JPH07176509A - 洗浄装置及び洗浄方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 ある程度外部に対して閉鎖された空間内に、
被処理体の洗浄処理槽と搬送装置とを有するウエット型
の洗浄装置において、装置内の給排気量を少なくしつつ
薬液ミストやパーティクルの拡散を効果的に防止する。 【構成】 薬液洗浄処理槽２５の後端に仕切板３１を設
けると共に、前端にミストセパレータ３２を設けて、装
置内を搬送装置１２側エリアと薬液洗浄処理槽２５側エ
リアとに雰囲気分離させ、分離された各々のエリアに対
してファン・フィルタ・ユニットＦ₅から給気させる。
搬送装置１２側エリアの排気は排気板６３を通じて行
う。排気領域が減少し、薬液ミストの発生する洗浄処理
槽側エリアと、パーティクルの発生しやすい搬送装置側
エリアとにおける気流制御が独立して行え、洗浄装置全
体としての給気、排気のバランスを最適な状態にして装
置を稼働させることが可能である。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、洗浄装置及び洗浄方法
に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】例えばＬＳＩ等の半導体デバイスの製造
工程における洗浄処理を例にとって説明すると、従来か
ら半導体ウエハ（以下、「ウエハ」という）表面のパー
ティクル、有機汚染物、金属不純物等のコンタミネーシ
ョンを除去するために洗浄処理装置が使用されており、
その中でもとりわけウエットタイプの洗浄装置は、前記
コンタミネーションを効果的に除去できしかもスループ
ットが良好であることから、その需要が多い。

【０００３】従来この種のウエットタイプの洗浄装置に
おいては、個々の槽内においてウエハに対してアンモニ
アやフッ酸などの薬液によって薬液洗浄処理を行った
り、純水によって水洗洗浄処理を行ったりする処理槽が
複数配列されている。そして被処理体であるウエハは、
これら処理槽の前面側に配置された搬送装置によって順
次搬送されて、例えば薬液洗浄と水洗洗浄とに交互に付
されていく。

【０００４】ところでこのような洗浄装置は、薬液のミ
ストが装置外部に飛散しないように、一般に四側に側板
を有し、かつ上部には天板が設けられて、装置外部との
雰囲気の遮断がある程度図られている。そして装置内部
においても、パーティクルや薬液槽からの薬液ミストが
装置内全体に拡散してウエハや他の装置部材を汚染する
ことのないように、前記天板にはさらに例えばＦＦＵ
（Fan Filter Unit）などの吹出し装置を設けて下方の
処理槽に気流を吹き出させるようにし、また同時に処理
槽周囲の下部から排気するようにして、常にダウンフロ
ー雰囲気を創出するようにしていた。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら前記従来
の洗浄装置においては、処理槽上部と処理槽前面に位置
する搬送装置の移動スペースとを格別仕切るための遮蔽
物等がないため、装置内部全体が単一の雰囲気となって
おり、そのため前記したパーティクル、薬液ミストの拡
散防止を図るためには、前記ＦＦＵからの給気量及びそ
れに応じた排気量を多くしなければならなかった。

【０００６】また搬送装置の移動スペースと同一雰囲気
内に処理槽が位置しているので、搬送装置の移動にとも
なって気流が乱れ、前記したダウンフローの効果が減殺
されてしまい、搬送装置の移動スペース内で発生したパ
ーティクルが、処理槽側へと巻き込まれることもあっ
た。

【０００７】さらに、処理槽から処理槽にウエハを搬送
する際にウエハに付着した薬液ミストが拡散するという
問題もあった。

【０００８】本発明はかかる点に鑑みてなされたもので
あり、必要な給気量、排気量を少なくさせつつ、かつ薬
液ミストやパーティクルの拡散を効果的に抑えることが
でき、また他方、搬送装置の移動スペースと処理槽側と
の各雰囲気をある程度分離させるようにするなどして、
処理槽側へのパーティクル流入等を防止できる洗浄装置
並びに洗浄方法を提供して、前述の問題の解決を図るこ
とを目的とするものである。

【０００９】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、まず請求項１によれば、側板によって形成された領
域内に被処理体を洗浄する処理槽を配列し、かつ前記処
理槽の前面側に位置して前記被処理体を前記配列方向に
沿って搬送する搬送装置を前記領域内に有し、さらに少
なくとも前記処理槽に向けて上方から気流を吹き出す如
く構成された吹出し装置を有する洗浄装置において、前
記処理槽の前端上部に、切欠凹部を上端から有する遮蔽
板を設けると共に、前記処理槽の後端上部には仕切板を
設けたことを特徴とする、洗浄装置が提供される。

【００１０】請求項２によれば、側板によって形成され
た領域内に被処理体を洗浄する処理槽を配列し、かつ前
記処理槽の前面側に位置して前記被処理体を前記配列方
向に沿って搬送する搬送装置を前記領域内に有し、さら
に少なくとも前記処理槽に向けて上方から気流を吹き出
す如く構成された吹出し装置を有する洗浄装置におい
て、前記処理槽の前端上部に、切欠凹部を上端から有す
る遮蔽板を設け、さらにこの遮蔽板と前面側の側板とに
よって形成されるエリアに対しても、上方から気流が吹
き出される如く構成したことを特徴とする、洗浄装置が
提供される。

【００１１】前記各洗浄装置において、請求項３に記載
したように、前記遮蔽板と前面側の側板とによって形成
されるエリアの排気を行う排気機構を別途設けてもよ
い。

【００１２】さらにまた請求項４に記載したように、以
上のように構成される各洗浄装置における隣接した処理
槽上端部間に、液受部材を設けてもよい。

【００１３】請求項５によれば、側板によって形成され
た領域内に被処理体を洗浄する処理槽を配列し、かつ前
記処理槽の前面側に位置して前記被処理体を前記配列方
向に沿って搬送する搬送装置を前記領域内に有し、さら
に少なくとも前記処理槽に向けて上方から気流を吹き出
す如く構成された吹出し装置を有する洗浄装置におい
て、前記処理槽の後端側上部に処理槽から引き上げられ
た被処理体周辺の排気を行う排気口を設けたことを特徴
とする、洗浄装置が提供される。

