JPH07176809A - レーザ発振装置 - Google Patents
レーザ発振装置Info
- Publication number
- JPH07176809A JPH07176809A JP31777993A JP31777993A JPH07176809A JP H07176809 A JPH07176809 A JP H07176809A JP 31777993 A JP31777993 A JP 31777993A JP 31777993 A JP31777993 A JP 31777993A JP H07176809 A JPH07176809 A JP H07176809A
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- flow rate
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- Pending
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- 230000010355 oscillation Effects 0.000 title abstract description 6
- 238000003754 machining Methods 0.000 abstract 1
- 230000002159 abnormal effect Effects 0.000 description 5
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 2
- 238000010891 electric arc Methods 0.000 description 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Lasers (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 ワークの搬入、搬出などレーザ加工を行なっ
ていないときにはレーザガス交換を停止したり、または
出力に応じて交換時間を長くすることにより、ガス消費
量を軽減するようにしたレーザ発振装置を提供すること
にある。 【構成】 ガスボンベ９からレーザガスをレーザ発振器
内のチャンバ３を充填すると同時に前記チャンバ３内の
レーザガスを真空ポンプ１５で排気せしめるレーザ発振
装置１であって、前記ガスボンベ９と前記チャンバ３と
を接続したガス供給通路１１の途中にレーザ出力指令の
平均光出力に対応したレーザガスの流量を制御せしめる
ガス流量制御弁１３を設けると共に、前記チャンバ３と
真空ポンプ１５とを接続したガス排気通路１７の途中に
排気弁１９を設けてなることを特徴とする。
ていないときにはレーザガス交換を停止したり、または
出力に応じて交換時間を長くすることにより、ガス消費
量を軽減するようにしたレーザ発振装置を提供すること
にある。 【構成】 ガスボンベ９からレーザガスをレーザ発振器
内のチャンバ３を充填すると同時に前記チャンバ３内の
レーザガスを真空ポンプ１５で排気せしめるレーザ発振
装置１であって、前記ガスボンベ９と前記チャンバ３と
を接続したガス供給通路１１の途中にレーザ出力指令の
平均光出力に対応したレーザガスの流量を制御せしめる
ガス流量制御弁１３を設けると共に、前記チャンバ３と
真空ポンプ１５とを接続したガス排気通路１７の途中に
排気弁１９を設けてなることを特徴とする。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、レーザ発振装置に係
り、更に詳細にはレーザガスの消費量を軽減せしめるよ
うにしたレーザ発振装置に関する。
り、更に詳細にはレーザガスの消費量を軽減せしめるよ
うにしたレーザ発振装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、図４に示されているように、レー
ザ発振器のチャンバ１０１にはＮＣ装置１０３の加工プ
ログラムにより指令されたレーザ出力指令の平均光出力
を一定時間毎にレーザ電源装置１０５内のマイクロコン
ピュータにより算出し、この算出された平均光出力に対
応したレーザガスがガスボンベ１０７から充填ソレノイ
ド弁１０９を経て充填されている。そして、前記チャン
バ１０１内のレーザガスは排気ソレノイド弁１１１を経
て真空ポンプ１１３により排気されている。
