JPH07209496A

JPH07209496A - タンタル酸リチウム基ｘ線増感スクリーンおよび放射線写真記録要素

Info

Publication number: JPH07209496A
Application number: JP6334502A
Authority: JP
Inventors: Carmine C Torardi; チャールズトラルディカーマイン
Original assignee: EI Du Pont de Nemours and Co
Current assignee: EIDP Inc
Priority date: 1993-12-17
Filing date: 1994-12-19
Publication date: 1995-08-11
Also published as: US5430302A; EP0658613A1; EP0658613B1; DE69427448D1; DE69427448T2

Abstract

(57)【要約】【目的】放射線写真要素として用いられるＸ線増感ス
クリーン、特にＣａＷＯ₄ を含む増感スクリーンより高
速の、ＵＶおよび青色放射のＸ線増感スクリーンを提供
する。【構成】支持体と、この支持体上に塗布された少なく
とも１層の活性層とを有し、前記活性層には、バインダ
と、下記一般式、Ｌｉ₃ Ｔａ_1-x Ｎｂ_x Ｏ₄ （ここで、ｘは０〜１．０である）で示される発光体と
を含有させる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、イメージ状に調整され
たＸ線を紫外および／または青色の放射線に変換するた
めの放射線写真増感スクリーン（ｉｎｔｅｎｓｉｆｙｉ
ｎｇｓｃｒｅｅｎ；増感紙）に関する。また、本発明
は、特に、放射線増感スクリーンに用いられるタンタル
酸リチウム発光体（ｐｈｏｓｐｈｏｒ）に関する。

【０００２】なお、本明細書の記述は本件出願の優先権
の基礎たる米国特許出願第０８／１６７，６５８号（１
９９３年１２月１７日出願）の明細書の記載に基づくも
のであって、当該米国特許出願の番号を参照することに
よって当該米国特許出願の明細書の記載内容が本明細書
の一部分を構成するものとする。

【０００３】

【従来の技術】Ｘ線に励起された発光体は、医療用放射
線写真に用いられるものとして知られている。医療用Ｘ
線フィルムは、典型的には紫外、青色あるいは緑色の光
に感受性があり、したがって、診断情報Ｘ線はフィルム
を適正に露光するために低エネルギに変換されなければ
ならない。この変換は、主な活性成分として適正な発光
体を含む増感スクリーンによって行われる。

【０００４】Ｘ線エネルギを適当な低エネルギに変換す
るのに適切な発光体は、よく知られている。特に望まし
い性質としては、高い変換効率、低い粒状性、および残
光放射の量が少ないことを挙げることができる。近紫外
および青色を放射する発光体を有するＸ線増感スクリー
ンが特に有用である。この目的で最も広く知られている
発光体は工業的標準になっているＣａＷＯ₄ である。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、当業界
には、ＣａＷＯ₄ を含む増感スクリーンより高速のＵＶ
または青色放射の医療用Ｘ線増感スクリーンを提供する
という目的が継続してある。

【０００６】ゼガルスキー（Ｚｅｇａｒｓｋｉ）は、米
国特許第５，０６４，７２９号の中で、タンタル酸リチ
ウムおよびニオブ酸リチウム発光体を教示している。し
かしながら、この化合物は、酸化リチウムと硫黄の酸化
物との反応から得られる。この反応から生成されるタン
タル酸リチウムは、ＬｉＴｉＯ₃ またはＬｉＮｂＯ₃と
して知られているが、その両者とも、反応性および化学
的組成に関して本発明の発光体と異なっている。

【０００７】本発明の目的は、このような事情に鑑み、
放射線写真要素として用いられるＸ線増感スクリーンを
提供すること、また、特にＣａＷＯ₄ を含む増感スクリ
ーンより高速で、ＵＶおよび青色を放射するＸ線増感ス
クリーンを提供することにある。

【０００８】

【課題を解決するための手段】かかる目的を達成する本
発明の第１の態様は、支持体と、この支持体上に塗布さ
れた少なくとも１層の活性層とを有し、前記活性層は、
バインダと、下記一般式、Ｌｉ₃ Ｔａ_1-x Ｎｂ_x Ｏ₄ （ここで、ｘは０〜１．０である）で示される発光体と
を含むことを特徴とするＸ線増感スクリーンにある。

