JPH0717773B2 - 加硫ゴム成形品の表面処理方法 - Google Patents
加硫ゴム成形品の表面処理方法Info
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- JPH0717773B2 JPH0717773B2 JP26673986A JP26673986A JPH0717773B2 JP H0717773 B2 JPH0717773 B2 JP H0717773B2 JP 26673986 A JP26673986 A JP 26673986A JP 26673986 A JP26673986 A JP 26673986A JP H0717773 B2 JPH0717773 B2 JP H0717773B2
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Landscapes
- Treatments Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、加硫ゴム成形品の表面処理方法に関する。更
に詳しくは、加硫ゴム成形品の低摩擦化ならびに非粘着
化を達成せしめるための表面処理方法に関する。
に詳しくは、加硫ゴム成形品の低摩擦化ならびに非粘着
化を達成せしめるための表面処理方法に関する。
ゴムは一般に摩擦抵抗が大きいので、それの成形品は摺
動抵抗が大きかったり、音を発したりあるいは摩耗した
りするため、使用用途に制限がみられる。
動抵抗が大きかったり、音を発したりあるいは摩耗した
りするため、使用用途に制限がみられる。
このため、加硫ゴム成形品の表面を処理して低摩擦化あ
るいは非粘着化するための方法が種々提案されており、
例えば鉱酸処理、高エネルギー粒子や光の照射などの方
法が用いられているが、このような方法によって表面処
理されたものは、成形品表面がゴム自身とは異なる化学
構造を有するようになり、その結果として特にゴムの特
徴であるゴム状弾性が著しく失われるという欠点がみら
れる。また、鉱酸などで処理する場合には、処理液の調
製、取扱いに安全上の問題があり、更に廃液などの処理
に経費がかかるという問題があった。
るいは非粘着化するための方法が種々提案されており、
例えば鉱酸処理、高エネルギー粒子や光の照射などの方
法が用いられているが、このような方法によって表面処
理されたものは、成形品表面がゴム自身とは異なる化学
構造を有するようになり、その結果として特にゴムの特
徴であるゴム状弾性が著しく失われるという欠点がみら
れる。また、鉱酸などで処理する場合には、処理液の調
製、取扱いに安全上の問題があり、更に廃液などの処理
に経費がかかるという問題があった。
本発明者は、ゴム本来の性質を実質的に低下させること
なく、加硫ゴム成形品の低摩擦化ならびに非粘着化を達
成せしめる表面処理方法を求めて種々検討の結果、イオ
ウ分散液を用いることにより、かかる課題が効果的に解
決されることを見出した。
なく、加硫ゴム成形品の低摩擦化ならびに非粘着化を達
成せしめる表面処理方法を求めて種々検討の結果、イオ
ウ分散液を用いることにより、かかる課題が効果的に解
決されることを見出した。
従って、本発明は加硫ゴム成形品の表面処理方法に係
り、表面処理は、イオウ架橋可能な合成ゴムまたは天然
ゴムの加硫成形品をこれらのゴムに不活性な脂肪族炭化
水素中に分散させたイオウで処理することにより行われ
る。
り、表面処理は、イオウ架橋可能な合成ゴムまたは天然
ゴムの加硫成形品をこれらのゴムに不活性な脂肪族炭化
水素中に分散させたイオウで処理することにより行われ
る。
イオウ分散液で表面処理される加硫ゴム成形品は、イオ
ウ架橋可能な合成ゴム、例えばNBR、SBR、ブチルゴム、
ポリブタジエンゴム、クロロプレンゴム、EPDM、アクリ
ルゴムなどの加硫成形品あるいは天然ゴムの加硫成形品
である。
ウ架橋可能な合成ゴム、例えばNBR、SBR、ブチルゴム、
ポリブタジエンゴム、クロロプレンゴム、EPDM、アクリ
ルゴムなどの加硫成形品あるいは天然ゴムの加硫成形品
である。
イオウとしては、イオウ単体のみならず、活性イオウを
有するイオウ供与性化合物、例えばテトラメチルチウラ
ムジスルフィド、テトラメチルチウラムスルフィド、ジ
メチルジチオカルバミン酸亜鉛、ジベンゾチアジルジス
ルフィド、２−メルカプトベンゾチアゾール亜鉛、２−
メルカプトベンゾチアゾール、Ｎ−シクロヘキシル−２
−ベンゾチアゾリルスルフェンアミド、ブチルキサント
ゲン酸亜鉛などが、いずれもイオウ分として約100〜500
00ppm、好ましくは約200〜5000ppmの分散液濃度で用い
られる。これ以下の濃度で用いられると処理効果が殆ど
みられず、一方これ以上の濃度で用いると低摩擦化、非
粘着化は達成されるものの、成形品表面にクラックが発
生するようになる。
有するイオウ供与性化合物、例えばテトラメチルチウラ
ムジスルフィド、テトラメチルチウラムスルフィド、ジ
メチルジチオカルバミン酸亜鉛、ジベンゾチアジルジス
ルフィド、２−メルカプトベンゾチアゾール亜鉛、２−
