JPH07192982A - 露光装置 - Google Patents
露光装置Info
- Publication number
- JPH07192982A JPH07192982A JP5329174A JP32917493A JPH07192982A JP H07192982 A JPH07192982 A JP H07192982A JP 5329174 A JP5329174 A JP 5329174A JP 32917493 A JP32917493 A JP 32917493A JP H07192982 A JPH07192982 A JP H07192982A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- mask
- liquid crystal
- exposure
- light source
- crystal mask
- Prior art date
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- Withdrawn
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70058—Mask illumination systems
- G03F7/70066—Size and form of the illuminated area in the mask plane, e.g. reticle masking blades or blinds
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 従来の露光装置においては、担持する数字、
文字の固定されたパターンマスクを使用しているため、
パターマスクの担持する数字等のほかの数字、文字、記
号等を印字するためには、パターンマスクを新製、交換
する必要があった。本発明においては、パターマスク上
に任意に露光パターンを形成し得る露光装置を提供す
る。 【構成】 光源１と、光源１からの光を光源シャッタ１
２を介して投射される液晶マスク１９と、この液晶マス
クの担持する文字、数字、記号等をターゲット上に結像
させるレンズ２とを有する露光装置において、前記液晶
マスクと前記光源との間には、露光エリアの位置制御を
行う絞り機構１５と、前記液晶マスク１９全体の位置決
めを行う液晶マスク駆動機構とを設け、前記液晶マスク
１９内にはホストＣＰＵ２８、露光内容作成ＣＰＵ２
５、全体制御回路２４等により、電子的に露光パターン
を形成させるようにしている。
文字の固定されたパターンマスクを使用しているため、
パターマスクの担持する数字等のほかの数字、文字、記
号等を印字するためには、パターンマスクを新製、交換
する必要があった。本発明においては、パターマスク上
に任意に露光パターンを形成し得る露光装置を提供す
る。 【構成】 光源１と、光源１からの光を光源シャッタ１
２を介して投射される液晶マスク１９と、この液晶マス
クの担持する文字、数字、記号等をターゲット上に結像
させるレンズ２とを有する露光装置において、前記液晶
マスクと前記光源との間には、露光エリアの位置制御を
行う絞り機構１５と、前記液晶マスク１９全体の位置決
めを行う液晶マスク駆動機構とを設け、前記液晶マスク
１９内にはホストＣＰＵ２８、露光内容作成ＣＰＵ２
５、全体制御回路２４等により、電子的に露光パターン
を形成させるようにしている。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は例えば液晶表示装置（以
下単に液晶装置と呼ぶ）の製造工程内の生産管理用基板
ナンバー露光装置内に用いるマスク部の制御手段に関す
る。
下単に液晶装置と呼ぶ）の製造工程内の生産管理用基板
ナンバー露光装置内に用いるマスク部の制御手段に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】液晶装置の製造工程において、基板に生
産管理用の基板ナンバーを付すことが行われている。図
３は従来の露光装置の概略構成を示す模式図、図４は従
来のパターンマスクの平面図である。図３において、装
置筐体９内には、光源１、レンズ２、これら両者間のパ
ターンマスク３が配置されており、筐体９外にはパター
ンマスク５が配置されている。パターンマスク駆動モー
タ４は筐体９外に設けた制御ＣＰＵ８に制御されてパタ
ーンマスク３を回転駆動する。また、筐体９は筐体９外
に設けたマスク移動モータ１０によって直線駆動され
る。なお、マスク移動モータ１０も前記ＣＰＵ８の制御
下にある。
産管理用の基板ナンバーを付すことが行われている。図
