JPH07204594A - 宇宙実験部材等の洗浄装置 - Google Patents
宇宙実験部材等の洗浄装置Info
- Publication number
- JPH07204594A JPH07204594A JP624694A JP624694A JPH07204594A JP H07204594 A JPH07204594 A JP H07204594A JP 624694 A JP624694 A JP 624694A JP 624694 A JP624694 A JP 624694A JP H07204594 A JPH07204594 A JP H07204594A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- cleaning
- water
- tank
- pure water
- washed
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
Landscapes
- Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
- Electrostatic Separation (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 本発明は低コスト、小型で、かつ、アルミ材
等が腐食する懸念のない宇宙実験部材等の洗浄装置を提
供することを目的とする。 【構成】 本発明は純水製造装置と、同純水製造装置が
製した純水を用いて被洗体を洗浄する超音波洗浄槽と、
同超音波洗浄槽が洗浄した被洗体を純水等の高圧噴射に
よって更に洗浄すると共に純水のシャワーによって濯ぐ
シャワー室と、同シャワー室における使用水を少なくと
も上記高圧噴射用として再使用可能に浄化する洗浄水タ
ンクと、同洗浄水タンク内の繰返し使用される洗浄水の
金属成分を浄化する静電浄化槽とを具備してなることを
特徴とする宇宙実験部材等の洗浄装置、を構成とする。
等が腐食する懸念のない宇宙実験部材等の洗浄装置を提
供することを目的とする。 【構成】 本発明は純水製造装置と、同純水製造装置が
製した純水を用いて被洗体を洗浄する超音波洗浄槽と、
同超音波洗浄槽が洗浄した被洗体を純水等の高圧噴射に
よって更に洗浄すると共に純水のシャワーによって濯ぐ
シャワー室と、同シャワー室における使用水を少なくと
も上記高圧噴射用として再使用可能に浄化する洗浄水タ
ンクと、同洗浄水タンク内の繰返し使用される洗浄水の
金属成分を浄化する静電浄化槽とを具備してなることを
特徴とする宇宙実験部材等の洗浄装置、を構成とする。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は宇宙で用いる実験装置そ
の他、高度な洗浄を必要とする装置の部品、機材等の洗
浄装置に関する。
の他、高度な洗浄を必要とする装置の部品、機材等の洗
浄装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、宇宙で用いる実験装置の製作では
表面処理を完全にする必要から特に入念な汚れの除去が
必要なため、機械加工の終了した部品は種々の洗浄法に
て脱脂、不純物の除去を行い、１品毎にチェックを行っ
て表面処理、防錆作業、塗装等を実施して次工程に送っ
て部品の組立を実施している。一連の洗浄工程が確立し
たシステムが出来ていれば製造時の流れとして次工程に
進められるが洗浄に当って小物で形状が複雑なものにつ
いては一品毎に人手により洗浄を実施している。
表面処理を完全にする必要から特に入念な汚れの除去が
必要なため、機械加工の終了した部品は種々の洗浄法に
て脱脂、不純物の除去を行い、１品毎にチェックを行っ
て表面処理、防錆作業、塗装等を実施して次工程に送っ
て部品の組立を実施している。一連の洗浄工程が確立し
たシステムが出来ていれば製造時の流れとして次工程に
進められるが洗浄に当って小物で形状が複雑なものにつ
いては一品毎に人手により洗浄を実施している。