メルカプトベンゾチアゾール、Ｎ−シクロヘキシル−２
−ベンゾチアゾリルスルフェンアミド、ブチルキサント
ゲン酸亜鉛などが、いずれもイオウ分として約100〜500
00ppm、好ましくは約200〜5000ppmの分散液濃度で用い
られる。これ以下の濃度で用いられると処理効果が殆ど
みられず、一方これ以上の濃度で用いると低摩擦化、非
粘着化は達成されるものの、成形品表面にクラックが発
生するようになる。
これらのイオウは、ゴム成形品を溶解させたり、膨潤さ
せたりしないもの、即ちこれらのゴムに不活性な脂肪族
炭化水素、例えば流動パラフィン、イソオクタン、ｎ−
オクタン、ｎ−ヘプタン、ｎ−ヘキサンなどに分散させ
た形で用いられ、好ましくは加硫促進剤と併用される。
せたりしないもの、即ちこれらのゴムに不活性な脂肪族
炭化水素、例えば流動パラフィン、イソオクタン、ｎ−
オクタン、ｎ−ヘプタン、ｎ−ヘキサンなどに分散させ
た形で用いられ、好ましくは加硫促進剤と併用される。
表面処理は、加硫ゴム成形品をイオウ分散液中に浸漬
し、約50〜200℃の温度で約５分間乃至約48時間程度加
熱することにより行われ、処理後は約12〜24時間風乾さ
せる。ただし、流動パラフィンが用いられた場合には、
ｎ−ヘキサン、イソオクタンなどで脱脂洗浄した後、風
乾させる。
し、約50〜200℃の温度で約５分間乃至約48時間程度加
熱することにより行われ、処理後は約12〜24時間風乾さ
せる。ただし、流動パラフィンが用いられた場合には、
ｎ−ヘキサン、イソオクタンなどで脱脂洗浄した後、風
乾させる。
〔作用〕および〔発明の効果〕 イオウ分散液による表面処理の結果、加硫ゴム成形品の
表面には厚さが数μｍ乃至数10μｍ程度の硬化ゴム被膜
が形成される。
表面には厚さが数μｍ乃至数10μｍ程度の硬化ゴム被膜
が形成される。
このような硬化ゴム被膜の形成は、加硫ゴム成形品中に
残存する未反応の加硫剤、加硫促進剤あるいは加硫促進
作用を有する加硫反応生成物などと分散液中のイオウと
が反応し、ゴム成形品表面に架橋反応あるいは樹脂化反
応を生ぜしめるためと考えられる。
残存する未反応の加硫剤、加硫促進剤あるいは加硫促進
作用を有する加硫反応生成物などと分散液中のイオウと
が反応し、ゴム成形品表面に架橋反応あるいは樹脂化反
応を生ぜしめるためと考えられる。
このようにして硬化ゴム被膜が形成される結果、ゴム成
形品表面の低摩擦化ならびに非粘着化がゴム本来の弾性
などを実質的に低下させることなく達成され、またμｍ
オーダーの硬化被膜を成形品表面に一体に形成させてい
るため、単なるコーティング膜とは異なり、引張っても
剥離したり、亀裂を生じたりすることがない。
形品表面の低摩擦化ならびに非粘着化がゴム本来の弾性
などを実質的に低下させることなく達成され、またμｍ
オーダーの硬化被膜を成形品表面に一体に形成させてい
るため、単なるコーティング膜とは異なり、引張っても
剥離したり、亀裂を生じたりすることがない。
次に、実施例について本発明を説明する。
実施例１ NBR（日本合成ゴム製品JSR N220S） 100重量部 SRFカーボンブラック 40 酸化亜鉛 ５ ステアリン酸 １ ジオクチルアジペート ５ イオウ １ テトラメチルチウラムジスルフィド ２ ジベンゾチアゾリルジスルフィド １ 上記配合物を150℃で20分間加硫し、得られた加硫シー
トをイオウ含有量400ppmの流動パラフィン分散液中に浸
漬し、120℃で30分間加熱処理し、イソオクタンで洗浄
後風乾させた。
トをイオウ含有量400ppmの流動パラフィン分散液中に浸
漬し、120℃で30分間加熱処理し、イソオクタンで洗浄
後風乾させた。
実施例２ NBR（日本合成ゴム製品JSR N240S） 100重量部 FEFカーボンブラック 50 酸化亜鉛 ５ ステアリン酸 １ ジオクチルフタレート 10 ジフェニルアミン １ イオウ １ テトラメチルチウラムスルフィド ３ 上記配合物を150℃で15分間加硫し、得られた加硫シー
トをイオウ含有量1000ppmのイソオクタン分散液中に浸
漬し、80℃で15時間加熱処理し、その後風乾した。
トをイオウ含有量1000ppmのイソオクタン分散液中に浸
漬し、80℃で15時間加熱処理し、その後風乾した。
実施例３ EPDM（三井石油化学製品三井1070） 100 重量部 FEFカーボンブラック 60 酸化亜鉛 ５ ステアリン酸 １ プロセスオイル ８ イオウ 1.5 テトラメチルチウラムスルフィド ２ 上記配合物を150℃で30分間加硫し、得られた加硫シー
トをイオウ含有量650ppmの流動パラフィン分散液中に浸
漬し、80℃で24時間加熱処理し、ｎ−ヘキサンで洗浄後
風乾させた。
トをイオウ含有量650ppmの流動パラフィン分散液中に浸
漬し、80℃で24時間加熱処理し、ｎ−ヘキサンで洗浄後
風乾させた。
実施例４ SBR（日本ゼオン製品ニポール1502） 100 重量部 SRFカーボンブラック 45 酸化亜鉛 ６ ステアリン酸 1.5 イオウ ２ ジベンゾチアジルジスルフィド 3.5 上記配合物を145℃で40分間加硫し、得られた加硫シー
