JPH07168008A - Ａｇ表面鏡 - Google Patents
Ａｇ表面鏡Info
- Publication number
- JPH07168008A JPH07168008A JP5341234A JP34123493A JPH07168008A JP H07168008 A JPH07168008 A JP H07168008A JP 5341234 A JP5341234 A JP 5341234A JP 34123493 A JP34123493 A JP 34123493A JP H07168008 A JPH07168008 A JP H07168008A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- film
- surface mirror
- substrate
- thickness
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Landscapes
- Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
- Chemically Coating (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Other Surface Treatments For Metallic Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 Ａｇ反射鏡の耐久性を向上させると共に表面
鏡として使用することができ、可視域から赤外域まで高
反射率な表面鏡を得る。 【構成】 Ａｌ基板１の表面に無電解メッキ層２を形成
する。このメッキ層２を研磨した後、Ａｇ層３を真空蒸
着によって形成し、さらにその上にＡｌ2 Ｏ3 の保護膜
４を形成する。
鏡として使用することができ、可視域から赤外域まで高
反射率な表面鏡を得る。 【構成】 Ａｌ基板１の表面に無電解メッキ層２を形成
する。このメッキ層２を研磨した後、Ａｇ層３を真空蒸
着によって形成し、さらにその上にＡｌ2 Ｏ3 の保護膜
４を形成する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、可視域から赤外域まで
の広い波長範囲において高反射率な光学特性を有するＡ
ｇ（銀）表面鏡に関する。
の広い波長範囲において高反射率な光学特性を有するＡ
ｇ（銀）表面鏡に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来から、各種精密光学装置等に用いら
れている反射鏡としては、高い反射率を得るためＡｇ膜
を基板に形成したものが知られている。例えば特開昭６
１−２８４７０３号公報には基体上に反射膜として銀膜
を形成し、その上に順次Ｎｉ−Ｃｒ合金膜とＳｉＯ2 を
保護膜として形成した銀鏡が開示されている。
れている反射鏡としては、高い反射率を得るためＡｇ膜
を基板に形成したものが知られている。例えば特開昭６
１−２８４７０３号公報には基体上に反射膜として銀膜
を形成し、その上に順次Ｎｉ−Ｃｒ合金膜とＳｉＯ2 を
保護膜として形成した銀鏡が開示されている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、この種
の反射鏡はＡｇが基板との密着力に欠け、剥がれ易
い、温度，湿度等に弱く、劣化し易い、膜が柔らか
く、傷がつき易い等の理由からガラス基板の裏面側にＡ
ｇ膜を形成することで、裏面鏡として用いられていた。
このため、Ａｇ膜が可視域から赤外域までの広い波長範
囲において、高反射率な光学特性を持っていても、使用
するガラス基板に吸収がある波長域では、裏面鏡として
高反射率を得ることができないという問題があった。
の反射鏡はＡｇが基板との密着力に欠け、剥がれ易
い、温度，湿度等に弱く、劣化し易い、膜が柔らか
く、傷がつき易い等の理由からガラス基板の裏面側にＡ
ｇ膜を形成することで、裏面鏡として用いられていた。
このため、Ａｇ膜が可視域から赤外域までの広い波長範
囲において、高反射率な光学特性を持っていても、使用
するガラス基板に吸収がある波長域では、裏面鏡として
高反射率を得ることができないという問題があった。
【０００４】したがって、本発明は上記したような従来
の問題点に鑑みてなされたもので、その目的とするとこ
ろは、Ａｇ反射鏡の耐久性を向上させると共に表面鏡と
して使用することができ、そのため吸収波長域がなく、
可視域から赤外域まで高反射率な光学特性を有する表面
鏡を提供することにある。
の問題点に鑑みてなされたもので、その目的とするとこ
ろは、Ａｇ反射鏡の耐久性を向上させると共に表面鏡と
して使用することができ、そのため吸収波長域がなく、
可視域から赤外域まで高反射率な光学特性を有する表面
鏡を提供することにある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、第１の発明に係るＡｇ表面鏡は、Ａｌ，Ｃｕまたは
