JPH07179427A - ホモフタル酸誘導体及びそれを含有する電子写真感光体 - Google Patents
ホモフタル酸誘導体及びそれを含有する電子写真感光体Info
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- JPH07179427A JPH07179427A JP34647793A JP34647793A JPH07179427A JP H07179427 A JPH07179427 A JP H07179427A JP 34647793 A JP34647793 A JP 34647793A JP 34647793 A JP34647793 A JP 34647793A JP H07179427 A JPH07179427 A JP H07179427A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 電子写真感光体に用いられるアクセプター性
化合物として有用な新規なホモフタル酸誘導体、及びそ
の製造中間体及びそれを使用した高感度で耐久性の良好
な電子写真感光体を提供する。 【構成】 下記一般式(I)又は(II)で表わされるホ
モフタル酸誘導体 【化1】 【化2】 および誘導性支持体上に、前記一般式(II)で表わされ
るホモフタル酸誘導体を含有させた感光層を設けたこと
を特徴とする電子写真感光体。
化合物として有用な新規なホモフタル酸誘導体、及びそ
の製造中間体及びそれを使用した高感度で耐久性の良好
な電子写真感光体を提供する。 【構成】 下記一般式(I)又は(II)で表わされるホ
モフタル酸誘導体 【化1】 【化2】 および誘導性支持体上に、前記一般式(II)で表わされ
るホモフタル酸誘導体を含有させた感光層を設けたこと
を特徴とする電子写真感光体。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、電子写真感光体に用い
られるアクセプター性化合物等として有用な新規ホモフ
タル酸誘導体、その製造中間体、及び該ホモフタル酸誘
導体を電荷輸送物質として含有させた電子写真感光体に
関する。
られるアクセプター性化合物等として有用な新規ホモフ
タル酸誘導体、その製造中間体、及び該ホモフタル酸誘
導体を電荷輸送物質として含有させた電子写真感光体に
関する。
【0002】
【従来の技術】従来、電子写真感光体の感光層として、
セレン、セレン−テルル合金、酸化亜鉛などの無機光導
電性物質が広く用いられてきたが、近年、有機光導電性
物質を用いた電子写真感光体に関する研究が進み、その
一部は実用化されている。ここで、実用化に至った感光
体のほとんどは、電荷発生層と電荷輸送層に機能を分離
した感光層からなる積層型電子写真感光体であり、これ
により、無機光導電性物質からなる感光体と比較して劣
っていた感度及び感光体寿命の点で改善され、低コスト
で、安全性や多様性など有機光導電性物質の長所を生か
した電子写真感光体の設計が活発に行なわれるようにな
った。
セレン、セレン−テルル合金、酸化亜鉛などの無機光導
電性物質が広く用いられてきたが、近年、有機光導電性
物質を用いた電子写真感光体に関する研究が進み、その
一部は実用化されている。ここで、実用化に至った感光
体のほとんどは、電荷発生層と電荷輸送層に機能を分離
した感光層からなる積層型電子写真感光体であり、これ
により、無機光導電性物質からなる感光体と比較して劣
っていた感度及び感光体寿命の点で改善され、低コスト
で、安全性や多様性など有機光導電性物質の長所を生か
した電子写真感光体の設計が活発に行なわれるようにな
った。
【0003】この種の積層型電子写真感光体は、一般に
は、導電性支持体上に、顔料、染料などの電荷発生物質
からなる電荷発生層、ヒドラゾン、ピラゾリンなど電荷
輸送物質からなる電荷輸送層を順に形成したもので、電
子供与性である電荷輸送物質の性質上、正孔移動型とな
り、感光体表面に負帯電したとき感度を有する。ところ
が、負帯電では、帯電時に用いるコロナ放電が正帯電に
比べて不安定であり、正帯電時の10倍程度のオゾン、
窒素酸化物などを発生し、感光体表面に吸着などの物理
的劣化や化学的劣化を引き起こしやすく、さらに、環境
を悪くすると言う問題があり、また、負帯電用感光体の
現象には正極性のトナーが必要となるが正極性のトナー
は強磁性体キャリア粒子に対する摩擦帯電系列から見て
製造が困難であるという問題があり、2成分高抵抗磁気
ブラシ現像方式においては、負帯電トナー/現像剤の方
が安定であり、選択と使用条件の自由度も大きく、この
点でも正帯電型感光体に適用範囲は広く有利である。
は、導電性支持体上に、顔料、染料などの電荷発生物質
からなる電荷発生層、ヒドラゾン、ピラゾリンなど電荷
輸送物質からなる電荷輸送層を順に形成したもので、電
子供与性である電荷輸送物質の性質上、正孔移動型とな
り、感光体表面に負帯電したとき感度を有する。ところ
が、負帯電では、帯電時に用いるコロナ放電が正帯電に
比べて不安定であり、正帯電時の10倍程度のオゾン、
窒素酸化物などを発生し、感光体表面に吸着などの物理
的劣化や化学的劣化を引き起こしやすく、さらに、環境
を悪くすると言う問題があり、また、負帯電用感光体の
現象には正極性のトナーが必要となるが正極性のトナー
は強磁性体キャリア粒子に対する摩擦帯電系列から見て
製造が困難であるという問題があり、2成分高抵抗磁気
ブラシ現像方式においては、負帯電トナー/現像剤の方
が安定であり、選択と使用条件の自由度も大きく、この
点でも正帯電型感光体に適用範囲は広く有利である。
【0004】そこで、有機光導電正物質を用いる感光体
を正帯電で使用することが提案されている。例えば、電
荷発生層上に電荷輸送層を積層して感光体を形成する
際、前記電荷輸送層に電子輸送能の大きい、例えば2,
4,7−トリニトロ−9−フルオレノン等が使用されて
いるが、その物質は発癌性があり、労働衛生上極めて不
適当である等の問題がある。また、電子輸送化合物とし
ては、特開昭60−69657号公報にはフルオレニデ
ンメタン化合物が、特開昭61−233750号公報に
はアントラキノジメタン及びアンロン誘導体が使用され
ているが、これらは共に繰返し特性に問題があり、ま
た、特開平5−25136号公報にはナフタレンジカル
ボン酸イミド化合物、特開平5−25174号公報には
ナフタレンテトラカルボン酸ジイミドが使用されている
が、バインダ樹脂との相溶性が悪い等、改善すべき問題
点がある。更に正帯電感光体として、米国特許3,61
5,414号には、チアピリリウム塩(電荷発生物質)
をポリカーボネート(バインダ樹脂)と共晶錯体を形成
するように含有させたものが示されている。しかしこの
公知の感光体では、メモリ現象が大きく、ゴーストも発
生し易いと言う欠点がある。
を正帯電で使用することが提案されている。例えば、電
荷発生層上に電荷輸送層を積層して感光体を形成する
際、前記電荷輸送層に電子輸送能の大きい、例えば2,
4,7−トリニトロ−9−フルオレノン等が使用されて
