JPH0720928Y2 - 光センサー - Google Patents
光センサーInfo
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- JPH0720928Y2 JPH0720928Y2 JP1988135117U JP13511788U JPH0720928Y2 JP H0720928 Y2 JPH0720928 Y2 JP H0720928Y2 JP 1988135117 U JP1988135117 U JP 1988135117U JP 13511788 U JP13511788 U JP 13511788U JP H0720928 Y2 JPH0720928 Y2 JP H0720928Y2
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- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 133
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 45
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 claims description 20
- 239000000843 powder Substances 0.000 claims description 17
- 230000001902 propagating effect Effects 0.000 claims description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 7
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 description 7
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 6
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 2
- 239000004809 Teflon Substances 0.000 description 1
- 229920006362 Teflon® Polymers 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 1
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 1
- 230000000644 propagated effect Effects 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
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Description
【考案の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本考案は、ファクシミリやデジタル複写機、イメージス
キャナー等に使用される原稿読取用の光センサーに関
し、特に、原稿からの光像を光導波路の端面から入射
し、該入射光像を光導波路を介して受光素子に伝搬し原
稿像を読み取る端面入射型の光センサーに関する。
キャナー等に使用される原稿読取用の光センサーに関
し、特に、原稿からの光像を光導波路の端面から入射
し、該入射光像を光導波路を介して受光素子に伝搬し原
稿像を読み取る端面入射型の光センサーに関する。
(従来の技術) 従来、ファクシミリ等に用いられる原稿読取用の光セン
サーとしては、蛍光灯等の光源によって照明光を原稿に
照射し、原稿からの反射光をレンズによってCCD等の受
光素子に結像し、その受光素子によって光電変換して原
稿画像を読み取っていた。
サーとしては、蛍光灯等の光源によって照明光を原稿に
照射し、原稿からの反射光をレンズによってCCD等の受
光素子に結像し、その受光素子によって光電変換して原
稿画像を読み取っていた。
しかしながら、上記光センサーのように、受光素子上に
レンズを用いて原稿画像を結像する場合、原稿を照明す
る光源からの出射光量の内、受光素子に入射される光量
の割合はほぼレンズのF値によって決まってしまい、高
々数%と極めて小さく大光量の光源を必要とするという
欠点があった。また、原稿画像をレンズを用いて受光素
子上に結像する場合、原稿から受光素子に至る光路長は
レンズの焦点距離等によって決まってしまい、ファクシ