【０００９】本発明の第２の態様は、感光性記録要素と
有効な結合状態で少なくとも１つのＸ線増感スクリーン
を具備する放射線写真記録要素であって、前記Ｘ線増感
スクリーンが、支持体と、この支持体上に塗布された少
なくとも１層の活性層とを有し、前記活性層は、バイン
ダと、下記一般式、Ｌｉ₃ Ｔａ_1-x Ｎｂ_x Ｏ₄ （ここで、ｘは０〜１．０である）で示される発光体と
を含むことを特徴とする放射線写真記録要素にある。

【００１０】また、前記感光性記録要素は、例えば、ハ
ロゲン化銀を含むものである。

【００１１】本発明のＸ線増感スクリーンは、上述した
ように、下記一般式、Ｌｉ₃ Ｔａ_1-x Ｎｂ_x Ｏ₄ （ここで、ｘは０〜１．０である）で示される発光体を
有する。好ましい発光体のｘは０〜０．７、より好まし
い発光体のｘは０〜０．１、さらに好ましい発光体のｘ
は０〜０．０７、最も好ましい発光体のｘは０．００２
〜０．０１０である。ｘが０．００２〜０．０１０の範
囲の外にでると、図１に示されるように、強度の降下が
観察される。なお。図１で「Ｓｐ」は、任意に１．０と
して定義されたハイプラス（ＨｉｇｈＰｌｕｓ）に対
応する速度である。

【００１２】本発明の発光体の製造方法は、当業界では
多くの文献に記録されているが、この発光体のＸ線増感
スクリーンへの使用については今まで考慮されていなか
った。発光体の製造は、次の反応によって行われること
が知られている。

【００１３】 (1-x)Ta₂O₅ + xNb₂O₅ + 3Li₂CO₃ ---> 2Li₃Ta_1-xNb_xO₄ + 3CO₂ 製造手順は典型的には、正確な割合の発光体前駆体、例
えばＬｉ₂ ＣＯ₃ 、Ｔａ₂ Ｏ₅ およびＮｂ₂ Ｏ₅ を、Ｌ
ｉ₂ ＳＯ₄ またはＬｉＣｌなどの適当なフラックス中に
緊密に混合する工程を含む。この混合物はアルミナるつ
ぼで１０００℃に加熱される。フラックスは水に溶解す
ることにより除去され、発光体が回収され、予め選択さ
れた粒径分布がＸ線増感スクリーンの製造に用いられ
る。

【００１４】従来方法に基づく焼成後、フラックスおよ
び水溶性の反応生成物は、水浸出または他の適当な方法
により除去される。反応生成物であるＬｉ₃ Ｔａ_1-x Ｎ
ｂ_xＯ₄ （ｘ＝０〜約０．７）は、単斜晶のＣ２／ｃ空
間群またはＰ２／ｎ空間群として結晶化する（ジャーナ
ルオブソリッドステートケミストリー（Ｊｏｕｎａｌｏ
ｆＳｏｌｉｄＳｔａｔｅＣｈｅｍｉｓｔｒｙ），
第４８巻，４２０〜４３０（１９８３）参照）。ニオブ
の化学両論的な量が上述した０．７では、構造が、空間
群対称Ｉ２３を有する立方晶となり、発光体の性質が、
Ｘ線増感スクリーンへの用途により好ましくなくなる。

【００１５】ニオブの化学両論的な量は、発光体の放射
の最大値に影響する。化学両論量が０．０〜０．６で
は、Ｘ線励起による放射の最大値は、図４に示すよう
に、約４１０ｎｍから約４３５ｎｍまで上昇する。ニオ
ブ量が約０．７を越えると、立方晶構造が観察され、Ｘ
線励起下の放射がニオブ量とともに上昇する。立方晶構
造の放射は、単斜晶構造より低い。