いるが、その物質は発癌性があり、労働衛生上極めて不
適当である等の問題がある。また、電子輸送化合物とし
ては、特開昭60−69657号公報にはフルオレニデ
ンメタン化合物が、特開昭61−233750号公報に
はアントラキノジメタン及びアンロン誘導体が使用され
ているが、これらは共に繰返し特性に問題があり、ま
た、特開平5−25136号公報にはナフタレンジカル
ボン酸イミド化合物、特開平5−25174号公報には
ナフタレンテトラカルボン酸ジイミドが使用されている
が、バインダ樹脂との相溶性が悪い等、改善すべき問題
点がある。更に正帯電感光体として、米国特許3,61
5,414号には、チアピリリウム塩(電荷発生物質)
をポリカーボネート(バインダ樹脂)と共晶錯体を形成
するように含有させたものが示されている。しかしこの
公知の感光体では、メモリ現象が大きく、ゴーストも発
生し易いと言う欠点がある。
【0005】そこで光照射時、正孔及び電子を発生する
電荷発生物質を含有する電荷発生層を上層(表面層)と
し、正孔輸送能を有する電荷輸送物質を含む電荷輸送層
を下層とする積層構成の感光層を有する感光体を正帯電
用として使用することが考えられる。しかしながら、前
記正帯電用感光体は電荷発生物質を含む層が表面層とし
て形成されるため、光照射時、特に紫外線等の短波長光
照射、コロナ放電、湿度、機械的摩擦等の外部作用に脆
弱な電荷発生物質が前記表面層近傍に存在することにな
り、感光体の保存中及び像形成過程で電子写真性能が劣
化し、画質が低下するようになる。従来の電荷輸送層を
表面層とする負帯電用感光体においては、前記各種の外
部作用の影響は極めて少なく、むしろ前記電荷輸送層が
下層の電荷発生層を保護する作用を有している。
電荷発生物質を含有する電荷発生層を上層(表面層)と
し、正孔輸送能を有する電荷輸送物質を含む電荷輸送層
を下層とする積層構成の感光層を有する感光体を正帯電
用として使用することが考えられる。しかしながら、前
記正帯電用感光体は電荷発生物質を含む層が表面層とし
て形成されるため、光照射時、特に紫外線等の短波長光
照射、コロナ放電、湿度、機械的摩擦等の外部作用に脆
弱な電荷発生物質が前記表面層近傍に存在することにな
り、感光体の保存中及び像形成過程で電子写真性能が劣
化し、画質が低下するようになる。従来の電荷輸送層を
表面層とする負帯電用感光体においては、前記各種の外
部作用の影響は極めて少なく、むしろ前記電荷輸送層が
下層の電荷発生層を保護する作用を有している。
【0006】そこで、例えば絶縁性かつ透明な樹脂から
なる薄い保護層を設け、前記電荷発生物質を含む層を外
部作用から保護することが考えられるが、光照射時発生
する電荷がその保護層でブロッキングされて光照射効果
が失われてくるし、また表面層となる保護層の膜厚が大
きい場合には感度低下を招くことになる。このように正
帯電用感光体を得るための試みが種々行なわれている
が、いずれも光感度、メモリ現象または労働衛生等の点
で改善すべき多くの問題点がある。
なる薄い保護層を設け、前記電荷発生物質を含む層を外
部作用から保護することが考えられるが、光照射時発生
する電荷がその保護層でブロッキングされて光照射効果
が失われてくるし、また表面層となる保護層の膜厚が大
きい場合には感度低下を招くことになる。このように正
帯電用感光体を得るための試みが種々行なわれている
が、いずれも光感度、メモリ現象または労働衛生等の点
で改善すべき多くの問題点がある。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、電子写真感
光体に用いられるアクセプター性化合物等として有用な
新規ホモフタル酸誘導体、その製造中間体、及び導電性
支持体上に電荷発生物質及び電荷輸送物質を含んだ感光
層を設けた電子写真感光体であって、特にバインダ樹脂
との相溶性のよい高性能の電荷輸送物質として該ホモフ
タル酸誘導体を用いたことを特徴とする高感度で耐久性
のよい電子写真感光体を提供することを目的とする。
光体に用いられるアクセプター性化合物等として有用な
新規ホモフタル酸誘導体、その製造中間体、及び導電性
支持体上に電荷発生物質及び電荷輸送物質を含んだ感光
層を設けた電子写真感光体であって、特にバインダ樹脂
との相溶性のよい高性能の電荷輸送物質として該ホモフ
タル酸誘導体を用いたことを特徴とする高感度で耐久性
のよい電子写真感光体を提供することを目的とする。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記の課
題を解決すべく従来より研究を重ねてきた結果、特定の
一群の化合物を見出すに至り、本発明を完成した。即
ち、本発明によれば、下記一般式(I)で表わされるホ
モフタル酸誘導体、
題を解決すべく従来より研究を重ねてきた結果、特定の
一群の化合物を見出すに至り、本発明を完成した。即
ち、本発明によれば、下記一般式(I)で表わされるホ
モフタル酸誘導体、
【化1】 (式中、R1は、アルキル基、ハロゲン原子、シアノ
基、及びニトロ基を表わし、R2は、置換または無置換
のアルキル基、置換または無置換のシクロアルキル基、
或いは置換または無置換のフェニール基を表わし、nは
0〜4の整数を表わす。)及び、下記一般式(II)で表
わされるホモフタル酸誘導体が提供される。
基、及びニトロ基を表わし、R2は、置換または無置換
のアルキル基、置換または無置換のシクロアルキル基、
或いは置換または無置換のフェニール基を表わし、nは
0〜4の整数を表わす。)及び、下記一般式(II)で表
わされるホモフタル酸誘導体が提供される。
【化2】 (式中、R1は、アルキル基、ハロゲン原子、シアノ
基、及びニトロ基を表わし、R2は、置換または無置換
のアルキル基、置換または無置換のシクロアルキル基、
或いは置換または無置換のフェニル基を表わし、Ar
は、置換または無置換のフェニル基、置換または多環芳
香族基、或いは置換または無置換の複素環基を表わし、
nは0〜4の整数を表わす。)また、本発明によれば、
導電性支持体とその上に設けた感光層を必須の構成要素
とする電子写真感光体において、該感光層中に前記一般
式(II)で表わされるホモフタル酸誘導体を含有させた
ことを特徴とする電子写真感光体が提供され、更に、前
記感光層を電荷発生層及び電荷輸送層で構成し、少なく
とも電荷輸送層中に前記一般式(II)で表わされるホモ
フタル酸誘導体を含有させたことを特徴とする電子写真
感光体が提供され、更にまた、前記感光層を少なくとも
電荷発生物質、電荷輸送物質を必須成分とする単一の層
で構成し、該電荷輸送物質として前記一般式(II)で表
わされるホモフタル酸誘導体を含有させたことを特徴と
する電子写真感光体が提供される。
基、及びニトロ基を表わし、R2は、置換または無置換
のアルキル基、置換または無置換のシクロアルキル基、
或いは置換または無置換のフェニル基を表わし、Ar
は、置換または無置換のフェニル基、置換または多環芳
香族基、或いは置換または無置換の複素環基を表わし、