ミリ等の装置の小型化を図りにくいという欠点があっ
た。
レンズを用いて原稿画像を結像する場合、原稿を照明す
る光源からの出射光量の内、受光素子に入射される光量
の割合はほぼレンズのF値によって決まってしまい、高
々数%と極めて小さく大光量の光源を必要とするという
欠点があった。また、原稿画像をレンズを用いて受光素
子上に結像する場合、原稿から受光素子に至る光路長は
レンズの焦点距離等によって決まってしまい、ファクシ
ミリ等の装置の小型化を図りにくいという欠点があっ
た。
そこで、上記原稿読取用の光センサーの欠点を解消する
ため、光導波路を利用して原稿画像を受光素子に伝搬
し、原稿画像を検出する光センサーが提案されている。
ため、光導波路を利用して原稿画像を受光素子に伝搬
し、原稿画像を検出する光センサーが提案されている。
第5図は上記光導波路を利用した光センサーの一例を示
し、この光センサーは、基板22上に光導波路層23と受光
素子24とを備え、原稿25の画像形成面に対向配置された
上記光導波路層23の一端面から原稿像を入射し、上記光
導波路層23を介して原稿像を上記受光素子24に伝搬して
原稿像を検出する構成となっている。
し、この光センサーは、基板22上に光導波路層23と受光
素子24とを備え、原稿25の画像形成面に対向配置された
上記光導波路層23の一端面から原稿像を入射し、上記光
導波路層23を介して原稿像を上記受光素子24に伝搬して
原稿像を検出する構成となっている。
(発明が解決しようとする課題) ところで、第5図に示す構成の端面入射型光センサーに
おいては、原稿25から反射される反射光の光量や隣接ビ
ットとの分解能を一定に保つために、原稿面と光導波路
23の端面23aとの間の距離を正確に一定に制御すること
が要求される。
おいては、原稿25から反射される反射光の光量や隣接ビ
ットとの分解能を一定に保つために、原稿面と光導波路
23の端面23aとの間の距離を正確に一定に制御すること
が要求される。
そこで、従来の端面入射型光センサー21を用いた原稿読
取装置においては、第5図に示すように、光センサー21
の基板22の端面22a及び光導波路23の端面23a近傍に、原
稿25を搬送及び固定するローラ26,27,28,29等の機構系
を設け、該ローラ26,27,28,29等の機構系によって光導
波路23の受光側端面23aと原稿面との距離が常に一定に
保たれるように制御する方法や、あるいは、第6図に示
されるように、光センサー31の基板32及び光導波路33の
端面と原稿との間に、距離調整のためのスペーサー用透
明板36を貼り付け、基板32及び光導波路33の端面と原稿
面との距離を一定に保つ方法等が行なわれていた。
取装置においては、第5図に示すように、光センサー21
の基板22の端面22a及び光導波路23の端面23a近傍に、原
稿25を搬送及び固定するローラ26,27,28,29等の機構系
を設け、該ローラ26,27,28,29等の機構系によって光導
波路23の受光側端面23aと原稿面との距離が常に一定に
保たれるように制御する方法や、あるいは、第6図に示
されるように、光センサー31の基板32及び光導波路33の
端面と原稿との間に、距離調整のためのスペーサー用透
明板36を貼り付け、基板32及び光導波路33の端面と原稿
面との距離を一定に保つ方法等が行なわれていた。
しかしながら、光センサー21,31の端面と原稿面との間
の距離は、通常10μm〜50μm程度に制御する必要があ
るため、第5図に示した方法では、μmオーダーの距離
を正確に制御するのは非常に難しく、正確に制御するた
めには、複雑且つ精密な機構系が必要となり、機構系の
部品代等が高くつき、また、組み付けや調整等に手間が
かかり、コスト高の要因となるという問題が生じる また、第6図に示すように光センサー31と原稿35との間
にスペーサー用透明板36を貼り付け、原稿面と基板及び
光導波路端面との距離を一定に保つ方法では、所望の板
厚の透明板36を貼付れば良いため、距離の制御は正確に
できるが、10μm〜50μm程度の板厚の透明板36を、通
常1mm〜2mm程度の厚さの基板端面に貼りあわせることが
非常に難しく、また、スペーサー用透明板36の原稿側面
部が常時原稿面と接触するため、原稿35によってスペー
サー用透明板36の原稿側面部が擦られ傷つきや摩耗が生
じることが多く、このため、光センサー31の光の入射面
すなわち透明板36の面部が曇ってしまい、検出不良やS/
N比の低下の原因となる恐れがあり問題であった。
の距離は、通常10μm〜50μm程度に制御する必要があ
るため、第5図に示した方法では、μmオーダーの距離