ザ発振器のチャンバ１０１にはＮＣ装置１０３の加工プ
ログラムにより指令されたレーザ出力指令の平均光出力
を一定時間毎にレーザ電源装置１０５内のマイクロコン
ピュータにより算出し、この算出された平均光出力に対
応したレーザガスがガスボンベ１０７から充填ソレノイ
ド弁１０９を経て充填されている。そして、前記チャン
バ１０１内のレーザガスは排気ソレノイド弁１１１を経
て真空ポンプ１１３により排気されている。
【０００３】そして、レーザ発振器は封じ切りを除いて
通常チャンバ１０１内を例えば５０Torrのごとく一定ガ
ス圧に保ちながら、充填ソレノイド弁１０９と排気ソレ
ノイド弁１１１のオン・オフによりガス交換が行われ
る。すなわち、レーザ発振を続けると、チャンバ１０１
内のレーザガスがかい離し、出力低下、異常放電を起し
てしまう。これを防ぐために、発振可能な状態のときは
常にガス交換が行われている。
通常チャンバ１０１内を例えば５０Torrのごとく一定ガ
ス圧に保ちながら、充填ソレノイド弁１０９と排気ソレ
ノイド弁１１１のオン・オフによりガス交換が行われ
る。すなわち、レーザ発振を続けると、チャンバ１０１
内のレーザガスがかい離し、出力低下、異常放電を起し
てしまう。これを防ぐために、発振可能な状態のときは
常にガス交換が行われている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、レーザ
加工においては、ワークの搬入、搬出、テスト加工、プ
ログラム修正時など、レーザ発振させていないときも多
く、この時でも常にガス交換を行っている。また、ユー
ザにより加工レーザ出力も異るため、最大出力時に異常
放電にならないようガス流量によりレーザガスを交換し
ている。そのためガス消費量が非常に多いという問題が
あった。
加工においては、ワークの搬入、搬出、テスト加工、プ
ログラム修正時など、レーザ発振させていないときも多
く、この時でも常にガス交換を行っている。また、ユー
ザにより加工レーザ出力も異るため、最大出力時に異常
放電にならないようガス流量によりレーザガスを交換し
ている。そのためガス消費量が非常に多いという問題が
あった。
【０００５】この発明の目的は、上記問題点を改善する
ために、ワークの搬入、搬出などレーザ加工を行なって
いないときにはレーザガス交換を停止したり、または出
力に応じて交換時間を長くすることにより、ガス消費量
を軽減するようにしたレーザ発振装置を提供することに
ある。
ために、ワークの搬入、搬出などレーザ加工を行なって
いないときにはレーザガス交換を停止したり、または出
力に応じて交換時間を長くすることにより、ガス消費量
を軽減するようにしたレーザ発振装置を提供することに
ある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、この発明は、ガスボンベからレーザガスをレーザ発
振器内のチャンバへ充填すると同時に前記チャンバ内の
レーザガスを真空ポンプで排気せしめるレーザ発振装置
であって、前記ガスボンベと前記チャンバとを接続した
ガス供給通路の途中にレーザ出力指令の平均光出力に対
応したレーザガスの流量を制御せしめるガス流量制御弁
を設けると共に、前記チャンバと真空ポンプとを接続し
たガス排気通路の途中に排気弁を設けてレーザ発振装置
を構成した。
に、この発明は、ガスボンベからレーザガスをレーザ発
振器内のチャンバへ充填すると同時に前記チャンバ内の
レーザガスを真空ポンプで排気せしめるレーザ発振装置
であって、前記ガスボンベと前記チャンバとを接続した
ガス供給通路の途中にレーザ出力指令の平均光出力に対
応したレーザガスの流量を制御せしめるガス流量制御弁
を設けると共に、前記チャンバと真空ポンプとを接続し
たガス排気通路の途中に排気弁を設けてレーザ発振装置
を構成した。
【０００７】
【作用】この発明のレーザ発振装置を採用することによ
り、レーザ出力指令の平均光出力に対応したレーザガス
をガスボンベからレーザ発振器内のチャンバへ充填され
る際、ガス流量制御弁によりコントロールされてチャン
バへ充填される。チャンバに充填されたレーザガスは排
気弁のオン・オフによりチャンバー内のガス圧を一定に
保ちながら真空ポンプで排気される。
り、レーザ出力指令の平均光出力に対応したレーザガス
をガスボンベからレーザ発振器内のチャンバへ充填され
る際、ガス流量制御弁によりコントロールされてチャン
バへ充填される。チャンバに充填されたレーザガスは排
