JPH07209873A - 光重合性化合物用汚染防止剤 - Google Patents
光重合性化合物用汚染防止剤Info
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- JPH07209873A JPH07209873A JP7795A JP7795A JPH07209873A JP H07209873 A JPH07209873 A JP H07209873A JP 7795 A JP7795 A JP 7795A JP 7795 A JP7795 A JP 7795A JP H07209873 A JPH07209873 A JP H07209873A
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- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/0073—Masks not provided for in groups H05K3/02 - H05K3/46, e.g. for photomechanical production of patterned surfaces
- H05K3/0076—Masks not provided for in groups H05K3/02 - H05K3/46, e.g. for photomechanical production of patterned surfaces characterised by the composition of the mask
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- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
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- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/085—Photosensitive compositions characterised by adhesion-promoting non-macromolecular additives
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- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
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- H05K3/02—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which the conductive material is applied to the surface of the insulating support and is thereafter removed from such areas of the surface which are not intended for current conducting or shielding
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- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/10—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern
- H05K3/108—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern by semi-additive methods; masks therefor
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 耐汚染性光重合性組成物を提供する。
【構成】 テトラゾール及び汚染を起こしがちな接着促
進剤；高分子結合剤；多官能性モノマー；フリーラジカ
ル光開始剤を含む光重合性組成物。
進剤；高分子結合剤；多官能性モノマー；フリーラジカ
ル光開始剤を含む光重合性組成物。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、印刷回路板の製造に用
いられるプレーティング及びエッチングプロセスに用い
る改善された光重合性組成物及び化学エッチング方法に
関する。
いられるプレーティング及びエッチングプロセスに用い
る改善された光重合性組成物及び化学エッチング方法に
関する。
【０００２】
【発明が解決しようとする課題】接着促進剤を利用する
光重合組成物の多くの例は、当該技術分野で知られてい
る。これら接着促進剤は、その組成物に添加してもフォ
トレジストを有する支持体の積層前に支持体に添加して
もよい。これら接着促進剤は全く良好に働くが、接着促
進剤を含む配合物は、積層後の保圧時間に関してプロセ
スウインドが狭くなってしまう。銅張り積層板をメルカ
プト、トリアゾール、イミダゾール等を含有する配合物
でコーティングすると、銅張りの汚染が僅か１日の保圧
時間で発生するのが共通の問題である。銅張りの汚染
は、エッチングを妨害し、それにより印刷及びエッチン
グプロセスが不十分になる。プレーティングプロセスで
は、在来の洗浄剤を用いて汚染を除去するのは難しく、
それから製造される最終製品の開回路の原因となる非プ
レーティング域をもたらす。
光重合組成物の多くの例は、当該技術分野で知られてい
る。これら接着促進剤は、その組成物に添加してもフォ
トレジストを有する支持体の積層前に支持体に添加して
もよい。これら接着促進剤は全く良好に働くが、接着促
進剤を含む配合物は、積層後の保圧時間に関してプロセ
スウインドが狭くなってしまう。銅張り積層板をメルカ
プト、トリアゾール、イミダゾール等を含有する配合物
でコーティングすると、銅張りの汚染が僅か１日の保圧
時間で発生するのが共通の問題である。銅張りの汚染
は、エッチングを妨害し、それにより印刷及びエッチン
グプロセスが不十分になる。プレーティングプロセスで
は、在来の洗浄剤を用いて汚染を除去するのは難しく、
それから製造される最終製品の開回路の原因となる非プ
レーティング域をもたらす。
【０００３】
【課題を解決するための手段】本発明は、汚染を起こし
がちな接着促進剤と共にテトラゾールを含む接着促進系
を含む耐汚染性光重合性組成物に関する。この耐汚染性
光重合性組成物は、更に、高分子結合剤、多官能性モノ
マー、フリーラジカル光開始剤及び熱付加重合禁止剤を
含む。この発明は、接着促進系として、ベンゾトリアゾ
ールの如き汚染を起こしがちな接着促進剤と共にテトラ
ゾールを用いる光重合性組成物である。更に、この組成
物は、高分子結合剤、多官能性モノマー、フリーラジカ
ル光開始剤、熱付加重合禁止剤を含有する。更に、この
光重合性組成物は、この組成物の物理的及び化学的特質
を高めるために、染料、可塑剤、及び他の添加剤を含ん
でもよい。本発明で有用なテトラゾールには、テトラゾ
ールがアリール、メルカプト、アルキル、アミン、置換
アミン及びヒドロキシル基からなる群から選ばれる基で
置換された置換テトラゾールが含まれる。この発明の置
換テトラゾールには、５−アミノテトラゾール・１水和
物及び５−フェニルテトラゾールが含まれる。
がちな接着促進剤と共にテトラゾールを含む接着促進系
を含む耐汚染性光重合性組成物に関する。この耐汚染性
光重合性組成物は、更に、高分子結合剤、多官能性モノ
マー、フリーラジカル光開始剤及び熱付加重合禁止剤を
含む。この発明は、接着促進系として、ベンゾトリアゾ
ールの如き汚染を起こしがちな接着促進剤と共にテトラ
ゾールを用いる光重合性組成物である。更に、この組成
物は、高分子結合剤、多官能性モノマー、フリーラジカ
ル光開始剤、熱付加重合禁止剤を含有する。更に、この
光重合性組成物は、この組成物の物理的及び化学的特質
を高めるために、染料、可塑剤、及び他の添加剤を含ん
でもよい。本発明で有用なテトラゾールには、テトラゾ
ールがアリール、メルカプト、アルキル、アミン、置換
アミン及びヒドロキシル基からなる群から選ばれる基で
置換された置換テトラゾールが含まれる。この発明の置
換テトラゾールには、５−アミノテトラゾール・１水和
物及び５−フェニルテトラゾールが含まれる。
【０００４】これら置換テトラゾールは、光重合性組成
物中に約0.００１〜１重量％、好ましくは約0.０１〜0.
５重量％、より好ましくは約0.０１〜0.１重量％存在す
る。汚染を起こしがちな接着促進剤は当業者に知られて
おり、後の加工工程でエッチングを妨害する汚染を生成
する傾向を示すものの、光高分子材料の導電性支持体へ
の接着を促進するのに用いられる化合物として広く知ら
れている。好ましい汚染を起こしがちな接着促進剤は、
ベンゾトリアゾール、ベンズイミダゾール、ベンゾチア
ゾール、それらの誘導体及びそれらの塩からなる群から
選ばれる少なくとも１種の化合物である。ここで用いる
“それらの誘導体”という用語は、１又は２以上の水素
原子が少なくとも１つのアルキル基、アリール基、ニト
ロ基、ハロゲン、アミノ基、ヒドロキシル基、カルボキ
シル基又はそれらに類した基で置換された化合物又はそ
のベンゼン環がナフタレン環により置換された化合物を
意味する。“それらの塩”という用語は、塩酸塩、酢酸
塩等の如き前記化合物の酸塩、アミン塩等を意味する。
物中に約0.００１〜１重量％、好ましくは約0.０１〜0.