を正確に制御するのは非常に難しく、正確に制御するた
めには、複雑且つ精密な機構系が必要となり、機構系の
部品代等が高くつき、また、組み付けや調整等に手間が
かかり、コスト高の要因となるという問題が生じる また、第6図に示すように光センサー31と原稿35との間
にスペーサー用透明板36を貼り付け、原稿面と基板及び
光導波路端面との距離を一定に保つ方法では、所望の板
厚の透明板36を貼付れば良いため、距離の制御は正確に
できるが、10μm〜50μm程度の板厚の透明板36を、通
常1mm〜2mm程度の厚さの基板端面に貼りあわせることが
非常に難しく、また、スペーサー用透明板36の原稿側面
部が常時原稿面と接触するため、原稿35によってスペー
サー用透明板36の原稿側面部が擦られ傷つきや摩耗が生
じることが多く、このため、光センサー31の光の入射面
すなわち透明板36の面部が曇ってしまい、検出不良やS/
N比の低下の原因となる恐れがあり問題であった。
本考案は上記事情に鑑みてなされたものであって、原稿
面と光導波路の入射側端面との距離を簡単な構造で制御
でき、また、上記光入射側端面に傷や摩耗等が生じるこ
とがなく、光センサーの高分解能化を実現し得る端面入
射型の光センサーを提供することを目的とする。
面と光導波路の入射側端面との距離を簡単な構造で制御
でき、また、上記光入射側端面に傷や摩耗等が生じるこ
とがなく、光センサーの高分解能化を実現し得る端面入
射型の光センサーを提供することを目的とする。
(課題を解決するための手段) 上記目的を達成するため、本考案では、基板上に光導波
路と受光素子とを備え、原稿面に対向配置された上記光
導波路の一端面から原稿像を入射し、上記光導波路を介
して原稿像を上記受光素子に伝搬して原稿像を検出する
端面入射型の光センサーにおいて、原稿読取時には上記
光導波路の光入射側の基板端面に原稿面が当接され、該
基板端面に沿って原稿が摺動される構成とすると共に、
上記光導波路の原稿側端面が上記基板の原稿側端面より
も原稿に対して所定の距離だけ後退して形成されている
ことを特徴とする。
路と受光素子とを備え、原稿面に対向配置された上記光
導波路の一端面から原稿像を入射し、上記光導波路を介
して原稿像を上記受光素子に伝搬して原稿像を検出する
端面入射型の光センサーにおいて、原稿読取時には上記
光導波路の光入射側の基板端面に原稿面が当接され、該
基板端面に沿って原稿が摺動される構成とすると共に、
上記光導波路の原稿側端面が上記基板の原稿側端面より
も原稿に対して所定の距離だけ後退して形成されている
ことを特徴とする。
また、上記構成に加えて、基板の原稿側端面に摩耗粉受
け用の溝を形成したことを特徴とする。
け用の溝を形成したことを特徴とする。
(作用) 本考案による光センサーでは、光導波路の原稿側端面が
上記基板の原稿側端面よりも原稿に対して所定の距離だ
け後退して形成されているため、基板の端面と原稿面と
を当接しておくだけで、光導波路の光入射側端面と原稿
面との間の距離が一定に保たれる。
上記基板の原稿側端面よりも原稿に対して所定の距離だ
け後退して形成されているため、基板の端面と原稿面と
を当接しておくだけで、光導波路の光入射側端面と原稿
面との間の距離が一定に保たれる。
また、本考案によれば、特別なスペーサー等を介在せず
に光導波路の光入射側端面と原稿面との間の距離を一定
に保つことができるため、光センサーの光入射面と原稿
との接触が防止され、入射面の傷付きや摩耗等が未然に
防止される。
に光導波路の光入射側端面と原稿面との間の距離を一定
に保つことができるため、光センサーの光入射面と原稿
との接触が防止され、入射面の傷付きや摩耗等が未然に
防止される。
また、基板の原稿側端面に摩耗粉受け用の溝を形成した
光センサーにおいては、基板端面と原稿との摺接時に生
じた紙粉等の摩耗粉が上記溝部に取り込まれ、光導波路
の光入射側端面への摩耗粉の付着等が防止される。
光センサーにおいては、基板端面と原稿との摺接時に生
じた紙粉等の摩耗粉が上記溝部に取り込まれ、光導波路
の光入射側端面への摩耗粉の付着等が防止される。
(実施例) 以下、本考案を図示の一実施例に基づいて詳細に説明す
る。
る。
第1図は本考案の一実施例を示す光センサーの概略的側
面構成図を示し、図中符号1は光センサー、符号5は原
稿を夫々示している。
面構成図を示し、図中符号1は光センサー、符号5は原
稿を夫々示している。
ここで、本考案による光センサー1は、基板2上に光導
波路層3と受光素子(光電変換素子)4とを備えてお
り、原稿面に対向配置された上記光導波路3の一端面3a