【０００３】洗浄作業は、酸、アルカリ洗浄共に洗浄後
の廃液の処理が必要で処理されない洗浄水は公害防止の
観点から排出ができない。
の廃液の処理が必要で処理されない洗浄水は公害防止の
観点から排出ができない。
【０００４】従って、宇宙用機器等のように小物部品で
あっても洗浄後の廃液の処理は廃水処理装置を通すか処
理業者に依頼しなければならない。
あっても洗浄後の廃液の処理は廃水処理装置を通すか処
理業者に依頼しなければならない。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】上記従来の宇宙用実験
装置等、小物部品が多くかつ、入念な洗浄を要する部品
洗浄には解決すべき次の課題があった。
装置等、小物部品が多くかつ、入念な洗浄を要する部品
洗浄には解決すべき次の課題があった。
【０００６】（１）洗浄においては、小物部品であって
も洗浄装置として水の供給、洗浄剤、洗浄水の廃水処理
と特殊な装置が必要であり、小物部品でありながら高価
な設備が必要となるという問題があった。
も洗浄装置として水の供給、洗浄剤、洗浄水の廃水処理
と特殊な装置が必要であり、小物部品でありながら高価
な設備が必要となるという問題があった。
【０００７】（２）アルミ合金系に対する素材の洗浄に
おいては酸、アルカリ洗浄共、洗浄においてアルミ母材
をいためやすい（腐蝕されやすい）という問題があっ
た。
おいては酸、アルカリ洗浄共、洗浄においてアルミ母材
をいためやすい（腐蝕されやすい）という問題があっ
た。
【０００８】本発明は上記課題解決のため、低コスト
で、かつ、アルミ材等が腐食することのない宇宙実験部
材等の洗浄装置を提供することを目的とする。
で、かつ、アルミ材等が腐食することのない宇宙実験部
材等の洗浄装置を提供することを目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明は上記課題の解決
手段として、純水製造装置と、同純水製造装置が製した
純水を用いて被洗体を洗浄する超音波洗浄槽と、同超音
波洗浄槽が洗浄した被洗体を純水等の高圧噴射によって
更に洗浄すると共に純水のシャワーによって濯ぐシャワ
ー室と、同シャワー室における使用水を少なくとも上記
高圧噴射用として再使用可能に浄化する洗浄水タンク
と、同洗浄水タンク内の繰返し使用される洗浄水の金属
成分を浄化する静電浄化槽とを具備してなることを特徴
とする宇宙実験部材等の洗浄装置、を提供しようとする
ものである。
手段として、純水製造装置と、同純水製造装置が製した
純水を用いて被洗体を洗浄する超音波洗浄槽と、同超音
波洗浄槽が洗浄した被洗体を純水等の高圧噴射によって
更に洗浄すると共に純水のシャワーによって濯ぐシャワ
ー室と、同シャワー室における使用水を少なくとも上記
高圧噴射用として再使用可能に浄化する洗浄水タンク
と、同洗浄水タンク内の繰返し使用される洗浄水の金属
成分を浄化する静電浄化槽とを具備してなることを特徴
とする宇宙実験部材等の洗浄装置、を提供しようとする
ものである。
【００１０】
【作用】本発明は上記のように構成されるので次の作用
を有する。
を有する。
【００１１】即ち、純水製造装置によって製した純水を
用い、被洗体（部品等）を超音波洗浄槽にて洗浄し、シ
ャワー室で純水等の高圧噴射を行ない更に洗浄した後、
純水のシャワーで濯ぐので、小物部材が多く、かつ、形
状複雑な宇宙実験部品、部材等の被洗体であっても、十
分、細部まで洗浄される。従って均一な表面処理ができ
る。
用い、被洗体（部品等）を超音波洗浄槽にて洗浄し、シ
ャワー室で純水等の高圧噴射を行ない更に洗浄した後、
純水のシャワーで濯ぐので、小物部材が多く、かつ、形
状複雑な宇宙実験部品、部材等の被洗体であっても、十
分、細部まで洗浄される。従って均一な表面処理ができ
る。
【００１２】また、上記洗浄に用いたやや汚れた純水
（洗浄水）は少なくとも上記高圧噴射用の純水等として
再使用可能に浄化する洗浄水タンクを設けるので、洗浄
水が節約され低コスト洗浄が果たされる。