各種ガラス材料などからなる基板表面に、ＮｉまたはＣ
ｒからなる膜厚１００Å以上の第一層を形成し、この第
一層の上にＡｇからなる膜厚５００Å以上の第二層を金
属反射膜として形成したものである。
め、第１の発明に係るＡｇ表面鏡は、Ａｌ，Ｃｕまたは
各種ガラス材料などからなる基板表面に、ＮｉまたはＣ
ｒからなる膜厚１００Å以上の第一層を形成し、この第
一層の上にＡｇからなる膜厚５００Å以上の第二層を金
属反射膜として形成したものである。
【０００６】また、第２の発明は、Ａｌ，Ｃｕなどから
なる基板表面に、無電解Ｎｉメッキからなる膜厚１００
Å以上の第一層を形成し、この第一層の上にＡｇからな
る膜厚５００Å以上の第二層を金属反射膜として形成し
たものである。
なる基板表面に、無電解Ｎｉメッキからなる膜厚１００
Å以上の第一層を形成し、この第一層の上にＡｇからな
る膜厚５００Å以上の第二層を金属反射膜として形成し
たものである。
【０００７】また、第３の発明は、上記第１又は第２の
発明において、金属反射膜の上に、ＳｉＯ2 ，ＭｇＦ
2 ，ＹＦ3 ，ＳｉＯ，Ａｌ2 Ｏ3 ，ＺｎＳの中から選ば
れた膜厚２０２０００Å以上の保護膜を、一層もしくは
多層形成したものである。
発明において、金属反射膜の上に、ＳｉＯ2 ，ＭｇＦ
2 ，ＹＦ3 ，ＳｉＯ，Ａｌ2 Ｏ3 ，ＺｎＳの中から選ば
れた膜厚２０２０００Å以上の保護膜を、一層もしくは
多層形成したものである。
【０００８】
【作用】本発明によれば、Ａｇ膜の付着層としてＮｉ，
Ｃｒまたは無電解Ｎｉメッキ層からからなる第一層を基
板表面に形成しているので、第一層とＡｇ膜との密着力
が大きい。また、ＳｉＯ2 ，ＭｇＦ2 ，ＹＦ3 ，Ｓｉ
Ｏ，Ａｌ2 Ｏ3 ，ＺｎＳの中から選ばれた保護膜は、Ａ
ｇ膜を覆い、湿気等から保護する。基板自体は吸収があ
る波長域を有するものであっても表面側にＡｇ層が形成
されているので、光学特性に影響を及ぼすことはない。
Ｃｒまたは無電解Ｎｉメッキ層からからなる第一層を基
板表面に形成しているので、第一層とＡｇ膜との密着力
が大きい。また、ＳｉＯ2 ，ＭｇＦ2 ，ＹＦ3 ，Ｓｉ
Ｏ，Ａｌ2 Ｏ3 ，ＺｎＳの中から選ばれた保護膜は、Ａ
ｇ膜を覆い、湿気等から保護する。基板自体は吸収があ
る波長域を有するものであっても表面側にＡｇ層が形成
されているので、光学特性に影響を及ぼすことはない。
【０００９】
【実施例】以下、本発明を図面に示す実施例に基づいて
詳細に説明する。図１は本発明に係るＡｇ表面鏡の一実
施例を示す断面図である。同図において、１は基板、２
は基板１の表面に形成された第一層としての無電解Ｎｉ
メッキ層、３は第一層２の上に形成された第二層である
金属反射膜としてのＡｇ層、４はＡｇ層３を外気から保
護する保護膜で、これらによってＡｇ表面鏡５を形成し
ている。基板１はＡｌからなり、その表面に無電解Ｎｉ
メッキが施され、このメッキ層２の研磨後、Ａｇの真空
蒸着によって第二層としてのＡｇ層３を形成し、さらに
その上にＡｌ2 Ｏ3 からなる保護膜４を形成する。無電
解Ｎｉメッキ層２、Ａｇ層３および保護膜４の膜厚は、
それぞれ１００Å以上，５００Å以上，２０〜２０００
Å程度とされる。無電解Ｎｉメッキ層２の膜厚が１００
Å以下に薄くなると、基板１との密着性が低下するため
好ましくない。また、１００Å以上になると、成膜に時
間がかかるだけで、特に問題はない。Ａｇ層３の膜厚が
５００Å以下に薄くなると、反射率が低下する。厚い場
合は、成膜に時間がかかる、コストが上がるといった問
題はあるが、物理的な不都合はない。保護膜４の膜厚が
２０Å以下になると、保護膜としての機能が低下し、好
ましくない。２０００Å以上に厚くすると、分光反射率
の短波長側にリップル（波うち）現象が現れて好ましく
ない。なお、図における各部の厚みは理解を容易にする
ため誇張して示しており、実際の寸法とは異なる。
詳細に説明する。図１は本発明に係るＡｇ表面鏡の一実
施例を示す断面図である。同図において、１は基板、２
は基板１の表面に形成された第一層としての無電解Ｎｉ
メッキ層、３は第一層２の上に形成された第二層である
金属反射膜としてのＡｇ層、４はＡｇ層３を外気から保
護する保護膜で、これらによってＡｇ表面鏡５を形成し
ている。基板１はＡｌからなり、その表面に無電解Ｎｉ
メッキが施され、このメッキ層２の研磨後、Ａｇの真空
蒸着によって第二層としてのＡｇ層３を形成し、さらに
その上にＡｌ2 Ｏ3 からなる保護膜４を形成する。無電
解Ｎｉメッキ層２、Ａｇ層３および保護膜４の膜厚は、
それぞれ１００Å以上，５００Å以上，２０〜２０００
Å程度とされる。無電解Ｎｉメッキ層２の膜厚が１００
Å以下に薄くなると、基板１との密着性が低下するため
好ましくない。また、１００Å以上になると、成膜に時
間がかかるだけで、特に問題はない。Ａｇ層３の膜厚が
５００Å以下に薄くなると、反射率が低下する。厚い場
合は、成膜に時間がかかる、コストが上がるといった問
