JPH10123708A - 感光性樹脂組成物およびその用途 - Google Patents
感光性樹脂組成物およびその用途Info
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- Manufacturing Of Printed Circuit Boards (AREA)
Abstract
度)に優れ、更には現像時のスラッジの発生量が少な
く、かつ現像液の抑泡性にも優れた感光性樹脂組成物及
びそのフォトレジストフィルムを提供する。 【解決手段】 ベースポリマー(A)、特定の化合物を
含有するエチレン性不飽和化合物(B)例えば2−エチ
ルヘキシルカルビトールアクリレート(B1)/ビスフ
ェノールAポリオキシエチレンジメタクリレート(B
3)/ポリプロピレングリコールジアクリレートの混合
物及び9−フェニルアクリジンと特定の化合物を含有す
る光重合開始剤(C)例えば9−フェニルアクリジン
(C1)/N−フェニルグリシン(C2)/ベンゾフェ
ノン(C3)/P,P′−ビス(ジエチルアミノ)ベン
ゾフェノン(C3)/ヘキサアリールイミダゾール二量
体の混合物を主成分とする。
Description
に関し、更に詳しくは、印刷配線板の製造、金属の精密
加工等に用いられるエッチングレジスト又はめっきレジ
ストとして優れた密着性、感度を有し、更に現像時の抑
泡性及びスラッジ発生減にも優れた感光性樹脂組成物及
びその積層体に関する。
分野において、エッチングレジスト又はめっきレジスト
等のレジスト材料として感光性樹脂組成物及びそれを用
いたドライフィルムレジスト用積層体を使用することが
知られている。従来、印刷配線板の製造、金属の精密加
工等においてレジストを形成する方法としては、テンテ
ィング法とめっき法の2種類がある。テンティング法と
は、チップ搭載のための銅スルーホールをレジストで保
護し、エッチング、レジスト剥離を経て、電気回路を形
成するのに対して、めっき法は、電気めっきによってス
ルーホールに銅を析出させ、はんだめっきで保護し、レ
ジスト剥離、エッチングによって電気回路の形成を行う
ものである。
性は、光感度等の感光特性が良好であることはもちろ
ん、金属に対する密着性、基板表面の凹凸への追従性、
エッチング液やめっき液等の耐薬品性、レジスト剥離性
等さまざまである。中でも金属に対する密着性やレジス
ト剥離性を重要視される場合が多い。また、現像時の作
業効率の向上も重要な点で、具体的には現像時のスラッ
ジの発生量が少なく(スラッジの発生量低減)、かつ現
像液の発泡性が少ない(抑泡性)感光性樹脂が望まれて
いるのである。
レン性不飽和化合物としてポリエチレングリコール(メ
タ)アクリレートとカルボキシル基を有する特定のエチ
レン性不飽和化合物を用いた感光性樹脂組成物(特開平
6−332168号公報)や特定のエピクロルヒドリン
変性フタル酸ジアクリレートを用いた感光性樹脂組成物
(特開平7−271025号公報)が提案されている。
開平6−332168号公報開示技術では、高感度が得
られず、現像液の抑泡性が不十分であり、特開平7−2
71025号公報開示技術では、未だ感度が低く、十分
に満足できるものではなく、密着性、感度、スラッジの
発生低減、抑泡性に優れた感光性樹脂組成物の開発が望
まれている。
情に鑑み、鋭意研究をした結果、α,β−不飽和カルボ
キシル基含有モノマーを共重合成分とするバインダーポ
リマー(A)、下記化4で示される化合物(B1)および
/または化5で示される化合物(B2)を含有するエチレ
ン性不飽和化合物(B)、
以上の飽和炭化水素で、nは2〜5の整数、mは1〜1
4の整数である。)
〜10のアルキル基で、nは2〜5の整数、lは1〜6
の整数である。) 9−フェニルアクリジン(C1)及び下記化6で示される
化合物(C2)を含有する光重合開始剤(C)、
ニル基で、R5は水素原子または炭素数1〜8のアルキ
ル基である。)を主成分とする感光性樹脂組成物が、レ
ジストの金属基板への密着性、感光性(感度)に優れ、
更には現像時のスラッジの発生量が少なく、かつ現像液
の抑泡性にも優れることを見いだし、本発明を完成する
に至った。
本発明に用いるバインダーポリマー(A)は、α,β−
不飽和カルボキシル基含有モノマー(A1)を共重合成分
として含んだ共重合体であればよく、かかるα,β−不
飽和カルボキシル基含有モノマー(A1)としては、例え
ば(メタ)アクリル酸、ケイ皮酸、クロトン酸、ソルビ
ン酸、マレイン酸、フマル酸等が挙げられ、特にアクリ
ル酸、メタクリル酸が好適である。