（洗浄水）は少なくとも上記高圧噴射用の純水等として
再使用可能に浄化する洗浄水タンクを設けるので、洗浄
水が節約され低コスト洗浄が果たされる。
【００１３】また、繰返し使用された洗浄水の金属成分
その他の不純物を浄化する静電浄化槽を備えるので、排
水が有害な金属成分その他の不純物を含まず、公害等を
発生する懸念が全くない。
その他の不純物を浄化する静電浄化槽を備えるので、排
水が有害な金属成分その他の不純物を含まず、公害等を
発生する懸念が全くない。
【００１４】また、洗浄に純水を用い、酸やアルカリを
使用しないので、アルミ材等が腐食しない。
使用しないので、アルミ材等が腐食しない。
【００１５】
【実施例】本発明の一実施例を図１、図２により説明す
る。
る。
【００１６】図１は本実施例に係る宇宙実験部材等の洗
浄装置の模式的構成図、図２は図１中の静電浄化装置１
０ａの単位の拡大斜視図である。
浄装置の模式的構成図、図２は図１中の静電浄化装置１
０ａの単位の拡大斜視図である。
【００１７】両図において、１は水道水を純水に精製す
るための、たとえば市販のミリポア等よりなる純水製造
装置、１ａは純水製造装置１で製せられた純水を一時的
に貯えるための貯水槽、２は被洗体０１を純水を満たし
た中で超音波洗浄するための超音波洗浄槽、３は被洗体
０１を洗浄位置へ移動するための搬送ロボット、３ａは
被洗体０１を把持、移動する搬送ロボット３のホルダ、
４は超音波洗浄槽２から搬送されてきた被洗体０１を高
圧スプレー６で強制洗浄した後、濯ぐための純水をスプ
レーするシャワー、５はそのシャワー室、６はシャワー
室５の側壁の内側に複数基、備えられた、被洗体０１に
高圧の純水等を吹き付けるための高圧スプレー、７はシ
ャワー室５から搬送されてきた被洗体０１を乾燥するた
めの乾燥室、７ａは乾燥室７に設けられた複数のヒータ
ー、８はシャワー室５の下方の洗浄水タンク９の入口部
に設けられた、シャワー室５におけるシャワー４、高圧
スプレー６の使用済み洗浄水を濾過するための濾過網、
９は濾過網８を通過して流れ落ちた洗浄水を貯めると共
に浄化するための洗浄水タンクである。洗浄水タンク９
は段階的に水位が下がった３つの槽に仕切られていて第
１の槽、即ち、図の左側の槽では基本的に洗浄水の油水
分離を行ない、隔壁の右で静止浮揚した油成分は図示し
ない装置で洗浄水タンク９外へ排出する。沈澱物は図示
しない装置で底部より排出する。次いで第２の槽、即ち
中央の槽は静電浄化槽１０で静電浄化装置１０ａを備
え、洗浄水中の金属成分その他の不純物を吸着除去す
る。沈澱物は図示しない装置で底部より排出する。次い
で第３の槽、即ち右端の槽は第１、第２の槽で殆ど純水
に近い迄に浄化された洗浄水を貯めておく槽で、底部
（最低部より稍高い位置）から上記、高圧スプレー６へ
ポンプ１１を経て送水可能に配管されている。なお、右
端の第３の槽が溢水する場合は外部へ排水されるが、そ
の前に図示しない装置によってＰＨを中和水となるよう
調整する。
るための、たとえば市販のミリポア等よりなる純水製造
装置、１ａは純水製造装置１で製せられた純水を一時的
に貯えるための貯水槽、２は被洗体０１を純水を満たし
た中で超音波洗浄するための超音波洗浄槽、３は被洗体
０１を洗浄位置へ移動するための搬送ロボット、３ａは
被洗体０１を把持、移動する搬送ロボット３のホルダ、
４は超音波洗浄槽２から搬送されてきた被洗体０１を高
圧スプレー６で強制洗浄した後、濯ぐための純水をスプ
レーするシャワー、５はそのシャワー室、６はシャワー
室５の側壁の内側に複数基、備えられた、被洗体０１に
高圧の純水等を吹き付けるための高圧スプレー、７はシ
ャワー室５から搬送されてきた被洗体０１を乾燥するた
めの乾燥室、７ａは乾燥室７に設けられた複数のヒータ
ー、８はシャワー室５の下方の洗浄水タンク９の入口部
に設けられた、シャワー室５におけるシャワー４、高圧
スプレー６の使用済み洗浄水を濾過するための濾過網、
９は濾過網８を通過して流れ落ちた洗浄水を貯めると共
に浄化するための洗浄水タンクである。洗浄水タンク９
