離面6aによって、
これらのP及びS偏光を参照光路と測定光路とに分離す
る機能を有する。なお、偏光分離面6aは、図中破線に
て示す如く、実質的にハーフプリズム5からの光を偏光
分離できる領域にのみ形成され、偏光分離面6aにて反
射された光の光路中(本実施例では参照光路中)には形
成されない。
を透過したP及びS偏光は、ハーフプリズム5から射出
し、その射出側に設けられたプリズムブロック6に達す
る。このプリズムブロック6は、振幅分割面5aからの
P及びS偏光を偏光分離する偏光分離面6aによって、
これらのP及びS偏光を参照光路と測定光路とに分離す
る機能を有する。なお、偏光分離面6aは、図中破線に
て示す如く、実質的にハーフプリズム5からの光を偏光
分離できる領域にのみ形成され、偏光分離面6aにて反
射された光の光路中(本実施例では参照光路中)には形
成されない。
【0016】偏光分離面6aを透過したP偏光は、プリ
ズムブロック6から射出し、このプリズムブロック6の
1出側に配置されるλ/2板7を介してS偏光となる。
また、偏光分離面6aにて反射されるS偏光は、プリズ
ムブロック6の内面反射により、光路が略90°偏向さ
れ、このプリズムブロック6から射出される。ここで、
偏光分離面6aで反射されたS偏光の進行する光路を参
照光路とし、偏光分離面6bを透過した後、λ/2板7
を介したS偏光の進行する光路を測定光路とし、これら
の参照光路と測定光路とを通過する光の説明を行なう。 〔参照光路〕まず、参照光路について説明する。図1に
おいて、偏光分離面6aで反射されたS偏光は、コーナ
ーキューブプリズム8内の偏光分離面8aにて反射さ
れ、コーナーキューブプリズム8の一端に設けられたλ
/4板9を介して円偏光に変換される。この円偏光は、
コーナーキューブプリズム8に対して空間的に固定され
た参照ミラー11にて反射され、再びλ/4板9を介し
てP偏光に変換される。この参照ミラー11からのP偏
光は、偏光分離面8aを透過し、コーナーキューブプリ
ズム8の内面で2回反射され、偏光分離面8bに達す
る。ここで、偏光分離面8aと偏光分離面8bとは、そ
れぞれプリズムブロック6からの直線偏光の光軸に対し
45°で斜設されており、かつ互いの面が90°を成してい
る。
ズムブロック6から射出し、このプリズムブロック6の
1出側に配置されるλ/2板7を介してS偏光となる。
また、偏光分離面6aにて反射されるS偏光は、プリズ
ムブロック6の内面反射により、光路が略90°偏向さ
れ、このプリズムブロック6から射出される。ここで、
偏光分離面6aで反射されたS偏光の進行する光路を参
照光路とし、偏光分離面6bを透過した後、λ/2板7
を介したS偏光の進行する光路を測定光路とし、これら
の参照光路と測定光路とを通過する光の説明を行なう。 〔参照光路〕まず、参照光路について説明する。図1に
おいて、偏光分離面6aで反射されたS偏光は、コーナ
ーキューブプリズム8内の偏光分離面8aにて反射さ
れ、コーナーキューブプリズム8の一端に設けられたλ
/4板9を介して円偏光に変換される。この円偏光は、
コーナーキューブプリズム8に対して空間的に固定され
た参照ミラー11にて反射され、再びλ/4板9を介し
てP偏光に変換される。この参照ミラー11からのP偏
光は、偏光分離面8aを透過し、コーナーキューブプリ
ズム8の内面で2回反射され、偏光分離面8bに達す
る。ここで、偏光分離面8aと偏光分離面8bとは、そ
れぞれプリズムブロック6からの直線偏光の光軸に対し
45°で斜設されており、かつ互いの面が90°を成してい
る。
【0017】そして、コーナーキューブプリズム8で内
面反射されて偏光分離面8bに達するP偏光は、この偏
光分離面8bを透過し、λ/4板9を介して円偏光に変
換される。この円偏光は、参照ミラー11にて反射さ
れ、再びλ/4板9を介してS偏光に変換される。この
S偏光は、偏光分離面8bで反射され、コーナーキュー
ブプリズム8から射出する。このコーナーキューブプリ
ズム8の射出側には、参照光路と測定光路とを合成させ
る機能を有するプリズムブロック13が設けられてい
る。このプリズムブロック13の構成は、ほぼ前述のプ
リズムブロック6の構成と同じである。コーナーキュー
ブプリズム8からのS偏光は、プリズムブロック13に
入射し、このプリズムブロック13内で内面反射され、
偏光合成面13aに達する。偏光合成面13aは、偏光
分離面6aと同じく、P偏光を透過させ、かつS偏光を
反射させる機能を有する。よって、偏光合成面13aに
達する参照光路を経た直線偏光は、偏光合成面13aで
反射される。 〔測定光路〕次に、測定光路について説明する。図1に
おいて、プリズムブロック6の偏光分離面6aを透過し
たP偏光は、プリズムブロック6の射出側に設けられた
λ/2板を介してS偏光に変換される。このS偏光は、
コーナーキューブプリズム8に入射し、コーナーキュー
ブプリズム8内の偏光分離面8aにて反射され、λ/4
板9を介して円偏光に変換される。このλ/4板9から
の円偏光は、λ/4板9の射出側に設けられた測定ミラ
ー10にて反射され、λ/4板9に再入射し、P偏光に
変換される。このP偏光は、コーナーキューブプリズム
8に入射し、偏光分離面8aを透過する。そして、偏光
分離面8aを透過したP偏光は、コーナーキューブプリ
ズム8内で2回内面反射された後、偏光分離面8bを透
過する。偏光分離面8bを透過したP偏光は、λ/4板
9を介して円偏光に変換され、再び測定ミラー10に達
する。測定ミラー10に達したλ/4板9からの円偏光
は、この測定ミラー10にて反射され、λ/4板9に再
入射し、S偏光に変換され偏光分離面8bに達する。こ
のS偏光は、偏光分離面8bで反射され、コーナーキュ
ーブプリズム8から射出する。測定光路中のコーナーキ
ューブプリズム8の射出側には、λ/2板12が設けら