【００１６】上述した発光体を調製するために用いるこ
とができるフラックスは数多くある。かかるフラックス
としては、例えば、リチウム、ナトリウム、カリウムな
どの硫酸塩、リン酸塩、炭酸塩、メタホウ酸塩などのア
ルカリ金属塩類を挙げることができる。ナトリウム、リ
チウム、カリウム、カルシウム、ストロンチウムおよび
バリウムなどと組み合わせて、ハロゲン化物をフラック
スに添加すると好ましいことが知られている。特に好ま
しいフラックスとしては、例えば、ヘッデンおよびゼガ
ルスキー（ＨｅｄｄｅｎおよびＺｅｇａｒｓｋｉ）の米
国特許第４，２５０，３６５号に記載されているものを
挙げることができる。フラックスの量は特に限定されな
い。典型的には、フラックスは反応混合物中に、酸化物
の総重量（発光体出発原料）に対して、約３０〜約６０
重量％、好ましくは約４５〜約５５重量％存在する。任
意のフラックスと発光体先駆物質とは、多くの中から選
ばれた任意の手段によって緊密の混合される。かかる混
合手段としては、ボールミキシング、振とう、または米
国特許第５，１５４，３６０号に記載されているよう
な、空気、窒素、水、フッ化塩素化炭化水素類あるいは
他の不活性流体などの、流れるガス状あるいは液状の媒
体を用いる方法を挙げることができる。発光体出発物質
と任意のフラックスとの混合物は、例えば、７５０℃〜
１５００℃の高温下で、例えば約３時間焼成し、その
後、大部分のフラックスを除去するために洗浄し、発光
体を回収する。

【００１７】焼成、粉砕、および洗浄後、発光体を適当
な溶媒の存在下で適当なバインダと混合し、支持体の上
に塗布する。これらの全ての工程は、米国特許第４，２
２５，６５３号に記載されており、これらは従来の技術
として知られている。また、この発光体塗膜上に保護ト
ップコートを形成してもよく、実際形成するのが好まし
い。

【００１８】発光体は、例えば、ポリビニルブチラー
ル、またはアクリル酸類またはメタクリル酸樹脂などの
通常知られているバインダの何れと混合してもよく、例
えば、アルコール、塩素化炭化水素ケトン、ブチルアセ
テートなどの溶媒を用いて混合する。発光体のハンドリ
ングを向上させ、発光体の容易に発光させるために、少
量のヒュームドシリカを発光体中に含有させてもよい。

【００１９】バインダ中に分散した発光体は、従来から
ある支持体、例えば厚紙（カードボード）、ポリエステ
ルフィルム、薄い金属シートなどの上にキャストされ
る。また、光沢剤を発光体中に含有させてもよく、さら
に、発光体にＸ線放射がなされたときに光の発生が強化
されるために下地層としてあるいは支持体それ自身中に
種々の反射材料が存在してもよい。ＴｉＯ₂ をバインダ
中に分散し、支持体上にキャストすることは、フィルム
支持体中にルチルＴｉＯ₂ の微粒子を用いることも同様
に従来から行われている。発光体は、典型的には１５〜
１１０ｍｇ／ｃｍ² 範囲の量が支持体上に適用される。
これらの全ての処理は当業界で周知である。

【００２０】支持体上にキャストされた発光体層上に公
知の保護トップコートを適用してもよく、事実適用する
のが好ましい。これらの保護トップコートもまた当業界
で周知であり、取扱中にかなり高価な発光体層にシミや
欠陥がつかないように保護するものである。特に好適な
トップコートは、発光体上にスチレン／アクリロニトリ
ルコポリマを塗布し、乾燥することにより達成される。

【００２１】典型的なＸ線増感スクリーンを製造するた
め、従来の支持体、バインダ、およびの混合および塗布
プロセスは、例えば、米国特許第４，３８７，１４１号
に記載されており、関係ある記載は参考としてここに取
り入れるものとする。

【００２２】本発明のスクリーンは、ある用途では片面
塗布ハロゲン化銀写真フィルム要素が使用されることも
考えられるが、両面塗布医療用Ｘ線ハロゲン化銀写真フ
ィルム要素とともに、一対のスクリーンとして用いられ
る。一対のスクリーンを用いる場合もし要望があれば、
各スクリーンの塗布重量が異なってもよい。このよう
に、非対称の一対のスクリーンが最も最良の結果を得る
ために用いられる。医療用Ｘ線評価は、本発明のＸ線増
感スクリーンの商業的な使用において優れていることを
表している。本発明のＸ線増感スクリーンの支持体とし
ては、ルチルあるいはアナタース型の二酸化チタンを少
量含有させたポリエチレンテレフタレート支持体が、寸
法安定のため好ましい。

【００２３】作用においては、増感スクリーンはその上
に衝突したＸ線を吸収し、それに結合されている写真用
ハロゲン化銀Ｘ線フィルムにより敏速に捕獲される波長
のエネルギを放射する。これらのスクリーンは、一般的
には、米国特許第４，２２５，６５３号に記載されてい
るブリクスナー（Ｂｒｉｘｎｅｒ）の方法によって製造
される。