記の(A1)とそれ以外の共重合成分(A2)とからなり、
かかる共重合成分(A2)としては、例えば(メタ)アク
リル酸アルキルエステル、(メタ)アクリル酸テトラヒ
ドロフルフリルエステル、(メタ)アクリルジメチルア
ミノエチルエステル、(メタ)アクリル酸ジエチルアミ
ノエチルエステル、メタクリル酸グリシジルエステル、
2,2,2−トリフルオロエチル(メタ)アクリレー
ト、2,2,3,3−テトラフルオロプロピル(メタ)
アクリレートアクリルアミド、ジアセトンアクリルアミ
ド、スチレン、ビニルトルエン、酢酸ビニル、アルキル
ビニルエーテル、(メタ)アクリロニトリル等が挙げら
れ、このときのベースポリマー(A)中に占める(A1)
の配合割合は重量基準で15〜30重量%程度である。
は、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アク
リレート、プロピル(メタ)アクリレート、ブチル(メ
タ)アクリレート、ヘキシル(メタ)アクリレート、2
−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、シクロヘキシ
ル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレー
ト、ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレート、ヒド
ロキシエチル(メタ)アクリレート、ヒドロキシプロピ
ル(メタ)アクリレート、グリシジル(メタ)アクリレ
ートなどが例示される。上記のベースポリマー(A)の
重量平均分子量は4〜20万が好ましく、かかる重量平
均分子量が4万未満ではテント膜強度に劣り、逆に20
万を越えると現像性に劣るため好ましくない。より好ま
しくは6〜15万である。
アクリル系樹脂以外のポリエステル樹脂、ポリアミド樹
脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂等を併用すること
もできる。本発明のエチレン性不飽和化合物(B)とし
ては、上記化4で示される化合物(B1)および/または
化5で示される化合物(B2)を含有することが必要で、
かかる化4で示される化合物(B1)としては特に限定さ
れず、例えば2−エチルヘキシルカルビトールアクリレ
ート(上記化4でR1=H、R2=2−エチルヘキシル
基、n=2、m=2〜4、東亜合成化学工業社製、商品
名;アロニックスM−120)、ブチルカルビトールア
クリレート(上記化4でR1=H、R2=ブチル基、n=
2、m=2〜4)等が挙げられるが、中でも特に2−エ
チルヘキシルカルビトールアクリレートが好ましく、化
5で示される化合物(B2)としては特に限定されず、例
えばノニルフェノキシポリエチレングリコールアクリレ
ート(上記化5でR1=H、R3=ノニル基、n=2、l
=2〜4、東亜合成化学工業(株)製、商品名;M−11
3)、ノニルフェノキシポリプロピレングリコールアク
リレート(上記化5でR1=H、R3=ノニル基、n=
3、l=2〜4、東亜合成化学工業(株)製、商品名;M
−117)等が挙げられるが、中でも特にノニルフェノ
キシポリエチレングリコールアクリレートが好ましい。
これら(B1)および(B2)は、併用することも可能で、
そのときの配合重量比(B1)/(B2)は90/10〜1
0/90が好ましく、更には70/30〜30/70で
ある。
(B)として、上記の特定の化合物を含有することが必
要であるが、それ以外のエチレン性不飽和化合物(B3)
を併用することも可能であり、このときのエチレン性不
飽和化合物(B)中の化4で示される化合物(B1)およ
び/または化5で示される化合物(B2)の含有量は10
〜80重量%が好ましく、更には15〜60重量%であ
る。かかる化合物(B3)としては、多価アルコールに
α,β−不飽和カルボン酸を付加して得られる化合物、
例えばエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジ
エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、テトラエ
チレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリエチレ
ングリコールジ(メタ)アクリレート、プロピレングリ
コールジ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコ
ールジ(メタ)アクリレート、ブチレングリコールジ