れており、コーナーキューブプリズム8からのS偏光
は、このλ/2板12を経てP偏光に変換され、プリズ
ムブロック13に入射する。そして、λ/2板12を介
したP偏光は、プリズムブロック13の偏光合成面13
aを透過する。なお、上記測定ミラー10は、測長対象
物等に固設され、コーナーキューブプリズム8との間隔
が変化する如く移動可能に設けられている。
面反射されて偏光分離面8bに達するP偏光は、この偏
光分離面8bを透過し、λ/4板9を介して円偏光に変
換される。この円偏光は、参照ミラー11にて反射さ
れ、再びλ/4板9を介してS偏光に変換される。この
S偏光は、偏光分離面8bで反射され、コーナーキュー
ブプリズム8から射出する。このコーナーキューブプリ
ズム8の射出側には、参照光路と測定光路とを合成させ
る機能を有するプリズムブロック13が設けられてい
る。このプリズムブロック13の構成は、ほぼ前述のプ
リズムブロック6の構成と同じである。コーナーキュー
ブプリズム8からのS偏光は、プリズムブロック13に
入射し、このプリズムブロック13内で内面反射され、
偏光合成面13aに達する。偏光合成面13aは、偏光
分離面6aと同じく、P偏光を透過させ、かつS偏光を
反射させる機能を有する。よって、偏光合成面13aに
達する参照光路を経た直線偏光は、偏光合成面13aで
反射される。 〔測定光路〕次に、測定光路について説明する。図1に
おいて、プリズムブロック6の偏光分離面6aを透過し
たP偏光は、プリズムブロック6の射出側に設けられた
λ/2板を介してS偏光に変換される。このS偏光は、
コーナーキューブプリズム8に入射し、コーナーキュー
ブプリズム8内の偏光分離面8aにて反射され、λ/4
板9を介して円偏光に変換される。このλ/4板9から
の円偏光は、λ/4板9の射出側に設けられた測定ミラ
ー10にて反射され、λ/4板9に再入射し、P偏光に
変換される。このP偏光は、コーナーキューブプリズム
8に入射し、偏光分離面8aを透過する。そして、偏光
分離面8aを透過したP偏光は、コーナーキューブプリ
ズム8内で2回内面反射された後、偏光分離面8bを透
過する。偏光分離面8bを透過したP偏光は、λ/4板
9を介して円偏光に変換され、再び測定ミラー10に達
する。測定ミラー10に達したλ/4板9からの円偏光
は、この測定ミラー10にて反射され、λ/4板9に再
入射し、S偏光に変換され偏光分離面8bに達する。こ
のS偏光は、偏光分離面8bで反射され、コーナーキュ
ーブプリズム8から射出する。測定光路中のコーナーキ
ューブプリズム8の射出側には、λ/2板12が設けら
れており、コーナーキューブプリズム8からのS偏光
は、このλ/2板12を経てP偏光に変換され、プリズ
ムブロック13に入射する。そして、λ/2板12を介
したP偏光は、プリズムブロック13の偏光合成面13
aを透過する。なお、上記測定ミラー10は、測長対象
物等に固設され、コーナーキューブプリズム8との間隔
が変化する如く移動可能に設けられている。
【0018】以上の如く、参照光路を通過する光は、コ
ーナーキューブプリズム8と参照ミラー11との間で2
回往復し、測定光路を通過する光は、コーナーキューブ
プリズム8と測定ミラー10との間で2回往復する。こ
のように、本実施例による干渉測定装置は、いわゆるダ
ブルパス干渉計である。さて、偏光合成面13aにて、
参照光路を経たS偏光と、測定光路を経たP偏光とが同
軸に合成される。これらのP及びS偏光は、プリズムブ
ロック13の射出側に設けられた偏光板14Bに達す
る。この偏光板14Bは、偏光板14Bに達するP及び
S偏光の偏光方向と45°の偏光軸を持つものであって、
これらのP及びS偏光は、互いに干渉し、それらの周波
数差によって、光強度がうねりを持つビートが生成され
る。これを測定ビート光とする。
ーナーキューブプリズム8と参照ミラー11との間で2
回往復し、測定光路を通過する光は、コーナーキューブ
プリズム8と測定ミラー10との間で2回往復する。こ
のように、本実施例による干渉測定装置は、いわゆるダ
ブルパス干渉計である。さて、偏光合成面13aにて、
参照光路を経たS偏光と、測定光路を経たP偏光とが同
軸に合成される。これらのP及びS偏光は、プリズムブ
ロック13の射出側に設けられた偏光板14Bに達す
る。この偏光板14Bは、偏光板14Bに達するP及び
S偏光の偏光方向と45°の偏光軸を持つものであって、
これらのP及びS偏光は、互いに干渉し、それらの周波
数差によって、光強度がうねりを持つビートが生成され
る。これを測定ビート光とする。
【0019】この測定ビート光は、偏光板14Bの射出
側に設けられた光ファイバ15Bに入射し、その射出端
から射出される。この光ファイバ15Bの射出側には、
ディテクター16Bが設けられており、測定ビート光の
光強度変化を電気信号(測定信号)に変換する。一方、
偏光板14Aの射出側には、偏光板14Aからの参照ビ
ート光を伝達する光ファイバ15Aが設けられている。
この光ファイバ15Aの射出側には、参照ビート光の光
強度変化を電気信号(参照信号)に変換するディテクタ
ー16Aが設けられている。
側に設けられた光ファイバ15Bに入射し、その射出端
から射出される。この光ファイバ15Bの射出側には、
ディテクター16Bが設けられており、測定ビート光の
光強度変化を電気信号(測定信号)に変換する。一方、
偏光板14Aの射出側には、偏光板14Aからの参照ビ
ート光を伝達する光ファイバ15Aが設けられている。
この光ファイバ15Aの射出側には、参照ビート光の光
強度変化を電気信号(参照信号)に変換するディテクタ
ー16Aが設けられている。
【0020】これらのディテクター16A及び16Bか
らの参照及び測定信号は、位相差計17に出力される。
位相差計17は、ディテクター16Aからの参照信号と
ディテクター16Bからの測定信号との位相差を計測す