nは0〜4の整数を表わす。)また、本発明によれば、
導電性支持体とその上に設けた感光層を必須の構成要素
とする電子写真感光体において、該感光層中に前記一般
式(II)で表わされるホモフタル酸誘導体を含有させた
ことを特徴とする電子写真感光体が提供され、更に、前
記感光層を電荷発生層及び電荷輸送層で構成し、少なく
とも電荷輸送層中に前記一般式(II)で表わされるホモ
フタル酸誘導体を含有させたことを特徴とする電子写真
感光体が提供され、更にまた、前記感光層を少なくとも
電荷発生物質、電荷輸送物質を必須成分とする単一の層
で構成し、該電荷輸送物質として前記一般式(II)で表
わされるホモフタル酸誘導体を含有させたことを特徴と
する電子写真感光体が提供される。
【0009】以下、本発明を更に詳細に説明する。前記
一般式(I)は、及び前記一般式(II)のR1におい
て、アルキル基としては、メチル基、エチル基、ブチル
基、ヘキシル基、オクチル基等のアルキル基等のアルキ
ル基を、ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原
子、臭素原子等を挙げることができる。
一般式(I)は、及び前記一般式(II)のR1におい
て、アルキル基としては、メチル基、エチル基、ブチル
基、ヘキシル基、オクチル基等のアルキル基等のアルキ
ル基を、ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原
子、臭素原子等を挙げることができる。
【0010】また前記一般式(I)、及び前記一般式
(II)のR2において、アルキル基としては、メチル
基、エチル基、ブチル基、ヘキシル基、オクチル基等の
アルキル基を表し、その置換基としては、フッ素原子、
塩素原子などのハロゲン原子、メトキシ基、エトキシ基
等のアルコキシ基、シクロヘキシル基、4−ブトキシカ
ルボニルシクロヘキシル基、4−ヘキシルオキシカルボ
ニルシクロヘキシル基等のシクロアルキル基を、シクロ
アルキル基としては、シクロペンチル基、シクロヘキシ
ル基等を挙げることができ、その置換基としては、メチ
ル基、エチル基等のアルキル基、ブトキシカルボニル
基、ヘキシルオキシカルボニル基等のアルコキシカルボ
ニル基を挙げることができ、フェニル基の置換基として
はメチル基、エチル基、ブチル基、t−ブチル基、ヘキ
シル基などのアルキル基、トリフルオロメチル基などの
置換アルキル基、フッ素原子、塩素原子などのハロゲン
原子、メトキシ基、エトキシ基などのアルコキシ基、メ
トキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ブトキシ
カルボニル基などのアルコキシカルボニル基、シアノ
基、ニトロ基などを挙げることができる。
(II)のR2において、アルキル基としては、メチル
基、エチル基、ブチル基、ヘキシル基、オクチル基等の
アルキル基を表し、その置換基としては、フッ素原子、
塩素原子などのハロゲン原子、メトキシ基、エトキシ基
等のアルコキシ基、シクロヘキシル基、4−ブトキシカ
ルボニルシクロヘキシル基、4−ヘキシルオキシカルボ
ニルシクロヘキシル基等のシクロアルキル基を、シクロ
アルキル基としては、シクロペンチル基、シクロヘキシ
ル基等を挙げることができ、その置換基としては、メチ
ル基、エチル基等のアルキル基、ブトキシカルボニル
基、ヘキシルオキシカルボニル基等のアルコキシカルボ
ニル基を挙げることができ、フェニル基の置換基として
はメチル基、エチル基、ブチル基、t−ブチル基、ヘキ
シル基などのアルキル基、トリフルオロメチル基などの
置換アルキル基、フッ素原子、塩素原子などのハロゲン
原子、メトキシ基、エトキシ基などのアルコキシ基、メ
トキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ブトキシ
カルボニル基などのアルコキシカルボニル基、シアノ
基、ニトロ基などを挙げることができる。
【0011】前記一般式(II)中、Arの多環芳香族基
としては、ナフチル基、アントラセニル基、フェナンス
レニル基、或いはピレニル基を、複素環基としては、ピ
リジル基、フラニル基或いはキノリル基などを挙げるこ
とができる。また、Arにおけるフェニル基、多環芳香
族基、或いは複素環基の置換基としては、メトキシ基、
或いはエトキシ基などのアルコキシ基、メチル基、プロ
ピル基、ブチル基、或いはt−ブチル基などのアルキル
基、フッ素原子塩素原子、或いは臭素原子などのハロゲ
ン原子、トリフルオロメチル基などのハロゲン化アルキ
ル基、メトキシカルボニル基、エトキシルカルボニル
基、或いはブトキシカルボニル基などのアルコキシカル
ボニル基、シアノ基、ニトロ基などを挙げることができ
る。
としては、ナフチル基、アントラセニル基、フェナンス
レニル基、或いはピレニル基を、複素環基としては、ピ
リジル基、フラニル基或いはキノリル基などを挙げるこ
とができる。また、Arにおけるフェニル基、多環芳香
族基、或いは複素環基の置換基としては、メトキシ基、
或いはエトキシ基などのアルコキシ基、メチル基、プロ
ピル基、ブチル基、或いはt−ブチル基などのアルキル
基、フッ素原子塩素原子、或いは臭素原子などのハロゲ
ン原子、トリフルオロメチル基などのハロゲン化アルキ
ル基、メトキシカルボニル基、エトキシルカルボニル
基、或いはブトキシカルボニル基などのアルコキシカル
ボニル基、シアノ基、ニトロ基などを挙げることができ
る。
【0012】前記一般式(I)及び一般式(II)で表わ
されるホモフタル酸誘導体の具体例を下記表1及び表2
に示すが、これらに限定されるものではない。
されるホモフタル酸誘導体の具体例を下記表1及び表2
に示すが、これらに限定されるものではない。
【0013】
【表1−(1)】
【0014】
【表1−(2)】
【0015】
【表1−(3)】
【0016】
【表1−(4)】
【0017】
【表1−(5)】
【0018】
【表2−(1)】
【0019】
【表2−(2)】
【0020】
【表2−(3)】
【0021】
【表2−(4)】
【0022】
【表2−(5)】
【0023】
【表2−(6)】
【0024】
【表2−(7)】
【0025】
【表2−(8)】
【0026】
【表2−(9)】
【0027】
【表2−(10)】
【0028】
【表2−(11)】
【0029】次に、本発明の前記一般式(I)及び一般
式(II)で表わされるホモフタル酸誘導体の製造方法に
ついて説明する。一般式(I)で表わされるホモフタル
酸誘導体を製造するための反応式を下記表3に示す。前
記一般式(I)の化合物は、一般に下記ホモフタル酸無
水物(III)と下記アミン化合物(IV)を反応すること
により得ることができる。反応において必要に応じて硫
酸、パラトルエンスルホン酸などの酸触媒、ピリジン、
キノリンなどの塩基触媒を使用することができる。また
反応は通常無溶媒か、トルエン、キシレンなどの芳香族
系溶媒、テトラヒドロフラン、1,4-ジオキサンあるいは
N,N−ジメチルホルムアミドなどの極性溶媒が使用さ