【００２４】放射線医学の処理においては、上述したＸ
線増感スクリーンとともに感光性ハロゲン化銀フィルム
要素が用いられるのが一般的である。本発明の手順で
は、ハロゲン化銀要素は、ハロゲン化銀粒子からなる。
これらの要素はまた、従来から知られており、粒子の調
製方法もまた知られており、教示されている。粒子は、
一般的には、ゼラチンなどのバインダを用いてエマルジ
ョンにされ、例えば、金および硫黄で増感される。ま
た、必要であれば、防曇剤、湿潤およびコーティング助
剤、増感染料、硬化剤などの他の補助剤を含有させても
よい。エマルジョンは支持体の両面にコーティングして
もよく、通常、各エマルジョン層の上にその保護のため
に、薄い硬化したゼラチンのオーバーコート層が設けら
れる。もし要求があれば、少量の増感染料を添加すると
好都合である。さらにまた、従来、光に対する感応性を
向上するために、増感染料を薄膜上のエマルジョン中に
添加する。

【００２５】ハロゲン化銀エマルジョンは、従来のハロ
ゲン化物の何れでも用いることができるが、好ましくは
純粋な臭化銀、または少量のヨウ化物を含む臭化銀（例
えば、９８重量％のＢｒおよび２重量％のＩを含む）を
用いるのがよい。スプラッシ技術によって形成された粒
子、およびスプレー技術（すなわち、シングルまたはダ
ブルジェット技術）を含む技術によって形成された粒子
を含む、ここに開示されたいかなる粒子形態も好適に用
いることができるが、これらに限定されるものではな
い。薄板状（ｔａｂｕｌａｒ）粒子が好ましい。

【００２６】薄板粒子状ハロゲン化銀の製造は、米国特
許第４，４００，４６３号（発明者：Ｍａｓｋａｓｋ
ｙ）、米国特許第４，３９９，２０５号（発明者：Ｗｅ
ｙ）、米国特許第４，４１４，３０４号（発明者：Ｄｉ
ｃｋｅｒｓｏｎ）、米国特許第４，４３４，２２６号
（発明者：Ｗｉｌｇｕｓら）、米国特許第４，４３９，
５２０号（発明者：Ｋｏｆｒｏｎら）、米国特許第４，
７２２，８８６号（発明者：Ｎｏｔｔｏｒｆ）および米
国特許第４，８０１，５２２号（発明者：Ｅｌｌｉｓ）
に開示されている模範的な方法とともに従来技術として
周知である。

【００２７】粒子を作製した後、一般に、好ましくは、
バインダ（例えば、ゼラチン、またはポリビニルアルコ
ール、フタル酸塩ゼラチンなどの他の周知のバインダ
類）とともに分散する。ゼラチンの代わりに、他の天然
あるいは合成の透水性有機コロイドバインダを、全部ま
たは一部置換して用いることができる。このようなバイ
ンダとしては、透水性または水溶性のポリビニルアルコ
ールまたはその誘導体、例えば、部分的に加水分解され
たポリビニルアセテート類、ポリビニルエーテル類、お
よび多数の過剰直鎖の−ＣＨ₂ ＨＯＨ−基を含有するア
セタール類；ビニルアセテートと無水マレイン酸、アク
リルもしくはメタクリル酸エチルエステルおよびスチレ
ンなどの不飽和付加重合性化合物との加水分解共重合体
（インタポリマ）など、を挙げることができる。最後に
述べた加水分解共重合体の好ましいコロイドは、米国特
許第２，２７６，３２２号、第２，２７６，３２３号お
よび第２，３４７，８１１号に開示されている。有用な
ポリビニルアセタール類としては、、ポリビニルアセト
アルデヒドアセタール、ポリビニルブチルアルデヒドア
セタールおよびポリビニルナトリウムｏ−スルホベンズ
アルデヒドアセタールを挙げることができる。他の有用
なコロイドバインダとしては、米国特許第２，４９５，
９１８号（発明者：Ｂｏｌｔｏｎ）に記載されているポ
リ−Ｎ−ビニルラクタム類、米国特許第２，８３３，６
５０号（発明者：Ｓｈａｃｋｌｅｔｔ）に記載されてい
るＮ−アクリルアミドアルキルベタインの親水性コポリ
マ類、および親水性セルロースエーテル類およびエステ
ル類を挙げることができる。フタル酸エステルゼラチン
類は、デキストラン、または米国特許第３，７７８，２
７８号（発明者：Ｒａｋｏｃｚｙ）の変性、加水分解ゼ
ラチン類などの被覆力を向上させるのに有用なバインダ
補助剤として用いてもよい。