は段階的に水位が下がった３つの槽に仕切られていて第
１の槽、即ち、図の左側の槽では基本的に洗浄水の油水
分離を行ない、隔壁の右で静止浮揚した油成分は図示し
ない装置で洗浄水タンク９外へ排出する。沈澱物は図示
しない装置で底部より排出する。次いで第２の槽、即ち
中央の槽は静電浄化槽１０で静電浄化装置１０ａを備
え、洗浄水中の金属成分その他の不純物を吸着除去す
る。沈澱物は図示しない装置で底部より排出する。次い
で第３の槽、即ち右端の槽は第１、第２の槽で殆ど純水
に近い迄に浄化された洗浄水を貯めておく槽で、底部
（最低部より稍高い位置）から上記、高圧スプレー６へ
ポンプ１１を経て送水可能に配管されている。なお、右
端の第３の槽が溢水する場合は外部へ排水されるが、そ
の前に図示しない装置によってＰＨを中和水となるよう
調整する。
【００１８】１０は上記した静電浄化槽、１０ａは静電
浄化槽１０内に設置された、洗浄水中の金属成分その他
の不純物を吸着するための静電浄化装置で、その拡大斜
視図を図２に示す。
浄化槽１０内に設置された、洗浄水中の金属成分その他
の不純物を吸着するための静電浄化装置で、その拡大斜
視図を図２に示す。
【００１９】１１は高圧スプレー６用に噴射するための
純水等を加圧するためのポンプ、１２は配管１３の適所
に純水及び純水等の流通、遮断可能に設けられたバル
ブ、１３は以上説明した各設備、槽等に送水可能に敷設
された配管である。なお、高圧スプレー６に純水又は洗
浄水タンク９からの浄化水を用いてよい理由は高圧スプ
レー６によって噴射洗浄された被洗体０１は最後にシャ
ワー４により純水で濯がれるからである。
純水等を加圧するためのポンプ、１２は配管１３の適所
に純水及び純水等の流通、遮断可能に設けられたバル
ブ、１３は以上説明した各設備、槽等に送水可能に敷設
された配管である。なお、高圧スプレー６に純水又は洗
浄水タンク９からの浄化水を用いてよい理由は高圧スプ
レー６によって噴射洗浄された被洗体０１は最後にシャ
ワー４により純水で濯がれるからである。
【００２０】次に上記構成の作用について説明する。
【００２１】先ず、加工された部品即ち、被洗体０１は
超音波洗浄槽２に搬入され、貯水槽１ａから純水が満た
されて超音波洗浄され、洗浄終了後、搬送ロボット３に
よりシャワー室５に搬送され、高圧スプレー６により噴
射洗浄される。その後、上部のシャワー４により純水で
全体の仕上シャワー洗浄を実施し、洗浄を終了し、次い
で搬送ロボット３により乾燥室７に運んでヒーター７ａ
により乾燥を行う。
超音波洗浄槽２に搬入され、貯水槽１ａから純水が満た
されて超音波洗浄され、洗浄終了後、搬送ロボット３に
よりシャワー室５に搬送され、高圧スプレー６により噴
射洗浄される。その後、上部のシャワー４により純水で
全体の仕上シャワー洗浄を実施し、洗浄を終了し、次い
で搬送ロボット３により乾燥室７に運んでヒーター７ａ
により乾燥を行う。
【００２２】以上に使用される純水は、水道水をミリポ
ア等による純水製造装置１により処理精製した水を使用
する。純水は貯水槽１ａにためられ、超音波洗浄槽２に
入れられる。汚れの度合により槽内に洗剤の注入を行
う。
ア等による純水製造装置１により処理精製した水を使用
する。純水は貯水槽１ａにためられ、超音波洗浄槽２に
入れられる。汚れの度合により槽内に洗剤の注入を行
う。
【００２３】シャワー室５から流下した洗浄水は下部の
洗浄水タンク９に設けられた濾過網８で漉されて洗浄水
タンク９に入り、同タンク９内の上述した油水分離槽に
て油分離と沈澱を行い、次いで静電浄化槽１０にて金属
類の浄化を行う。即ち、図２の電極板１５に電圧が印加
されると、洗浄水中より不純物は分離するため、純水
（不良導体）中から分離し、誘電体１６に吸着汚染物０
２となって吸着され、洗浄水は殆ど純水になる。このあ
と、最終端の槽の底部から配管１３にて高圧スプレー６
に参加し、余剰水はＰＨ調整を実施して排水として流
す。
洗浄水タンク９に設けられた濾過網８で漉されて洗浄水
タンク９に入り、同タンク９内の上述した油水分離槽に