３は従来の露光装置の概略構成を示す模式図、図４は従
来のパターンマスクの平面図である。図３において、装
置筐体９内には、光源１、レンズ２、これら両者間のパ
ターンマスク３が配置されており、筐体９外にはパター
ンマスク５が配置されている。パターンマスク駆動モー
タ４は筐体９外に設けた制御ＣＰＵ８に制御されてパタ
ーンマスク３を回転駆動する。また、筐体９は筐体９外
に設けたマスク移動モータ１０によって直線駆動され
る。なお、マスク移動モータ１０も前記ＣＰＵ８の制御
下にある。
【０００３】パターンマスク３には、図４に示すように
円板周縁部に０〜９の数字または所要の文字が担持させ
てある。
円板周縁部に０〜９の数字または所要の文字が担持させ
てある。
【０００４】上記構成の従来の露光装置において、ター
ゲット５に基板ナンバーを露光させるに際しては、ＣＰ
Ｕ８の制御によりパターンマスク３に回転および直線方
向移動を行わせ、レンズ２と光源１との間に所要の数字
または文字を位置させ、光源１を付勢してターゲット５
にその数字を露光させる。
ゲット５に基板ナンバーを露光させるに際しては、ＣＰ
Ｕ８の制御によりパターンマスク３に回転および直線方
向移動を行わせ、レンズ２と光源１との間に所要の数字
または文字を位置させ、光源１を付勢してターゲット５
にその数字を露光させる。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】上記従来の露光装置に
おいては、パターンマスク３に担持させた数字または文
字以外の露光を行うには、パターンマスク３を新たに製
作する必要がある。また、上記従来の装置においては１
文字づつの露光を行っているため、文字または数字の桁
数が多い場合には、露光に多くの時間を必要とするだけ
でなく露光された文字または数字の位置精度の低下を引
き起こす。さらに、文字、数字に代え例えばバーコード
等の特殊のデータコードを露光させるには、パターンマ
スク３にある程度の特殊パターンを持たせ、その組合せ
により実現させることができるが、この場合にはマスク
部の位置決め精度の低下や露光時間の増加を避けられな
い。本発明は上記の事情に基づきなされたもので、露光
用のパターンマスクに対応能力を持たせ、パターンマス
クの制約を受けることなく露光文字を選定でき、また桁
数の変更や特殊なデータコードを使用した場合にもイン
デックスの低下や、位置決め精度の低下を招くおそれの
ない露光装置を提供する。
おいては、パターンマスク３に担持させた数字または文
字以外の露光を行うには、パターンマスク３を新たに製
作する必要がある。また、上記従来の装置においては１
文字づつの露光を行っているため、文字または数字の桁
数が多い場合には、露光に多くの時間を必要とするだけ
でなく露光された文字または数字の位置精度の低下を引
き起こす。さらに、文字、数字に代え例えばバーコード
等の特殊のデータコードを露光させるには、パターンマ
スク３にある程度の特殊パターンを持たせ、その組合せ
により実現させることができるが、この場合にはマスク
部の位置決め精度の低下や露光時間の増加を避けられな
い。本発明は上記の事情に基づきなされたもので、露光
用のパターンマスクに対応能力を持たせ、パターンマス
クの制約を受けることなく露光文字を選定でき、また桁
数の変更や特殊なデータコードを使用した場合にもイン
デックスの低下や、位置決め精度の低下を招くおそれの
ない露光装置を提供する。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明の露光装置は、光
源と、この光源からの光を投射されるマスクと、このマ
スクの担持する文字、数字等をターゲット上に結像させ
るレンズとを有する露光装置において、前記マスクを液
晶マスクとし、この液晶マスクと前記光源との間には、
露光エリアの位置制御を行う絞り機構と、前記液晶マス
ク全体の位置決めを行う液晶マスク駆動機構とを設け、
前記液晶マスク内には電子的に露光パターンを形成させ
るようにしたことを特徴とする。
源と、この光源からの光を投射されるマスクと、このマ
スクの担持する文字、数字等をターゲット上に結像させ
るレンズとを有する露光装置において、前記マスクを液
晶マスクとし、この液晶マスクと前記光源との間には、
露光エリアの位置制御を行う絞り機構と、前記液晶マス
ク全体の位置決めを行う液晶マスク駆動機構とを設け、
前記液晶マスク内には電子的に露光パターンを形成させ
るようにしたことを特徴とする。
【０００７】
【作用】上記構成の本発明の露光装置においては、液晶
マスク内に電子的に露光パターンを形成させるものであ
るから、従来の担持する文字、数字等が固定されたパタ