題はあるが、物理的な不都合はない。保護膜４の膜厚が
２０Å以下になると、保護膜としての機能が低下し、好
ましくない。２０００Å以上に厚くすると、分光反射率
の短波長側にリップル（波うち）現象が現れて好ましく
ない。なお、図における各部の厚みは理解を容易にする
ため誇張して示しており、実際の寸法とは異なる。
【００１０】図２は上記Ａｇ表面鏡５の可視域における
０度入射分光反射率を示す図、図３は同じく赤外域にお
ける０度入射分光反射率を示す図である。これら図から
明かなように、基板１の表面に無電解Ｎｉメッキ層２を
形成し、その上に金属反射膜としてのＡｇ層３を形成し
たＡｇ表面鏡５においては、裏面鏡と異なり基板１自体
による吸収波長域がないため、可視域から赤外域まで広
い波長域にわたって高反射率な光学特性を得ることがで
きる。また、本発明はＡｇ層３を保護膜４によって保護
しているので、耐湿性に優れた表面鏡を提供することが
できる。さらに、無電解Ｎｉメッキ層２とＡｇ層３、お
よびＡｇ層３と保護膜４との密着力も良好である。
０度入射分光反射率を示す図、図３は同じく赤外域にお
ける０度入射分光反射率を示す図である。これら図から
明かなように、基板１の表面に無電解Ｎｉメッキ層２を
形成し、その上に金属反射膜としてのＡｇ層３を形成し
たＡｇ表面鏡５においては、裏面鏡と異なり基板１自体
による吸収波長域がないため、可視域から赤外域まで広
い波長域にわたって高反射率な光学特性を得ることがで
きる。また、本発明はＡｇ層３を保護膜４によって保護
しているので、耐湿性に優れた表面鏡を提供することが
できる。さらに、無電解Ｎｉメッキ層２とＡｇ層３、お
よびＡｇ層３と保護膜４との密着力も良好である。
【００１１】基板１の材料としてはＡｌに限らず、Ｃｕ
や各種ガラス材料を使用することが可能である。第一層
２としてはＮｉメッキ層の他にＣｒで形成されるもので
あってもよい。保護膜４としては、Ａｌ2 Ｏ3 の他、Ｓ
ｉＯ2 ，ＭｇＦ2 ，ＹＦ3 ，ＳｉＯ，Ａｌ2 Ｏ3 ，Ｚｎ
Ｓの中から選ばれたもので形成してもよく、また一層に
限らず必要に応じてＡｌ2 Ｏ3 を含むこれらの中から選
ばれたものを多層施してもよい。
や各種ガラス材料を使用することが可能である。第一層
２としてはＮｉメッキ層の他にＣｒで形成されるもので
あってもよい。保護膜４としては、Ａｌ2 Ｏ3 の他、Ｓ
ｉＯ2 ，ＭｇＦ2 ，ＹＦ3 ，ＳｉＯ，Ａｌ2 Ｏ3 ，Ｚｎ
Ｓの中から選ばれたもので形成してもよく、また一層に
限らず必要に応じてＡｌ2 Ｏ3 を含むこれらの中から選
ばれたものを多層施してもよい。
【００１２】
【発明の効果】以上説明したように本発明に係るＡｇ表
面鏡によれば、基板表面にＮｉまたはＣｒからなる第一
層を形成し、この第一層の上にＡｇからなる第二層を金
属反射膜として形成したものであるため、基板による吸
収波長域がなく、可視域から赤外域までの広い波長域に
おいて高反射率な光学特性を有する表面鏡を得ることが
できる。また、本発明はＮｉまたはＣｒからなる第一層
と、ＳｉＯ2 ，ＭｇＦ2 ，ＹＦ3 ，ＳｉＯ，Ａｌ2 Ｏ
3 ，ＺｎＳ等からなる保護膜によってＡｇ層を保護して
いるので、高い耐久性をもったＡｇ表面鏡を得ることが
できる。
面鏡によれば、基板表面にＮｉまたはＣｒからなる第一
層を形成し、この第一層の上にＡｇからなる第二層を金
属反射膜として形成したものであるため、基板による吸
収波長域がなく、可視域から赤外域までの広い波長域に
おいて高反射率な光学特性を有する表面鏡を得ることが
できる。また、本発明はＮｉまたはＣｒからなる第一層
と、ＳｉＯ2 ，ＭｇＦ2 ，ＹＦ3 ，ＳｉＯ，Ａｌ2 Ｏ
3 ，ＺｎＳ等からなる保護膜によってＡｇ層を保護して
いるので、高い耐久性をもったＡｇ表面鏡を得ることが
できる。
【図１】本発明に係るＡｇ表面鏡の一実施例を示す断面
図である。
図である。
【図２】Ａｇ表面鏡の可視域における０度入射分光反射
率を示す図である。
率を示す図である。
【図３】Ａｇ表面鏡の赤外域における０度入射分光反射
率を示す図である。
率を示す図である。
１ Ａｌ基板 ２ 無電解メッキ層 ３ Ａｇ層 ４ 保護層
フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 // Ｃ２３Ｃ 18/31 Ｚ 18/34
Claims (3)
- 【請求項１】 Ａｌ，Ｃｕまたは各種ガラス材料などか
らなる基板表面に、ＮｉまたはＣｒからなる膜厚１００
Å以上の第一層を形成し、この第一層の上にＡｇからな
る膜厚５００Å以上の第二層を金属反射膜として形成し
たことを特徴とするＡｇ表面鏡。 - 【請求項２】 Ａｌ，Ｃｕなどからなる基板表面に、無
電解Ｎｉメッキからなる膜厚１００Å以上の第一層を形
成し、この第一層の上にＡｇからなる膜厚５００Å以上
の第二層を金属反射膜として形成したことを特徴とする
Ａｇ表面鏡。 - 【請求項３】 請求項１又は２記載のＡｇ表面鏡におい
て、金属反射膜の上に、ＳｉＯ2 ，ＭｇＦ2 ，ＹＦ3 ，