【００１４】請求項６によれば、側板によって形成され
た領域内に被処理体を洗浄する処理槽を配列し、かつ前
記処理槽の前面側に位置して前記被処理体を前記配列方
向に沿って搬送する搬送装置を前記領域内に有し、さら
に少なくとも前記処理槽に向けて上方から気流を吹き出
す如く構成された吹出し装置を有する洗浄装置におい
て、前記処理槽の後端側上部に、処理槽上部に位置する
被処理体周辺の排気を行う排気口を設けたことを特徴と
する、洗浄装置が提供される。

【００１５】請求項７によれば、側板によって形成され
た領域内に被処理体を洗浄する処理槽を配列し、かつ前
記処理槽の前面側に位置して前記被処理体を前記配列方
向に沿って搬送する搬送装置を前記領域内に有し、さら
に少なくとも前記処理槽に向けて上方から気流を吹き出
す如く構成された吹出し装置を有する洗浄装置におい
て、前記処理槽の前端上部に、切欠凹部を上端から有す
る遮蔽板を設けると共に、前記処理槽の後端側上部に、
処理槽上部に位置する被処理体又は／及び処理槽から引
き上げられた被処理体周辺の排気を行う排気口を設けた
ことを特徴とする、洗浄装置が提供される。

【００１６】請求項８によれば、側板によって形成され
た領域内に被処理体を洗浄する処理槽を配列し、かつ前
記処理槽の前面側に位置して前記被処理体を前記配列方
向に沿って搬送する搬送装置を前記領域内に有し、さら
に少なくとも前記処理槽に向けて上方から気流を吹き出
す如く構成された吹出し装置を有する洗浄装置におい
て、前記処理槽の後端側上部に、処理槽上部に位置する
被処理体又は／及び処理槽から引き上げられた被処理体
周辺の排気を行う排気口を設けると共に、前記処理槽の
前端上部に、切欠凹部を上端から有する遮蔽板を設け、
さらにこの遮蔽板と前面側の側板とによって形成される
エリアに対しても、上方から気流が吹き出される如く構
成したことを特徴とする、洗浄装置が提供される。

【００１７】また請求項９に記載したように、請求項７
又は８に記載の洗浄装置において、遮蔽板と前面側の側
板とによって形成されるエリアの排気を行う排気機構を
設けてもよい。そして請求項１０に記載したように、請
求項７、８又は９に記載の洗浄装置において、隣接する
処理槽上端部間に液受部材、例えばドレンパンなどが設
けられていてもよい。

【００１８】さらに請求項１１によれば、被処理体を洗
浄する処理槽の配列方向に沿って被処理体を搬送すると
ともに、少なくとも前記処理槽に向けて上方から気流を
吹き出し、前記処理槽周囲の下部から排気する洗浄方法
において、前記被処理体を処理槽から引き上げたとき
に、この被処理体の後方からも排気することを特徴す
る、洗浄方法が提供される。

【００１９】請求項１２によれば、被処理体を洗浄する
処理槽の配列方向に沿って被処理体を搬送するととも
に、少なくとも前記処理槽に向けて上方から気流を吹き
出し、前記処理槽周囲の下部から排気する洗浄方法にお
いて、前記被処理体を処理槽から引き上げる段階から、
引き上げる前の排気量より排気量を増大させることを特
徴する、洗浄方法が提供される。

【００２０】請求項１３によれば、側板によって形成さ
れた領域内に被処理体を洗浄する処理槽を配列し、この
処理槽の配列方向に沿って被処理体を搬送するととも
に、少なくとも前記処理槽に向けて上方から気流を吹き
出し、前記処理槽周囲の下部から排気する洗浄方法にお
いて、前記被処理体を処理槽から引き上げたときにこの
処理槽の上部空間に前記被処理体を所定時間滞留させる
とともに、前記被処理体の後方からも排気し、その後
に、前記被処理体を前記エリア外に搬送することを特徴
する、洗浄方法が提供される。

【００２１】好ましくは、請求項１４に記載したよう
に、請求項１３に記載の洗浄方法において、前記所定時
間の滞留を、前記被処理体に付着している洗浄液が液切
れする前に終了させることが望ましい。

【００２２】

【作用】請求項１に記載の洗浄装置によれば、側板によ
って形成された領域内に配置された処理槽の前端上部に
遮蔽板が設けられ、またこの処理槽の後端上部にも仕切
板が立設されているので、吹出し装置によって吹き出さ
れる気流は、前記処理槽の少なくとも前後に対してはこ
れら各仕切板によって遮られ、その分処理槽に対して無
駄なくダウンフローを形成する。またそのように前記処
理槽の前後端上部に夫々遮蔽板と仕切板が設けられてい
るから、この処理槽のミストがその前後から拡散するこ
とはない。従って従来よりも少ない給気量、排気量で薬
液雰囲気の拡散防止が図れる。

【００２３】ところで前記処理槽の前面に配置されてウ
エハを搬送する搬送装置は、一般的に処理槽前の所定位
置にて、ウエハチャックなどの把持装置を処理槽内に下
降させる如く構成されているが、前記したように処理槽
の前端上部に設けられた遮蔽板は、その上端から切欠凹
部を有しているので、把持装置におけるアームなどの支
持部材は、この切欠凹部にて上下動でき、そのような下
降が妨げられることはない。

【００２４】請求項２によれば、処理槽前面側の搬送装
置のあるエリアと、処理槽側領域とが、遮蔽板によって
ある程度雰囲気分離され、しかも処理槽側のみならずこ
の搬送装置のあるエリアに対しても上方から気流が吹き
出されるので、前記エリア内のパーティクル等はエリア
内の下方に抑えられる。従って処理槽側領域へのパーテ
ィクルの侵入は防止される。