れ、反応温度は室温〜200℃である。
式(II)で表わされるホモフタル酸誘導体の製造方法に
ついて説明する。一般式(I)で表わされるホモフタル
酸誘導体を製造するための反応式を下記表3に示す。前
記一般式(I)の化合物は、一般に下記ホモフタル酸無
水物(III)と下記アミン化合物(IV)を反応すること
により得ることができる。反応において必要に応じて硫
酸、パラトルエンスルホン酸などの酸触媒、ピリジン、
キノリンなどの塩基触媒を使用することができる。また
反応は通常無溶媒か、トルエン、キシレンなどの芳香族
系溶媒、テトラヒドロフラン、1,4-ジオキサンあるいは
N,N−ジメチルホルムアミドなどの極性溶媒が使用さ
れ、反応温度は室温〜200℃である。
【0030】次に前記一般式(II)の化合物は、一般に
下記ホモフタル酸誘導体(I)と下記アルデヒド化合物
(V)とを塩基性触媒の存在下で反応することにより得
ることができる。反応に使用される触媒としては、例え
ばピリジン、ピペリジンあるいはトリエチルアミンなど
の有機塩基、酢酸ナトリウム、酢酸カリウムあるいは酢
酸アンモニウムなどの酢酸塩、苛性ソーダ、苛性カリウ
ム、炭酸ナトリウムあるいは炭酸カリウムなどの無機塩
基などを挙げることができる。反応は通常無溶媒か、メ
タノール、エタノール、ブタノール、テトラヒドロフラ
ン、1,4−ジオキサン、あるいはN,N−ジメチルホ
ルムアミドなどの極性溶媒中で行うことができる。反応
温度は室温〜150℃、好ましくは〜100℃である。
下記ホモフタル酸誘導体(I)と下記アルデヒド化合物
(V)とを塩基性触媒の存在下で反応することにより得
ることができる。反応に使用される触媒としては、例え
ばピリジン、ピペリジンあるいはトリエチルアミンなど
の有機塩基、酢酸ナトリウム、酢酸カリウムあるいは酢
酸アンモニウムなどの酢酸塩、苛性ソーダ、苛性カリウ
ム、炭酸ナトリウムあるいは炭酸カリウムなどの無機塩
基などを挙げることができる。反応は通常無溶媒か、メ
タノール、エタノール、ブタノール、テトラヒドロフラ
ン、1,4−ジオキサン、あるいはN,N−ジメチルホ
ルムアミドなどの極性溶媒中で行うことができる。反応
温度は室温〜150℃、好ましくは〜100℃である。
【0031】
【表3】
【0032】本発明の前記一般式(II)で表わされるホ
モフタル酸誘導体は、電子写真感光体の電荷輸送物質と
して使用できるばかりでなく、太陽電池、有機EL素子
等の電子デバイスとしてエレクトロニクス分野で好適に
使用することができる。
モフタル酸誘導体は、電子写真感光体の電荷輸送物質と
して使用できるばかりでなく、太陽電池、有機EL素子
等の電子デバイスとしてエレクトロニクス分野で好適に
使用することができる。
【0033】次に本発明の感光体の構成を図面によって
説明する。感光体としては例えば図1に示すように支持
体1(導電性支持体またはシート上に導電層を設けたも
の)上に電荷発生物質と必要に応じてバインダ樹脂を含
有する層(電荷発生層)2を下層とし、電荷輸送物質と
必要に応じてバインダ樹脂を含有する層(電荷輸送層)
3を上層とする積層構成の感光体層4を設けたもの、図
2に示すように図1の感光体層4の上に保護層5を設け
たもの、及び図3に示すように支持体上に電荷発生物質
と電荷輸送物質と必要に応じてバインダ樹脂を含有する
単層構成の感光体層6を設けたもの、等が挙げられる
が、図3の単層構成の感光体層6の上層に保護層が設け
られてもよく、また支持体と感光体層の間に中間層が設
けられてもよい。
説明する。感光体としては例えば図1に示すように支持
体1(導電性支持体またはシート上に導電層を設けたも
の)上に電荷発生物質と必要に応じてバインダ樹脂を含
有する層(電荷発生層)2を下層とし、電荷輸送物質と
必要に応じてバインダ樹脂を含有する層(電荷輸送層)
3を上層とする積層構成の感光体層4を設けたもの、図
2に示すように図1の感光体層4の上に保護層5を設け
たもの、及び図3に示すように支持体上に電荷発生物質
と電荷輸送物質と必要に応じてバインダ樹脂を含有する
単層構成の感光体層6を設けたもの、等が挙げられる
が、図3の単層構成の感光体層6の上層に保護層が設け
られてもよく、また支持体と感光体層の間に中間層が設
けられてもよい。
【0034】本発明において使用する電荷発生物質とし
ては、可視光を吸収してフリー電荷を発生するものであ
れば、無機物質及び有機物質のいずれをも用いることが
できる。例えば、無定形セレン、三方晶系セレン、セレ
ン−砒素合金、セレン−テルル合金、硫化カドミウム、
セレン化カドミウム、硫セレン化カドミウム、硫化水
銀、酸化鉛、硫化鉛、アモルファスシリコン等の無機物
質、或いはビスアゾ系色素、ポリアゾ系色素、トリアリ
ールメタン系色素、チアジン系色素、オキサジン系色
素、キサンテン系色素、シアニン系色素、スチリル系色
素、ピリリウム系色素、キナクリドン系色素、インジゴ
系色素、ペリレン系色素、多環キノン系色素、ビスベン
ズイミダゾール系色素、インダンスロン系色素、スクア
リリウム系色素、アントラキノン系色素、及びフタロシ
アニン系色素等の有機物質が挙げられる。
ては、可視光を吸収してフリー電荷を発生するものであ
れば、無機物質及び有機物質のいずれをも用いることが
できる。例えば、無定形セレン、三方晶系セレン、セレ
ン−砒素合金、セレン−テルル合金、硫化カドミウム、
セレン化カドミウム、硫セレン化カドミウム、硫化水
銀、酸化鉛、硫化鉛、アモルファスシリコン等の無機物
質、或いはビスアゾ系色素、ポリアゾ系色素、トリアリ
ールメタン系色素、チアジン系色素、オキサジン系色
素、キサンテン系色素、シアニン系色素、スチリル系色
素、ピリリウム系色素、キナクリドン系色素、インジゴ
系色素、ペリレン系色素、多環キノン系色素、ビスベン
ズイミダゾール系色素、インダンスロン系色素、スクア
リリウム系色素、アントラキノン系色素、及びフタロシ
アニン系色素等の有機物質が挙げられる。
【0035】本発明において感光体層に使用可能なバイ
ンダ樹脂としては、例えばポリエチレン、ポリプロピレ
ン、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、塩化ビニル樹脂、
酢酸ビニル樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂、フ
ェノール樹脂、ポリエステル樹脂、アルキッド樹脂、ポ
リカーボネート樹脂、シリコン樹脂、メラミン樹脂等の
付加重合型樹脂、重付加型樹脂、重縮合型樹脂、並びに
これらの樹脂の繰返し単位のうち2つ以上を含む共重合
体樹脂、例えば塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化
ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸共重合体樹脂等の
絶縁性樹脂のほか、ポリ−N−ビニルカルバゾール等の
高分子有機半導体が挙げられる。
ンダ樹脂としては、例えばポリエチレン、ポリプロピレ
