JPH07202396A - 回路基板装置の製造方法 - Google Patents

回路基板装置の製造方法

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JPH07202396A
JPH07202396A JP1580294A JP1580294A JPH07202396A JP H07202396 A JPH07202396 A JP H07202396A JP 1580294 A JP1580294 A JP 1580294A JP 1580294 A JP1580294 A JP 1580294A JP H07202396 A JPH07202396 A JP H07202396A
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秀雄 栗原
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 回路基板におけるランドを分割する半田流動
阻止用ダムを容易に厚く形成することができる方法を提
供する。 【構成】 回路基板1にランド3、4を形成すると共に
配線導体2を形成する。次に、クロスオーバーガラス層
5を配線導体2の上に形成すると同時にクロスオーバー
ガラスによる第1の半田流動阻止用ダム5aをランド4
の上に形成する。クロスオーバーガラス層5の上にクロ
スオーバー配線導体2aを形成する。厚膜抵抗体層6を
形成すると同時に厚膜抵抗体から第2の半田流動阻止用
ダム6aを形成する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、混成集積回路等のクロ
スオーバー配線導体を有する回路基板装置の製造方法に
関する。
【0002】
【従来の技術】混成集積回路を製造する際に、使用する
電子部品(例えばIC)を、実質的に同一な電気的特性
を有しているにも拘らず寸法が幾らか相違するものに変
えなければならないことがしばしば生じる。この場合、
電子部品に合せて回路基板の部品取付用ランドのパター
ンを換えれば必然的に混成集積回路がコスト高になる。
【0003】この問題を解決するために、複数種の電子
部品に適合するように部品取付用ランドを大きめに予め
設けておくことが考えられる。しかし、部品取付用ラン
ドを大面積に形成すると、ここに塗布されるクリーム半
田(ペースト状半田)の量も多くなり、リフロー半田付
け時に部品取付用ランドから半田が流出して端子間短絡
を起こしたり、電子部品のリード端子の位置ずれを生じ
させることがある。この種の問題を解決するために、部
品取付用ランドを半田レジストで分割し、複数種の電子
部品(IC)に対応させることが例えば実開昭62−1
96376号公報に開示されている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】ところで、ランドの分
割を半田レジストで行うと、分割のための工程が必要に
なり、回路基板装置が必然的にコスト高になる。また、
半田レジストで分割する場合には、この分割領域の高さ
がさほど高くならず、半田の流れを十分に阻止すること
ができなかった。
【0005】そこで、本発明の目的は、ランドに半田流
動阻止用ダムを有する回路基板装置を容易に得ることが
できる製造方法を提供することにある。
【0006】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
の本発明は、クロスオーバー配線導体を有する回路基板
装置の製造方法において、回路基板の表面上に電子部品
を半田によって取付けるための部品取付用ランドを設け
且つ配線導体を設ける工程と、少なくとも前記配線導体
の前記クロスオーバー配線導体を設ける部分の上にクロ
スオーバーガラス層を設けると同時に前記部品取付用ラ
ンドを複数に分割するように前記クロスオーバーガラス
層と同一のガラスから成る半田流動阻止用ダムを設ける
工程とを有する回路基板装置の製造方法に係わるもので
ある。
【0007】
【発明の作用及び効果】本発明においてはランドを分割
する半田流動阻止用ダムをクロスオーバー配線部のクロ
スオーバーガラス層の形成と同時に形成する。従って、
独立したランド分割のための工程が不要になり、回路基
板装置のコストの低減が可能になる。また、半田流動阻
止用ダムはクロスオーバーガラス層と同一のガラスで形
成されるので、半田レジストに比べて厚く形成すること
ができ、高さの高い半田流動阻止用ダムが容易に得られ
る。
【0008】
【実施例】次に、図1〜図5を参照して本発明の実施例
に係わる混成集積回路基板装置の製造方法を説明する。
まず、図1に示すように、アルミナ磁器基板から成る回
路基板1上に配線導体2、一方の側の部品取付用ランド
3及び他方の側の部品取付用ランド4を設ける。一方の
側の部品取付用ランド3と他方の側の部品取付用ランド
4とはIC等の電子部品のリード端子に対応するように
配置されている。一方の側の部品取付用ランド3は複数
種の電子部品で共通に使用するように形成されている。
他方の側の部品取付用ランド4は複数種の電子部品に対
応することができるように長めに形成されている。
【0009】次に、図2に示すように、配線導体2の上
にクロスオーバーガラス層5を形成すると同時に、他方
の側の部品取付用ランド4を分割するようにクロスオー
バーガラス層5と同一のガラス材料から成る第1の半田
流動阻止用ダム5aを短冊状に形成する。なお、クロス
オーバーガラス層5及び第1の半田流動阻止用ダム5a
は周知の方法でガラスペーストを印刷し、焼成すること
によって形成する。第1の半田流動阻止用ダム5aはク
ロスオーバーガラス層5と同一の工程で形成されるため
に、コストの低減が図られる。
【0010】次に、クロスオーバーガラス層5の上にク
ロスオーバー配線導体2aを形成する。
【0011】次に、斜線を付して示すように、抵抗ペー
ストを印刷し、焼成することによって厚膜抵抗体層6と
これと同一の厚膜抵抗体から成る第2の半田流動阻止用
ダム6aを形成する。第2の半田流動阻止用ダム6a
は、他方の側の部品取付用ランド4を長手方向において
2つに分割するようにクロスオーバーガラスから成る第
1の半田流動阻止用ダム5aの上に配設する。これによ
り、クロスオーバーガラスから成る第1の半田流動阻止
用ダム5aと厚膜抵抗体から成る第2の半田流動阻止用