【００２５】また請求項３のように、前記エリアの排気
を行う排気機構を別途設けた場合には、例えば前記エリ
アで発生するパーティクルを別個に排気可能であり、処
理槽側とは別にこのエリア内での気流制御が独立して可
能となり、洗浄装置全体としての給気、排気のバランス
を最適な状態にして装置を稼働させることが可能とな
る。

【００２６】さらにまた請求項４に記載したように、処
理槽上端部間に液受部材を設けた場合には、前記搬送装
置によってウエハなどの被処理体を搬送する際に、被処
理体に付着して落下する薬液等の滴を受容して、所定の
排水系に移送することが容易となる。しかもこの液受部
材は処理槽上端部間に設けられているので、これら上端
部間に隙間がある場合には、当該隙間を塞ぐことになる
ので、排気量の軽減にも寄与する。

【００２７】請求項５、６によれば、処理槽の後端側上
部に排気口を設けたので、処理槽上部に位置する被処理
体（例えば他の処理槽から搬送されてきた被処理体）や
処理槽から引き上げられた被処理体周辺の排気をこの被
処理体の近傍からすることができ、被処理体の引き上げ
に伴う、主に薬液ミストの拡散を効果的に抑えることが
できる。

【００２８】請求項７によれば、処理槽の前端上部に、
切欠凹部を上端から有する遮蔽板を設けると共に、前記
処理槽の後端側上部に、処理槽上部に位置する被処理体
又は／及び処理槽から引き上げられた被処理体周辺の排
気を行う排気口を設けたので、処理槽のミストがその前
後から拡散するのを防止できるとともに、処理槽から引
き上げられた被処理体の後方から、被処理体周辺の排気
をすることができる。

【００２９】請求項８によれば、処理槽の後端側上部に
排気口を設けると共に、前記処理槽の前端上部に、切欠
凹部を上端から有する遮蔽板を設け、さらにこの遮蔽板
と前面側の側板とによって形成されるエリアに対して
も、上方から気流が吹き出される如く構成したので、処
理槽側領域へのパーティクルの侵入が防止されるだけで
なく、処理槽側領域内においても、処理槽の後端側上部
に設けられた排気口により、処理槽から引き上げられた
被処理体の近傍から、被処理体周辺の排気をすることが
できる。

【００３０】請求項９によれば、遮蔽板と前面側の側板
とによって形成されるエリアの排気を行う排気機構を有
するので、前記エリアで発生するパーティクルを別個に
排気できるだけでなく、処理槽から引き上げられた被処
理体の近傍からも、被処理体周辺の排気をすることがで
き、引き上げ時の主として薬液ミストの拡散を効果的に
防止することができる。

【００３１】請求項１０によれば、処理槽上端部間に液
受部材を設けた場合には、請求項４について示した作用
と同様に、前記搬送装置によってウエハなどの被処理体
を搬送する際に、被処理体に付着して落下する薬液等の
滴を受容して、所定の排水系に移送することが容易とな
る。しかもこの液受部材は処理槽上端部間に設けられて
いるので、これら上端部間に隙間がある場合には、当該
隙間を塞ぐことになるので、排気量の軽減にも寄与す
る。

【００３２】請求項１１によれば、被処理体を処理槽か
ら引き上げたときに、この被処理体の後方からも排気す
るので、引き上げ時の薬液ミストやパーティクルの拡散
を効果的に防止することができる。

【００３３】請求項１２によれば、被処理体を処理槽か
ら引き上げる段階から、引き上げる前の排気量より排気
量を増大させるようにしたので、処理槽から処理槽にウ
エハを搬送する際にウエハに付着した薬液が拡散するの
を防止することができる。また、被処理体を処理槽から
引き上げたときには表面積の増加等により薬液ミストの
密度が増大するので、この薬液ミストの密度の増大に対
して排気量を増大することにより効率よく排気すること
ができる。

【００３４】請求項１３によれば、被処理体を処理槽か
ら引き上げたときに、前記処理槽を含むエリア内に前記
被処理体を所定時間滞留させ、その後に、前記被処理体
を前記エリア外に搬送するようにしたので、所定時間の
滞留中に被処理体等から拡散する薬液ミストを充分に排
気してから次の処理槽に搬送することができる。

【００３５】請求項１４によれば、所定時間の滞留を、
被処理体に付着している洗浄液が液切れする前に終了す
るようにしたので、液切れによりウエハの表面が大気中
に露出することがない。

【００３６】

【実施例】以下、本発明の実施例を添付図面に基づいて
説明すると、本実施例は半導体ウエハ（以下、「ウエ
ハ」という）の洗浄装置に適用された例であり、まずそ
の洗浄装置全体について説明すると、この洗浄装置１
は、図１に示したように、大別して洗浄処理前のウエハ
をキャリア単位で投入するための搬入部２と、ウエハの
洗浄処理が行われる洗浄処理部３と、洗浄処理後のウエ
ハをキャリア単位で取り出すための搬出部４の、計３つ
のゾーンによって構成されている。

【００３７】前記搬入部２には、未洗浄処理のウエハが
所定枚数、例えば２５枚収納されたキャリアＣを搬入、
載置させる載置部５と、載置されたキャリアＣを保持装
置６へ移送するための移送装置７が設けられている。ま
た前記洗浄処理部３には、その前面側（図１における手
前側）に３つの搬送装置１１、１２、１３が配列されて
おり、これら各搬送装置１１、１２、１３には夫々対応
するウエハチャック１４、１５、１６が設けられてい
る。そして前記搬送装置１１のウエハチャック１４は、
保持装置６からキャリア２つ分のウエハ（５０枚）を把
持し、その後これらウエハを後述の洗浄処理槽へ搬送し
ていくように構成されている。

【００３８】さらに前記搬出部４においても、前記載置
部５とほぼ同様な構成を有す載置部８、前記保持装置６
と同一構成の保持装置（図示せず）、前記移送装置７と
同一構成の移送装置（図示せず）が夫々設けられてい
る。