ＳｉＯ，Ａｌ2 Ｏ3 ，ＺｎＳの中から選ばれた膜厚２０
〜２０００Å以上の保護膜を、一層もしくは多層形成し
たことを特徴とするＡｇ表面鏡。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5341234A JPH07168008A (ja) | 1993-12-13 | 1993-12-13 | Ａｇ表面鏡 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5341234A JPH07168008A (ja) | 1993-12-13 | 1993-12-13 | Ａｇ表面鏡 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07168008A true JPH07168008A (ja) | 1995-07-04 |
Family
ID=18344428
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5341234A Pending JPH07168008A (ja) | 1993-12-13 | 1993-12-13 | Ａｇ表面鏡 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07168008A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006518883A (ja) * | 2003-02-24 | 2006-08-17 | レイセオン・カンパニー | 高精密度のミラーおよびその製造方法 |
| EP1439428A3 (en) * | 2003-01-14 | 2009-05-13 | ASML Netherlands B.V. | Level sensor for lithographic apparatus |
| KR100963735B1 (ko) * | 2006-07-06 | 2010-06-14 | 파나소닉 전공 주식회사 | 하지(下地)재료에 전기은도금처리를 실시함으로써 형성되는은막 |
| JP2012042584A (ja) * | 2010-08-17 | 2012-03-01 | Seiko Epson Corp | 光フィルター、光フィルターモジュール、分光測定器および光機器 |
| KR101146619B1 (ko) * | 2010-11-22 | 2012-05-14 | 한국전광(주) | 가시광선과 적외선 영역을 동시에 충족하는 고반사율 거울 |
| US11385383B2 (en) | 2018-11-13 | 2022-07-12 | Raytheon Company | Coating stress mitigation through front surface coating manipulation on ultra-high reflectors or other optical devices |
-
1993
- 1993-12-13 JP JP5341234A patent/JPH07168008A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1439428A3 (en) * | 2003-01-14 | 2009-05-13 | ASML Netherlands B.V. | Level sensor for lithographic apparatus |
| JP2006518883A (ja) * | 2003-02-24 | 2006-08-17 | レイセオン・カンパニー | 高精密度のミラーおよびその製造方法 |
| KR100963735B1 (ko) * | 2006-07-06 | 2010-06-14 | 파나소닉 전공 주식회사 | 하지(下地)재료에 전기은도금처리를 실시함으로써 형성되는은막 |
| JP2012042584A (ja) * | 2010-08-17 | 2012-03-01 | Seiko Epson Corp | 光フィルター、光フィルターモジュール、分光測定器および光機器 |
| KR101146619B1 (ko) * | 2010-11-22 | 2012-05-14 | 한국전광(주) | 가시광선과 적외선 영역을 동시에 충족하는 고반사율 거울 |
| US11385383B2 (en) | 2018-11-13 | 2022-07-12 | Raytheon Company | Coating stress mitigation through front surface coating manipulation on ultra-high reflectors or other optical devices |
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