るものである。ここで、測定ミラー10の移動量Lがこ
の位相差に対応するものであるため、位相差計17にて
計測される位相差より測定ミラー10の移動量Lが算出
できる。
らの参照及び測定信号は、位相差計17に出力される。
位相差計17は、ディテクター16Aからの参照信号と
ディテクター16Bからの測定信号との位相差を計測す
るものである。ここで、測定ミラー10の移動量Lがこ
の位相差に対応するものであるため、位相差計17にて
計測される位相差より測定ミラー10の移動量Lが算出
できる。
【0021】以下、移動量Lと位相差との関係について
説明する。ここで、光源部1が周波数f1 のP偏光と、
周波数f1 との周波数差がΔfとなる周波数f2 (f2
=f 1 −Δf)のS偏光とを射出すると仮定する。ここ
で、Cを光速、L0 をハーフプリズム5の振幅分割面5
aからディテクター16Aまでの光路長、L1 をハーフ
プリズム5の振幅分割面5aから参照ミラー11を経て
ディテクター16Bに到る光路長(参照光路の光路
長)、Φ0 を測定ミラー10の移動前の初期位相差とす
ると、参照ビート光と測定ビート光との位相差ΔΦは、
説明する。ここで、光源部1が周波数f1 のP偏光と、
周波数f1 との周波数差がΔfとなる周波数f2 (f2
=f 1 −Δf)のS偏光とを射出すると仮定する。ここ
で、Cを光速、L0 をハーフプリズム5の振幅分割面5
aからディテクター16Aまでの光路長、L1 をハーフ
プリズム5の振幅分割面5aから参照ミラー11を経て
ディテクター16Bに到る光路長(参照光路の光路
長)、Φ0 を測定ミラー10の移動前の初期位相差とす
ると、参照ビート光と測定ビート光との位相差ΔΦは、
【0022】
【数1】 ΔΦ=2π{(f1 −f2 )・(L0 −L1 )+4f1 L}/C+Φ0 … (1) で表される。(1)式においては、周波数f1 ,f2 、
光路長L0 ,L1 が予め定まる定数となるため、位相差
ΔΦから参照ミラー10の移動量Lが算出できる。
光路長L0 ,L1 が予め定まる定数となるため、位相差
ΔΦから参照ミラー10の移動量Lが算出できる。
【0023】さて、本実施例において、偏波面保存ファ
イバ3Aが折れ曲がる、または外圧が加わる場合には、
偏波面保存ファイバ3Aの射出端から射出するP偏光が
極微小量回転することがある。このとき、偏波面保存フ
ァイバ3Aの射出端の光は、P偏光成分の光と極微小量
のS偏光成分の光との合成となる。ここで、偏光ビーム
スプリッタ4に入射する偏波面保存ファイバ3Aからの
光のうち、S偏光成分の光は、偏光分離面4aにて反射
され、ハーフプリズム5へ入射しない。
イバ3Aが折れ曲がる、または外圧が加わる場合には、
偏波面保存ファイバ3Aの射出端から射出するP偏光が
極微小量回転することがある。このとき、偏波面保存フ
ァイバ3Aの射出端の光は、P偏光成分の光と極微小量
のS偏光成分の光との合成となる。ここで、偏光ビーム
スプリッタ4に入射する偏波面保存ファイバ3Aからの
光のうち、S偏光成分の光は、偏光分離面4aにて反射
され、ハーフプリズム5へ入射しない。
【0024】また、偏波面保存ファイバ3Bが折れ曲が
る、または外圧が加わる場合において、偏波面保存ファ
イバ3Bの射出端からのS偏光が極微小量回転し、S偏
光成分の他にP偏光成分の光も加わることがある。この
とき、偏光ビームスプリッタ4に入射する偏波面保存フ
ァイバ3Bからの光のうち、P偏光成分の光は、偏光分
離面4aを通過するため、ハーフプリズム5へは入射し
ない。
る、または外圧が加わる場合において、偏波面保存ファ
イバ3Bの射出端からのS偏光が極微小量回転し、S偏
光成分の他にP偏光成分の光も加わることがある。この
とき、偏光ビームスプリッタ4に入射する偏波面保存フ
ァイバ3Bからの光のうち、P偏光成分の光は、偏光分
離面4aを通過するため、ハーフプリズム5へは入射し
ない。
【0025】このように、偏波面保存ファイバ3A,3
Bで偏光方向が回転した場合においても、偏光方向が回
転することにより生じるノイズ光の影響が無視できる。
従って、計測精度を低下させることなく、偏波面保存フ
ァイバの取り回しの自由度を向上させることができる。
また、本実施例においては、偏波面保存ファイバ3A,
3Bをそれぞれ介した光より、参照ビート光と測定ビー
ト光とを生成しているため、これらの偏波面保存ファイ
バ間の光路長差に基づく位相差があった場合でも、参照
ビート光と測定ビート光との位相差を計測する構成をと
っているため、偏波面保存ファイバ3A,3B間で生じ
る位相差を相殺できる。
Bで偏光方向が回転した場合においても、偏光方向が回
転することにより生じるノイズ光の影響が無視できる。
従って、計測精度を低下させることなく、偏波面保存フ
ァイバの取り回しの自由度を向上させることができる。
また、本実施例においては、偏波面保存ファイバ3A,
3Bをそれぞれ介した光より、参照ビート光と測定ビー
ト光とを生成しているため、これらの偏波面保存ファイ
バ間の光路長差に基づく位相差があった場合でも、参照
ビート光と測定ビート光との位相差を計測する構成をと
っているため、偏波面保存ファイバ3A,3B間で生じ
る位相差を相殺できる。
【0026】なお、本実施例においては、プリズムブロ
ック13に設けられる偏光合成面13aの代わりに、ハ
ーフミラーを適用しても良い。次に、図2を参照して、
本発明による第2実施例を説明する。図2は、本発明に
よる第2実施例の構成を示す平面図である。第2実施例
は、本発明をいわゆるシングルパスのマイケルソン干渉
計に適用したものである。なお、図2においては、図1
に示す第1実施例と同様の機能を有する部材には、同一
の符号を付してある。
ック13に設けられる偏光合成面13aの代わりに、ハ
ーフミラーを適用しても良い。次に、図2を参照して、