【００３９】そして前記洗浄処理部３の前面側には前側
板１７が配置され、また洗浄装置１全体における載置部
５側の側面と載置部８側の側面には、夫々側板１８、１
９が設けられ、さらにこの洗浄装置１の背面側には背面
板２０が設けられている。

【００４０】前記洗浄処理部３には、前記載置部５側か
ら順に、前記搬送装置１１のウエハチャック１４を洗
浄、乾燥するチャック洗浄・乾燥処理槽２１、ウエハ表
面の有機汚染物、金属不純物、パーティクル等の不純物
質を薬液によって洗浄処理する薬液洗浄処理槽２２、前
記薬液洗浄処理槽２２で洗浄されたウエハを例えば純水
によって洗浄する２つの水洗洗浄処理槽２３、２４、前
記薬液洗浄処理槽２２における薬液とは異なった薬液で
洗浄処理する薬液洗浄処理槽２５、前記薬液洗浄処理槽
２５で洗浄されたウエハを例えば純水によって洗浄する
２つの水洗洗浄処理槽２６、２７、前記搬送装置１３の
ウエハチャック１６を洗浄、乾燥するチャック洗浄・乾
燥処理槽２８、及び前記不純物質が除去されたウエハ
を、例えばＩＰＡ（イソプロピルアルコール）等で蒸気
乾燥させるための乾燥処理槽２９が夫々配設されてい
る。

【００４１】そして前記薬液洗浄処理槽２２、２５は、
夫々の洗浄処理液がオーバーフローして循環し、この循
環時にそれぞれの洗浄処理液内に蓄積された不純物が除
去されるように構成されている。

【００４２】また前記洗浄装置１の天井部には、別設の
空気調和機から供給される清浄な空気を、この洗浄装置
１における前記洗浄処理部３内下方に吹き出すファン・
フィルタ・ユニット（Fan Filter Unit）Ｆ₁〜Ｆ₉が設
けられている。即ちこれら各ファン・フィルタ・ユニッ
トＦ₁〜Ｆ₉は、各々前記各洗浄処理槽の上方に対応して
て設けられている。そしてこれら各ファン・フィルタ・
ユニットＦ₁〜Ｆ₉は、例えば図２に示したファン・フィ
ルタ・ユニットＦ₅について図示したように、薬液洗浄
処理槽２５と搬送装置１２の上方に跨って配置されてお
り、このファン・フィルタ・ユニットＦ₅からの吹き出
し気流は、同図に示したように、夫々薬液洗浄処理槽２
５側と搬送装置１２側に向けて吹き出されるようになっ
ている。

【００４３】さらに図３に示した前記薬液洗浄処理槽２
５、及びその両側に位置する水洗洗浄処理槽２４、２６
を例にとって各洗浄処理槽周りの構成を説明すると、前
記薬液洗浄処理槽２５は、外側の外槽２５ａと、薬液が
供給されてウエハＷがその中に浸漬される内槽２５ｂと
によって構成される。

【００４４】そしてこの外槽２５ａの後端部には仕切板
３１が位置し、また前端部には遮蔽板（ミストセパレー
タ）３２が設けられている。前記仕切板３１は、図２に
示したように、天井部に位置するファン・フィルタ・ユ
ニットＦ₅から吊設され、また前記遮蔽板３２は、外槽
２５ａの外側にボルト等で固着されている。これら仕切
板３１や遮蔽板３２は対薬液性に優れた材質で構成され
ている。また前記仕切板３１のさらに背面側には、前出
背面板２０との間に後側板３３が配設されており、この
後側板３３と背面板２０との間の空間は、各種配管用ス
ペースＳ₁ となっている。

【００４５】前記遮蔽板３２は、全体として略Ｕ字型に
成形されており、その略中央部には切欠凹部３２ａを有
している。またこの切欠凹部３２ａは、搬送装置１２の
ウエハチャック１５の上下動の動きに合わせた大きさと
なっている。なおこの切欠凹部３２ａの角部や隅部は、
例えば図３の破線で示されたように、Ｒをつけて形成す
れば、搬送装置１２のウエハチャック１５は効率よく動
くことができる。

【００４６】前記搬送装置１２は、図３に示したよう
に、例えば５０枚のウエハＷを一括して把持する左右一
対の把持部材によって構成されるウエハチャック１５
と、このウエハチャック１５を支持する支持体４１と、
この支持体４１を上下方向（Ｚ方向）に昇降させると共
に、前後方向（Ｙ方向）にも移動させる駆動機構４２
と、この駆動機構４２を洗浄処理部３の長手方向（Ｘ方
向）に沿って移動させるための搬送ベース４３（図１、
図２において図示される）とによって構成されており、
ウエハチャック１５によって把持したウエハＷを内槽２
５ｂ内のボートと呼ばれる保持具に保持させて、前記ウ
エハＷを内槽２５ｂ内に供給される薬液で洗浄処理する
ようになっている。この場合、遮蔽板３２には前出切欠
凹部３２ａが形成されているので、ウエハチャック１５
はこの切欠凹部３２ａ内で下降することができる。

【００４７】なおこの遮蔽板３２の形態に関しては、ウ
エハチャック１５の一対のアーム部分のうち各アーム部
分がそれぞれ独立して上下動できる形状の、前記切欠凹
部３２ａよりも幅狭の略Ｕ字型の切欠凹部を２カ所に形
成して、例えば全体として略Ｗ字型として形成してもよ
い。かかる場合には切欠凹部の面積が必要最小限とな
り、さらに雰囲気分離、ミストの拡散防止を向上させる
ことが可能である。