５重量％、より好ましくは約0.０１〜0.１重量％存在す
る。汚染を起こしがちな接着促進剤は当業者に知られて
おり、後の加工工程でエッチングを妨害する汚染を生成
する傾向を示すものの、光高分子材料の導電性支持体へ
の接着を促進するのに用いられる化合物として広く知ら
れている。好ましい汚染を起こしがちな接着促進剤は、
ベンゾトリアゾール、ベンズイミダゾール、ベンゾチア
ゾール、それらの誘導体及びそれらの塩からなる群から
選ばれる少なくとも１種の化合物である。ここで用いる
“それらの誘導体”という用語は、１又は２以上の水素
原子が少なくとも１つのアルキル基、アリール基、ニト
ロ基、ハロゲン、アミノ基、ヒドロキシル基、カルボキ
シル基又はそれらに類した基で置換された化合物又はそ
のベンゼン環がナフタレン環により置換された化合物を
意味する。“それらの塩”という用語は、塩酸塩、酢酸
塩等の如き前記化合物の酸塩、アミン塩等を意味する。
【０００５】これら化合物の好ましい例は、ベンゾトリ
アゾール、塩酸ベンゾトリアゾール、１−クロロベンゾ
トリアゾール、ヒドロキシベンゾトリアゾール、ナフト
トリアゾール、メチルベンゾトリアゾール、及びそれら
のアミン塩等；ベンズイミダゾール、塩酸ベンズイミダ
ゾール、２−アミノベンズイミダゾール、２−メチルベ
ンズイミダゾール、５−ニトロベンズイミダゾール、５
−メチルベンズイミダゾール等；及び２−アミノベンゾ
チアゾール、塩酸２−アミノベンゾチアゾール等であ
る。これら塩のうちでは、塩酸塩が調製容易なので好ま
しい。これら化合物を添加することによる注目に値する
効果は、この感光性樹脂組成物中約0.００１重量％又は
それを超える化合物含有量から得られるが、好ましく
は、前記化合物は、この感光性樹脂組成物中約0.０１〜
３重量％の量で添加される。米国特許第4,４３8,１９０
号に開示されたベンゾトリアゾール、ベンズイミダゾー
ル、ベンゾチアゾール及びその他の汚染を起こしがちな
接着促進剤は、参照によって本明細書に組み入れられる
ものとする。
アゾール、塩酸ベンゾトリアゾール、１−クロロベンゾ
トリアゾール、ヒドロキシベンゾトリアゾール、ナフト
トリアゾール、メチルベンゾトリアゾール、及びそれら
のアミン塩等；ベンズイミダゾール、塩酸ベンズイミダ
ゾール、２−アミノベンズイミダゾール、２−メチルベ
ンズイミダゾール、５−ニトロベンズイミダゾール、５
−メチルベンズイミダゾール等；及び２−アミノベンゾ
チアゾール、塩酸２−アミノベンゾチアゾール等であ
る。これら塩のうちでは、塩酸塩が調製容易なので好ま
しい。これら化合物を添加することによる注目に値する
効果は、この感光性樹脂組成物中約0.００１重量％又は
それを超える化合物含有量から得られるが、好ましく
は、前記化合物は、この感光性樹脂組成物中約0.０１〜
３重量％の量で添加される。米国特許第4,４３8,１９０
号に開示されたベンゾトリアゾール、ベンズイミダゾー
ル、ベンゾチアゾール及びその他の汚染を起こしがちな
接着促進剤は、参照によって本明細書に組み入れられる
ものとする。
【０００６】他の成分は、特許文献、即ち、米国特許第
3,９５3,３０９号及び米国特許第3,８８7,４５０号に開
示されたものと同一である。この発明の光重合性組成物
は、(1) 約１０〜６０重量部の多官能性モノマー、(2)
約４０〜９０重量部の前述の結合剤、(3) 約0.００１〜
１０重量部の慣用のフリーラジカル開始剤、及び (4)
約0.００１〜５重量部の慣用の熱付加重合禁止剤から構
成される。従って、この組成物は、この光重合性組成物
の物理的及び化学的特性を高めるのに必要であり得る、
適当な染料及び顔料及び可塑剤と接着促進剤の如き他の
添加物を含有してもよい。
3,９５3,３０９号及び米国特許第3,８８7,４５０号に開
示されたものと同一である。この発明の光重合性組成物
は、(1) 約１０〜６０重量部の多官能性モノマー、(2)
約４０〜９０重量部の前述の結合剤、(3) 約0.００１〜
１０重量部の慣用のフリーラジカル開始剤、及び (4)
約0.００１〜５重量部の慣用の熱付加重合禁止剤から構
成される。従って、この組成物は、この光重合性組成物
の物理的及び化学的特性を高めるのに必要であり得る、
適当な染料及び顔料及び可塑剤と接着促進剤の如き他の
添加物を含有してもよい。
【０００７】多官能性モノマーは、典型的には、慣用の
付加重合性エチレン性不飽和化合物である。このエチレ
ン性不飽和化合物は、大気圧下で約１００℃の沸点を有
しかつフリーラジカル光開始連鎖生長付加重合により高
分子量ポリマーを生成できる少なくとも１つの末端エチ
レン基（ＣH2＝Ｃ＜）を含有しなければならない。かか
る化合物は、米国特許第2,７６0,８６３号に開示れてい
る。好ましくは、この化合物は２０℃の大気圧下で非ガ
ス状であり、１〜４又はそれを超える末端エチレン基、
好ましくは２〜３又はそれを超える末端エチレン基を有
し、そして熱可塑性高分子結合剤の可塑化を示す。適す
る化合物には、２〜１５の炭素原子を有するアルキレン
グリコール又は１〜１０のエーテル結合のポリアルキレ
ンエーテルグリコールから調製されたアルキレン又はポ
リアルキレングリコールジアクリレートが含まれ、これ
らは単独で又は組み合わせて用いてもよい。
付加重合性エチレン性不飽和化合物である。このエチレ
ン性不飽和化合物は、大気圧下で約１００℃の沸点を有
しかつフリーラジカル光開始連鎖生長付加重合により高
分子量ポリマーを生成できる少なくとも１つの末端エチ
レン基（ＣH2＝Ｃ＜）を含有しなければならない。かか
る化合物は、米国特許第2,７６0,８６３号に開示れてい
る。好ましくは、この化合物は２０℃の大気圧下で非ガ
ス状であり、１〜４又はそれを超える末端エチレン基、
好ましくは２〜３又はそれを超える末端エチレン基を有
し、そして熱可塑性高分子結合剤の可塑化を示す。適す
る化合物には、２〜１５の炭素原子を有するアルキレン
グリコール又は１〜１０のエーテル結合のポリアルキレ
ンエーテルグリコールから調製されたアルキレン又はポ
リアルキレングリコールジアクリレートが含まれ、これ
らは単独で又は組み合わせて用いてもよい。
【０００８】おそらく比較的急速に網状高分子構造が樹
立れるためであろうが、暴露したときにそれらが一般に