気弁のオン・オフによりチャンバー内のガス圧を一定に
保ちながら真空ポンプで排気される。
【０００８】
【実施例】以下、この発明の実施例を図面に基いて詳細
に説明する。
に説明する。
【０００９】図１を参照するに、レーザ発振装置１はレ
ーザ発振器のチャンバ３を備えており、このチャンバ３
にはレーザ電源装置５を介してＮＣ装置７が接続されて
いる。また、例えばＣＯ2 などのレーザガスが収容され
ているガスボンベ９と前記チャンバ３とはガス供給通路
１１で接続されている。このガス供給通路１１の途中に
はリニアバルブなどのガス流量制御弁１３が設けられて
いる。
ーザ発振器のチャンバ３を備えており、このチャンバ３
にはレーザ電源装置５を介してＮＣ装置７が接続されて
いる。また、例えばＣＯ2 などのレーザガスが収容され
ているガスボンベ９と前記チャンバ３とはガス供給通路
１１で接続されている。このガス供給通路１１の途中に
はリニアバルブなどのガス流量制御弁１３が設けられて
いる。
【００１０】前記チャンバ３に充填されているレーザガ
スを排気せしめる真空ポンプ１５と前記チャンバ３とは
ガス排気通路１７で接続されている。このガス排気通路
１７の途中には例えば排気ソレノイドバルブなどの排気
弁１９が設けられている。
スを排気せしめる真空ポンプ１５と前記チャンバ３とは
ガス排気通路１７で接続されている。このガス排気通路
１７の途中には例えば排気ソレノイドバルブなどの排気
弁１９が設けられている。
【００１１】上記構成により、ＮＣ装置７の加工プログ
ラムにより指令されたレーザ出力指令の平均出力を一定
時間毎にレーザ電源装置５内のマイクロコンピュータに
より算出し、この算出された平均光出力がチャンバ３へ
出力される。この平均光出力と異常放電発生時間との間
には図２に示されているような関係が判っているので、
異常放電発生時間が少ないように平均光出力が出力され
るようにする。
ラムにより指令されたレーザ出力指令の平均出力を一定
時間毎にレーザ電源装置５内のマイクロコンピュータに
より算出し、この算出された平均光出力がチャンバ３へ
出力される。この平均光出力と異常放電発生時間との間
には図２に示されているような関係が判っているので、
異常放電発生時間が少ないように平均光出力が出力され
るようにする。
【００１２】この平均光出力に対応したレーザガスをガ
スボンベ９からガス供給通路１１を経てチャンバ３に充
填される。このチャンバ３へ充填されるレーザガスの流
量はガス供給通路１１の途中に設けられたガス流量制御
弁１３によりコントロールされる。前記チャンバ３内に
充填されたレーザガスは排気弁１９のオン・オフにより
ガス排気通路１７を経て真空ポンプ１５により排気され
ることになる。
スボンベ９からガス供給通路１１を経てチャンバ３に充
填される。このチャンバ３へ充填されるレーザガスの流
量はガス供給通路１１の途中に設けられたガス流量制御
弁１３によりコントロールされる。前記チャンバ３内に
充填されたレーザガスは排気弁１９のオン・オフにより
ガス排気通路１７を経て真空ポンプ１５により排気され
ることになる。
【００１３】例えば、図３（Ａ）に示されているよう
に、平均光出力が低いとき（ガス流量が小のとき）には
排気弁１９のオン・オフの周期は長い間隔でもって行わ
れてガス圧が一定圧に制御される。また、図３（Ｂ）に
示されているように、平均光出力が高いとき（ガス流量
が大のとき）には排気弁１９のオン・オフの周期は短か
い間隔でもって行われてガス圧が一定圧に制御される。
に、平均光出力が低いとき（ガス流量が小のとき）には
排気弁１９のオン・オフの周期は長い間隔でもって行わ
れてガス圧が一定圧に制御される。また、図３（Ｂ）に
示されているように、平均光出力が高いとき（ガス流量
が大のとき）には排気弁１９のオン・オフの周期は短か
い間隔でもって行われてガス圧が一定圧に制御される。
【００１４】したがって、平均光出力に対応したレーザ
ガスの流量をガス流量制御弁１３で制御すると同時に排
気されるレーザガスの流量を排気弁１９のオン・オフに
よって制御することで、ガス消費量を大幅に軽減させる
ことができる。また、多少のエアリークなどによりアー
ク放電が発生する場合にワーニング表示を行い、ガス流
量を多く制御することによって、ガス消費量は若干多く
なるが、レーザ加工を中断せずレーザ加工を行うことが
できる。
ガスの流量をガス流量制御弁１３で制御すると同時に排
気されるレーザガスの流量を排気弁１９のオン・オフに
よって制御することで、ガス消費量を大幅に軽減させる