本発明による第2実施例を説明する。図2は、本発明に
よる第2実施例の構成を示す平面図である。第2実施例
は、本発明をいわゆるシングルパスのマイケルソン干渉
計に適用したものである。なお、図2においては、図1
に示す第1実施例と同様の機能を有する部材には、同一
の符号を付してある。
【0027】図2において、光源部1からの互いに偏光
方向が直交しかつ互いに周波数(波長)の異なる2つの
直線偏光は、第1実施例と同様に、偏光ビームスプリッ
タ2で互いに直交する偏光方向の直線偏光(本実施例で
はP及びS偏光)に分離された後、それぞれ偏波面保存
ファイバ3A,3Bを介して、偏光ビームスプリッタ4
で合成される。偏光ビームスプリッタ4で合成されたP
及びS偏光は、ハーフプリズム5の振幅分割面5aにて
振幅分割される。この振幅分割面5aで反射された光
は、第1実施例と同様に、偏光板14Aを透過して、参
照ビート光を生成する。
方向が直交しかつ互いに周波数(波長)の異なる2つの
直線偏光は、第1実施例と同様に、偏光ビームスプリッ
タ2で互いに直交する偏光方向の直線偏光(本実施例で
はP及びS偏光)に分離された後、それぞれ偏波面保存
ファイバ3A,3Bを介して、偏光ビームスプリッタ4
で合成される。偏光ビームスプリッタ4で合成されたP
及びS偏光は、ハーフプリズム5の振幅分割面5aにて
振幅分割される。この振幅分割面5aで反射された光
は、第1実施例と同様に、偏光板14Aを透過して、参
照ビート光を生成する。
【0028】また、振幅分割面5aを透過した光は、ハ
ーフプリズム5の射出面側に設けられた偏光ビームスプ
リッタ20に達する。偏光分離面20aに達するP偏光
(第1の周波数の光)は、偏光分離面20aを透過し、
偏光分離面20aの透過方向側に設けられたλ/4板2
1を介して、円偏光に変換される。この円偏光は、偏光
ビームスプリッタのλ/4板21側に設けられた測定ミ
ラー10にて反射され、再びλ/4板21に入射して、
S偏光に変換される。S偏光に変換された第1の周波数
の光は、偏光分離面20aにて反射され、偏光板14B
に達する。
ーフプリズム5の射出面側に設けられた偏光ビームスプ
リッタ20に達する。偏光分離面20aに達するP偏光
(第1の周波数の光)は、偏光分離面20aを透過し、
偏光分離面20aの透過方向側に設けられたλ/4板2
1を介して、円偏光に変換される。この円偏光は、偏光
ビームスプリッタのλ/4板21側に設けられた測定ミ
ラー10にて反射され、再びλ/4板21に入射して、
S偏光に変換される。S偏光に変換された第1の周波数
の光は、偏光分離面20aにて反射され、偏光板14B
に達する。
【0029】一方、偏光ビームスプリッタ20に達する
S偏光の光(第2の周波数の光)は、偏光分離面20a
で反射され、偏光分離面20aの反射方向に設けられた
λ/4板22を介して円偏光に変換され、参照ミラー1
1に達する。この参照ミラー11は、偏光ビームスプリ
ッタ20と空間的に固定されているものである。参照ミ
ラー11にて反射された円偏光は、λ/4板22に再入
射し、P偏光に変換され偏光板14Bに達する。
S偏光の光(第2の周波数の光)は、偏光分離面20a
で反射され、偏光分離面20aの反射方向に設けられた
λ/4板22を介して円偏光に変換され、参照ミラー1
1に達する。この参照ミラー11は、偏光ビームスプリ
ッタ20と空間的に固定されているものである。参照ミ
ラー11にて反射された円偏光は、λ/4板22に再入
射し、P偏光に変換され偏光板14Bに達する。
【0030】ここで、偏光板は14Bは、その偏光軸が
偏光板14Bに達するP及びS偏光の偏光方向と45°の
傾きをなすように設けられており、偏光板14Bに達す
る測定ミラー10を介したS偏光と、偏光板14Bに達
する参照ミラー11を介したP偏光とは、それぞれ合成
され、測定ビート光を生成する。これらの参照ビート光
と測定ビート光とは、光ファイバ15A及び15Bによ
って、ディテクター16A及び16Bに導かれる。位相
差計17は、参照ビート光と測定ビート光との位相差を
検出して、測定ミラー10の変位を計測する。
偏光板14Bに達するP及びS偏光の偏光方向と45°の
傾きをなすように設けられており、偏光板14Bに達す
る測定ミラー10を介したS偏光と、偏光板14Bに達
する参照ミラー11を介したP偏光とは、それぞれ合成
され、測定ビート光を生成する。これらの参照ビート光
と測定ビート光とは、光ファイバ15A及び15Bによ
って、ディテクター16A及び16Bに導かれる。位相
差計17は、参照ビート光と測定ビート光との位相差を
検出して、測定ミラー10の変位を計測する。
【0031】なお、本実施例においては、いわゆるシン
グルパスの干渉計であるため、参照ビート光と測定ビー
ト光との位相差ΔΦと、測定ミラー10の変位Lとの関
係は、以下の(2)式の如くなる。
グルパスの干渉計であるため、参照ビート光と測定ビー
ト光との位相差ΔΦと、測定ミラー10の変位Lとの関
係は、以下の(2)式の如くなる。
【0032】
【数2】 ΔΦ=2π{(f1 −f2 )・(L0 −L1 )+2f1 L}/C+Φ0 … (2) 但し、f1 :第1の周波数、 f2 :第2の周波数、 L0 :ハーフプリズム5の振幅分割面5aからディテク
ター16Aまでの光路長、 L1 :ハーフプリズム5の振幅分割面5aから参照ミラ
ー11を経てディテクター16Bに到る光路長(参照光
路の光路長)、 C :光速、 Φ0 :測定ミラー10の移動前の初期位相差、 である。(2)式においても、周波数f1 ,f2 、光路
長L0 ,L1 が予め定まる定数となるため、位相差ΔΦ
から参照ミラー10の移動量が算出できる。
ター16Aまでの光路長、 L1 :ハーフプリズム5の振幅分割面5aから参照ミラ
ー11を経てディテクター16Bに到る光路長(参照光