【００４８】前記外槽２５ａの両側端部上縁には、夫々
ドレンパン４４、４４が設けられている。このドレンパ
ン４４は、図４に示したように、一側に向けて傾斜した
底板４５の四側に側板４６、４７、４８、４９を有し、
さらにこの底板４５の裏面には一対の係止部５０が設け
られ、またこの底板４５における傾斜下端部には、適宜
の排水孔５１が適宜数穿設された構成を有している。そ
してこのドレンパン４４、４４を夫々その排水孔５１
が、隣接した水洗洗浄処理槽２４、２６における排水槽
（図示せず）の上方に位置するようにして、前記係止部
５０を前記外槽２５ａの両側端部上縁に各々係止固定さ
せてある。従って、この各ドレンパン４４、４４上に落
下した液体は、傾斜した底板４５の傾斜下端部にある前
記排水孔５１から、夫々各水洗洗浄処理槽２４、２６に
おける排水槽を通じて排出されるようになっている。ま
たドレンパン４４は、薬液処理槽２２、２５の上方まで
延ばすことにより、排気効率を向上させ、薬液ミストの
飛散を防止することも可能である。

【００４９】前記薬液洗浄処理槽２５の内槽２５ｂの前
後端部各外側には、夫々内槽２５ｂから溢れ出る薬液を
受容する受容小槽５２、５３が設けられ、さらにこの内
槽２５ｂの左右両外側には、オートカバー５４、５５が
設けられており、薬液洗浄処理中は、これら各オートカ
バー５４、５５によって内槽２５ｂの上面が覆われ、薬
液ミストの外部への飛散が防止されるように構成されて
いる。なお図２に示したように、内槽２５ｂの外側底面
に設けられているのは、内槽２５ｂ内に供給される薬液
の温度を制御するための加熱装置５６である。

【００５０】前記内槽２５ｂの下方には、図２、図５に
示したように空間Ｐが存在し、この空間Ｐ内には、前記
した薬液の供給、回収など水系の配管が納められている
が、この空間Ｐ内は、外槽２５ａの下方に設けられた排
気口６１、さらに背面板２０の下方に設けられた排気口
６２を通じて、集中排気装置（図示せず）から排気され
るように構成されている。

【００５１】またこの外槽２５ａにおける前面側（搬送
装置１２側）上方付近には、図６に示したような排気板
６３が設けられている。この排気板６３は、同図に示さ
れるように、複数の排気孔６４を有しており、さらにこ
れら排気孔６４には、摺動自在なシャッタ６５が設けら
れている。従ってこのシャッタ６５を適宜摺動させるこ
とにより、これら排気孔６４の開度を、０〜１００％の
間の任意の値で調節自在である。

【００５２】一方前出各水洗洗浄処理槽２４、２６は、
基本的には、叙上の薬液洗浄処理槽２５と同一の構成を
有しており、また各水洗洗浄処理槽２４、２６は相互に
同一構成である。そして水洗洗浄処理槽２４２４ａの前
後端には、前出各遮蔽板３２、仕切板３１と各々同様な
構成を有する遮蔽板７１、仕切板７２が設けられ、また
水洗洗浄処理槽２６の前後端にも遮蔽板７３、仕切板７
４が設けられている。

【００５３】そして前出各遮蔽板３２、７１、７３相互
は気密に接続され、また仕切板３１、７２、７４相互も
気密に接続されており、この洗浄装置１における既述の
他の各処理槽の前後にも、前記遮蔽板３２、７１、７３
や仕切板３１、７２、７４と同様にして、夫々遮蔽板と
仕切板が設けられている。従ってこの洗浄装置１の洗浄
処理部３内は、図２に示したように、遮蔽板列を境とし
て、前面側が搬送装置が移動するスペース領域の駆動エ
リアＸと、背面側が各処理槽が存在する処理エリアＹと
に区分され、雰囲気分離されることになる。

【００５４】本実施例にかかる洗浄装置１は以上のよう
に構成されており、次にその動作について説明すると、
まず未処理のウエハＷを２５枚ずつ収納したキャリアＣ
が搬送ロボット（図示せず）によって、図１に示したよ
うに、載置部５の所定位置に載置されると、この載置部
５内に収納された移動機構（図示せず）によって前記キ
ャリアＣは、後方側へと移動され、また次のキャリアＣ
が前記所定位置に載置されると、同様に後方側へと移動
され、２つのキャリアＣが前後に配列状態となる。この
状態から、これら２つのキャリアＣは、移送装置７によ
って同時に挟持され、保持装置６の保持部（図示せず）
へと移送され、ウエハＷ（５０枚）のみが整列状態でこ
の保持具に保持される。その後各搬送装置１１、１２、
１３によって、これらウエハＷが順次各洗浄処理槽へと
搬送され、所定の洗浄処理が行われる。

【００５５】このとき、例えば前出薬液洗浄処理槽２５
付近での雰囲気について説明すると、まず内槽２５ｂの
前後には、夫々遮蔽板３２と仕切板３１とが位置し、さ
らに上方からファン・フィルタ・ユニットＦ₅によって
清浄な空気が下方に向けて吹き出されているので、ウエ
ハチャック１５の上下動の際などに発生する薬液ミスト
は、外槽２５ａと内槽２５ｂの間の空隙から、内槽２５
ｂ下方の空間Ｐを経て効率よく排気口６２から排気され
る。従って前記薬液ミストが装置内に拡散することが防
止される。

【００５６】このとき内槽２５ｂの後方は仕切板３１に
よって完全に遮られ、一方前方側も遮蔽板３２によって
相当程度遮られているから、前記薬液ミストは気流共々
極めて効率よく排気される。換言すれば、これら仕切板
３１や遮蔽板３２がない場合と比較すれば、前記薬液ミ
ストを排気するための給気量、排気量が少なくて済むも
のである。従って例えばファン・フィルタ・ユニットＦ
₅自体も、従来より定格の小さい小型のものを使用する
ことが可能である。