ことができる。また、多少のエアリークなどによりアー
ク放電が発生する場合にワーニング表示を行い、ガス流
量を多く制御することによって、ガス消費量は若干多く
なるが、レーザ加工を中断せずレーザ加工を行うことが
できる。
【００１５】なお、この発明は、前述した実施例に限定
することなく、適宜な変更を行うことにより、その他の
態様で実施し得るものである。
することなく、適宜な変更を行うことにより、その他の
態様で実施し得るものである。
【００１６】
【発明の効果】以上のごとき実施例の説明より理解され
るように、この発明によれば、特許請求の範囲に記載さ
れているとおりの構成であるから、レーザガスの流量を
ガス流量制御弁、排気弁で適正に制御することにより、
ガス消費量を大幅に軽減させることができる。
るように、この発明によれば、特許請求の範囲に記載さ
れているとおりの構成であるから、レーザガスの流量を
ガス流量制御弁、排気弁で適正に制御することにより、
ガス消費量を大幅に軽減させることができる。
【図１】この発明を実施する一実施例のレーザ発振装置
の構成図である。
の構成図である。
【図２】レーザガスの平均光出力と異常放電発生時間と
の関係を示した図である。
の関係を示した図である。
【図３】平均光出力によるガス圧を一定圧に制御せしめ
る説明図である。
る説明図である。
【図４】従来のレーザ発振装置の構成図である。
１ レーザ発振装置 ３ レーザ発振器のチャンバ ５ レーザ電源装置 ７ ＮＣ装置 ９ ガスボンベ １１ ガス供給通路 １３ ガス流量制御弁 １５ 真空ポンプ １７ ガス排気通路 １９ 排気弁
Claims (1)
- 【請求項１】 ガスボンベからレーザガスをレーザ発振
器内のチャンバへ充填すると同時に前記チャンバ内のレ
ーザガスを真空ポンプで排気せしめるレーザ発振装置で
あって、前記ガスボンベと前記チャンバとを接続したガ
ス供給通路の途中にレーザ出力指令の平均光出力に対応
したレーザガスの流量を制御せしめるガス流量制御弁を
設けると共に、前記チャンバと真空ポンプとを接続した
ガス排気通路の途中に排気弁を設けてなることを特徴と
するレーザ発振装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31777993A JPH07176809A (ja) | 1993-12-17 | 1993-12-17 | レーザ発振装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31777993A JPH07176809A (ja) | 1993-12-17 | 1993-12-17 | レーザ発振装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07176809A true JPH07176809A (ja) | 1995-07-14 |
Family
ID=18091963
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP31777993A Pending JPH07176809A (ja) | 1993-12-17 | 1993-12-17 | レーザ発振装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07176809A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7496126B2 (en) | 2006-02-02 | 2009-02-24 | Fanuc Ltd | Gas laser oscillator and method of measuring laser gas replacement amount |
-
1993
- 1993-12-17 JP JP31777993A patent/JPH07176809A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7496126B2 (en) | 2006-02-02 | 2009-02-24 | Fanuc Ltd | Gas laser oscillator and method of measuring laser gas replacement amount |
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