ーンマスクと異なり、マスクによる制約がなく任意適宜
に露光数字、文字その他の選定が可能であり、さらに印
字桁数の変更や特殊なデータコードを使用した場合にお
いても、インデックス精度や位置決め精度の低下を来す
ことはない。また、液晶マスクに対する露光エリアの制
御を行うので、液晶マスク全体の寿命を向上させること
ができる。
マスク内に電子的に露光パターンを形成させるものであ
るから、従来の担持する文字、数字等が固定されたパタ
ーンマスクと異なり、マスクによる制約がなく任意適宜
に露光数字、文字その他の選定が可能であり、さらに印
字桁数の変更や特殊なデータコードを使用した場合にお
いても、インデックス精度や位置決め精度の低下を来す
ことはない。また、液晶マスクに対する露光エリアの制
御を行うので、液晶マスク全体の寿命を向上させること
ができる。
【０００８】
【実施例】図３と同一部分には同一符号を付した図１
は、本発明に係る一実施例の模式図、図２はその絞り機
構作動部の平面図である。これらの図において、露光ヘ
ッド１１は光源ボックス６を具えており、光源１は光源
ボックス６の天井壁を貫通して光源ボックス内に垂下し
ている。光源１の内端には光源１、シャッタ駆動シリン
ダ１３により駆動されるシャッタ１２を介して光源ガイ
ド１４の上端が対向されており、光源ガイド１４下端と
その直下に配置された液晶マスク１９との間には、対向
配置でそれぞれ第１の絞り機構駆動モータ１６、第２の
絞り機構駆動モータ１７によって駆動される図１には２
個のみ示された４個の絞り板が設けられている。なお、
図１において絞り機構駆動モータは前記モータ１６、１
７の他この図に現れていない絞り機構に対するものもそ
れぞれ設けられている。液晶マスク１９の下方には、フ
ォーカス移動モータ２０により光軸方向に駆動されるレ
ンズボックス７内に収納したレンズ２が設置されてい
る。
は、本発明に係る一実施例の模式図、図２はその絞り機
構作動部の平面図である。これらの図において、露光ヘ
ッド１１は光源ボックス６を具えており、光源１は光源
ボックス６の天井壁を貫通して光源ボックス内に垂下し
ている。光源１の内端には光源１、シャッタ駆動シリン
ダ１３により駆動されるシャッタ１２を介して光源ガイ
ド１４の上端が対向されており、光源ガイド１４下端と
その直下に配置された液晶マスク１９との間には、対向
配置でそれぞれ第１の絞り機構駆動モータ１６、第２の
絞り機構駆動モータ１７によって駆動される図１には２
個のみ示された４個の絞り板が設けられている。なお、
図１において絞り機構駆動モータは前記モータ１６、１
７の他この図に現れていない絞り機構に対するものもそ
れぞれ設けられている。液晶マスク１９の下方には、フ
ォーカス移動モータ２０により光軸方向に駆動されるレ
ンズボックス７内に収納したレンズ２が設置されてい
る。
【０００９】なお、図中２３は光源ボックス６を全体制
御回路２４の制御下に絞り機構駆動モータ１６、１７を
駆動する露光表示データ位置決め制御回路、１８は前記
露光表示データ位置決め回路２３の出力により光源ボッ
クス６を駆動する液晶マスク表示位置移動モータ、２１
は前記フォーカス移動モータ２０を全体制御回路２４の
信号に応じて駆動するフォーカス移動制御回路、２２は
全体制御回路２４の信号を受けて液晶マスクに表示信号
を与える液晶マスク表示デコーダ、２９は前記全体制御
回路２４により制御され光源シャッタ１２のシャッタ駆
動シリンダ１３を駆動するシャッタ開時間管理制御ボッ
クス、２８はホストＣＰＵ、２５はホストＣＰＵの出力
を受けこれにより露光内容を作成し、前記全体制御回路
２４に必要な制御データを出力する露光内容作成ＣＰＵ
をそれぞれ示している。
御回路２４の制御下に絞り機構駆動モータ１６、１７を
駆動する露光表示データ位置決め制御回路、１８は前記
露光表示データ位置決め回路２３の出力により光源ボッ
クス６を駆動する液晶マスク表示位置移動モータ、２１
は前記フォーカス移動モータ２０を全体制御回路２４の
信号に応じて駆動するフォーカス移動制御回路、２２は
全体制御回路２４の信号を受けて液晶マスクに表示信号
を与える液晶マスク表示デコーダ、２９は前記全体制御
回路２４により制御され光源シャッタ１２のシャッタ駆
動シリンダ１３を駆動するシャッタ開時間管理制御ボッ
クス、２８はホストＣＰＵ、２５はホストＣＰＵの出力
を受けこれにより露光内容を作成し、前記全体制御回路
２４に必要な制御データを出力する露光内容作成ＣＰＵ
をそれぞれ示している。
【００１０】上記構成の本発明の露光装置は次のように
作動する。先ず、ホストＣＰＵ２８から露光内容作成Ｃ
ＰＵ２５に生産管理用データが転送されると、露光内容