急速に不溶化するので、この優れたクラスの低分子量付
加重合性成分は、付加重合性エチレン結合を、特にそれ
らが末端結合として存在する場合に、複数有する成分で
あり、特に、かかる結合の少なくとも１つ、好ましくは
その殆どが、炭素、及び窒素、酸素及び硫黄の如きヘテ
ロ原子に二重結合で結合した炭素を含む二重結合炭素と
共役している成分である。好ましくは、この低分子量付
加重合性成分は、エチレン性不飽和基、特にビニレン基
が、エステル又はアミド構造と共役している物質であ
る。次の具体的化合物は、このクラスを更に例示するも
のである。即ち、ポリオールの不飽和エステル、特にメ
チレンカルボン酸の不飽和エステル、例えば、エチレン
ジアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレー
ト、グリセロールジアクリレート、グリセロールトリア
クリレート、エチレンジメタクリレート、1,３−プロピ
レンジメタクリレート、1,2,４−ブタントリオールトリ
メタクリレート、1,４−ベンゼンジオールジメタクリレ
ート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、1,
３−プロパンジオールジアクリレート、1,５−ペンタン
ジオールジメタクリレート、分子量２００〜５００のポ
リエチレングリコールのビスアクリレート及びビスメタ
クリレート、及びそれに類したもの；不飽和アミド、特
にメチレンカルボン酸の不飽和アミド、特にα、ω−ジ
アミン及び酸素介在ω−ジアミンの不飽和アミド、例え
ば、メチレンビスアクリルアミド、メチレンビスメタク
リルアミド、1,６−ヘキサメチレンビスアクリルアミ
ド、ジエチレントリアミントリスメタクリルアミド、ビ
ス（メタクリルアミドプロポキシ）エタン、β−メタク
リルアミドエチルメタクリレート、Ｎ−〔（β−ヒドロ
キシエチルオキシ）エチル〕アセトアミド；コハク酸ジ
ビニル、アジピン酸ジビニル、フタル酸ジビニル、テレ
フタル酸ジビニル、ベンゼン−1,３−ジスルホン酸ジビ
ニル、及びブタン−1,４−ジスルホン酸ジビニルの如き
ビニルエステル；及びソルバルデヒド（ヘキサジエナー
ル）の如き不飽和アルデヒドである。
立れるためであろうが、暴露したときにそれらが一般に
急速に不溶化するので、この優れたクラスの低分子量付
加重合性成分は、付加重合性エチレン結合を、特にそれ
らが末端結合として存在する場合に、複数有する成分で
あり、特に、かかる結合の少なくとも１つ、好ましくは
その殆どが、炭素、及び窒素、酸素及び硫黄の如きヘテ
ロ原子に二重結合で結合した炭素を含む二重結合炭素と
共役している成分である。好ましくは、この低分子量付
加重合性成分は、エチレン性不飽和基、特にビニレン基
が、エステル又はアミド構造と共役している物質であ
る。次の具体的化合物は、このクラスを更に例示するも
のである。即ち、ポリオールの不飽和エステル、特にメ
チレンカルボン酸の不飽和エステル、例えば、エチレン
ジアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレー
ト、グリセロールジアクリレート、グリセロールトリア
クリレート、エチレンジメタクリレート、1,３−プロピ
レンジメタクリレート、1,2,４−ブタントリオールトリ
メタクリレート、1,４−ベンゼンジオールジメタクリレ
ート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、1,
３−プロパンジオールジアクリレート、1,５−ペンタン
ジオールジメタクリレート、分子量２００〜５００のポ
リエチレングリコールのビスアクリレート及びビスメタ
クリレート、及びそれに類したもの；不飽和アミド、特
にメチレンカルボン酸の不飽和アミド、特にα、ω−ジ
アミン及び酸素介在ω−ジアミンの不飽和アミド、例え
ば、メチレンビスアクリルアミド、メチレンビスメタク
リルアミド、1,６−ヘキサメチレンビスアクリルアミ
ド、ジエチレントリアミントリスメタクリルアミド、ビ
ス（メタクリルアミドプロポキシ）エタン、β−メタク
リルアミドエチルメタクリレート、Ｎ−〔（β−ヒドロ
キシエチルオキシ）エチル〕アセトアミド；コハク酸ジ
ビニル、アジピン酸ジビニル、フタル酸ジビニル、テレ
フタル酸ジビニル、ベンゼン−1,３−ジスルホン酸ジビ
ニル、及びブタン−1,４−ジスルホン酸ジビニルの如き
ビニルエステル；及びソルバルデヒド（ヘキサジエナー
ル）の如き不飽和アルデヒドである。
【０００９】好ましいモノマー性化合物は、二官能性又
は多官能性である。用いるモノマーの総官能価が２又は
それを超える場合は、一官能性モノマーも多官能性モノ
マーと組み合わせて用いることができる。添加されるモ
ノマーの量は、個々の熱可塑性ポリマーで変動する。高
分子結合剤のスチレンタイプの成分は次の一般式を有す
る。
は多官能性である。用いるモノマーの総官能価が２又は
それを超える場合は、一官能性モノマーも多官能性モノ
マーと組み合わせて用いることができる。添加されるモ
ノマーの量は、個々の熱可塑性ポリマーで変動する。高
分子結合剤のスチレンタイプの成分は次の一般式を有す
る。
【００１０】
【化１】
【００１１】式中、Ｒは水素又は１〜６の炭素原子を有
するアルキル基又はハロ基である。このベンゼン環は、
ニトロ、アルコキシ、アシル、カルボキシル、スルホ、
ヒドロキシル又はハロの如き官能基で置換された環であ
ってもよい。ベンゼン環に１〜５の置換基が存在しても
よく、好ましくは、それら置換基はメチル又はｔ−ブチ
ル基の如き１個のアルキルである。これら化合物のうち
最も好ましいのは、スチレン、α−メチルスチレン、ｐ
−メチルスチレン及びｐ−ｔ−ブチルスチレンである。
高分子結合剤のビニルモノマー成分は非酸性であり、次
の一般式を有する。
するアルキル基又はハロ基である。このベンゼン環は、
ニトロ、アルコキシ、アシル、カルボキシル、スルホ、
ヒドロキシル又はハロの如き官能基で置換された環であ
ってもよい。ベンゼン環に１〜５の置換基が存在しても
よく、好ましくは、それら置換基はメチル又はｔ−ブチ
ル基の如き１個のアルキルである。これら化合物のうち
最も好ましいのは、スチレン、α−メチルスチレン、ｐ