路の光路長)、 C :光速、 Φ0 :測定ミラー10の移動前の初期位相差、 である。(2)式においても、周波数f1 ,f2 、光路
長L0 ,L1 が予め定まる定数となるため、位相差ΔΦ
から参照ミラー10の移動量が算出できる。
【0033】本実施例においても、偏波面保存ファイバ
3A,3Bでの偏光方向の回転による影響を無視し得る
ため、計測精度を低下させることなく、偏波面保存ファ
イバの取り回しの自由度を向上させることができる。上
述の各実施例においては、光源として横ゼーマンレーザ
を適用しているが、その代わりに、縦ゼーマンレーザ
(軸ゼーマンレーザ)を適用しても良い。縦ゼーマンレ
ーザは、周波数が異なる右回りの円偏光と左回りの円偏
光とを射出するものであって、その射出側にλ/4板を
配置することによって、横ゼーマンレーザと同等の機能
を果たすものである。
3A,3Bでの偏光方向の回転による影響を無視し得る
ため、計測精度を低下させることなく、偏波面保存ファ
イバの取り回しの自由度を向上させることができる。上
述の各実施例においては、光源として横ゼーマンレーザ
を適用しているが、その代わりに、縦ゼーマンレーザ
(軸ゼーマンレーザ)を適用しても良い。縦ゼーマンレ
ーザは、周波数が異なる右回りの円偏光と左回りの円偏
光とを射出するものであって、その射出側にλ/4板を
配置することによって、横ゼーマンレーザと同等の機能
を果たすものである。
【0034】また、光源部としては、ゼーマンレーザの
代わりに、単一モードレーザを適用できる。以下に、光
源部に単一モードレーザを適用した第3実施例を図3を
参照して説明する。図3は、第3実施例の構成を示す平
面図であり、図2の実施例と同様の機能を有する部材に
は、同じ符号を付してある。以下、図2に示す第2実施
例とは異なる構成について説明する。
代わりに、単一モードレーザを適用できる。以下に、光
源部に単一モードレーザを適用した第3実施例を図3を
参照して説明する。図3は、第3実施例の構成を示す平
面図であり、図2の実施例と同様の機能を有する部材に
は、同じ符号を付してある。以下、図2に示す第2実施
例とは異なる構成について説明する。
【0035】図3において、光源部30は、単一モード
レーザからなり、所定の方向に偏光方向を持つ直線偏光
(例えばP偏光)を射出する。この直線偏光は、プリズ
ムブロック31に入射し、プリズムブロック内の振幅分
割面31aにて振幅分割される。振幅分割面31aを透
過したP偏光は、プリズムブロック31の射出面側に配
置される第1の音響光学素子32Aに入射する。また、
振幅分割面31aにて反射されたP偏光は、プリズムブ
ロック31内で内面反射され、振幅分割面31aを透過
したP偏光と平行にプリズムブロック31から射出され
る。この射出方向には、第2の音響光学素子32Bが設
けられている。
レーザからなり、所定の方向に偏光方向を持つ直線偏光
(例えばP偏光)を射出する。この直線偏光は、プリズ
ムブロック31に入射し、プリズムブロック内の振幅分
割面31aにて振幅分割される。振幅分割面31aを透
過したP偏光は、プリズムブロック31の射出面側に配
置される第1の音響光学素子32Aに入射する。また、
振幅分割面31aにて反射されたP偏光は、プリズムブ
ロック31内で内面反射され、振幅分割面31aを透過
したP偏光と平行にプリズムブロック31から射出され
る。この射出方向には、第2の音響光学素子32Bが設
けられている。
【0036】さて、第1の音響光学素子32Aは、図示
なき駆動部により、周波数f1 の高周波信号でドライブ
され、その周波数f1 で決まる回折角θ1 だけ偏向され
た1次回折光を射出する。また、第2の音響光学素子3
2Bは、図示なき駆動部により、周波数f1 の光との周
波数差がΔfとなるように、周波数f2 (f2 =f1−
Δf)の高周波信号でドライブされ、その周波数f2 で
決まる回折角θ2 だけ偏向された1次回折光を射出す
る。なお、第1及び第2の音響光学素子32A,32B
から射出される光のうち、+1次光以外の光は、第1及
び第2の音響光学素子32A,32Bの射出側に配置さ
れる図示なきスリットによって遮光される。
なき駆動部により、周波数f1 の高周波信号でドライブ
され、その周波数f1 で決まる回折角θ1 だけ偏向され
た1次回折光を射出する。また、第2の音響光学素子3
2Bは、図示なき駆動部により、周波数f1 の光との周
波数差がΔfとなるように、周波数f2 (f2 =f1−
Δf)の高周波信号でドライブされ、その周波数f2 で
決まる回折角θ2 だけ偏向された1次回折光を射出す
る。なお、第1及び第2の音響光学素子32A,32B
から射出される光のうち、+1次光以外の光は、第1及
び第2の音響光学素子32A,32Bの射出側に配置さ
れる図示なきスリットによって遮光される。
【0037】次に、第1の音響光学素子32Aにより周
波数f1 に変調されて射出したP偏光は、偏波面保存フ
ァイバ3Aを介して、偏光ビームスプリッタ4に入射す
る。また、第1の音響光学素子32Bにより周波数f2
に変調された射出したP偏光は、その射出側に配置され
たλ/2板33を介して、S偏光に変換された後、偏波
面保存ファイバ3Bに入射する。この周波数f2 のS偏
光は、偏波面保存ファイバ3Bにより偏光ビームスプリ
ッタ4に導かれる。なお、偏光ビームスプリッタ4以降
の光路は、前述の第2実施例と同様であるため、ここで
は説明を省略する。
波数f1 に変調されて射出したP偏光は、偏波面保存フ
ァイバ3Aを介して、偏光ビームスプリッタ4に入射す
る。また、第1の音響光学素子32Bにより周波数f2
に変調された射出したP偏光は、その射出側に配置され
たλ/2板33を介して、S偏光に変換された後、偏波
面保存ファイバ3Bに入射する。この周波数f2 のS偏
光は、偏波面保存ファイバ3Bにより偏光ビームスプリ