から原稿像を入射し、上記光導波路3を介して原稿像を
上記受光素子4に伝搬して原稿像を検出する端面入射型
の光センサー1であり、原稿読取時には上記光導波路3
の光入射側の基板端面2aに原稿面が当接され、該基板端
面2aに沿って原稿5が摺動される構成とすると共に、上
記光導波路3の原稿側端面3aが上記基板2の原稿側端面
2aよりも原稿面5に対して所定の距離(通常10μm〜50
μm)dだけ後退して形成されていることを特徴とする
ものである。
波路層3と受光素子(光電変換素子)4とを備えてお
り、原稿面に対向配置された上記光導波路3の一端面3a
から原稿像を入射し、上記光導波路3を介して原稿像を
上記受光素子4に伝搬して原稿像を検出する端面入射型
の光センサー1であり、原稿読取時には上記光導波路3
の光入射側の基板端面2aに原稿面が当接され、該基板端
面2aに沿って原稿5が摺動される構成とすると共に、上
記光導波路3の原稿側端面3aが上記基板2の原稿側端面
2aよりも原稿面5に対して所定の距離(通常10μm〜50
μm)dだけ後退して形成されていることを特徴とする
ものである。
すなわ、本考案による光センサー1においては、光導波
路3の原稿側端面3aが上記基板2の原稿側端面2aよりも
原稿5に対して所定距離dだけ後退して形成されている
ため、基板2の端面2aと原稿面とを当接しておき、原稿
5を基板端面2aに接触した状態で走行させれば、自動的
に光導波路3の光入射側端面3aと原稿面との間の距離d
が一定に保持制御される。
路3の原稿側端面3aが上記基板2の原稿側端面2aよりも
原稿5に対して所定距離dだけ後退して形成されている
ため、基板2の端面2aと原稿面とを当接しておき、原稿
5を基板端面2aに接触した状態で走行させれば、自動的
に光導波路3の光入射側端面3aと原稿面との間の距離d
が一定に保持制御される。
また、上記構成によれば、特別なスペーサー等を介在せ
ずに光導波路3の光入射側端面3aと原稿面との間の距離
dを自動的に一定に保つことができるため、光導波路3
の光入射側端面3aと原稿5との接触が完全に防止され、
光入射面3aの傷付きや摩耗等が未然に防止される。
ずに光導波路3の光入射側端面3aと原稿面との間の距離
dを自動的に一定に保つことができるため、光導波路3
の光入射側端面3aと原稿5との接触が完全に防止され、
光入射面3aの傷付きや摩耗等が未然に防止される。
したがって、本考案による光センサー1では、簡単な構
造にもかかわらず、原稿像が入射される光導波路3の端
面3aと原稿面との距離dが常に一定に保持され、且つ、
光導波路3の光入射端面3aが傷つきや摩耗等によって曇
ることもないため、光センサー1の低コスト化、高分解
能化、S/N比の向上を容易に実現することができる。
造にもかかわらず、原稿像が入射される光導波路3の端
面3aと原稿面との距離dが常に一定に保持され、且つ、
光導波路3の光入射端面3aが傷つきや摩耗等によって曇
ることもないため、光センサー1の低コスト化、高分解
能化、S/N比の向上を容易に実現することができる。
次に、第1図に一例を示した本考案による光センサーの
製造方法について第2図を参照して簡単に説明する。
製造方法について第2図を参照して簡単に説明する。
先ず、第2図(I)に示すように、ガラスや半導体等か
らなる基板2上に光導波路層3を積層形成し、その光導
波路層3の光入射側端面とは反対の端面側に受光素子4
を形成し基本となる光センサーを形成し、且つ、該光セ
ンサーの光入射側端面を平滑に切断処理し光入射面を形
成する。
らなる基板2上に光導波路層3を積層形成し、その光導
波路層3の光入射側端面とは反対の端面側に受光素子4
を形成し基本となる光センサーを形成し、且つ、該光セ
ンサーの光入射側端面を平滑に切断処理し光入射面を形
成する。
次に、第2図(II)に示すように、上記工程で形成され
た光センサーの光導波路層3及び受光素子4の上にレジ
スト層6を形成した後、パターンニング処理にて光導波
路層3の光入射側端面3aから所定距離dまでのレジスト
層を除去する。
た光センサーの光導波路層3及び受光素子4の上にレジ
スト層6を形成した後、パターンニング処理にて光導波
路層3の光入射側端面3aから所定距離dまでのレジスト
層を除去する。
次に、第2図(III)に示すように、前工程でレジスト
層6が形成されパターンニング処理された光センサーを
エッチング処理して光導波路層3のレジスト層除去部分
を除去し、光導波路層3の光入射側端面が基板2の端面
より所定距離d後退するようにする。
層6が形成されパターンニング処理された光センサーを