−メチルスチレン及びｐ−ｔ−ブチルスチレンである。
高分子結合剤のビニルモノマー成分は非酸性であり、次
の一般式を有する。
【００１２】
【化２】
【００１３】式中、Ｘは水素であり、ＹはＯＯＣR1、Ｏ
R1、ＯＣR1、ＣＯＯR1、ＣＮ、ＣH2＝ＣＨ、ＣＯＮR3R4
又はＣｌであり；ＸがメチルであるときＹはＣＯＯR1、
ＣＮ、ＣH2＝ＣＨ又はＣＯＮR3R4であり；そしてＸがＣ
ｌであるときＹはＣｌである。ここで、Ｒ1 及びＲ2 は
１〜１２の炭素原子を有するアルキル基、フェニル又は
ベンジル基であり、Ｒ3 及びＲ4 は水素、１〜１２の炭
素原子を有するアルキル基又はベンジル基である。これ
らビニルモノマーの例は、酢酸ビニル、酪酸ビニル、安
息香酸ビニル、塩化ビニル、塩化ビニリデン、メタクリ
ル酸メチル及びアクリル酸メチル、アクリロニトリル及
びメタクリロニトリル、メタクリルアミド、及びアルキ
ル置換アクリルアミド、ビニルメチルケトン、ビニルプ
ロピルケトン、ビニルメチルエーテル、ビニルエチルエ
ーテル及びビニルヘキシルエーテルである。第２コモノ
マーは、３〜１５、好ましくは３〜６炭素原子を有する
１又は２以上の不飽和カルボキシル含有モノマーであっ
てもよい。最も好ましい化合物はアクリル酸及びメタク
リル酸である。用いることのできる他の酸は、桂皮酸、
クロトン酸、ソルビン酸、イタコン酸、プロピオール
酸、マレイン酸、フマル酸、又は対応する半エステル、
又は可能であれば、対応する無水物である。この発明
は、アルキルスチレン−マレイン酸エステルコポリマー
を結合剤として用いる場合に特に有用である。
R1、ＯＣR1、ＣＯＯR1、ＣＮ、ＣH2＝ＣＨ、ＣＯＮR3R4
又はＣｌであり；ＸがメチルであるときＹはＣＯＯR1、
ＣＮ、ＣH2＝ＣＨ又はＣＯＮR3R4であり；そしてＸがＣ
ｌであるときＹはＣｌである。ここで、Ｒ1 及びＲ2 は
１〜１２の炭素原子を有するアルキル基、フェニル又は
ベンジル基であり、Ｒ3 及びＲ4 は水素、１〜１２の炭
素原子を有するアルキル基又はベンジル基である。これ
らビニルモノマーの例は、酢酸ビニル、酪酸ビニル、安
息香酸ビニル、塩化ビニル、塩化ビニリデン、メタクリ
ル酸メチル及びアクリル酸メチル、アクリロニトリル及
びメタクリロニトリル、メタクリルアミド、及びアルキ
ル置換アクリルアミド、ビニルメチルケトン、ビニルプ
ロピルケトン、ビニルメチルエーテル、ビニルエチルエ
ーテル及びビニルヘキシルエーテルである。第２コモノ
マーは、３〜１５、好ましくは３〜６炭素原子を有する
１又は２以上の不飽和カルボキシル含有モノマーであっ
てもよい。最も好ましい化合物はアクリル酸及びメタク
リル酸である。用いることのできる他の酸は、桂皮酸、
クロトン酸、ソルビン酸、イタコン酸、プロピオール
酸、マレイン酸、フマル酸、又は対応する半エステル、
又は可能であれば、対応する無水物である。この発明
は、アルキルスチレン−マレイン酸エステルコポリマー
を結合剤として用いる場合に特に有用である。
【００１４】スチレン又はビニル成分のこの酸性コモノ
マーに対する比率は、そのコポリマーがアルカリ水性溶
媒に可溶になるように選択される。スチレン又はビニル
モノマーの量が多過ぎると未暴露部分が十分に可溶性で
はなくなり、一方、スチレン又はビニルモノマーの量が
少な過ぎると暴露した部分がアルカリ水溶液中で粘着
性、膨潤性、又は溶解性となる。代表的なコモノマー比
は、スチレン−アクリル酸又はメタクリル酸については
７０：３０〜８５：１５であり、スチレン−マレイン酸
モノブチルについては３５：６５〜７０：３０であり、
そして酢酸ビニル−クロトン酸については７０：３０〜
９５：５である。結合剤コポリマーの重合度は、結合剤
が暴露及び現像後に非粘着性の連続フィルムを形成でき
るような重合度である。概略的には、分子量は約1,００
０〜約５０0,０００である。個々の結合剤についてのコ
ポリマー比の範囲及び重合度は、希アルカリ溶液中での
代表的ポリマーの溶解性を試験することによって容易に
確認することができる。これは、約1,０００〜約５０0,
０００の分子量に相当する。便利な規準として、ケトン
又はアルコール中の４０％溶液が１００〜５0,０００セ
ンチポアズの粘度を有するような結合剤コポリマーであ
るべきである。
マーに対する比率は、そのコポリマーがアルカリ水性溶
媒に可溶になるように選択される。スチレン又はビニル
モノマーの量が多過ぎると未暴露部分が十分に可溶性で
はなくなり、一方、スチレン又はビニルモノマーの量が
少な過ぎると暴露した部分がアルカリ水溶液中で粘着
性、膨潤性、又は溶解性となる。代表的なコモノマー比
は、スチレン−アクリル酸又はメタクリル酸については
７０：３０〜８５：１５であり、スチレン−マレイン酸
モノブチルについては３５：６５〜７０：３０であり、
そして酢酸ビニル−クロトン酸については７０：３０〜
９５：５である。結合剤コポリマーの重合度は、結合剤
が暴露及び現像後に非粘着性の連続フィルムを形成でき
るような重合度である。概略的には、分子量は約1,００
０〜約５０0,０００である。個々の結合剤についてのコ
ポリマー比の範囲及び重合度は、希アルカリ溶液中での
代表的ポリマーの溶解性を試験することによって容易に
確認することができる。これは、約1,０００〜約５０0,
０００の分子量に相当する。便利な規準として、ケトン
又はアルコール中の４０％溶液が１００〜５0,０００セ
ンチポアズの粘度を有するような結合剤コポリマーであ
るべきである。
【００１５】述べたように、この発明を実施して得られ
るレジストは、通常のプレーティング及びエッチング溶
液に抵抗性である。最も驚くべきことは、パターンプレ
ーティングに用いられかつ極端に高いアルカリ性を有す
るピロリン酸銅溶液に対するその抵抗性である。レジス
トを害さないでおく他の溶液には、塩化第二鉄、過硫酸
アンモニウム及び硫酸第二クロム溶液が含まれる。この
組成物に用いられる光開始剤は、好ましくは、化学光線
により活性化され得るが１８５℃又はそれ未満で熱に不
活性なものである。これらには、9,10−アントラキノ
ン、１−クロルアントラキノン、２−クロルアントラキ
ノン、２−メチルアントラキノン、２−エチルアントラ
キノン、２−tert−ブチルアントラキノン、オクタメチ