て油分離と沈澱を行い、次いで静電浄化槽１０にて金属
類の浄化を行う。即ち、図２の電極板１５に電圧が印加
されると、洗浄水中より不純物は分離するため、純水
（不良導体）中から分離し、誘電体１６に吸着汚染物０
２となって吸着され、洗浄水は殆ど純水になる。このあ
と、最終端の槽の底部から配管１３にて高圧スプレー６
に参加し、余剰水はＰＨ調整を実施して排水として流
す。
【００２４】以上の通り、本実施例によれば純水製造装
置１によって得た純水と超音波洗浄槽２、高圧スプレー
６、シャワー４とによって宇宙実験装置等の部品を被洗
体０１として洗浄するので、かつ、場合によっては洗剤
を併用して洗浄するので、被洗体０１即ち、小物部品等
の細部迄も十分に洗浄されるという利点がある。
置１によって得た純水と超音波洗浄槽２、高圧スプレー
６、シャワー４とによって宇宙実験装置等の部品を被洗
体０１として洗浄するので、かつ、場合によっては洗剤
を併用して洗浄するので、被洗体０１即ち、小物部品等
の細部迄も十分に洗浄されるという利点がある。
【００２５】また、高圧スプレー６の洗浄水（噴射水）
には使用済みの洗浄水を浄化して繰返し使用するので洗
浄コストの大きな部分を占める洗浄水コストがきわめて
低いという利点がある。
には使用済みの洗浄水を浄化して繰返し使用するので洗
浄コストの大きな部分を占める洗浄水コストがきわめて
低いという利点がある。
【００２６】また、排水は浄化の上、ＰＨ調整して排出
されるので公害等への悪影響が全くないという利点があ
る。
されるので公害等への悪影響が全くないという利点があ
る。
【００２７】また、使用される装置や槽等には特殊な装
置や広い場所を必要とするものがないから、全体設備を
低コスト、狭隘域で得られるという利点がある。
置や広い場所を必要とするものがないから、全体設備を
低コスト、狭隘域で得られるという利点がある。
【００２８】また、洗浄水に酸やアルカリを用いないの
で、宇宙用機器の部材として必須の軽量材料であるアル
ミ材が腐蝕される懸念が全くないという利点がある。
で、宇宙用機器の部材として必須の軽量材料であるアル
ミ材が腐蝕される懸念が全くないという利点がある。
【００２９】なお、本実施例では宇宙実験装置等の部品
を被洗体に擬したが、被洗体は宇宙用機器等の部材に限
定されるものではなく、合目的な他のどのような部材、
たとえば地上機器等の部材であってもよい。
を被洗体に擬したが、被洗体は宇宙用機器等の部材に限
定されるものではなく、合目的な他のどのような部材、
たとえば地上機器等の部材であってもよい。
【００３０】
【発明の効果】本発明は上記のように構成されるので次
の効果を有する。
の効果を有する。
【００３１】即ち、純水を洗浄水とし、超音波洗浄槽、
高圧噴射、シャワーによる濯ぎのプロセスで、かつ、高
圧噴射水には洗浄水を繰返し使用しながら、小物部品等
を洗浄するので、細部に至る迄、被洗体が洗浄される。
高圧噴射、シャワーによる濯ぎのプロセスで、かつ、高
圧噴射水には洗浄水を繰返し使用しながら、小物部品等
を洗浄するので、細部に至る迄、被洗体が洗浄される。
【００３２】また、洗浄水が繰返し使用されるので洗浄
水コストが低減する。
水コストが低減する。
【００３３】また、洗浄水は浄化の上、使用しかつ、余
剰水はＰＨ調整して排水されるので公害を引き起す懸念
が全くない。
剰水はＰＨ調整して排水されるので公害を引き起す懸念
が全くない。
【００３４】特殊な装置や広大な設備を必要としないの
で、狭域低コストで装置（設備）が得られる。
で、狭域低コストで装置（設備）が得られる。
【００３５】酸やアルカリを洗浄に用いる必要がないの
で、アルミ材等の多い宇宙機器用部材が洗浄によって腐
食することがない。
で、アルミ材等の多い宇宙機器用部材が洗浄によって腐
食することがない。
【図１】本発明の一実施例に係る宇宙実験部材等の洗浄
装置の模式的構成図、
装置の模式的構成図、
【図２】図１中の静電浄化装置の拡大斜視図とその洗浄
水の流れを示す図である。
水の流れを示す図である。