作成ＣＰＵ２５はその時点で液晶マスク１９の表示用デ
ータを作成する。
作動する。先ず、ホストＣＰＵ２８から露光内容作成Ｃ
ＰＵ２５に生産管理用データが転送されると、露光内容
作成ＣＰＵ２５はその時点で液晶マスク１９の表示用デ
ータを作成する。
【００１１】ターゲット５に露光するデータの倍率を予
め品種毎に設定しておき、ホストＣＰＵ２８から転送さ
れてきたデータに従って露光内容作成ＣＰＵ２５の作成
したデータに基づき、全体制御回路２４は倍率を設定す
るためのフォーカス移動制御回路路２１を介して、フォ
ーカス移動モータ２０を駆動してレンズ２の位置を変化
させ、レンズ２による投射倍率を設定する。
め品種毎に設定しておき、ホストＣＰＵ２８から転送さ
れてきたデータに従って露光内容作成ＣＰＵ２５の作成
したデータに基づき、全体制御回路２４は倍率を設定す
るためのフォーカス移動制御回路路２１を介して、フォ
ーカス移動モータ２０を駆動してレンズ２の位置を変化
させ、レンズ２による投射倍率を設定する。
【００１２】同時にターゲット５に印字するエリア以外
をマスクするために、絞り機構１５を駆動する第１の絞
り機構駆動モータ１６、第２の絞り機構駆動モータ１７
を駆動して２個の絞り１５をそれぞれ移動させ、図２に
示すように絞り板１５1 〜１５4 によって露光エリア３
１を設定する。
をマスクするために、絞り機構１５を駆動する第１の絞
り機構駆動モータ１６、第２の絞り機構駆動モータ１７
を駆動して２個の絞り１５をそれぞれ移動させ、図２に
示すように絞り板１５1 〜１５4 によって露光エリア３
１を設定する。
【００１３】露光内容作成ＣＰＵ２５は作成データを全
体制御回路２４を介して液晶マスク表示デコーダ２２に
転送し、液晶マスク１９にマスク用データを表示する。
体制御回路２４を介して液晶マスク表示デコーダ２２に
転送し、液晶マスク１９にマスク用データを表示する。
【００１４】露光に際して、液晶マスク１９には光源１
から強い光が照射される。ところが、液晶および図示し
ない液晶部偏光板の劣化等が発生する。而して、光の照
射部位の耐久性は数千時間程度と比較的短い。そのた
め、露光マスクとして使用される部位に対する照射時間
をシャッタ開時間管理ボックス２９によって管理し、照
射時間が設定時間に到達した時、全体制御回路２４にマ
スク位置変更信号を送り、これによって全体制御回路２
４は液晶マスク表示デコーダ２２に液晶マスク位置変更
指令を送る。このように、液晶マスク１９の各部位は設
定時間以上の照射を受けることなく、液晶マスク１９は
全体が一様に劣化され局部的劣化により使用不能となる
ことはない。すなわち、液晶パネルは一般的に数万ドッ
ト×数万ドットの表示部を有するのに対して、本発明に
おいて使用する液晶マスク１９の表示データは数十ドッ
ト×数十ドットで分で足りるため、液晶マスク１９の端
から順次使用するように、予め液晶マスク１９のドット
に対応した露光データエリアを露光内容作成ＣＰＵ２５
で管理し、シャッタ開時間管理ボックス２９照射時間信
号により露光データエリアの位置まで光源ボックス６と
レンズボックス７とを移動させるため、露光表示データ
位置決め回路２３に信号を送り液晶マスク表示位置移動
モータ１８により光源ボックス６を移動させる。
から強い光が照射される。ところが、液晶および図示し
ない液晶部偏光板の劣化等が発生する。而して、光の照
射部位の耐久性は数千時間程度と比較的短い。そのた
め、露光マスクとして使用される部位に対する照射時間
をシャッタ開時間管理ボックス２９によって管理し、照
射時間が設定時間に到達した時、全体制御回路２４にマ
スク位置変更信号を送り、これによって全体制御回路２
４は液晶マスク表示デコーダ２２に液晶マスク位置変更
指令を送る。このように、液晶マスク１９の各部位は設
定時間以上の照射を受けることなく、液晶マスク１９は
全体が一様に劣化され局部的劣化により使用不能となる
ことはない。すなわち、液晶パネルは一般的に数万ドッ
ト×数万ドットの表示部を有するのに対して、本発明に
おいて使用する液晶マスク１９の表示データは数十ドッ
ト×数十ドットで分で足りるため、液晶マスク１９の端
から順次使用するように、予め液晶マスク１９のドット
に対応した露光データエリアを露光内容作成ＣＰＵ２５
で管理し、シャッタ開時間管理ボックス２９照射時間信
号により露光データエリアの位置まで光源ボックス６と
レンズボックス７とを移動させるため、露光表示データ
位置決め回路２３に信号を送り液晶マスク表示位置移動
モータ１８により光源ボックス６を移動させる。
【００１５】液晶マスク１９の露光データ表示位置決め
終了後と露光データ設定終了後に、光源電源３０をＯＮ