ルアントラキノン、1,４−ナフタキノン、9,10−フェノ
ントラキノン、1,２−ベンズアントラキノン、2,３−ベ
ンズアントラキノン、２−メチル−1,４−ナフタキノ
ン、2,３−ジクロロナフタキノン、1,４−ジメチルアン
トラキノン、2,３−ジメチルアントラキノン、２−フェ
ニルアントラキノン、2,３−ジフェニルアントラキノ
ン、アントラキノン−α−スルホン酸ナトリウム塩、３
−クロロ−２−メチルアントラキノン、レクテンキノン
(rectenequinone) 、7,8,9,10−テトラハイドロナフタ
センキノン、1,2,3,４−テトラハイドロベンズ（ａ）ア
ントラキノン−7,12−ジオンの如き置換又は未置換の多
核性キノンが含まれる。
るレジストは、通常のプレーティング及びエッチング溶
液に抵抗性である。最も驚くべきことは、パターンプレ
ーティングに用いられかつ極端に高いアルカリ性を有す
るピロリン酸銅溶液に対するその抵抗性である。レジス
トを害さないでおく他の溶液には、塩化第二鉄、過硫酸
アンモニウム及び硫酸第二クロム溶液が含まれる。この
組成物に用いられる光開始剤は、好ましくは、化学光線
により活性化され得るが１８５℃又はそれ未満で熱に不
活性なものである。これらには、9,10−アントラキノ
ン、１−クロルアントラキノン、２−クロルアントラキ
ノン、２−メチルアントラキノン、２−エチルアントラ
キノン、２−tert−ブチルアントラキノン、オクタメチ
ルアントラキノン、1,４−ナフタキノン、9,10−フェノ
ントラキノン、1,２−ベンズアントラキノン、2,３−ベ
ンズアントラキノン、２−メチル−1,４−ナフタキノ
ン、2,３−ジクロロナフタキノン、1,４−ジメチルアン
トラキノン、2,３−ジメチルアントラキノン、２−フェ
ニルアントラキノン、2,３−ジフェニルアントラキノ
ン、アントラキノン−α−スルホン酸ナトリウム塩、３
−クロロ−２−メチルアントラキノン、レクテンキノン
(rectenequinone) 、7,8,9,10−テトラハイドロナフタ
センキノン、1,2,3,４−テトラハイドロベンズ（ａ）ア
ントラキノン−7,12−ジオンの如き置換又は未置換の多
核性キノンが含まれる。
【００１６】米国特許第2,７６0,８６３号に記載されて
いる次の光開始剤も、その幾つかは僅か８５℃の温度で
熱的に活性であり得るものの、有用である：ジアセチル
及びジベンゾイルの如きビシナルケトアルドニル (keta
ldonyl) 化合物；ベンゾイン及びピバロイン、アシロイ
ンエーテルの如きα−ケトアルドニルアルコール化合
物、例えば、ベンゾインメチル及びエチルエーテル、α
−炭化水素置換芳香族アシロイン、α−メチルベンゾイ
ン、α−アリルベンゾイン、及びα−フェニルベンゾイ
ン。過硫酸銀も、化学線により活性化され得るフリーラ
ジカル発生性開始剤として有用である。一定の芳香族化
合物、例えば、ベンゾフェノン及び4,4'−ビス（ジアル
キルアミノ）ベンゾフェノンも有用である。好ましい組
成物には熱重合禁止剤も存在する。これらには、ｐ−メ
トキシフェノール、ハイドロキノン、及びアルキル及び
アリール置換ハイドロキノン及びキノン、tert−ブチル
カテコール、ピロガロール、ロジン酸銅、ナフチルアミ
ン、β−ナフトール、塩化第一銅、2,６−ジ−tert−ブ
チル−ｐ−クレゾール、2,２−メチレンビス（４−エチ
ル−６−ｔ−ブチルフェノール）、フェノチアジン、ピ
リジン、ニトロベンゼン、ジニトロベンゼン、ｐ−トル
キノン、クロラニル、亜リン酸アリール、及びアルキル
亜リン酸アリールが含まれる。
いる次の光開始剤も、その幾つかは僅か８５℃の温度で
熱的に活性であり得るものの、有用である：ジアセチル
及びジベンゾイルの如きビシナルケトアルドニル (keta
ldonyl) 化合物；ベンゾイン及びピバロイン、アシロイ
ンエーテルの如きα−ケトアルドニルアルコール化合
物、例えば、ベンゾインメチル及びエチルエーテル、α
−炭化水素置換芳香族アシロイン、α−メチルベンゾイ
ン、α−アリルベンゾイン、及びα−フェニルベンゾイ
ン。過硫酸銀も、化学線により活性化され得るフリーラ
ジカル発生性開始剤として有用である。一定の芳香族化
合物、例えば、ベンゾフェノン及び4,4'−ビス（ジアル
キルアミノ）ベンゾフェノンも有用である。好ましい組
成物には熱重合禁止剤も存在する。これらには、ｐ−メ
トキシフェノール、ハイドロキノン、及びアルキル及び
アリール置換ハイドロキノン及びキノン、tert−ブチル
カテコール、ピロガロール、ロジン酸銅、ナフチルアミ
ン、β−ナフトール、塩化第一銅、2,６−ジ−tert−ブ
チル−ｐ−クレゾール、2,２−メチレンビス（４−エチ
ル−６−ｔ−ブチルフェノール）、フェノチアジン、ピ
リジン、ニトロベンゼン、ジニトロベンゼン、ｐ−トル
キノン、クロラニル、亜リン酸アリール、及びアルキル
亜リン酸アリールが含まれる。
【００１７】所望により、この組成物は染料及び顔料を
含有してもよい。適する着色剤は、この感光性組成物と
適合性でありかつこの組成物の感光性に認められるほど
の干渉をもたらさないものである。次の具体的化合物が
その例となるものである。即ち、フクシン（C.I.４２５
１０）、オーラミンベース（C.I.４１００Ｂ）、カルコ
シドブリーンＳ (Calcocid Green S) （C.I.４４０９
０）、パラマゼンタ（C.I.４２５００）、トリパロサン
(Tryparosan) （C.I.４２５０５）、ニューマゼンタ
（C.I.４２５２０）、アシッドバイオレットＲＲＨ（C.
I.４２４２５）、レッドバイオレットＳＲＳ（C.I.４２
６９０）、ナイルブルー２Ｂ（C.I.５１１８５）、ニュ
ーメチレンブルーＧＧ（C.I.５１１９５）、C.I.ベーシ
ックブルー２０（C.I.４２５８５）、ヨードングリーン
(Iodone Green)(C.I.４２５５６）、ナイトグリーンＢ
（C.I.４２１１５）、C.I.ダイレクトエロー９（C.I.１
９５４０）、C.I.アシッドエロー１７（C.I.１８９６
５）、C.I.アシッドエロー２９（C.I.１８９００）、タ
ートラジン（C.I.１９１４０）、スプラミンエローＧ
（C.I.１９３００）、バッファローブラック１０Ｂ（C.