１ 純水製造装置 ２ 超音波洗浄槽 ４ シャワー ５ シャワー室 ６ 高圧スプレー ７ 乾燥室 ８ 濾過網 ９ 洗浄水タンク １０ 静電浄化槽 １０ａ 静電浄化装置
Claims (1)
- 【請求項１】 純水製造装置と、同純水製造装置が製し
た純水を用いて被洗体を洗浄する超音波洗浄槽と、同超
音波洗浄槽が洗浄した被洗体を純水等の高圧噴射によっ
て更に洗浄すると共に純水のシャワーによって濯ぐシャ
ワー室と、同シャワー室における使用水を少なくとも上
記高圧噴射用として再使用可能に浄化する洗浄水タンク
と、同洗浄水タンク内の繰返し使用される洗浄水の金属
成分を浄化する静電浄化槽とを具備してなることを特徴
とする宇宙実験部材等の洗浄装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP624694A JPH07204594A (ja) | 1994-01-25 | 1994-01-25 | 宇宙実験部材等の洗浄装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP624694A JPH07204594A (ja) | 1994-01-25 | 1994-01-25 | 宇宙実験部材等の洗浄装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07204594A true JPH07204594A (ja) | 1995-08-08 |
Family
ID=11633149
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP624694A Withdrawn JPH07204594A (ja) | 1994-01-25 | 1994-01-25 | 宇宙実験部材等の洗浄装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07204594A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008264722A (ja) * | 2007-04-24 | 2008-11-06 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 水系洗浄方法および水系洗浄装置 |
| CN105013759A (zh) * | 2015-08-19 | 2015-11-04 | 成都鑫成鹏线缆材料有限公司 | 电缆原材料清洗设备及清洗工艺 |
| CN105214987A (zh) * | 2015-10-29 | 2016-01-06 | 南京恒昌轻工机械有限公司 | 一种挤出式超声波喷淋托盘清洗机 |
| CN105344654A (zh) * | 2015-12-10 | 2016-02-24 | 重庆润际远东新材料科技有限公司 | 一种用于硅粉生产的污水处理及氮气充入式硅块破碎系统 |
| CN105499196A (zh) * | 2016-01-12 | 2016-04-20 | 昆山德泰新材料科技有限公司 | 一种电解铜粉清洗装置 |
| KR20220049957A (ko) * | 2020-10-15 | 2022-04-22 | 주식회사 크리드 | 사물인터넷을 이용한 폐액처리시스템 |
-
1994
- 1994-01-25 JP JP624694A patent/JPH07204594A/ja not_active Withdrawn
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008264722A (ja) * | 2007-04-24 | 2008-11-06 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 水系洗浄方法および水系洗浄装置 |
| CN105013759A (zh) * | 2015-08-19 | 2015-11-04 | 成都鑫成鹏线缆材料有限公司 | 电缆原材料清洗设备及清洗工艺 |