ッタ4に導かれる。なお、偏光ビームスプリッタ4以降
の光路は、前述の第2実施例と同様であるため、ここで
は説明を省略する。
【0038】このように、本発明による干渉測定装置で
は、ゼーマンレーザの代わりに、単一モードレーザを用
いることもできる。なお、上述の第3実施例において、
偏波面保存ファイバ3A,3Bのうち、いずれか一方を
90°ねじる構成(入射端と射出端における偏波面保存の
方向が90°となるようにねじる構成)とすれば、λ/2
板33を省くことができる。
は、ゼーマンレーザの代わりに、単一モードレーザを用
いることもできる。なお、上述の第3実施例において、
偏波面保存ファイバ3A,3Bのうち、いずれか一方を
90°ねじる構成(入射端と射出端における偏波面保存の
方向が90°となるようにねじる構成)とすれば、λ/2
板33を省くことができる。
【0039】上述の各実施例においては、P及びS偏光
の偏光方向に対して45°の偏光軸を持つ偏光板14A,
14Bを適用しているが、その代わりとして偏光分離素
子を適用しても良い。また、偏光板14A,14Bによ
って、P偏光とS偏光とを合成(互いに干渉させる)す
る代わりに、偏光ビームスプリッタまたは単なるビーム
スプリッタを用いて、出力信号の差動をとる構成も可能
である。
の偏光方向に対して45°の偏光軸を持つ偏光板14A,
14Bを適用しているが、その代わりとして偏光分離素
子を適用しても良い。また、偏光板14A,14Bによ
って、P偏光とS偏光とを合成(互いに干渉させる)す
る代わりに、偏光ビームスプリッタまたは単なるビーム
スプリッタを用いて、出力信号の差動をとる構成も可能
である。
【0040】以下、図4(a) 〜(d) を参照して具体的に
説明する。まず、図4(a) は、第1実施例におけるプリ
ズムブロック13の射出面側に配置される偏光板14B
の代わりに、偏光ビームスプリッタ40を配置した変形
例の要部を示す平面図である。図4(a) において、図示
なきコーナーキューブプリズム8からのS偏光(参照光
路を経た直線偏光)は、第1実施例と同様にプリズムブ
ロック13の偏光合成面13aで反射され、このプリズ
ムブロック13から射出する。また、λ/2板12を介
したコーナーキューブプリズム8からのP偏光(測定光
路を経た直線偏光)は、第1実施例と同じくプリズムブ
ロック13の偏光合成面13aを透過し、プリズムブロ
ック13から射出する。
説明する。まず、図4(a) は、第1実施例におけるプリ
ズムブロック13の射出面側に配置される偏光板14B
の代わりに、偏光ビームスプリッタ40を配置した変形
例の要部を示す平面図である。図4(a) において、図示
なきコーナーキューブプリズム8からのS偏光(参照光
路を経た直線偏光)は、第1実施例と同様にプリズムブ
ロック13の偏光合成面13aで反射され、このプリズ
ムブロック13から射出する。また、λ/2板12を介
したコーナーキューブプリズム8からのP偏光(測定光
路を経た直線偏光)は、第1実施例と同じくプリズムブ
ロック13の偏光合成面13aを透過し、プリズムブロ
ック13から射出する。
【0041】本変形例では、これらのS及びP偏光の射
出方向にλ/2板43と偏光ビームスプリッタ40とを
配置しており、プリズムブロック13からのS及びP偏
光の一部は、偏光ビームスプリッタ40の偏光分離面4
0aで反射され、光ファイバ41Aに入射する。ここ
で、λ/2板43は、方位角22.5°で設けられ、λ/2
板43を通過する直線偏光を45°または135 °回転させ
る。
出方向にλ/2板43と偏光ビームスプリッタ40とを
配置しており、プリズムブロック13からのS及びP偏
光の一部は、偏光ビームスプリッタ40の偏光分離面4
0aで反射され、光ファイバ41Aに入射する。ここ
で、λ/2板43は、方位角22.5°で設けられ、λ/2
板43を通過する直線偏光を45°または135 °回転させ
る。
【0042】また、偏光分離面40aを透過するプリズ
ムブロック13からのS及びP偏光は、光ファイバ41
Bに入射する。ここで、各々の光は、偏光ビームスプリ
ッタ40を通過することにより、偏光方向が揃うため、
それぞれ干渉しビート信号を生成する。なお、各々の光
は、互いに逆相である。そして、不図示ではあるが、光
ファイバ41A,41Bの射出端側には、一対の光電変
換素子が配置されており、光電変換された各々の光の出
力信号の差動をとる。ここで、本変形例においては、偏
光板による光の吸収がないため、光量の損失がなくなる
利点があり、さらには、出力信号同士の差動をとるた
め、出力信号の振幅が2倍になり、S/N比を向上でき
る利点がある。
ムブロック13からのS及びP偏光は、光ファイバ41
Bに入射する。ここで、各々の光は、偏光ビームスプリ
ッタ40を通過することにより、偏光方向が揃うため、
それぞれ干渉しビート信号を生成する。なお、各々の光
は、互いに逆相である。そして、不図示ではあるが、光
ファイバ41A,41Bの射出端側には、一対の光電変
換素子が配置されており、光電変換された各々の光の出
力信号の差動をとる。ここで、本変形例においては、偏
光板による光の吸収がないため、光量の損失がなくなる
利点があり、さらには、出力信号同士の差動をとるた
め、出力信号の振幅が2倍になり、S/N比を向上でき
る利点がある。
【0043】なお、上記実施例において、λ/2板43
を配置する代わりに、偏光ビームスリッタ40を光軸を
中心として45°回転させても良い。図4(b) は、第1実
施例のλ/2板12とプリズムブロック13とその射出
側に配置される偏光板14Bとの代わりに、プリズムブ
ロック42を配置した変形例である。図4(b) におい
て、図示なきコーナーキューブプリズム8からの2つの
光束は、両方ともS偏光の状態でプリズムブロック42
に入射する。この光束は、プリズムブロック42内に設