トをイオウ含有量1000ppmおよびテトラメチルチウラム
ジスルフィド含有量2000ppm（Ｓとして1000ppm）の流動
パラフィン分散液中に浸漬し、150℃で10分間加熱処理
し、イソオクタンで洗浄後風乾させた。
トをイオウ含有量1000ppmおよびテトラメチルチウラム
ジスルフィド含有量2000ppm（Ｓとして1000ppm）の流動
パラフィン分散液中に浸漬し、150℃で10分間加熱処理
し、イソオクタンで洗浄後風乾させた。
実施例５ 天然ゴム（マレーシア産RSS No.1） 100重量部 SRFカーボンブラック 45 酸化亜鉛 ５ ステアリン酸 １ イオウ ２ ジフェニルグアニジン ３ 上記配合物を130℃で40分間加硫し、得られた加硫シー
トをイオウ含有量200ppmおよびテトラメチルチウラムジ
スルフィド含有量400ppm（Ｓとして200ppm）の流動パラ
フィン分散液中に浸漬し、150℃で30分間加熱処理し、
ｎ−ヘキサンで洗浄後風乾させた。
トをイオウ含有量200ppmおよびテトラメチルチウラムジ
スルフィド含有量400ppm（Ｓとして200ppm）の流動パラ
フィン分散液中に浸漬し、150℃で30分間加熱処理し、
ｎ−ヘキサンで洗浄後風乾させた。
以上の各実施例での加硫ゴム成形品についてイオウ分散
液処理前後における表面摩擦係数μを測定し、次のよう
な結果を得た。
液処理前後における表面摩擦係数μを測定し、次のよう
な結果を得た。
表 実施例 処理前 処理後 １ 1.71 0.89 ２ 1.52 0.78 ３ 1.64 1.04 ４ 1.48 1.02 ５ 1.59 0.82 また、各実施例での加硫ゴム成形品の20％伸長物につい
て、表面クラックの発生の有無を観察したが、処理前後
を通じていずれの場合にもクラックの発生は認められな
かった。
て、表面クラックの発生の有無を観察したが、処理前後
を通じていずれの場合にもクラックの発生は認められな
かった。
更に、これらの加硫シートの表面粘着性をみるに、処理
前の加硫シートについてはいずれも粘着性がみられた
が、本発明に係る処理シートについては、いずれの場合
にも粘着性は認められなかった。
前の加硫シートについてはいずれも粘着性がみられた
が、本発明に係る処理シートについては、いずれの場合
にも粘着性は認められなかった。
Claims (2)
- 【請求項１】イオウ架橋可能な合成ゴムまたは天然ゴム
の加硫成形品を、これらのゴムに不活性な脂肪族炭化水
素中に分散させたイオウで処理することを特徴とする加
硫ゴム成形品の表面処理方法。 - 【請求項２】表面処理が約50〜200℃の加熱条件下で行
われる特許請求の範囲第１項記載の表面処理方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26673986A JPH0717773B2 (ja) | 1986-11-11 | 1986-11-11 | 加硫ゴム成形品の表面処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26673986A JPH0717773B2 (ja) | 1986-11-11 | 1986-11-11 | 加硫ゴム成形品の表面処理方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63120744A JPS63120744A (ja) | 1988-05-25 |
| JPH0717773B2 true JPH0717773B2 (ja) | 1995-03-01 |
Family
ID=17435027
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP26673986A Expired - Lifetime JPH0717773B2 (ja) | 1986-11-11 | 1986-11-11 | 加硫ゴム成形品の表面処理方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0717773B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0798873B2 (ja) * | 1988-07-15 | 1995-10-25 | エヌオーケー株式会社 | 加硫ゴム成形品の表面処理方法 |
| JP4932270B2 (ja) * | 2006-02-10 | 2012-05-16 | 株式会社リコー | 画像形成装置および画像形成システム |
-
1986
- 1986-11-11 JP JP26673986A patent/JPH0717773B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS63120744A (ja) | 1988-05-25 |
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| EXPY | Cancellation because of completion of term |