【００５７】さらに各処理槽が存在する洗浄処理部３内
の雰囲気は、既述の如く、遮蔽板列によって駆動エリア
Ｘと処理エリアＹとに分離され、しかも各エリアに対し
て夫々ファン・フィルタ・ユニットＦ₅から給気される
一方、駆動エリアＸについては排気板６３から排気さ
れ、また処理エリアＹについては前記したように外槽２
５ａと内槽２５ｂの間の空隙から排気されている。従っ
て各エリア毎に給排気量を制御して、個々のエリアに最
適な雰囲気を創出することが可能である。従って、洗浄
装置１内における雰囲気をコントロールして、よどみの
ない気流雰囲気が実現可能であり、洗浄装置１内に薬液
ミストやパーティクルが拡散するのを効果的に防止でき
る。

【００５８】かかる場合、ファン・フィルタ・ユニット
Ｆ₅側の給気量の調整だけでなく、例えば排気板６３の
シャッタ６５による開度調整によってそのような制御が
実施できる。もちろん排気口６１側にも開度調整のバル
ブ等を設けておくことにより、さらに微調整が可能であ
る。

【００５９】ところでウエハチャック１５によってウエ
ハＷを把持してこれを搬送する場合、例えば薬液洗浄処
理槽２５での薬液洗浄処理が終了した後のウエハＷを搬
送する場合、ウエハＷの表面には薬液が付着しており、
次の水洗洗浄処理槽２６への搬送途中に当該薬液の滴が
落下して、外槽２５ａ、２６ａの表面に付着したり、あ
るいはそのまま飛散して装置内に拡散して、汚染を引き
起こすおそれがある。

【００６０】しかしながら、前記薬液洗浄処理槽２５と
の水洗洗浄処理槽２６との間には、ドレンパン４４が設
けてあるので、落下した滴はこのドレンパン４４で受容
され、そのまま底板４５の排気孔５１から、水洗洗浄処
理槽２６の排水槽へと排出される。したがって、前記の
ような汚染を防止することができる。

【００６１】しかも前記ドレンパンは薬液洗浄処理槽２
５との水洗洗浄処理槽２６における各外槽２５ａ、２６
ａと内槽２５ｂ、２６ｂとの間の隙間を、相当程度塞い
でおり、結果的にかかる領域での排気量を少なくするこ
とに寄与している。換言すれば、必要以上に前記隙間か
らの排気量を抑えている。したがって、既述した遮蔽板
３２、７３や仕切板３１、７４の作用効果と相まって、
さらに必要給排気量の減少化が図られているものであ
る。

【００６２】なお前記した実施例においては、遮蔽板列
によって洗浄処理部３が駆動エリアＸと処理エリアＹと
に雰囲気分離されていたが、図２に示したように、遮蔽
板３２の上方に、ウエハチャック１５の移動スペースを
開けてさらに上部遮蔽板８１をファン・フィルタ・ユニ
ットＦ₅から吊設すれば、駆動エリアＸと処理エリアＹ
との雰囲気分離の程度がさらに高まる。しかも当該上部
遮蔽板８１は、ファン・フィルタ・ユニットＦ₅の整流
板としても機能するので、駆動エリアＸと処理エリアＹ
に対して吹き出される気流相互が干渉することはなく、
さらに良好な各エリアでの気流制御が可能となる。

【００６３】また前記した実施例においては、駆動エリ
アＸ側の排気を担う排気板６３が、例えば薬液洗浄処理
槽２５についていうと、その外槽２５ａの前面側上部に
設けられていたが、もちろんこれに限らず該外槽２５ａ
の前面側下部に設けてもよく、また例えば図５に示した
ように、前側板１７の下部に設けた排気板６３’として
もよい。

【００６４】次にこの発明の他の実施例を図面に基づい
て説明する。なお、図７および図８に示した実施例で
は、図２に示した実施例と対応する部分には同一の符号
を付してその説明を省略する。図７に示したように、本
実施例では、外槽２５ａの後端部に仕切板３４が設けら
れ、この仕切板３４には開閉自在な開口３５が設けられ
ている。そして、図８に示すように、開口３５は、外槽
２５ａと背面版２０との間の空間Ｓ₂を介して排気口６
２と連通されている。この開閉自在な開口３５は、後方
に開く両開き戸で構成してよく、またシャッタ、両開き
戸、引き戸または両引き戸等で構成してもよい。この開
閉自在な開口３５は取り付けスペースを考慮して、パー
ティクルの発生の少ないものが適宜選択される。そして
開口３５は、ウエハチャック１５が下動して、このウエ
ハチャック１５に保持されているウエハＷが内槽２５ｂ
中の洗浄液中にあるときは、図７に示したように蓋体３
６に覆われて閉状態に制御されている。この閉状態で
は、図２の実施例と同様にして薬液ミストが装置内に拡
散することが防止される。

【００６５】次に、ウエハチャック１５が上動して、こ
のウエハチャック１５に保持されているウエハＷが内槽
２５ｂ中の洗浄液から出て上方にあるときは、図７に示
したように本実施例では両開き戸の蓋体３６が開口３５
の閉状態から開状態に制御されている。そして、引き上
げられたウエハＷ周辺の薬液ミストを開口３５、空間Ｓ
₂ および排気口６２を通って排気することができる。こ
の開状態では、内槽２５ｂから引き上げられたウエハＷ
周辺をこのウエハＷの後方からも排気することができ、
ウエハＷの引き上げに伴ってウエハＷ表面やウエハチャ
ック１５に付着した薬液の蒸発による主に薬液ミストや
パーティクルの拡散を効果的に抑えることができる。な
お、本実施例では、図２に示した実施例で備えていた後
側板３３を省略して仕切板３４が後側板を兼用してい
る。

【００６６】前記ウエハＷが引き上げられたとき、例え
ば、ウエハチャック１５を所定時間停止させることによ
り、このウエハＷを引き上げた処理槽２５の上部空間内
にウエハチャック１５およびウエハＷを滞留させ、ウエ
ハチャック１５およびウエハＷに付着した薬液の蒸発に
よる薬液ミストを充分に排気することができる。そし
て、その後にウエハＷは次のエリアに搬送される。この
所定時間の停止は、ウエハに付着した薬液が液切れを起
こしてウエハＷの表面が露出して大気にふれる前に終了
させるように設定されている。なお、ウエハチャック１
５およびウエハＷを同一エリア内に所定時間滞留させる
ことができれば、ウエハＷおよびウエハチャック１５は
停止することなく緩慢に移動していてもよい。