ン、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、塩化ビニル樹脂、
酢酸ビニル樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂、フ
ェノール樹脂、ポリエステル樹脂、アルキッド樹脂、ポ
リカーボネート樹脂、シリコン樹脂、メラミン樹脂等の
付加重合型樹脂、重付加型樹脂、重縮合型樹脂、並びに
これらの樹脂の繰返し単位のうち2つ以上を含む共重合
体樹脂、例えば塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化
ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸共重合体樹脂等の
絶縁性樹脂のほか、ポリ−N−ビニルカルバゾール等の
高分子有機半導体が挙げられる。
【0036】前記感光体層を支持する導電性支持体とし
ては、アルミニウム、ニッケルなどの金属板、金属ドラ
ムまたは金属箔、アルミニウム、酸化錫、酸化インジウ
ムなどを蒸着したプラスチックフィルム或いは導電性物
質を塗布した紙、プラスチックなどのフィルムまたはド
ラムを使用することができる。
ては、アルミニウム、ニッケルなどの金属板、金属ドラ
ムまたは金属箔、アルミニウム、酸化錫、酸化インジウ
ムなどを蒸着したプラスチックフィルム或いは導電性物
質を塗布した紙、プラスチックなどのフィルムまたはド
ラムを使用することができる。
【0037】本発明に係る感光体を電荷発生層と電荷輸
送層の積層構成で形成する場合、すなわち前記図1及び
図2の場合、電荷発生層は電荷発生物質を導電性支持体
上に真空蒸着するか、或いは適当な溶媒に単独もしくは
適当なバインダ樹脂と共に溶解もしくは分散せしめたも
のを塗布、乾燥して形成することができる。前記電荷発
生物質を分散せしめて電荷発生層を形成する場合、その
電荷発生物質は2μm以下、好ましくは1μm以下の平
均粒径の粉粒体とするのが好ましい。すなわち、粒径が
あまりに大きいと層中への分散が悪くなると共に、粒子
が表面に一部突出して表面の平滑性が悪くなり、場合に
よっては粒子の突出部分で放電が生じたり或いはそこに
トナー粒子が付着してトナーフィルミング現象が生じや
すい。ただし、上記の粒径があまり小さいと却って凝集
しやすく、層の抵抗が上昇したり、結晶欠陥が増えて感
度及び繰返し特性が低下したり、或いは微細かする上で
限界があるから、平均粒径の下限を0.01μmとする
のが好ましい。
送層の積層構成で形成する場合、すなわち前記図1及び
図2の場合、電荷発生層は電荷発生物質を導電性支持体
上に真空蒸着するか、或いは適当な溶媒に単独もしくは
適当なバインダ樹脂と共に溶解もしくは分散せしめたも
のを塗布、乾燥して形成することができる。前記電荷発
生物質を分散せしめて電荷発生層を形成する場合、その
電荷発生物質は2μm以下、好ましくは1μm以下の平
均粒径の粉粒体とするのが好ましい。すなわち、粒径が
あまりに大きいと層中への分散が悪くなると共に、粒子
が表面に一部突出して表面の平滑性が悪くなり、場合に
よっては粒子の突出部分で放電が生じたり或いはそこに
トナー粒子が付着してトナーフィルミング現象が生じや
すい。ただし、上記の粒径があまり小さいと却って凝集
しやすく、層の抵抗が上昇したり、結晶欠陥が増えて感
度及び繰返し特性が低下したり、或いは微細かする上で
限界があるから、平均粒径の下限を0.01μmとする
のが好ましい。
【0038】電荷発生層は、次の如き方法によって設け
ることができる。すなわち、電荷発生物質はボールミ
ル、ホモミキサー等によって分散媒中で微細粒子とし、
バインダ樹脂を加えて混合分散して得られる分散液を塗
布する方法である。この方法において超音波の作用下に
粒子を分散させると、均一分散が可能である。また電荷
発生層中、電荷発生物質がバインダ樹脂に含有する割合
は、バインダ樹脂100重量部に対して20〜200重
量部とする。以上のようにして形成される電荷発生層の
膜厚は、好ましくは0.1〜10μm、特に好ましくは
0.5〜5μmである。
ることができる。すなわち、電荷発生物質はボールミ
ル、ホモミキサー等によって分散媒中で微細粒子とし、
バインダ樹脂を加えて混合分散して得られる分散液を塗
布する方法である。この方法において超音波の作用下に
粒子を分散させると、均一分散が可能である。また電荷
発生層中、電荷発生物質がバインダ樹脂に含有する割合
は、バインダ樹脂100重量部に対して20〜200重
量部とする。以上のようにして形成される電荷発生層の
膜厚は、好ましくは0.1〜10μm、特に好ましくは
0.5〜5μmである。
【0039】次に本発明の電荷輸送層は、前記一般式
(II)で表されるホモフタル酸誘導体を、適当な溶媒に
単独もしくは適当なバインダ樹脂とともに溶解もしくは
分散せしめたものを塗布して乾燥させる方法により電荷
発生層と同様に設ける。電荷輸送層に用いられる溶媒と
しては、例えばN,N−ジメチルホルムアミド、トルエ
ン、キシレン、モノクロルベンゼン、1,2−ジクロル
エタン、ジクロルメタン、1,1,1−トリクロルエタ
ン、1,1,2−トリクロルエチレン、テトラヒドロフ
ラン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸エ
チル、酢酸ブチル等を挙げることができる。この電荷輸
送層中、電荷輸送物質がバインダ樹脂に含有される割合
は、バインダ樹脂100重量部に対して電荷輸送物質が
20〜200重量部の割合で使用する。この時の、電荷
輸送層の膜厚は、好ましくは5〜50μm、特に好まし
くは5〜30μmである。
(II)で表されるホモフタル酸誘導体を、適当な溶媒に
単独もしくは適当なバインダ樹脂とともに溶解もしくは
分散せしめたものを塗布して乾燥させる方法により電荷
発生層と同様に設ける。電荷輸送層に用いられる溶媒と
しては、例えばN,N−ジメチルホルムアミド、トルエ
ン、キシレン、モノクロルベンゼン、1,2−ジクロル
エタン、ジクロルメタン、1,1,1−トリクロルエタ
ン、1,1,2−トリクロルエチレン、テトラヒドロフ
ラン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸エ
チル、酢酸ブチル等を挙げることができる。この電荷輸
送層中、電荷輸送物質がバインダ樹脂に含有される割合
は、バインダ樹脂100重量部に対して電荷輸送物質が
20〜200重量部の割合で使用する。この時の、電荷
輸送層の膜厚は、好ましくは5〜50μm、特に好まし
くは5〜30μmである。
【0040】次に本発明の感光体を単層構成で形成する
場合、すなわち図3の場合、電荷発生物質及び電荷輸送
物質がバインダ樹脂に含有される割合は、バインダ樹脂
100重量部に対して電荷発生物質は20〜200重量
部、電荷輸送物質は20〜200重量部の割合で使用す
る。この単層構成の感光体の膜厚は7〜50μm、さら
に好ましくは10〜30μmである。
場合、すなわち図3の場合、電荷発生物質及び電荷輸送