I.２７７９０）、ナフタレンブラック１２Ｒ（C.I.２０
３５０）、ファストブラックＬ（C.I.５１２１５）、エ
チルバイオレット（C.I.４２６００）、ポンタシルウー
ルブルーＢＬ（C.I.５０３１５）、ポンタシルウッドブ
ルーＧＬ（C.I.５２３２０）（番号はカラーインデック
スの第２編から得たものである）。
含有してもよい。適する着色剤は、この感光性組成物と
適合性でありかつこの組成物の感光性に認められるほど
の干渉をもたらさないものである。次の具体的化合物が
その例となるものである。即ち、フクシン（C.I.４２５
１０）、オーラミンベース（C.I.４１００Ｂ）、カルコ
シドブリーンＳ (Calcocid Green S) （C.I.４４０９
０）、パラマゼンタ（C.I.４２５００）、トリパロサン
(Tryparosan) （C.I.４２５０５）、ニューマゼンタ
（C.I.４２５２０）、アシッドバイオレットＲＲＨ（C.
I.４２４２５）、レッドバイオレットＳＲＳ（C.I.４２
６９０）、ナイルブルー２Ｂ（C.I.５１１８５）、ニュ
ーメチレンブルーＧＧ（C.I.５１１９５）、C.I.ベーシ
ックブルー２０（C.I.４２５８５）、ヨードングリーン
(Iodone Green)(C.I.４２５５６）、ナイトグリーンＢ
（C.I.４２１１５）、C.I.ダイレクトエロー９（C.I.１
９５４０）、C.I.アシッドエロー１７（C.I.１８９６
５）、C.I.アシッドエロー２９（C.I.１８９００）、タ
ートラジン（C.I.１９１４０）、スプラミンエローＧ
（C.I.１９３００）、バッファローブラック１０Ｂ（C.
I.２７７９０）、ナフタレンブラック１２Ｒ（C.I.２０
３５０）、ファストブラックＬ（C.I.５１２１５）、エ
チルバイオレット（C.I.４２６００）、ポンタシルウー
ルブルーＢＬ（C.I.５０３１５）、ポンタシルウッドブ
ルーＧＬ（C.I.５２３２０）（番号はカラーインデック
スの第２編から得たものである）。
【００１８】これら光重合性要素を化学線の線源に暴露
させる。これは、ハーフトーンイメージ又はプロセスト
ランスペアレンシー、例えば、プロセスネガティブ若し
くはポジティブ、ステンシル、又はマスクを介してもよ
い。この暴露は、連続トーン、ネガティブ又はポジティ
ブイメージを介してもよい。この暴露は、光重合性層を
カバーシートで覆うか又は覆わない接触法又は投影法に
よっても、カバーシートを用いる投影法によってもよ
い。これらの操作は、当該技術分野で周知である。
させる。これは、ハーフトーンイメージ又はプロセスト
ランスペアレンシー、例えば、プロセスネガティブ若し
くはポジティブ、ステンシル、又はマスクを介してもよ
い。この暴露は、連続トーン、ネガティブ又はポジティ
ブイメージを介してもよい。この暴露は、光重合性層を
カバーシートで覆うか又は覆わない接触法又は投影法に
よっても、カバーシートを用いる投影法によってもよ
い。これらの操作は、当該技術分野で周知である。
【００１９】化学線により活性化され得るフリーラジカ
ル発生性付加重合開始剤は、一般に紫外領域でその最大
感度を示すので、その線源はこの光線を有効量供給する
べきである。ポイント線源及びブロード線源のいずれも
有効である。かかる線源には、炭素アーク、水銀蒸気ア
ーク、紫外線発光性燐光物質を有する蛍光ランプ、アル
ゴングローランプ、電子フラッシュユニット及び写真用
フラッシュユニットが含まれ、例えば、上記アミンの炭
酸塩及び重炭酸塩；アンモニウム・ヒドロキシド及びテ
トラ置換アンモニウム・ヒドロキシド、例えば、テトラ
メチル−、テトラエチル−、トリメチルベンジル−、及
びトリメチルフェニルアンモニウム・ヒドロキシドイ
ド；スルホニウム・ヒドロキシド、例えば、トリメチル
−、ジエチルメチル−、ジメチルベンジルスルホニウム
・ヒドロキシド；及びそれらの塩基性可溶性塩、例え
ば、炭酸塩、重炭酸塩及びスルフィド、リン酸及びピロ
リン酸アルカリ金属、例えば、リン酸三ナトリウム及び
リン酸三カリウム及びピロリン酸ナトリウム及びピロリ
ン酸カリウム；テトラ置換（好ましくは全てアルキルで
置換された）ホスホニウム、アルソニウム、及びスチボ
ニウム・ヒドロキシド、例えば、テトラメチルホスホニ
ウム・ヒドロキシドが含まれる。
ル発生性付加重合開始剤は、一般に紫外領域でその最大
感度を示すので、その線源はこの光線を有効量供給する
べきである。ポイント線源及びブロード線源のいずれも
有効である。かかる線源には、炭素アーク、水銀蒸気ア
ーク、紫外線発光性燐光物質を有する蛍光ランプ、アル
ゴングローランプ、電子フラッシュユニット及び写真用
フラッシュユニットが含まれ、例えば、上記アミンの炭
酸塩及び重炭酸塩；アンモニウム・ヒドロキシド及びテ
トラ置換アンモニウム・ヒドロキシド、例えば、テトラ
メチル−、テトラエチル−、トリメチルベンジル−、及
びトリメチルフェニルアンモニウム・ヒドロキシドイ
ド；スルホニウム・ヒドロキシド、例えば、トリメチル
−、ジエチルメチル−、ジメチルベンジルスルホニウム
・ヒドロキシド；及びそれらの塩基性可溶性塩、例え
ば、炭酸塩、重炭酸塩及びスルフィド、リン酸及びピロ
リン酸アルカリ金属、例えば、リン酸三ナトリウム及び
リン酸三カリウム及びピロリン酸ナトリウム及びピロリ
ン酸カリウム；テトラ置換（好ましくは全てアルキルで
置換された）ホスホニウム、アルソニウム、及びスチボ
ニウム・ヒドロキシド、例えば、テトラメチルホスホニ
ウム・ヒドロキシドが含まれる。
【００２０】光重合（した）組成物は、一般に、強アル
カリ熱水溶液中に又は所望により当該技術分野で周知の
商標付きの剥離配合物中に浸漬することにより取り除く
ことができる。この組成物は、アルカリ性エッチングプ
ロセス、特にレジストの浮きを阻止するために過剰の接
着が要求される微細な線のエッチングに非常に有用であ
る。次の実施例を参照することによって本発明を更に理
解することができる。もちろん、これら実施例は本発明
の代表例に過ぎず、開示した詳細な事項にまで本発明を
限定するものではない。従って、以下は、本発明を更に
説明するために単に非限定的実施例として示したに過ぎ
ない。特に断らない限り、全ての量及びパーセンテージ
は重量基準である。
カリ熱水溶液中に又は所望により当該技術分野で周知の
商標付きの剥離配合物中に浸漬することにより取り除く
ことができる。この組成物は、アルカリ性エッチングプ
ロセス、特にレジストの浮きを阻止するために過剰の接
着が要求される微細な線のエッチングに非常に有用であ
る。次の実施例を参照することによって本発明を更に理
解することができる。もちろん、これら実施例は本発明
の代表例に過ぎず、開示した詳細な事項にまで本発明を
限定するものではない。従って、以下は、本発明を更に
説明するために単に非限定的実施例として示したに過ぎ
ない。特に断らない限り、全ての量及びパーセンテージ
は重量基準である。
【００２１】
【実施例】次の実施例は、５−アミノテトラゾール・１
水和物とベンゾトリアゾールの有用な組み合わせが、ア
ルカリ性エッチングプロセスを行うのに助けとなること
を証明するものである。全ての配合物をブレンドし、ポ
リエステル支持体上にコーティングして乾燥させ、銅張
り支持体に積層し、５日間保圧し、化学線を用いて暴露
し、１重量％炭酸ナトリウム・１水和物中で現像し、8.