エッチング処理して光導波路層3のレジスト層除去部分
を除去し、光導波路層3の光入射側端面が基板2の端面
より所定距離d後退するようにする。
そして、この後、第2図(IV)に示すように、レジスト
層6を除去すれば、本考案による光センサー1が得られ
る。
層6を除去すれば、本考案による光センサー1が得られ
る。
尚、光センサー1には、基板2、光導波路3、受光素子
4の他、外部からの迷光が光導波路や受光素子に入射さ
れることを防止する遮光層や、受光素子からの信号を取
り出すための電極等が設けられるが、図では省略した。
4の他、外部からの迷光が光導波路や受光素子に入射さ
れることを防止する遮光層や、受光素子からの信号を取
り出すための電極等が設けられるが、図では省略した。
さて、以上第2図を参照して本考案による光センサーの
製造工程について説明したが、本考案による光センサー
は製造も容易であり、製造コストを増大することもな
い。
製造工程について説明したが、本考案による光センサー
は製造も容易であり、製造コストを増大することもな
い。
したがって、本考案によれば、構成が簡単で、且つ、製
造コストを増大することなく、原稿と光導波路端面との
距離を一定に保持制御できる端面入射型の光センサーを
提供することができる。
造コストを増大することなく、原稿と光導波路端面との
距離を一定に保持制御できる端面入射型の光センサーを
提供することができる。
次に、第3図を参照して本考案による光センサーの別の
実施例について説明する。
実施例について説明する。
第3図は本考案の別の実施例を示す光センサーの概略的
側面構成図を示し、図中符号1は光センサー、符号2は
基板、符号3は光導波路層、符号4は受光素子、符号5
は原稿、符号7は光源を夫々示しており、基本的な構成
は第1図に示したものと同様である。
側面構成図を示し、図中符号1は光センサー、符号2は
基板、符号3は光導波路層、符号4は受光素子、符号5
は原稿、符号7は光源を夫々示しており、基本的な構成
は第1図に示したものと同様である。
ここで、本実施例による光センサー1は、光源7が光セ
ンサー1に対して斜め上方に設置されている場合を想定
して構成されたものであり、光源7が光センサー1に対
して斜め上方に設置されている場合にも、光導波路3へ
の入射光が入りやすいように、光導波路3の光入射側端
面3aを光の入射方向に若干傾斜させたものである。
ンサー1に対して斜め上方に設置されている場合を想定
して構成されたものであり、光源7が光センサー1に対
して斜め上方に設置されている場合にも、光導波路3へ
の入射光が入りやすいように、光導波路3の光入射側端
面3aを光の入射方向に若干傾斜させたものである。
すなわち、光源7が光センサー1に対して斜め上方に設
置されている場合、光源7によって照射され原稿面によ
って反射された光は原稿5に対して斜め方向に反射され
るため、第1図に示した光センサーのように、光導波路
の端面が原稿面と略平行の場合、該端面によって原稿面
からの光の一部が反射されてしまい、光導波路への入射
光量が減ってしまい光量不足となることがあるが、これ
に対して、第3図に示す光センサーの場合には、光導波
路3の光入射側端面3aを光の入射方向に若干傾斜させた
構成のため、該端面3aから光導波路3への入射光が入り
やすくなり、光量不足となることがない。尚、第3図に
示すように、光源7が光センサーの光導波路3側に位置
する場合には、光導波路層3の上面側には遮光層が形成
され、光源7からの光が直接光導波路に入り込むのが防
止される。
置されている場合、光源7によって照射され原稿面によ
って反射された光は原稿5に対して斜め方向に反射され
るため、第1図に示した光センサーのように、光導波路
の端面が原稿面と略平行の場合、該端面によって原稿面
からの光の一部が反射されてしまい、光導波路への入射
光量が減ってしまい光量不足となることがあるが、これ
に対して、第3図に示す光センサーの場合には、光導波
路3の光入射側端面3aを光の入射方向に若干傾斜させた
構成のため、該端面3aから光導波路3への入射光が入り
やすくなり、光量不足となることがない。尚、第3図に
示すように、光源7が光センサーの光導波路3側に位置
する場合には、光導波路層3の上面側には遮光層が形成
され、光源7からの光が直接光導波路に入り込むのが防
止される。
ところで、第1図及び第3図に示す構成の光センサーに
おいては、光センサー1を原稿5に接触させた状態で原
稿5を走行させると、原稿5と基板2の端面との摺接に
より原稿5が摩耗して紙粉等の摩耗粉が発生することが
あり、この摩耗粉が光センサー1の光導波路3の光入射