物質がバインダ樹脂に含有される割合は、バインダ樹脂
100重量部に対して電荷発生物質は20〜200重量
部、電荷輸送物質は20〜200重量部の割合で使用す
る。この単層構成の感光体の膜厚は7〜50μm、さら
に好ましくは10〜30μmである。
【0041】また、前記中間層は接着層またはバリヤ層
等として機能するもので、上記のバインダ樹脂のほか
に、例えばポリビニルアルコール、エチルセルロース、
カルボキシメチルセルロース、塩化ビニル−酢酸ビニル
共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸共
重合体、カゼイン、N−アルコキシメチルナイロン等の
樹脂をそのまま、または酸化スズあるいはインジュウム
などを分散させたもの、酸化アルミニウム、酸化亜鉛、
或いは酸化ケイ素などの蒸着膜等が用いられる。中間層
の膜厚は、1μm以下が望ましい。また、前記保護層に
用いられる材料としては、前述の樹脂をそのまま使用す
るか、または酸化スズや酸化インジュウムなどの低抵抗
物質を分散させたものが適当である。また、有機プラズ
マ重合膜も使用でき、その有機プラズマ重合膜は、必要
に応じて適宜酸素、窒素、ハロゲン、周期率表の第III
族、第V族原子を含んでもよい。
等として機能するもので、上記のバインダ樹脂のほか
に、例えばポリビニルアルコール、エチルセルロース、
カルボキシメチルセルロース、塩化ビニル−酢酸ビニル
共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸共
重合体、カゼイン、N−アルコキシメチルナイロン等の
樹脂をそのまま、または酸化スズあるいはインジュウム
などを分散させたもの、酸化アルミニウム、酸化亜鉛、
或いは酸化ケイ素などの蒸着膜等が用いられる。中間層
の膜厚は、1μm以下が望ましい。また、前記保護層に
用いられる材料としては、前述の樹脂をそのまま使用す
るか、または酸化スズや酸化インジュウムなどの低抵抗
物質を分散させたものが適当である。また、有機プラズ
マ重合膜も使用でき、その有機プラズマ重合膜は、必要
に応じて適宜酸素、窒素、ハロゲン、周期率表の第III
族、第V族原子を含んでもよい。
【0042】
【実施例】以下本発明を実施例により説明するが、本発
明はこれらの実施例に限定されるものではない。尚、実
施例中「部」は特に限定しないかぎり、「重量部」であ
る。
明はこれらの実施例に限定されるものではない。尚、実
施例中「部」は特に限定しないかぎり、「重量部」であ
る。
【0043】合成例1 市販の前記一般式(III)で表わされるホモフタル酸無
水物36.03g、トルエン500mlに溶解し、撹拌
しながらn−ヘキシルアミン20.24gを滴下し、徐
々に加熱し、還流下水を除きながら、8時間反応を行っ
た。反応後、トルエンを留去し、ついで残渣に対しトル
エンを展開溶媒としたカラムクロマトグラフィー処理を
行ない、得られた粗製の目的物をn−ヘキサンから再結
晶して純粋の目的物33.95gを得た。 融点:39.0〜39.5℃ 元素分析: C(%) H(%) N(%) 実測値 73.49 7.85 5.71 計算値 73.44 7.81 5.71
水物36.03g、トルエン500mlに溶解し、撹拌
しながらn−ヘキシルアミン20.24gを滴下し、徐
々に加熱し、還流下水を除きながら、8時間反応を行っ
た。反応後、トルエンを留去し、ついで残渣に対しトル
エンを展開溶媒としたカラムクロマトグラフィー処理を
行ない、得られた粗製の目的物をn−ヘキサンから再結
晶して純粋の目的物33.95gを得た。 融点:39.0〜39.5℃ 元素分析: C(%) H(%) N(%) 実測値 73.49 7.85 5.71 計算値 73.44 7.81 5.71
【0044】合成例2〜4 前記一般式(III)で表されるホモフタル酸無水物と、
前記一般式(IV)で表されるアミン化合物を用い、合成
例1と同様の方法で純粋な目的物を得た。以上のように
して得られた化合物の融点及び元素分析結果を表4に示
す。
前記一般式(IV)で表されるアミン化合物を用い、合成
例1と同様の方法で純粋な目的物を得た。以上のように
して得られた化合物の融点及び元素分析結果を表4に示
す。
【0045】
【表4】
【0046】合成例5 前記合成例1で得たN−ヘキシルホモフタル酸イミド
2.94g、p−ニトロベンズアルデヒド1.51gを
エタノール100mlに溶解し、撹拌しながらピペリジ
ンを2滴加え、還流下で6時間反応させた。反応後、エ
タノールを留去し、ついで残渣に対しトルエンを展開溶
媒としたカラムクロマトグラフィー処理を行ない、得ら
れた粗製の目的物をエタノールから再結晶して純粋の目
的物1.90gを得た。 融点:125.0〜125.8℃ 元素分析: C(%) H(%) N(%) 実測値 69.85 5.90 7.41 計算値 69.83 5.86 7.40
2.94g、p−ニトロベンズアルデヒド1.51gを
エタノール100mlに溶解し、撹拌しながらピペリジ
ンを2滴加え、還流下で6時間反応させた。反応後、エ
タノールを留去し、ついで残渣に対しトルエンを展開溶
媒としたカラムクロマトグラフィー処理を行ない、得ら
れた粗製の目的物をエタノールから再結晶して純粋の目
的物1.90gを得た。 融点:125.0〜125.8℃ 元素分析: C(%) H(%) N(%) 実測値 69.85 5.90 7.41 計算値 69.83 5.86 7.40
【0047】合成例6〜7 前記一般式(I)で表されるホモフタル酸誘導体と、前
記一般式(V)で表されるアルデヒド化合物を用い、合
成例5と同じ方法で純粋な目的物を得た。以上のように
して得られた化合物の融点及び元素分析の結果を表5に
示す。
記一般式(V)で表されるアルデヒド化合物を用い、合
成例5と同じ方法で純粋な目的物を得た。以上のように
して得られた化合物の融点及び元素分析の結果を表5に
示す。
【0048】
【表5】
【0049】実施例1 下記化学式(P−1)で表されるビスアゾ色素5部、ブ
チラール樹脂(デンカブチラール樹脂#3000−2:
電気化学工業製)2.5部、及びテトラヒドロフラン9
2.5部をボールミルにて12時間分散させ、次にテト
ラヒドロフランを2重量%の分散液濃度になるように加
え、再分散させて塗布液を調整した。調整した分散液を
アルミニウムを蒸着した100μm厚のポリエステルフ
ィルム上にドクターブレードにて流延塗布し、乾燥後の
膜厚が1.0μmの電荷発生層を形成した。
チラール樹脂(デンカブチラール樹脂#3000−2:
電気化学工業製)2.5部、及びテトラヒドロフラン9
2.5部をボールミルにて12時間分散させ、次にテト
ラヒドロフランを2重量%の分散液濃度になるように加
え、再分散させて塗布液を調整した。調整した分散液を
アルミニウムを蒸着した100μm厚のポリエステルフ
ィルム上にドクターブレードにて流延塗布し、乾燥後の
膜厚が1.0μmの電荷発生層を形成した。
【化3】 このようにして得られた電荷発生層上に、例示化合物