【００２８】当業界で知られているように、塩類で粒子
を化学的に増感するのが最も好ましい。最も一般的な増
感剤は金または硫黄の塩類である。硫黄増感剤として
は、活性硫黄を含有するもの、例えば、アリルイソチオ
シアネート、アリルジエチルチオ尿素、フェニルイソチ
オシアネートおよびチオ硫酸ナトリウムなどを挙げるこ
とができる。米国特許第１，９２５，５０８号（発明
者：Ｓｔａｕｄら）および米国特許第３，０２６，２０
３号（発明者：Ｃｈａｍｂｅｒｓら）から教示されるよ
うなアミン類などの他の非光学的（ｎｏｎ−ｏｐｔｉｃ
ａｌ）増感剤、および米国特許第２，５４０，０８６号
（発明者：Ｂａｌｄｓｉｅｆｅｎ）によって教示される
金属塩を用いてもよい。

【００２９】エマルジョンには、一般的な硬化剤、すな
わちクロムミョウバン、ホルムアルデヒド、ジメトール
尿素、ムコクロル酸、および例えば、リサーチディスク
ロージュアー（ＲｅｓｅａｒｃｈＤｉｓｃｌｏｓｕｒ
ｅ）、Ｎｏ．３０８、Ｄｅｃｅｍｂｅｒ１９８９，Ｉ
ｔｅｍ３０８１９に例示されているような他の硬化剤と
同様に、６−ニトロベンズイミダゾール、ベンゾトリア
ゾールなどの防曇剤を含有させることができる。艶消
剤、可塑剤、トーナー、光蛍光増白剤、界面活性剤、画
像着色調整剤（ｉｍａｇｅｃｏｌｏｒｍｏｄｉｆｉ
ｅｒ）、ハレーション防止染料、および被覆力補助剤な
どを含むその他のエマルジョン補助剤を用いることもで
きる。

【００３０】カルボン酸類の銀塩を含むサーモグラフ画
像エマルジョンもまた、本発明のスクリーンに用いるこ
とができる。典型的な例は、米国特許第５，０２８，５
１８号に記載されている。

【００３１】処理工程で用いるエマルジョン層のフィル
ム支持体としては、いかなる好適な透明プラスチックを
用いてもよい。例えば、セルロースアセテート、セルロ
ーストリアセテート、セルロース混合エステルなどのセ
ルロース系支持体などを例示できる。例えば、ビニルア
セテートおよび塩化ビニルの共重合体、ポリスチレンお
よびアクリル酸エステルの重合体などのビニル化合物重
合体を用いてもよい。好ましいフィルムとしては、米国
特許第２，７７９，６８４号（発明者：Ａｌｌｅｓ）の
教示にしたがって製造した、ジカルボン酸および二価ア
ルコールのポリエステル化生成物からなるフィルムを挙
げることができる。他の好適な支持体としては、英国特
許第７６６，２９０号およびカナダ特許第５６２，６７
２号のポリエチレンテレフタレート／イソフタレート
類、およびテレフタル酸およびジメチルテレフタレート
と、プロピレングリコール、ジエチレングリコール、テ
トラメチレングリコールまたはシクロへキサン１，４−
ジメタノール（ヘキサヒドロ−ｐ−キシレンアルコー
ル）とを縮合することによって得られるフィルムを挙げ
ることができる。米国特許第３，０５２，５４３号（発
明者：Ｂａｕｅｒら）のフィルムを用いてもよい。上述
したポリエステルフィルムは、寸法安定性のため特に好
適である。

【００３２】ポリエチレンテレフタレートが写真用支持
体の用途として製造される場合、ポリマはフィルムにキ
ャストされ、米国特許第３，５６７，４５２号（発明
者：Ｒａｗｌｉｎｅｓ）に記載された混合ポリマ下塗り
剤が適用され、さらにゼラチン下塗り層が適用された
後、二軸延伸される。この代わりに、例えば、米国特許
第４，９１６，０１１号および第４，７０１，４０３
（発明者：Ｍｉｌｌｅｒ）、米国特許第４，８９１，３
０８号および第４，５８５，７３０号（発明者：Ｃｈ
ｏ）、および米国特許第４，２２５，６６５号（発明
者：Ｓｃｈａｄｔ）などに説明されているように、帯電
防止層を組み込むこともできる。延伸および下塗り化合
物の適用を完了した後、ガラスのアニーリングに相当す
る加熱処理方法により、歪および引張応力を除去する必
要がある。