側端面3aに付着すると、光導波路3への光の入射が妨げ
られ、検出不良等を起す要因となる。
おいては、光センサー1を原稿5に接触させた状態で原
稿5を走行させると、原稿5と基板2の端面との摺接に
より原稿5が摩耗して紙粉等の摩耗粉が発生することが
あり、この摩耗粉が光センサー1の光導波路3の光入射
側端面3aに付着すると、光導波路3への光の入射が妨げ
られ、検出不良等を起す要因となる。
そこで、このような問題の発生を防止するために、原稿
と接触する光センサー1の基板2端面の角を少しまるめ
たり、あるいは基板2の端面にテフロンコート等を施し
たりして、摩耗がしにくい様に端面処理する方法が考え
られるが、これだけでは、摩耗を完全に防止することは
不可能である。
と接触する光センサー1の基板2端面の角を少しまるめ
たり、あるいは基板2の端面にテフロンコート等を施し
たりして、摩耗がしにくい様に端面処理する方法が考え
られるが、これだけでは、摩耗を完全に防止することは
不可能である。
そこで、本考案では、上記問題を解決するため、光セン
サーを第4図に示す様に構成する。
サーを第4図に示す様に構成する。
ここで、第4図は光センサーの概略的側面構成図を示
し、図中符号1は光センサー、符号2は基板、符号3は
光導波路層、符号4は受光素子、符号5は原稿を夫々示
しており、基本的な構成は第1図及び第3図に示したも
のと同様であるが、本実施例では上記構成に加えて、基
板2の原稿側端面に摩耗粉受け用の溝2bを形成し、原稿
5と基板2端面との摺接によって生じた摩耗粉が上記溝
2b内に取り込まれて導波路3の光入射側端面3a側には出
ないように構成したものである。したがって、第4図に
示す構成の光センサー1では、原稿5と基板2との摺接
によって生じた摩耗粉が基板2端面の溝2b内に回収され
るため、導波路3の光入射側端面3aに摩耗粉が付着する
ことが無く、摩耗粉の付着に起因する検出不良を防止す
ることができる。
し、図中符号1は光センサー、符号2は基板、符号3は
光導波路層、符号4は受光素子、符号5は原稿を夫々示
しており、基本的な構成は第1図及び第3図に示したも
のと同様であるが、本実施例では上記構成に加えて、基
板2の原稿側端面に摩耗粉受け用の溝2bを形成し、原稿
5と基板2端面との摺接によって生じた摩耗粉が上記溝
2b内に取り込まれて導波路3の光入射側端面3a側には出
ないように構成したものである。したがって、第4図に
示す構成の光センサー1では、原稿5と基板2との摺接
によって生じた摩耗粉が基板2端面の溝2b内に回収され
るため、導波路3の光入射側端面3aに摩耗粉が付着する
ことが無く、摩耗粉の付着に起因する検出不良を防止す
ることができる。
(考案の効果) 以上図示の実施例に基づいて説明したように、本考案に
よる光センサーにおいては、光導波路の原稿側端面が上
記基板の原稿側端面よりも原稿に対して所定距離だけ後
退して形成されているため、基板の端面と原稿面とを当
接しておき、原稿を基板端面に接触した状態で走行させ
れば、自動的に光導波路の光入射側端面と原稿面との間
の距離が一定に保持制御される。
よる光センサーにおいては、光導波路の原稿側端面が上
記基板の原稿側端面よりも原稿に対して所定距離だけ後
退して形成されているため、基板の端面と原稿面とを当
接しておき、原稿を基板端面に接触した状態で走行させ
れば、自動的に光導波路の光入射側端面と原稿面との間
の距離が一定に保持制御される。
また、本考案によれば、特別なスペーサー等を介在せず
に光導波路の光入射側端面と原稿面との間の距離を自動
的に一定に保つことができるため、光導波路の光入射側
端面と原稿との接触が完全に防止され、光入射面の傷付
きや摩耗等が未然に防止される。
に光導波路の光入射側端面と原稿面との間の距離を自動
的に一定に保つことができるため、光導波路の光入射側
端面と原稿との接触が完全に防止され、光入射面の傷付
きや摩耗等が未然に防止される。
したがって、本考案による光センサーでは、簡単な構造
にもかかわらず、原稿像が入射される光導波路の端面と
原稿面との距離が常に一定に保持され、かつ、光導波路
の光入射端面が傷つきや摩耗等によって曇ることもない
ため、光センサーの低コスト化、高分解能化、S/N比の
向上を容易に実現することができる。
にもかかわらず、原稿像が入射される光導波路の端面と
原稿面との距離が常に一定に保持され、かつ、光導波路
の光入射端面が傷つきや摩耗等によって曇ることもない
ため、光センサーの低コスト化、高分解能化、S/N比の
向上を容易に実現することができる。
また、本考案による光センサーでは、上記構成に加え