ダム6aとから成る半田流動阻止用ダム7が得られ、リ
ードランド4は第1のランド部4aと第2のランド部4
bに分割される。クロスオーバーガラスから成る第1の
半田流動阻止用ダム5aは約20μmの厚さを有し、厚
膜抵抗体から成る第2の半田流動阻止用ダム6aは約1
3μmの厚さを有するので、ランド分割領域における半
田流動阻止用ダム7の高さは全体で約33μmとなる。
クロスオーバーガラス層5を2層に形成する場合には第
1の半田流動阻止用ダム5aが更に高くなり、例えば5
3μmになる。
【0012】次に、図3及び図4に示すように、一方の
側の部品取付用ランド3及び他方の側の第1及び第2の
ランド部4a、4b、リードランド(図示せず)等を除
いた領域にオーバーコートガラス層8を形成する。以上
の工程で製作された回路基板装置は、図4に示す幅の狭
い第1の電子部品9aと図5に示す幅の広い電子部品9
bとの両方に適合する。
【0013】図3及び図4はSOP型パッケージICか
ら成る幅の狭い第1の電子部品9aを搭載した状態を示
す。この電子部品9aは平板状本体部10から左右対称
に導出された複数本のリード端子11、12を有する。
一方の側のリード端子11は、一方の側の部品取付用ラ
ンド3に半田13で固着され、他方の側のリード端子1
2は第1のランド4aに半田13で固着されている。一
方及び他方の側のリード端子11、12の半田付けは、
クリーム半田(ペースト状半田)をランド3及び4aに
印刷し、このクリーム半田のリフローによって行う。リ
ード端子12のための第1のランド部4aは、ランド4
を半田流動阻止用ダム7によって分割した部分であるの
で、この第1のランド部4aの半田の量は比較的少な
い。従って、リード端子12の相互間の短絡や、半田1
3のかたよりに基づくリード端子12の位置ずれを防ぐ
ことができる。
【0014】なお、半田流動阻止用ダム7におけるクロ
スオーバーガラスから成る第1の半田流動阻止用ダム5
aはオーバーコートガラス層8よりも厚く形成すること
ができるので、半田流動の阻止機能をほぼ十分に備えて
いる。本実施例では更に厚膜抵抗体から成る第2の半田
流動阻止用ダム6aも有するので、半田流動の阻止がよ
り確実に達成される。なお、第2の半田流動阻止用ダム
6aは厚膜抵抗体層6の形成と同時に形成されるので、
これを設けることによるコストの増大はほとんどない。
【0015】幅広の第2の電子部品9bを搭載する場合
には、一方のリード端子11を図5に示すように共通の
ランド3に半田13で固着し、他方のリード端子12を
第2のランド部4aに半田13で固着する。第2の電子
部品9bのリード端子11、12の相互間隔(ピッチ)
は第1の電子部品8aとほぼ同一又は整数倍であるが、
幅は第1の電子部品9aよりも大きい。
【0016】この第2の電子部品9bをリフロー半田付
けする際にも半田13に基づくリード端子12の相互間
の短絡やリード端子12の位置ずれが半田流動阻止用ダ
ム7の働きで阻止される。
【0017】
【変形例】本発明は上述の実施例に限定されるものでな
く、例えば次の変形が可能なものである。 (1) 一方の側の部品取付用ランド3もリード端子1
1の延びる方向に長手に形成し、ここにも半田流動阻止
用ダム7と同様なものを設けてもよい。 (2) 図5で破線で示すように半田流動阻止用ダム7
の厚膜抵抗体から成る第2の半田流動阻止用ダム6aの
上にオーバーコートガラス層8を設けてもよい。また、
第2の半田流動阻止用ダム6aを省いて単層又は複数層
のクロスオーバーガラスから成る第1の半田流動阻止用
ダム5aのみとしてもよい。また、クロスオーバーガラ
スから成る第1の半田流動阻止用ダム5aとオーバーコ
ートガラス層8との組み合わせで半田流動阻止用ダム7
を形成してもよい。 (3) 回路基板1をアルミナ基板以外の種々の基板に
置き換えることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施例の回路基板にランドを配線導体
に形成したものを示す平面図である。
【図2】図1の回路基板上にクロスオーバーガラス層と
半田流動阻止用ダムと厚膜抵抗体層とクロスオーバー配
線導体とを形成したものを示す平面図である。
【図3】図2の回路基板の上にオーバーコートガラス層
を形成し且つ電子部品を配置したものを示す平面図であ
る。
【図4】図3のA−A線断面図である。
【図5】図4の第1の電子部品の代りに第2の電子部品
を搭載したものを示す断面図である。
【符号の説明】
2 配線導体 4 ランド 5 クロスオーバーガラス層 5a 第1の半田流動阻止用ダム

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 クロスオーバー配線導体を有する回路基
    板装置の製造方法において、 回路基板の表面上に電子部品を半田によって取付けるた
    めの部品取付用ランドを設け且つ配線導体を設ける工程
    と、 少なくとも前記配線導体の前記クロスオーバー配線導体
    を設ける部分の上にクロスオーバーガラス層を設けると
    同時に前記部分取付用ランドを複数に分割するように前
    記クロスオーバーガラス層と同一のガラスから成る半田
    流動阻止用ダムを設ける工程とを有することを特徴とす
    る回路基板装置の製造方法。
JP6015802A 1994-01-14 1994-01-14 回路基板装置の製造方法 Expired - Lifetime JP2528436B2 (ja)

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Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5088556A (ja) * 1973-12-11 1975-07-16
JPS58191421A (ja) * 1982-05-04 1983-11-08 Nec Corp 化合物半導体成長用基板と化合物半導体の製造方法
JPS6184905A (ja) * 1984-10-03 1986-04-30 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> アンテナ装置

Patent Citations (3)

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