けられた半透過面42aによりそれぞれ合成された後、
プリズムブロック42から射出し、光ファイバ41A,
41Bに入射する。ここで、本変形例においても、図4
(a) に示す変形例と同様に、光ファイバ41A,41B
の射出端側には、一対の光電変換素子が配置されてお
り、これらの光電変換素子からの出力信号同士の差動を
とっている。本変形例においては、図4(a) に示す変形
例の効果の他に、ビームスプリッタとλ/2板とを用い
ないため、光学系の構成が簡単になる利点がある。
を配置する代わりに、偏光ビームスリッタ40を光軸を
中心として45°回転させても良い。図4(b) は、第1実
施例のλ/2板12とプリズムブロック13とその射出
側に配置される偏光板14Bとの代わりに、プリズムブ
ロック42を配置した変形例である。図4(b) におい
て、図示なきコーナーキューブプリズム8からの2つの
光束は、両方ともS偏光の状態でプリズムブロック42
に入射する。この光束は、プリズムブロック42内に設
けられた半透過面42aによりそれぞれ合成された後、
プリズムブロック42から射出し、光ファイバ41A,
41Bに入射する。ここで、本変形例においても、図4
(a) に示す変形例と同様に、光ファイバ41A,41B
の射出端側には、一対の光電変換素子が配置されてお
り、これらの光電変換素子からの出力信号同士の差動を
とっている。本変形例においては、図4(a) に示す変形
例の効果の他に、ビームスプリッタとλ/2板とを用い
ないため、光学系の構成が簡単になる利点がある。
【0044】図4(c) は、第1実施例乃至第3実施例に
おける偏光板14Bの代わりに、図4(a) に示す変形例
と同様にλ/2板43と偏光ビームスプリッタ40とを
配置した変形例を示す平面図である。図4(c) におい
て、ハーフプリズム5の振幅分割面5aにて振幅分割さ
れた偏光ビームスプリッタ4からのS及びP偏光は、偏
光ビームスプリッタ40の偏光分離面40aにおいて、
2方向に分離された後、光ファイバ41A,41Bへ入
射する。これらの光ファイバ41A,41Bの射出端側
には、前述の変形例と同様な一対の光電変換素子が配置
されており、これらの出力信号の差動をとることによっ
て、S/Nの良い信号を得る構成となっている。また、
本変形例においても、図4(a) に示す変形例の効果を有
し、図4(a) の変形例と同様に偏光ビームスプリッタ4
0を光軸回りに45°回転させる構成とすることでλ/2
板43を省略することもできる。
おける偏光板14Bの代わりに、図4(a) に示す変形例
と同様にλ/2板43と偏光ビームスプリッタ40とを
配置した変形例を示す平面図である。図4(c) におい
て、ハーフプリズム5の振幅分割面5aにて振幅分割さ
れた偏光ビームスプリッタ4からのS及びP偏光は、偏
光ビームスプリッタ40の偏光分離面40aにおいて、
2方向に分離された後、光ファイバ41A,41Bへ入
射する。これらの光ファイバ41A,41Bの射出端側
には、前述の変形例と同様な一対の光電変換素子が配置
されており、これらの出力信号の差動をとることによっ
て、S/Nの良い信号を得る構成となっている。また、
本変形例においても、図4(a) に示す変形例の効果を有
し、図4(a) の変形例と同様に偏光ビームスプリッタ4
0を光軸回りに45°回転させる構成とすることでλ/2
板43を省略することもできる。
【0045】図4(d) は、第2及び第3実施例における
偏光板14Bの代わりに、λ/2板43と偏光ビームス
プリッタ40とを配置した変形例を示す平面図である。
尚、図4(d) に示す変形例の動作及び効果は、前述の各
変形例と同様であるため、ここでは説明を省略する。な
お、図4(a) 〜(d) に示す変形例における光ファイバ4
1A,41Bは、偏波面保存ファイバでないことが好ま
しい。また、光ファイバ41A,41Bの光路長は、互
いに等しくする必要はない。
偏光板14Bの代わりに、λ/2板43と偏光ビームス
プリッタ40とを配置した変形例を示す平面図である。
尚、図4(d) に示す変形例の動作及び効果は、前述の各
変形例と同様であるため、ここでは説明を省略する。な
お、図4(a) 〜(d) に示す変形例における光ファイバ4
1A,41Bは、偏波面保存ファイバでないことが好ま
しい。また、光ファイバ41A,41Bの光路長は、互
いに等しくする必要はない。
【0046】上述の各実施例においては、説明を簡単に
するために、偏波面保存ファイバ3A,3Bへ光を入出
力するためのレンズ、光源部と偏波面保存ファイバとの
間のビームエキスパンダ及び光ファイバ15A,15B
からの参照ビート光と測定ビート光とをディテクター1
6A,16Bへ集光させるレンズ等を図示省略してい
る。
するために、偏波面保存ファイバ3A,3Bへ光を入出
力するためのレンズ、光源部と偏波面保存ファイバとの
間のビームエキスパンダ及び光ファイバ15A,15B
からの参照ビート光と測定ビート光とをディテクター1
6A,16Bへ集光させるレンズ等を図示省略してい
る。
【0047】また、本発明は、測長のみに適用できるも
のではなく、センシングや表面粗さの検出等にも応用で
きることはいうまでもない。
のではなく、センシングや表面粗さの検出等にも応用で
きることはいうまでもない。
【0048】
【発明の効果】上述の如き本発明によれば、ライトガイ
ドを利用したフレキシブルに富む干渉測定装置でありな
がら、測定精度を向上させることができる。また、本発
明による干渉測定装置は、電気的なノイズに強く、かつ
光学調整が容易である利点も有する。
ドを利用したフレキシブルに富む干渉測定装置でありな
がら、測定精度を向上させることができる。また、本発
明による干渉測定装置は、電気的なノイズに強く、かつ
光学調整が容易である利点も有する。
【0049】また、干渉計ヘッド部にて参照ビート光を