【００３３】エマルジョンは上述した支持体に、単層あ
るいは多層としてコーティングする。医療用Ｘ線用途で
は、例えば、通常青みがかった染料を含んでいる支持体
の両面にコーティングしてもよい。エマルジョン層に隣
接して設けるのは、通常、好ましくは、上記エマルジョ
ン上に保護のために適用される薄い単層の硬化ゼラチン
層である。

【００３４】医療用Ｘ線フィルムの処理は、典型的には
米国特許第４，７４１，９９１号（発明者：Ｗｕｅｌｆ
ｉｎｇ）に示されている。処理すべき医療用Ｘ線フィル
ムは、典型的には、ハロゲン化銀粒子中に集まっている
潜像を原子状態の銀に変換するために現像される。未反
応のハロゲン化銀は、その後適当な定着液に溶解するこ
とにより除去され、フィルムは洗浄および乾燥され、適
当な画像が得られる。写真システムの速度は、一般的に
は、標準的な処理条件下で所定の濃度が得るために要求
される露光によって決まる。医療用Ｘ線システムのため
の特殊な処理は、米国規格協会（ＡＮＳＩ）基準ＰＨ
２．９（１９６４）に詳細に述べられている。任意に速
度値１００と指定されたパー（ＰＡＲ；標準）に対する
相対値として決定される相対速度を報告することが、当
業界では広く受け入れられている。パー速度は、Ｄｕ
ＰｏｎｔＣｏｒｏｎｅｘ（登録商標）４のフィルムと
結合された８４ｍｍ発光体厚さの標準ＣａＷＯ₄ スクリ
ーンを用いることによって決定される。ハイプラス（Ｈ
ｉｇｈＰｌｕｓ）スクリーンおよびパースクリーン
は、ＣａＷＯ₄ 発光体を利用しており、イー・アイ・デ
ュポン・ドゥ・ヌムール・アンド・カンパニー（Ｅ．
Ｉ．ＤｕＰｏｎｔｄｅＮｅｍｏｕｒｓ，ａｎｄＣ
ｏ．）から入手可能である。医療用システムの相対速度
は、典型的には、ＳＰＳＥＨＡＮＤＢＯＯＫＯＦ
ＰＨＯＴＯＧＲＡＰＨＩＣＳＣＩＥＮＣＥＡＮＤＥ
ＮＤＧＩＮＥＥＲＩＮＧ、Ｗｏｏｄｌｉｅｆ，Ｅｄ．
（ＪｏｈｎＷｉｌｅｙａｎｄＳｏｎｓ，ＮｅｗＹ
ｏｒｋ，１９７３，ｐｐ．７９８−８００）に記載され
ているような露光調整技術によって、ベースにかぶり濃
度を加えたものより１．０大きい濃度として決定され
る。

【００３５】

【実施例】以下、本発明を実施例に基づいて説明する。

【００３６】（発光体／スクリーン調製）７．９３８４
ｇのＴａ₂ Ｏ₅ 、０．０２４０ｇのＮｂ₂ Ｏ₅ 、４．０
０００ｇのＬｉ₂ ＣＯ₃ 、および５．９８ｇのＬｉ₂ Ｓ
Ｏ₄ を乳鉢中で粉砕し、加工されたアルミナるつぼ中に
移した。試料は空気中１０００℃で１．７５時間以上加
熱し、続いて１０００℃に１０時間保持し、炉を冷却す
る。次いで、混合物を水洗してフラックスを除去し、そ
の結果得られるＬｉ₃ Ｔａ_0.995 Ｎｂ_0.005 Ｏ₄ を乾燥
し、収集する。この化合物のＸ線粉末回折パターンは単
斜層（疑似正方晶）のラインのみを示した。発光体は、
米国特許第４，２２５，６５３号（発明者：Ｂｒｉｘｎ
ｅｒ）に記載の技術にしたがってポリビニルブチラール
バインダを用いてスクリーンに組み込んだ。速度は、Ｃ
ｒｏｎｅｘ（登録商標）１０Ｔ医療用Ｘ線フィルム（イ
ー・アイ・デュポン・ドゥ・ヌムール・アンド・カンパ
ニー（Ｗｉｌｍｉｎｇｔｏｎ，ＤＥのＥ．Ｉ．ＤｕＰｏ
ｎｔｄｅＮｅｍｏｕｒｓ，ａｎｄＣｏ．）から入
手可能である）を用いて、タングステン管を用いて７０
ｋＶｐの露光で測定した。この結果は、表１に示す。