【００６７】また、ウエハＷが引き上げられたとき、ウ
エハチャック１５を所定時間止める代わりに、例えばフ
ァン・フィルタ・ユニットＦ₅ の給気量をウエハＷが引
き上げられる段階から増大させて排気量を増大させるこ
とにより、ウエハチャック１５およびウエハＷに付着し
た薬液の蒸発による薬液ミストを充分に排気することが
できる。

【００６８】このような、ウエハＷの所定時間の滞留や
排気量の増大は、好ましくは有害ガスを飛散させる加熱
した薬液、例えば硫酸化水の高温処理（１００゜Ｃ以
上）または発煙硝酸（常温〜５０゜Ｃ）の場合に適用さ
れる。また、内槽２５ｂの下方には、ほぼ中央部に排気
口６６が形成されている隔壁６７を設けることが好まし
い。その理由は、ウエハＷの周囲を均等に排気できるよ
うにするためである。

【００６９】なお以上の実施例はウエハの洗浄装置にお
いて適用した例であったが、本発明はこれに限らず、他
の洗浄装置、例えばＬＣＤガラス基板を洗浄処理する洗
浄装置に対しても適用可能である。

【００７０】

【発明の効果】請求項１に記載の洗浄装置によれば、給
気量、排気量を従来よりも軽減させつつ薬液ミストの洗
浄装置内の拡散を防止させることが可能である。従って
効率よくかつ効果的に被処理体の洗浄を実施することが
できる。

【００７１】請求項２によれば、搬送装置が存在してパ
ーティクルが発生しやすいエリアを、処理槽側領域と分
離させて、前記エリア内のパーティクル等の処理槽側領
域への侵入を防止することが可能であり、被処理体の洗
浄をより清浄な雰囲気の中で実施することができる。

【００７２】請求項３によれば、前記エリア内で発生し
たパーティクルを独立して排気させることができるな
ど、前記エリア内での気流制御が独立して可能となり、
しかも洗浄装置全体としての給気、排気のバランスを最
適な状態にして装置を稼働させることが可能となる。

【００７３】請求項４によれば、処理液に浸漬、洗浄さ
れた後の被処理体を搬送する際に、薬液等の落下に基づ
く装置内汚染が防止されるとともに、洗浄装置全体での
給気量、排気量をさらに低減することが可能である。

【００７４】請求項５によれば、被処理体の引き上げに
伴って、被処理体等から発生する薬液ミストやパーティ
クルの拡散を効果的に抑えることができ、請求項６の場
合には、例えば他の処理槽から搬送されてきた被処理体
から発生する薬液ミストやパーティクルの拡散を抑える
ことができる。

【００７５】請求項７によれば、処理槽から引き上げら
れた被処理体の近傍から、被処理体周辺の排気をするこ
とができるので、引き上げ時の主として薬液ミストやパ
ーティクルの拡散を効果的に防止することができる。

【００７６】請求項８によれば、請求項２の効果に加え
て、処理槽の後端側上部に設けられた排気口により、処
理槽から引き上げられた被処理体の近傍から、被処理体
周辺の排気をすることができるので、引き上げ時の主と
して薬液ミストやパーティクルの拡散を効果的に防止す
ることができる。

【００７７】請求項９によれば、請求項７又は８の効果
に加えて、処理槽から引き上げられた被処理体の近傍か
らも、被処理体周辺の排気をすることができ、引き上げ
時の主として薬液ミストの拡散を効果的に防止すること
ができる。

【００７８】請求項１０によれば、請求項７、８又は９
の効果に加えて、処理液に浸漬、洗浄された後の被処理
体を搬送する際に、薬液等の落下に基づく装置内汚染が
防止されるとともに、洗浄装置全体での給気量、排気量
をさらに低減することが可能である。

【００７９】請求項１１によれば、被処理体の引き上げ
時の薬液ミストやパーティクルの拡散を被処理体の後方
からも効果的に防止することができる。

【００８０】請求項１２〜１４によれば、処理槽から処
理槽にウエハを搬送する際にウエハ等に付着した薬液ミ
ストが拡散するのを防止することができる。特に請求項
１２によれば、薬液ミストの密度の増大に応じて排気量
を増大できるので、薬液ミストの密度の小さいときに排
気量を増大する必要がなく、したがって、無駄なく効率
よく排気することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施例の一部破断斜視図である。

【図２】本発明の実施例の断面を模式的に示した説明図
である。

【図３】本発明の実施例における薬液処理槽付近の斜視
図である。

【図４】本発明の実施例で用いたドレンパンの斜視図で
ある。

【図５】本発明の実施例における気流の様子を示す説明
図である。

【図６】本発明の実施例で用いた排気板の正面図であ
る。

【図７】本発明の他の実施例の断面を模式的に示した説
明図である。

【図８】本発明の他の実施例の断面を模式的に示した説
明図である。

【符号の説明】

１ 洗浄装置 ３ 洗浄処理部 １１、１２、１３ 搬送装置 １７ 前側板 １８、１９ 側板 ２０ 背面板 ２２、２５ 薬液洗浄処理槽 ３１、７２、７４ 仕切板 ３２、７１、７３ 遮蔽板 ３２ａ 切欠凹部 ３５ 排気口 ４４ ドレンパン ６１、６２ 排気口 ６３ 排気板 Ｆ₁〜Ｆ₉ ファン・フィルタ・ユニット Ｗ ウエハ

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 北原 重徳 佐賀県鳥栖市西新町1375番地41 東京エレ クトロン九州株式会社佐賀事業所内