生成するように構成することで、第1及び第2のライト
ガイド手段間の位相ずれを打ち消すことができ、さらな
る高精度化を達成し得る。
生成するように構成することで、第1及び第2のライト
ガイド手段間の位相ずれを打ち消すことができ、さらな
る高精度化を達成し得る。
【図1】本発明による第1実施例の構成を示す平面図で
ある。
ある。
【図2】本発明による第2実施例の構成を示す平面図で
ある。
ある。
【図3】本発明による第3実施例の構成を示す平面図で
ある。
ある。
【図4】実施例の変形例の要部の構成を示す平面図であ
る。
る。
【図5】従来の干渉測長装置の構成を示す平面図であ
る。
る。
1 … 光源部、 3A,3B … 偏波面保存ファイバ、 4 … ビームスプリッタ、 5 … ハーフプリズム、 6 … プリズムブロック、 8 … コーナーキューブプリズム、 10 … 測定ミラー、 11 … 参照ミラー、 13 … プリズムブロック、 14A,14B … 偏光板、 16A,16B … ディテクター、 17 … 位相差計、
Claims (3)
- 【請求項1】互いに異なる第1の周波数の光と第2の周
波数の光とを生成する光源部と、該光源部からの前記第
1及び第2の周波数の光の経路を参照光路と測定光路と
に分離しかつ前記参照光路を経た光と前記測定光路を経
た光とを互いに干渉させる干渉計ヘッド部とを有し、前
記干渉計ヘッド部からの光出力に基づいて所望の物理量
を測定する干渉測定装置において、 前記光源部からの第1の周波数の光のみを前記干渉計ヘ
ッド部へ導く第1のライトガイド手段と、 前記光源部からの第2の周波数の光のみを前記干渉計ヘ
ッド部へ導く第2のライトガイド手段とを有することを
特徴とする干渉測定装置。 - 【請求項2】前記干渉計ヘッド部は、前記第1の周波数
の光と前記第2の周波数の光とを互いに干渉させて、参
照ビート光を生成することを特徴とする請求項1に記載
の干渉測定装置。 - 【請求項3】前記第1及び第2のライトガイド手段は、
偏波面保存ファイバからなることを特徴とする請求項1
に記載の干渉測定装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5315445A JPH07167606A (ja) | 1993-12-15 | 1993-12-15 | 干渉測定装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5315445A JPH07167606A (ja) | 1993-12-15 | 1993-12-15 | 干渉測定装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07167606A true JPH07167606A (ja) | 1995-07-04 |
Family
ID=18065459
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5315445A Pending JPH07167606A (ja) | 1993-12-15 | 1993-12-15 | 干渉測定装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07167606A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5875556A (en) * | 1995-12-07 | 1999-03-02 | Akio Kubo | Apparatus and method for measuring a figure |
| JP2009080038A (ja) * | 2007-09-26 | 2009-04-16 | Kobe Steel Ltd | ヘテロダイン干渉測定方法,ヘテロダイン干渉装置,厚み測定装置,厚み測定方法 |
| JP2014507655A (ja) * | 2011-02-01 | 2014-03-27 | ザイゴ コーポレーション | 干渉ヘテロダイン光学エンコーダシステム |
| JP2021120654A (ja) * | 2020-01-30 | 2021-08-19 | 株式会社Xtia | 距離測定方法及び光コム距離計並びに光学的三次元形状測定装置 |
-
1993
- 1993-12-15 JP JP5315445A patent/JPH07167606A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5875556A (en) * | 1995-12-07 | 1999-03-02 | Akio Kubo | Apparatus and method for measuring a figure |
| JP2009080038A (ja) * | 2007-09-26 | 2009-04-16 | Kobe Steel Ltd | ヘテロダイン干渉測定方法,ヘテロダイン干渉装置,厚み測定装置,厚み測定方法 |
| JP2014507655A (ja) * | 2011-02-01 | 2014-03-27 | ザイゴ コーポレーション | 干渉ヘテロダイン光学エンコーダシステム |
| US9140537B2 (en) | 2011-02-01 | 2015-09-22 | Zygo Corporation | Interferometric heterodyne optical encoder system |
| JP2021120654A (ja) * | 2020-01-30 | 2021-08-19 | 株式会社Xtia | 距離測定方法及び光コム距離計並びに光学的三次元形状測定装置 |
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