| CN105214987A (zh) * | 2015-10-29 | 2016-01-06 | 南京恒昌轻工机械有限公司 | 一种挤出式超声波喷淋托盘清洗机 |
| CN105344654A (zh) * | 2015-12-10 | 2016-02-24 | 重庆润际远东新材料科技有限公司 | 一种用于硅粉生产的污水处理及氮气充入式硅块破碎系统 |
| CN105499196A (zh) * | 2016-01-12 | 2016-04-20 | 昆山德泰新材料科技有限公司 | 一种电解铜粉清洗装置 |
| KR20220049957A (ko) * | 2020-10-15 | 2022-04-22 | 주식회사 크리드 | 사물인터넷을 이용한 폐액처리시스템 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| EP0648548B1 (en) | Cleaning method and cleaning apparatus | |
| US5333629A (en) | Apparatus for cleaning metal articles | |
| KR19980052484A (ko) | 웨이퍼 습식 처리 장치 | |
| US5707457A (en) | Apparatus and process for spray rinsing chemically treated articles | |
| US20080196748A1 (en) | System and Method for Cleaning Process Trays | |
| CN103361664A (zh) | 碳钢管道清洗方法及清洗剂 | |
| CN107937902B (zh) | 一种金属表面雾化喷淋前处理工艺 | |
| RU2097447C1 (ru) | Способ струйной промывки деталей на подвесках и установка для его осуществления | |
| JPH07108208A (ja) | 塗装前処理装置 | |
| JPH08140916A (ja) | 弁当箱洗浄装置 | |
| RU2002114220A (ru) | Способ бессточной гальванохимической обработки и очистки поверхностей деталей, в частности, на подвесках | |
| CN109594081A (zh) | 一种利用循环水清洗金属工件的方法 | |
| JPS6115979Y2 (ja) | ||
| JPH1161469A (ja) | 塗装の前処理洗浄装置 | |
| CN216006024U (zh) | 一种化工厂生产用自净化型酸洗槽 | |
| JP2773574B2 (ja) | 塗装装置 | |
| JPH0326931Y2 (ja) | ||
| JP2603273Y2 (ja) | 金属塩を含むミストを同伴する排ガスの処理装置 | |
| JPH0517887A (ja) | ワーク洗浄方法及び洗浄装置 | |
| JPH1099801A (ja) | 洗浄装置 | |
| RU2002120885A (ru) | Способ бессточной гальванохимической обработки и очистки поверхностей деталей, размещаемых в перфорированных барабанах | |
| JP5236781B2 (ja) | 未塗着塗料回収システム及び未塗着塗料回収方法 | |
| JP2780472B2 (ja) | 製缶用洗浄装置 | |
| JPH0546270B2 (ja) | ||
| JPS5939366A (ja) | 塗装前処理装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20010403 |