Claims (14)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 側板によって形成された領域内に被処理
   体を洗浄する処理槽を配列し、かつ前記処理槽の前面側
   に位置して前記被処理体を前記配列方向に沿って搬送す
   る搬送装置を前記領域内に有し、さらに少なくとも前記
   処理槽に向けて上方から気流を吹き出す如く構成された
   吹出し装置を有する洗浄装置において、 前記処理槽の
   前端上部に、切欠凹部を上端から有する遮蔽板を設ける
   と共に、前記処理槽の後端上部には仕切板を設けたこと
   を特徴とする、洗浄装置。
2. 【請求項２】 側板によって形成された領域内に被処理
   体を洗浄する処理槽を配列し、かつ前記処理槽の前面側
   に位置して前記被処理体を前記配列方向に沿って搬送す
   る搬送装置を前記領域内に有し、さらに少なくとも前記
   処理槽に向けて上方から気流を吹き出す如く構成された
   吹出し装置を有する洗浄装置において、 前記処理槽の
   前端上部に、切欠凹部を上端から有する遮蔽板を設け、
   さらにこの遮蔽板と前面側の側板とによって形成される
   エリアに対しても、上方から気流が吹き出される如く構
   成したことを特徴とする、洗浄装置。
3. 【請求項３】 遮蔽板と前面側の側板とによって形成さ
   れるエリアの排気を行う排気機構を有することを特徴と
   する、請求項１又は２に記載の洗浄装置。
4. 【請求項４】 隣接する処理槽上端部間に液受部材が設
   けられたことを特徴とする、請求項１、２又は３に記載
   の洗浄装置。
5. 【請求項５】 側板によって形成された領域内に被処理
   体を洗浄する処理槽を配列し、かつ前記処理槽の前面側
   に位置して前記被処理体を前記配列方向に沿って搬送す
   る搬送装置を前記領域内に有し、さらに少なくとも前記
   処理槽に向けて上方から気流を吹き出す如く構成された
   吹出し装置を有する洗浄装置において、 前記処理槽の
   後端側上部に、処理槽から引き上げられた被処理体周辺
   の排気を行う排気口を設けたことを特徴とする、洗浄装
   置。
6. 【請求項６】 側板によって形成された領域内に被処理
   体を洗浄する処理槽を配列し、かつ前記処理槽の前面側
   に位置して前記被処理体を前記配列方向に沿って搬送す
   る搬送装置を前記領域内に有し、さらに少なくとも前記
   処理槽に向けて上方から気流を吹き出す如く構成された
   吹出し装置を有する洗浄装置において、 前記処理槽の
   後端側上部に、処理槽上部に位置する被処理体周辺の排
   気を行う排気口を設けたことを特徴とする、洗浄装置。
7. 【請求項７】 側板によって形成された領域内に被処理
   体を洗浄する処理槽を配列し、かつ前記処理槽の前面側
   に位置して前記被処理体を前記配列方向に沿って搬送す
   る搬送装置を前記領域内に有し、さらに少なくとも前記
   処理槽に向けて上方から気流を吹き出す如く構成された
   吹出し装置を有する洗浄装置において、 前記処理槽の
   前端上部に、切欠凹部を上端から有する遮蔽板を設ける
   と共に、前記処理槽の後端側上部に、処理槽上部に位置
   する被処理体又は／及び処理槽から引き上げられた被処
   理体周辺の排気を行う排気口を設けたことを特徴とす
   る、洗浄装置。
8. 【請求項８】 側板によって形成された領域内に被処理
   体を洗浄する処理槽を配列し、かつ前記処理槽の前面側
   に位置して前記被処理体を前記配列方向に沿って搬送す
   る搬送装置を前記領域内に有し、さらに少なくとも前記
   処理槽に向けて上方から気流を吹き出す如く構成された
   吹出し装置を有する洗浄装置において、 前記処理槽の
   後端側上部に、処理槽上部に位置する被処理体又は／及
   び処理槽から引き上げられた被処理体周辺の排気を行う
   排気口を設けると共に、前記処理槽の前端上部に、切欠
   凹部を上端から有する遮蔽板を設け、さらにこの遮蔽板
   と前面側の側板とによって形成されるエリアに対して
   も、上方から気流が吹き出される如く構成したことを特
   徴とする、洗浄装置。
9. 【請求項９】 遮蔽板と前面側の側板とによって形成さ
   れるエリアの排気を行う排気機構を有することを特徴と
   する、請求項７又は８に記載の洗浄装置。
10. 【請求項１０】 隣接する処理槽上端部間に液受部材が
    設けられたことを特徴とする、請求項７、８又は９に記
    載の洗浄装置。
11. 【請求項１１】 被処理体を洗浄する処理槽の配列方向
    に沿って被処理体を搬送するとともに、少なくとも前記
    処理槽に向けて上方から気流を吹き出し、前記処理槽周
    囲の下部から排気する洗浄方法において、 前記被処理体を処理槽から引き上げたときに、この被処
    理体の後方からも排気することを特徴する、洗浄方法。
12. 【請求項１２】 被処理体を洗浄する処理槽の配列方向
    に沿って被処理体を搬送するとともに、少なくとも前記
    処理槽に向けて上方から気流を吹き出し、前記処理槽周
    囲の下部から排気する洗浄方法において、 前記被処理体を処理槽から引き上げる段階から、引き上
    げる前の排気量より排気量を増大させることを特徴す
    る、洗浄方法。
13. 【請求項１３】 側板によって形成された領域内に被処
    理体を洗浄する処理槽を配列し、この処理槽の配列方向
    に沿って被処理体を搬送するとともに、少なくとも前記
    処理槽に向けて上方から気流を吹き出し、前記処理槽周
    囲の下部から排気する洗浄方法において、 前記被処理体を処理槽から引き上げたときに、この処理
    槽の上部空間に前記被処理体を所定時間滞留させるとと
    もに、前記被処理体の後方からも排気し、その後に、前
    記被処理体を前記エリア外に搬送することを特徴する、
    洗浄方法。
14. 【請求項１４】 前記所定時間の滞留を、前記被処理体
    に付着している洗浄液が液切れする前に終了させること
    を特徴とする、請求項１３に記載の洗浄方法。