(化合物No.II−12)6部、ポリカーボネート樹
脂(K−1300:帝人化成製)10部、メチルフェニ
ールシリコン(KF50−100cps:信越化学製)
0.002部、及びテトラヒドロフラン94部からなる
処方の塗布液を調整し、ドクターブレードにて流延塗布
し、乾燥後の膜厚が20.0μmの電荷輸送層を形成
し、アルミニウム電極/電荷発生層/電荷輸送層で構成
される積層型電子写真感光体(感光体No.1)を作成
した。
(化合物No.II−12)6部、ポリカーボネート樹
脂(K−1300:帝人化成製)10部、メチルフェニ
ールシリコン(KF50−100cps:信越化学製)
0.002部、及びテトラヒドロフラン94部からなる
処方の塗布液を調整し、ドクターブレードにて流延塗布
し、乾燥後の膜厚が20.0μmの電荷輸送層を形成
し、アルミニウム電極/電荷発生層/電荷輸送層で構成
される積層型電子写真感光体(感光体No.1)を作成
した。
【0050】実施例2〜12 実施例1の例示化合物(化合物No.II−12)の代
わりに、表6に示した化合物を用いること以外は実施例
1と同様の方法で感光体を作成した。
わりに、表6に示した化合物を用いること以外は実施例
1と同様の方法で感光体を作成した。
【0051】実施例13 下記化学式(P−1)で表されるビスアゾ色素5部の代
わりに下記化学式(P−2)で表されるトリスアゾ色素
6部を用いること以外は実施例1と同様の方法で電荷発
生層を作成した。
わりに下記化学式(P−2)で表されるトリスアゾ色素
6部を用いること以外は実施例1と同様の方法で電荷発
生層を作成した。
【化4】 このようにして得られた電荷発生層上に、例示化合物
(化合物No.II−12)6部、ポリカーボネート樹
脂(K−1300:帝人化成製)10部、メチルフェニ
ールシリコン(KF50−100cps:信越化学製)
0.002部、及びテトラヒドロフラン94部からなる
塗布液を調整し、実施例1と同様に方法で乾燥後の膜厚
が20.0μmの電荷輸送層を形成し、アルミニウム電
極/電荷発生層/電荷輸送層で構成される積層型電子写
真感光体(感光体No.13)を作成した。
(化合物No.II−12)6部、ポリカーボネート樹
脂(K−1300:帝人化成製)10部、メチルフェニ
ールシリコン(KF50−100cps:信越化学製)
0.002部、及びテトラヒドロフラン94部からなる
塗布液を調整し、実施例1と同様に方法で乾燥後の膜厚
が20.0μmの電荷輸送層を形成し、アルミニウム電
極/電荷発生層/電荷輸送層で構成される積層型電子写
真感光体(感光体No.13)を作成した。
【0052】実施例14〜24 実施例13の例示化合物(化合物No.II−12)の
代わりに、表5に示した化合物を用いること以外は実施
例13と同様の方法で感光体を作成した。
代わりに、表5に示した化合物を用いること以外は実施
例13と同様の方法で感光体を作成した。
【0053】実施例25 x型フタロシアニン(P−3)5部、ポリビニールブチ
ラール樹脂(エスレックスBLS:積水化学製)5部、
及びテトラヒドロフラン90部をボールミルにて12時
間分散させ、次にテトラヒドロフランを2重量%の分散
液濃度になるように加え、再分散させて塗布液を調整し
た。調整した分散液をアルミニウムを蒸着した100μ
m厚のポリエステルフィルム上にドクターブレードにて
流延塗布し、乾燥後の膜厚が0.5μmの電荷発生層を
形成した。このようにして得られた電荷発生層上に、例
示化合物(化合物No.II−12)6部、ポリカーボ
ネート樹脂(K−1300:帝人化成製)10部、及び
テトラヒドロフラン94部からなる処方の塗布液を調整
し、ドクターブレードにて流延塗布し、乾燥後の膜厚が
20.0μmの電荷輸送層を形成し、アルミニウム電極
/電荷発生層/電荷輸送層で形成される積層型電子写真
感光体を作成した。
ラール樹脂(エスレックスBLS:積水化学製)5部、
及びテトラヒドロフラン90部をボールミルにて12時
間分散させ、次にテトラヒドロフランを2重量%の分散
液濃度になるように加え、再分散させて塗布液を調整し
た。調整した分散液をアルミニウムを蒸着した100μ
m厚のポリエステルフィルム上にドクターブレードにて
流延塗布し、乾燥後の膜厚が0.5μmの電荷発生層を
形成した。このようにして得られた電荷発生層上に、例
示化合物(化合物No.II−12)6部、ポリカーボ
ネート樹脂(K−1300:帝人化成製)10部、及び
テトラヒドロフラン94部からなる処方の塗布液を調整
し、ドクターブレードにて流延塗布し、乾燥後の膜厚が
20.0μmの電荷輸送層を形成し、アルミニウム電極
/電荷発生層/電荷輸送層で形成される積層型電子写真
感光体を作成した。
【0054】実施例26〜36 実施例25の例示化合物(化合物No.II−12)の
代わりに、表6に示した化合物を用いること以外は実施
例25と同様の方法で感光体を作成した。
代わりに、表6に示した化合物を用いること以外は実施
例25と同様の方法で感光体を作成した。
【0055】以上のようにして得られた電子写真感光体
について、静電複写紙試験装置(SP−42:川口電気
製作所)を用いて+6KVのコロナ帯電を施して、正帯
電した後、20秒間暗所に放置し、その時の表面電位V
oを測定し、次いでタングステンランプを用いて表面の
照度が40ルックスになるように光照射し、半減露光量
E1/2(lux・sec)を測定した。その結果を表
6に示す。
について、静電複写紙試験装置(SP−42:川口電気
製作所)を用いて+6KVのコロナ帯電を施して、正帯
電した後、20秒間暗所に放置し、その時の表面電位V
oを測定し、次いでタングステンランプを用いて表面の
照度が40ルックスになるように光照射し、半減露光量
E1/2(lux・sec)を測定した。その結果を表
6に示す。
【0056】
【表6】
【0057】実施例37 前記化合物(P−1)0.09g、ポリカーボネート樹
脂(PC−Z:帝人化成製)の10wt%テトラヒドロ
フラン溶液15g、ドナー性化合物(D−1)0.9
g、例示化合物(化合物No.II−12)0.6g、
シリコンオイル(KF50:信越化学製)の1wt%テ
トラヒドロフラン溶液0.3gをボールミルポットに計
り取り、24時間ボールミリングし、塗布液を作成し
た。作成した塗布液を、アルミニウムを蒸着した100
μm厚のポリエステルフィルム上にドクターブレードに
て流延塗布し、乾燥後の膜厚が約20μmの単層型電子
写真感光体を作成した。
脂(PC−Z:帝人化成製)の10wt%テトラヒドロ
フラン溶液15g、ドナー性化合物(D−1)0.9
g、例示化合物(化合物No.II−12)0.6g、
シリコンオイル(KF50:信越化学製)の1wt%テ
トラヒドロフラン溶液0.3gをボールミルポットに計
り取り、24時間ボールミリングし、塗布液を作成し
た。作成した塗布液を、アルミニウムを蒸着した100
μm厚のポリエステルフィルム上にドクターブレードに
て流延塗布し、乾燥後の膜厚が約20μmの単層型電子
写真感光体を作成した。