２〜8.８のエッチング剤ｐＨ及び9.０〜１0.２の補充液
ｐＨでアンモニア性エッチング器内でエッチングした。
エッチング器速度は、付着銅を残さずに２オンス（５6.
７ｇ）の銅製パネルをきれいにエッチングできるように
調節した。レジストの性能は、パネル上に残存している
ライン及び最小レジストラインのパーセンテージ及びス
ペーシングバイオレーション(spacing violation) 又は
回路ショートの原因となるパネル上に残存している付着
銅の存在を記録することにより測定した。実施例１
水和物とベンゾトリアゾールの有用な組み合わせが、ア
ルカリ性エッチングプロセスを行うのに助けとなること
を証明するものである。全ての配合物をブレンドし、ポ
リエステル支持体上にコーティングして乾燥させ、銅張
り支持体に積層し、５日間保圧し、化学線を用いて暴露
し、１重量％炭酸ナトリウム・１水和物中で現像し、8.
２〜8.８のエッチング剤ｐＨ及び9.０〜１0.２の補充液
ｐＨでアンモニア性エッチング器内でエッチングした。
エッチング器速度は、付着銅を残さずに２オンス（５6.
７ｇ）の銅製パネルをきれいにエッチングできるように
調節した。レジストの性能は、パネル上に残存している
ライン及び最小レジストラインのパーセンテージ及びス
ペーシングバイオレーション(spacing violation) 又は
回路ショートの原因となるパネル上に残存している付着
銅の存在を記録することにより測定した。実施例１
【００２２】
【表１】 表 Ｉ ──────────────────────────────────── 成分 コントロール 配合物Ａ 配合物Ｂ 配合物Ｃ 配合物Ｄ （重量％）（重量％）（重量％）（重量％） ──────────────────────────────────── ＳＭＡ５５０ ３0.００ ３0.００ ３0.００ ３0.００ ３0.００ ＴＭＰＴＡ ２0.００ ２0.００ ２0.００ ２0.００ ２0.００ クエン酸トリブチル 2.００ 2.００ 2.００ 2.００ 2.００ ブチル化ヒドロ 0.０５ 0.０５ 0.０５ 0.０５ 0.０５ キシトルエン ベンゾフェノン 2.０ 2.０ 2.０ 2.０ 2.０ ミヒラーズケトン 0.１２ 0.１２ 0.１２ 0.１２ 0.１２ ベンゾトリアゾール 0.０２ ２−メルカプトベン 0.０２ ズイミダゾール ロエメット (Roemet) 0.０２ ４２ ３−メルカプト 0.０２ トリアゾール クリスタルバイ 0.３０ 0.３０ 0.３０ 0.３０ 0.３０ オレット染料 アセトン ４5.４１ ４5.４１ ４5.４３ ４5.４１ ４5.４３ ──────────────────────────────────── 添 加 エッチング妨害 ──────────────────────────────────── ５−アミノテトラ 無し 有り 有り 有り 有り ゾール0.０％ ５−アミノテトラ 無し 無し 無し 無し 無し ゾール0.１０％ 接 着 ５０％ ９０％ ８５％ ８８％ ８３％ 最も微細な線 ２００μｍ ７０μｍ ６０μｍ ８０μｍ ７０μｍ ５−アミノテトラ 無し 無し 無し 無し ゾール0.１０％ 接 着 ５０％ ９５％ ９５％ ９５％ ９５％ 最も微細な線 ２００μｍ ６０μｍ ７０μｍ ７０μｍ ８０μｍ ────────────────────────────────────
【００２３】注）ＳＭＡ５５０は、モンサント社（セン
トルイス，ＭＯ）から入手できるマレイン酸アルキル−
スチレンコポリマーである。ロエメット４２は、チバガ
イギー社（ホースロン，ＮＹ）から入手できるポリトリ
アゾール誘導体である。ＴＭＰＴＡは、サルトマー (Sa
rtomer) 社（エキシトン，ＰＡ）から入手できるトリメ
チロールプロパントリアクリレートである。接着は、エ
ッチング後にパネル上に残存しているレジスト線のパー
センテージとして定義される。最も微細な線は、エッチ
ング後にパネル上に残存している最も細い線として定義
される。実施例２ 表IIにベンゾトリアゾール濃度のエッチング結果への効
果を示す。サンプルは実施例１のように調製して処理し
た。
トルイス，ＭＯ）から入手できるマレイン酸アルキル−
スチレンコポリマーである。ロエメット４２は、チバガ
イギー社（ホースロン，ＮＹ）から入手できるポリトリ
アゾール誘導体である。ＴＭＰＴＡは、サルトマー (Sa
rtomer) 社（エキシトン，ＰＡ）から入手できるトリメ
チロールプロパントリアクリレートである。接着は、エ
ッチング後にパネル上に残存しているレジスト線のパー
センテージとして定義される。最も微細な線は、エッチ
ング後にパネル上に残存している最も細い線として定義
される。実施例２ 表IIにベンゾトリアゾール濃度のエッチング結果への効
果を示す。サンプルは実施例１のように調製して処理し
た。
【００２４】
【表２】 表 II ──────────────────────────────────── 成分 IIａ IIｂ IIｃ IIｄ IIｅ IIｆ ──────────────────────────────────── ＳＭＡ６４０ 35.00 35.00 35.00 35.00 35.00 35.00 ＳＲ４５４ 20.57 20.57 20.57 20.57 20.57 20.57 クエン酸トリブチル 2.50 2.50 2.50 2.50 2.50 2.50 ＢＨＴ 0.03 0.03 0.03 0.03 0.03 0.03 ＤＭＰＡＰ 2.00 2.00 2.00 2.00 2.00 2.00 ＥＤＢ 2.00 2.00 2.00 2.00 2.00 2.00 ＩＴＸ 0.50 0.50 0.50 0.50 0.50 0.50 クリスタルバイ 0.40 0.40 0.40 0.40 0.40 0.40 オレット染料 ２−ブタノン 25.00 25.00 25.00 25.00 25.00 25.00 メタノール 12.00 12.00 12.00 12.00 12.00 12.00 ベンゾトリアゾール 0.0 0.01 0.02 0.04 0.08 0.16 ５−アミノテトラ 0.04 0.04 0.04 0.04 0.04 0.04 ゾール・１水和物 ──────────────────────────────────── 測 定 エッチング結果 ──────────────────────────────────── 接 着 ２６％ ３１％ ３９％ ８０％ ８４％ ７８％ 最も微細な線 １６６ １６６ １８３ ８７ ８０ ９３ ────────────────────────────────────
【００２５】注）ＳＭＡ６４０−モンサント社（セント
ルイス，ＭＯ）からのマレイン酸ブチル−スチレンコポ
リマー ＳＲ４５４−サルトマー社（エキシトン，ＰＡ）から入
手できるトリメチロールプロパンポリオキシエチレント
リアクリレート ＢＨＴ−シェル社（ヒューストン，ＴＸ）から入手でき
るブチル化ヒドロキシトルエン ＤＭＰＡＰ−チバガイギー社（ホースロン，ＮＹ）から
入手できるジメトキシフェニルアセトフェノン ＥＤＢ−アセト社（フラッシング，ＮＹ）から入手でき
るエチル ジメチルアセトフェノン ＩＴＸ−アセト社（フラッシング，ＮＹ）から入手でき
るイソプロピルチオキサントン
ルイス，ＭＯ）からのマレイン酸ブチル−スチレンコポ
リマー ＳＲ４５４−サルトマー社（エキシトン，ＰＡ）から入
手できるトリメチロールプロパンポリオキシエチレント
リアクリレート ＢＨＴ−シェル社（ヒューストン，ＴＸ）から入手でき