て、基板の原稿側端面に摩耗粉受け用の溝を形成したこ
とにより、原稿と基板端面との摺接によって生じた摩耗
粉は上記溝内に回収されるため、導波路の光入射側端面
に摩耗粉が付着することが無くなり、摩耗粉の付着に起
因する検出不良も防止することができる。
て、基板の原稿側端面に摩耗粉受け用の溝を形成したこ
とにより、原稿と基板端面との摺接によって生じた摩耗
粉は上記溝内に回収されるため、導波路の光入射側端面
に摩耗粉が付着することが無くなり、摩耗粉の付着に起
因する検出不良も防止することができる。
第1図は本考案の一実施例を示す光センサーの概略的側
断面構成図、第2図は同上光センサーの製造工程を示す
説明図、第3図は本考案の別の実施例を示す光センサー
の概略的側断面構成図、第4図は本考案のさらに別の実
施例を示す光センサーの概略的側断面構成図、第5図及
び第6図は夫々別の従来技術例を示す光センサーの概略
的側断面構成図である。 1……光センサー、2……基板、2a……基板の原稿側端
面、2b……摩耗粉受け用の溝、3……光導波路、3a……
光導波路の原稿側端面、4……受光素子、5……原稿、
7……光源。
断面構成図、第2図は同上光センサーの製造工程を示す
説明図、第3図は本考案の別の実施例を示す光センサー
の概略的側断面構成図、第4図は本考案のさらに別の実
施例を示す光センサーの概略的側断面構成図、第5図及
び第6図は夫々別の従来技術例を示す光センサーの概略
的側断面構成図である。 1……光センサー、2……基板、2a……基板の原稿側端
面、2b……摩耗粉受け用の溝、3……光導波路、3a……
光導波路の原稿側端面、4……受光素子、5……原稿、
7……光源。
Claims (2)
- 【請求項1】基板上に光導波路と受光素子とを備え、原
稿面に対向配置された上記光導波路の一端面から原稿像
を入射し、上記光導波路を介して原稿像を上記受光素子
に伝搬して原稿像を検出する端面入射型の光センサーに
おいて、原稿読取時には上記光導波路の光入射側の基板
端面に原稿面が当接され、該基板端面に沿って原稿が摺
動される構成とすると共に、上記光導波路の原稿側端面
が上記基板の原稿側端面より原稿に対して所定の距離だ
け後退して形成されていることを特徴とする光センサ
ー。 - 【請求項2】請求項1記載の光センサーにおいて、基板
の原稿側端面に摩耗粉受け用の溝を形成したことを特徴
とする光センサー。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1988135117U JPH0720928Y2 (ja) | 1988-10-17 | 1988-10-17 | 光センサー |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1988135117U JPH0720928Y2 (ja) | 1988-10-17 | 1988-10-17 | 光センサー |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0256463U JPH0256463U (ja) | 1990-04-24 |
| JPH0720928Y2 true JPH0720928Y2 (ja) | 1995-05-15 |
Family
ID=31394465
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1988135117U Expired - Lifetime JPH0720928Y2 (ja) | 1988-10-17 | 1988-10-17 | 光センサー |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0720928Y2 (ja) |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60189256A (ja) * | 1984-03-08 | 1985-09-26 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 光電変換素子 |
-
1988
- 1988-10-17 JP JP1988135117U patent/JPH0720928Y2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0256463U (ja) | 1990-04-24 |
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