【0058】実施例38〜43 実施例37の例示化合物(化合物No.II−12)の
代わりに、表7に示した化合物を用いること以外は実施
例37と同様の方法で感光体を作成した。
代わりに、表7に示した化合物を用いること以外は実施
例37と同様の方法で感光体を作成した。
【0059】比較例1 本発明のアクセプター性化合物を加えないこと以外は実
施例37と同様にして単層型電子写真感光体を作成し
た。
施例37と同様にして単層型電子写真感光体を作成し
た。
【0060】以上のようにして得られた電子写真感光体
について、静電複写紙試験装置(SP−428:川口電
気製作所)を用いて+6KVのコロナ帯電を施して、正
帯電した後、20秒間暗所に放置し、その時の表面電位
Voを測定し、次いでタングステンランプを用いて表面
の照度が40ルックスになるように光照射し、半減露光
量E1/2(lux・sec)、及び光照射30秒後の
表面電位Vrを測定した。次に5000回上記の操作を
繰り返した後のVO、E1/2、Vrを測定し、その結
果を表7に示す。
について、静電複写紙試験装置(SP−428:川口電
気製作所)を用いて+6KVのコロナ帯電を施して、正
帯電した後、20秒間暗所に放置し、その時の表面電位
Voを測定し、次いでタングステンランプを用いて表面
の照度が40ルックスになるように光照射し、半減露光
量E1/2(lux・sec)、及び光照射30秒後の
表面電位Vrを測定した。次に5000回上記の操作を
繰り返した後のVO、E1/2、Vrを測定し、その結
果を表7に示す。
【0061】
【表7】
【0062】
【発明の効果】本発明に係る、アクセプター性化合物と
して優れた新規なホモフタル酸誘導体、及びその製造中
間体は、比較的簡単で収率の良い方法により製造するこ
とができ、該ホモフタル酸誘導体はバインダ樹脂中で優
れた溶解性または分散性を有する。また、本発明の該ホ
モフタル酸誘導体は電荷発生物質より発生された電荷
を、受入れそして輸送する優れた能力を有する、電荷輸
送物質として機能し、電荷輸送物質として、このホモフ
タル酸誘導体を含有する電子写真感光体を作成した場
合、高感度及び高耐久性を有する。
して優れた新規なホモフタル酸誘導体、及びその製造中
間体は、比較的簡単で収率の良い方法により製造するこ
とができ、該ホモフタル酸誘導体はバインダ樹脂中で優
れた溶解性または分散性を有する。また、本発明の該ホ
モフタル酸誘導体は電荷発生物質より発生された電荷
を、受入れそして輸送する優れた能力を有する、電荷輸
送物質として機能し、電荷輸送物質として、このホモフ
タル酸誘導体を含有する電子写真感光体を作成した場
合、高感度及び高耐久性を有する。
【0063】
【図1】本発明の、支持体上に電荷発生層、電荷輸送層
を順次設けた積層型電子写真感光体の断面図である。
を順次設けた積層型電子写真感光体の断面図である。
【図2】本発明の、図1に示す断面を有する電子写真感
光体に更に保護層を設けた電子写真感光体の断面図であ
る。
光体に更に保護層を設けた電子写真感光体の断面図であ
る。
【図3】本発明の、支持体上に感光体層を設けた単層型
電子写真感光体の断面図である。
電子写真感光体の断面図である。
1 支持体 2 電荷発生層 3 電荷輸送層 4 感光体層(積層構成) 5 保護層 6 感光体層(単層構成)
Claims (5)
- 【請求項1】 下記一般式(I)で表わされるホモフタ
ル酸誘導体。 【化1】 (式中、R1は、アルキル基、ハロゲン原子、シアノ
基、及びニトロ基を表わし、R2は、置換または無置換
のアルキル基、置換または無置換のシクロアルキル基、
或いは置換または無置換のフェニル基を表わし、nは0
〜4の整数を表わす。) - 【請求項2】 下記一般式(II)で表わされるホモフタ
ル酸誘導体。 【化2】 (式中、R1は、アルキル基、ハロゲン原子、シアノ
基、及びニトロ基を表わし、R2は、置換または無置換
のアルキル基、置換または無置換のシクロアルキル基、
或いは置換または無置換のフェニル基を表わし、Ar
は、置換または無置換のフェニル基、置換または多環芳
香族基、或いは置換または無置換の複素環基を表わし、
nは0〜4の整数を表わす。) - 【請求項3】 導電性支持体とその上に設けた感光層を
必須の構成要素とする電子写真感光体において、該感光
層中に請求項2記載の一般式(II)で表わされるホモフ
タル酸誘導体を含有させたことを特徴とする電子写真感
光体。 - 【請求項4】 前記感光層を電荷発生層及び電荷輸送層
で構成し、少なくとも電荷輸送層中に請求項2記載の一
般式(II)で表わされるホモフタル酸誘導体を含有させ
たことを特徴とする請求項3記載の電子写真感光体。 - 【請求項5】 前記感光層を少なくとも電荷発生物質、
電荷輸送物質を必須成分とする単一の層で構成し、該電
荷輸送物質として請求項2記載の一般式(II)で表わさ
れるホモフタル酸誘導体を含有させたことを特徴とする
請求項3記載の電子写真感光体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP34647793A JPH07179427A (ja) | 1993-12-23 | 1993-12-23 | ホモフタル酸誘導体及びそれを含有する電子写真感光体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP34647793A JPH07179427A (ja) | 1993-12-23 | 1993-12-23 | ホモフタル酸誘導体及びそれを含有する電子写真感光体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07179427A true JPH07179427A (ja) | 1995-07-18 |
Family
ID=18383695
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP34647793A Pending JPH07179427A (ja) | 1993-12-23 | 1993-12-23 | ホモフタル酸誘導体及びそれを含有する電子写真感光体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07179427A (ja) |
-
1993
- 1993-12-23 JP JP34647793A patent/JPH07179427A/ja active Pending
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| RD01 | Notification of change of attorney |
Effective date: 20040122 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7421 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20040316 |