るブチル化ヒドロキシトルエン ＤＭＰＡＰ−チバガイギー社（ホースロン，ＮＹ）から
入手できるジメトキシフェニルアセトフェノン ＥＤＢ−アセト社（フラッシング，ＮＹ）から入手でき
るエチル ジメチルアセトフェノン ＩＴＸ−アセト社（フラッシング，ＮＹ）から入手でき
るイソプロピルチオキサントン
【００２６】特定の手段、物質及び態様に関連して本発
明を説明してきたが、上記の事柄から、当業者は本発明
の本質的な特徴を容易に確かめることができ、また、請
求項に記載した本発明の趣旨及び範囲から逸れることな
く、種々の用法及び条件への種々の変更及び修飾を行う
ことができる。
明を説明してきたが、上記の事柄から、当業者は本発明
の本質的な特徴を容易に確かめることができ、また、請
求項に記載した本発明の趣旨及び範囲から逸れることな
く、種々の用法及び条件への種々の変更及び修飾を行う
ことができる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｇ０３Ｆ 7/40 ５２１ Ｈ０５Ｋ 3/06 Ｈ
Claims (8)
- 【請求項１】 テトラゾール及び汚染を起こしがちな接
着促進剤；高分子結合剤；多官能性モノマー；フリーラ
ジカル光開始剤を含む光重合性組成物。 - 【請求項２】 熱付加重合禁止剤、染料、及び可塑剤を
更に含む、請求項１記載の光重合性組成物。 - 【請求項３】 テトラゾールが光重合性組成物中に約0.
００１〜１重量％存在する、請求項２記載の光重合性組
成物。 - 【請求項４】 約0.０１〜３％の汚染を起こしがちな接
着促進剤、約１０〜６０重量部の多官能性モノマー、約
４０〜９０重量部の結合剤、約0.００１〜１０重量部の
フリーラジカル開始剤、及び0.００１〜５重量部の熱付
加重合禁止剤を含む、請求項３記載の光重合性組成物。 - 【請求項５】 テトラゾールがアリール、メルカプト、
アルキル、アミン、置換アミン置換テトラゾール及びヒ
ドロキシ置換テトラゾールからなる群から選ばれる、請
求項１記載の光重合性組成物。 - 【請求項６】 テトラゾールが５−アミノテトラゾール
・１水和物を含む、請求項１記載の光重合性組成物。 - 【請求項７】 汚染を起こしがちな接着促進剤がベンゾ
トリアゾール、ベンズイミダゾール及びベンゾチアゾー
ルからなる群から選ばれる、請求項１〜６のいずれか１
項に記載の光重合性組成物。 - 【請求項８】 次の工程を含む印刷回路板の製造方法。 (a) 請求項１〜６のいずれか１項に記載の光重合性組成
物を銅張り積層板上にコーティングする工程； (b) 該コーティングを化学線の線源に暴露して光重合組
成物を生成させる工程；及び (c) 該光重合組成物を銅張り積層板から剥がす工程。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| GB9326553A GB9326553D0 (en) | 1993-12-30 | 1993-12-30 | Staining inhibitor for photopolymerizable compositions |
| GB9326553:6 | 1993-12-30 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07209873A true JPH07209873A (ja) | 1995-08-11 |
Family
ID=10747299
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7795A Pending JPH07209873A (ja) | 1993-12-30 | 1995-01-04 | 光重合性化合物用汚染防止剤 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0665468B1 (ja) |
| JP (1) | JPH07209873A (ja) |
| CA (1) | CA2139278A1 (ja) |
| DE (1) | DE69424031T2 (ja) |
| GB (1) | GB9326553D0 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101747259B1 (ko) | 2012-12-28 | 2017-06-14 | 삼성전기주식회사 | 알킬 설폰화된 테트라졸 화합물로 표면 개질된 실리카, 이의 제조방법 및 이를 함유하는 수지조성물 |
| KR101956281B1 (ko) | 2013-08-13 | 2019-03-08 | 삼성전기주식회사 | 수지 조성물, 이를 이용한 인쇄회로기판 및 그 제조방법 |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5948752A (ja) * | 1982-09-13 | 1984-03-21 | Hitachi Chem Co Ltd | 感光性樹脂組成物 |
| JPS59125726A (ja) * | 1983-01-06 | 1984-07-20 | Mitsubishi Rayon Co Ltd | 光重合性樹脂組成物 |
| JPS61166541A (ja) * | 1985-01-19 | 1986-07-28 | Fuotopori Ouka Kk | 光重合性組成物 |
| US4629679A (en) * | 1985-02-12 | 1986-12-16 | Mitsubishi Rayon Company Ltd. | Tetrazole compound-containing photopolymerizable resin composition |
| JP2606259B2 (ja) * | 1988-03-02 | 1997-04-30 | 東洋紡績株式会社 | 光重合性組成物 |
-
1993
- 1993-12-30 GB GB9326553A patent/GB9326553D0/en active Pending
-
1994
- 1994-12-29 DE DE1994624031 patent/DE69424031T2/de not_active Expired - Lifetime
- 1994-12-29 EP EP19940309909 patent/EP0665468B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1994-12-29 CA CA 2139278 patent/CA2139278A1/en not_active Abandoned
-
1995
- 1995-01-04 JP JP7795A patent/JPH07209873A/ja active Pending
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE69424031D1 (de) | 2000-05-25 |
| EP0665468A1 (en) | 1995-08-02 |
| GB9326553D0 (en) | 1994-03-02 |
| DE69424031T2 (de) | 2000-09-14 |
| EP0665468B1 (en) | 2000-04-19 |
| CA2139278A1 (en) | 1995-07-01 |
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