とし光源１から光を照射し、ターゲット５に対して露光
ヘッド１１を位置決めした後、シャッタ駆動シリンダ１
３を付勢してシャッタ１２を開閉させ、ターゲット５に
データを露光する。
終了後と露光データ設定終了後に、光源電源３０をＯＮ
とし光源１から光を照射し、ターゲット５に対して露光
ヘッド１１を位置決めした後、シャッタ駆動シリンダ１
３を付勢してシャッタ１２を開閉させ、ターゲット５に
データを露光する。
【００１６】なお、ホストＣＰＵ２８または露光内容Ｃ
ＰＵ２５により、品種変更が指示されるまで露光内容を
変更しないが、露光が繰り返される。
ＰＵ２５により、品種変更が指示されるまで露光内容を
変更しないが、露光が繰り返される。
【００１７】図２において、絞り１５は図において上下
に並んだ２個の長方形の絞り板１５-1、１５-2、左右に
並んだ２個の同じく長方形の絞り板１５-3、１５-4を有
しており、絞り板１５-1、同１５-2は図面において縦方
向のボールねじ２６上半分、下半分にそれぞれ設けた逆
方向のねじ部２６ａ、２６ｂに螺合されている。ボール
ねじ２６は第１の絞り駆動モータ１６により回動される
ようにしてある。また、絞り板１５-3、１５-4は図面に
おいて横方向のボールねじ２７の左半分、右半分にそれ
ぞれ設けた逆方向のねじ部２７ａ、２７ｂに螺合されて
いる。ボールねじ２７は第２の絞り駆動モータ１７によ
り回動されるようにしてある。つまり、ボールねじ２
６、２７の回転により絞り板１５-1、１５-2の組、１５
-3、１５-4の組は、ボールねじ２６、２７の回転方向に
より接近または離間し、それらの絞り板により形成され
る露光エリア３１はその大きさ、位置を任意にに設定す
ることができる。
に並んだ２個の長方形の絞り板１５-1、１５-2、左右に
並んだ２個の同じく長方形の絞り板１５-3、１５-4を有
しており、絞り板１５-1、同１５-2は図面において縦方
向のボールねじ２６上半分、下半分にそれぞれ設けた逆
方向のねじ部２６ａ、２６ｂに螺合されている。ボール
ねじ２６は第１の絞り駆動モータ１６により回動される
ようにしてある。また、絞り板１５-3、１５-4は図面に
おいて横方向のボールねじ２７の左半分、右半分にそれ
ぞれ設けた逆方向のねじ部２７ａ、２７ｂに螺合されて
いる。ボールねじ２７は第２の絞り駆動モータ１７によ
り回動されるようにしてある。つまり、ボールねじ２
６、２７の回転により絞り板１５-1、１５-2の組、１５
-3、１５-4の組は、ボールねじ２６、２７の回転方向に
より接近または離間し、それらの絞り板により形成され
る露光エリア３１はその大きさ、位置を任意にに設定す
ることができる。
【００１８】上記本発明の露光装置においては、液晶マ
スク１９を露光マスクとして使用し、液晶マスク１９内
でデータ表示を行わせ、データ表示位置を変更するよう
にしているため、液晶マスクのトータル的な耐久性の向
上とマスク交換頻度の低減を図ることができる。
スク１９を露光マスクとして使用し、液晶マスク１９内
でデータ表示を行わせ、データ表示位置を変更するよう
にしているため、液晶マスクのトータル的な耐久性の向
上とマスク交換頻度の低減を図ることができる。
【００１９】なお、本発明は上記実施例のみに限定され
ない。例えば、上記実施例においては液晶マスクを固定
し光源用ボックスとレンズボックスとを移動させるよう
にしているが、その逆としてもよい。
ない。例えば、上記実施例においては液晶マスクを固定
し光源用ボックスとレンズボックスとを移動させるよう
にしているが、その逆としてもよい。
【００２０】
【発明の効果】以上から明らかなように、本発明の露光
装置においては液晶マスク内にホストＣＰＵ、露光内容
作成ＣＰＵ等により露光パターンを形成するようにして
いるため、露光マスクとして極めて柔軟性に富み、予め
担持させてある文字、数字等に露光パターンが限定され
ることなく、特殊の記号その他の印字が可能である。ま
た、絞りの採用によって露光位置の変更を可能としてあ
るため、液晶マスクの寿命を長くすることができる。
装置においては液晶マスク内にホストＣＰＵ、露光内容
作成ＣＰＵ等により露光パターンを形成するようにして
いるため、露光マスクとして極めて柔軟性に富み、予め
担持させてある文字、数字等に露光パターンが限定され
ることなく、特殊の記号その他の印字が可能である。ま
た、絞りの採用によって露光位置の変更を可能としてあ
るため、液晶マスクの寿命を長くすることができる。
【図１】本発明の一実施例の模式図。
【図２】その絞り作動部の平面図。
【図３】従来の露光装置の概略構成を示す模式図。
【図４】従来のパターンマスクの平面図。