【００３７】

【表１】

【００３８】（ニオブレベルの関係における放射の変
化）ニオブレベルｘを、０．０，０．００２，０．００
５，０．０１，０．０２，０．１０，０．５０，０．６
０，０．８０，１．００とした（詳細は上述したもの）
一連の試料をそれぞれ調製した。放射最大値は、Ｈａｍ
ａｍａｔｓｕＲ９２８光電子倍増管によって得た。
図２はｘが０．０から０．６までのプロットを含んでい
る。図２において、「Ｓｐ」は、任意に１．０として定
義されたハイプラス（ＨｉｇｈＰｌｕｓ）に対する相
対値である。図３は、任意に１．０（Ｓｐ）（ここで、
ｘは０．５から１．０である）として定義されたハイプ
ラスに対する相対値として表示した。図３において、単
斜層と立方晶との変換期間は、０．６乃至０．８の間に
示されている。この図で不連続性は単斜層から立方晶形
態への構造変換を示している。また、図４には、対応す
る放射最大値（ＥＭ）（ｘが０．０から０．６）が示さ
れている。

【００３９】

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
Ｘ線増感スクリーンの活性層に特定の発光体を用いるこ
とにより、従来より高速で、ＵＶおよび青色放射のＸ線
増感スクリーンを提供するという効果を奏するものであ
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】Ｌｉ₃ Ｔａ_1-x Ｎｂ_x Ｏ₄ でｘが０．０から
０．１０の相対速度を示すグラフである。

【図２】Ｌｉ₃ Ｔａ_1-x Ｎｂ_x Ｏ₄ でｘが０．０から
０．６０の相対速度を示すグラフである。

【図３】Ｌｉ₃ Ｔａ_1-x Ｎｂ_x Ｏ₄ でｘが０．５０から
１．０のＸ線励起の最大放射を示すグラフである。

【図４】単斜晶Ｌｉ₃ Ｔａ_1-x Ｎｂ_x Ｏ₄ でｘが０．０
から０．６のＸ線励起の最大放射を示すグラフである。

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】支持体と、この支持体上に塗布された少
なくとも１層の活性層とを有し、前記活性層は、バイン
ダと、下記一般式、Ｌｉ₃ Ｔａ_1-x Ｎｂ_x Ｏ₄ （ここで、ｘは０〜１．０である）で示される発光体と
を含むことを特徴とするＸ線増感スクリーン。
【請求項２】請求項１において、前記ｘが、０．０〜
０．７であるＸ線増感スクリーン。
【請求項３】請求項２において、前記ｘが、０．０〜
０．１であるＸ線増感スクリーン。
【請求項４】請求項３において、前記ｘが、０．０〜
０．０７であるＸ線増感スクリーン。
【請求項５】請求項４において、前記ｘが、０．００
２〜０．０１０であるＸ線増感スクリーン。
【請求項６】感光性記録要素と有効な結合状態で少な
くとも１つのＸ線増感スクリーンを具備する放射線写真
記録要素であって、前記Ｘ線増感スクリーンが、支持体
と、この支持体上に塗布された少なくとも１層の活性層
とを有し、前記活性層は、バインダと、下記一般式、Ｌｉ₃ Ｔａ_1-x Ｎｂ_x Ｏ₄ （ここで、ｘは０〜１．０である）で示される発光体と
を含むことを特徴とする放射線写真記録要素。
【請求項７】請求項６において、前記ｘが０．０〜
０．７である放射線写真記録要素。
【請求項８】請求項７において、前記ｘが、０．０〜
０．１である放射線写真記録要素。
【請求項９】請求項８において、前記ｘが、０．０〜
０．０７である放射線写真記録要素。
【請求項１０】請求項９において、前記ｘが、０．０
０２〜０．０１０である放射線写真記録要素。
【請求項１１】請求項６〜９の何れかにおいて、前記
感光性記録要素が、ハロゲン化銀を含む放射線写真記録
要素。