１………光源 ２………レンズ ３………パターンマスク ４………パターマスク駆動モータ ５………ターゲット ６………光源ボックス ７………レンズボックス ８………制御ＣＰＵ ９………装置筐体 １０………マスク移動モータ １１………露光ヘッド １２………シャッタ １３………シャッタ駆動シリンダ １４………光源ガイド １５………絞り １５1 〜１５4 …絞り板 １６、１７…絞り駆動モータ １８………液晶マスク表示位置移動モータ １９………液晶マスク ２０………フォーカス移動モータ ２１………フォーカス移動制御回路 ２２………液晶マスク表示デコーダ ２３………露光表示データ位置決め制御回路 ２４………全体制御回路 ２５………露光内容作成ＣＰＵ ２６、２７…ボールねじ ２８………ホストＣＰＵ ２９………シャッタ開時間管理制御ボックス ３０………光源電源 ３１………露光エリア
Claims (3)
- 【請求項１】 光源と、この光源からの光を投射される
マスクと、このマスクの担持する文字、数字等をターゲ
ット上に結像させるレンズとを有する露光装置におい
て、 前記マスクを液晶マスクとし、この液晶マスクと前記光
源との間には、露光エリアの位置制御を行う絞り機構
と、前記液晶マスク全体の位置決めを行う液晶マスク駆
動機構とを設け、前記液晶マスク内には電子的に露光パ
ターンを形成させるようにしたことを特徴とする露光装
置。 - 【請求項２】 前記液晶マスク内の露光パターンはホス
トＣＰＵの転送データにより露光内容を作成する露光内
容作成ＣＰＵにより作成し、前記絞り機構および前記液
晶マスク全体の位置決め機構は、前記露光内容作成ＣＰ
Ｕの出力データを制御入力とする全体制御回路の制御下
に置かれたことを特徴とする請求項１記載の露光装置。 - 【請求項３】 前記光源と前記絞り機構との間には光源
ガイドを設け、前記光源と光源ガイドとの間には光源シ
ャッタを設け、この光源シャッタは前記全体制御回路の
制御出力により制御されるようにしたこと特徴とする請
求項２記載の露光装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5329174A JPH07192982A (ja) | 1993-12-27 | 1993-12-27 | 露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5329174A JPH07192982A (ja) | 1993-12-27 | 1993-12-27 | 露光装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07192982A true JPH07192982A (ja) | 1995-07-28 |
Family
ID=18218477
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5329174A Withdrawn JPH07192982A (ja) | 1993-12-27 | 1993-12-27 | 露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07192982A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7332734B2 (en) | 2004-06-01 | 2008-02-19 | Lg Electronics Inc. | Lithography apparatus and pattern forming method using the same having an liquid crystal panel for a photo mask function |
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1993
- 1993-12-27 JP JP5329174A patent/JPH07192982A/ja not_active Withdrawn
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7332734B2 (en) | 2004-06-01 | 2008-02-19 | Lg Electronics Inc. | Lithography apparatus and pattern forming method using the same having an liquid crystal panel for a photo mask function |
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