(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メ
タ)アクリレート、1,6−ヘキサングリコールジ(メ
タ)アクリレート、トリメチロールプロパンジ(メタ)
アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)ア
クリレート、テトラメチロールメタントリ(メタ)アク
リレート、テトラメチロールメタンテトラ(メタ)アク
リレート、グリセリンジ(メタ)アクリレート、ペンタ
エリスリトールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリス
リトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリ
トールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリ
トールヘキサ(メタ)アクリレート等、グリシジル基含
有化合物にα,β−不飽和カルボン酸を付加して得られ
る化合物、例えばエチレングリコールジグリシジルエー
テルジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ
グリシジルエーテルジ(メタ)アクリレート、トリメチ
ロールプロパントリグリシジルエーテルトリアクリレー
ト、ビスフェノールAグリシジルエーテルジ(メタ)ア
クリレート、フタル酸ジグリシジルエステルジ(メタ)
アクリレート、グリセリンポリグリシジルエーテルポリ
(メタ)アクリレート等、その他、2,2−ビス(4−
(メタ)アクリロキシジエトキシフェニル)プロパン、
2,2−ビス−(4−(メタ)アクリロキシポリエトキ
シフェニル)プロパン、2−ヒドロキシ−3−(メタ)
アクリロイルオキシプロピル(メタ)アクリレート等の
多官能モノマーが挙げられ、1種又は2種以上用いられ
る。
で、例えば、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレー
ト、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2
−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、2−フェノ
キシ−2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、
2−(メタ)アクリロイルオキシ−2−ヒドロキシプロ
ピルフタレート、3−クロロ−2−ヒドロキシプロピル
(メタ)アクリレート、グリセリンモノ(メタ)アクリ
レート、2−(メタ)アクリロイルオキシエチルアシッ
ドホスフェート、フタル酸誘導体のハーフ(メタ)アク
リレート、N−メチロール(メタ)アクリルアミド等が
挙げられる。
バインダーポリマー(A)100重量部に対して25〜
85重量部、好ましくは30〜80重量部、特に好まし
くは40〜70重量部の範囲から選ぶことが望ましい。
エチレン性不飽和化合物(B)の過少は硬化不良、可撓
性の低下、現像速度の遅延等を招き、エチレン性不飽和
化合物(B)の過多は粘着性の増大、コールドフロー、
硬化レジストの剥離速度低下等を招き好ましくない。
して、9−フェニルアクリジン(C1)及び上記化6で示
される化合物(C2)を含有することも必要で、かかる
(C1)及び(C2)を含有しないときは、本発明の作用効
果を期待することはできない。上記化6で示される化合
物(C2)の具体例としてはN−フェニルグリシン、N−
フェニルグリシンブチルエステル、N−p−メチルフェ
ニルグリシンエチルエステル等が挙げられ、好適にはN
−フェニルグリシンが用いられる。かかる(C1)と(C
2)の含有割合は、重量基準で90/10〜10/90
であることが好ましく、更には70/30〜30/70
で、かかる含有割合が90/10を越えると感光性樹脂
組成物表面での光吸収が増大して内部硬化が不十分とな
り、逆に10/90未満では感光性樹脂組成物の保存安
定性が低下して好ましくない。
(C1)及び(C2)を必須成分として含有するが、上記
(C1)、(C2)以外の光重合開始剤(C3)を用いてもよ
い。かかる(C3)としては、例えば,ベンゾイン、ベン
ゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベ
ンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインn−ブチル
エーテル、ベンゾインフェニルエーテル、ベンジルジフ
ェニルジスルフィド、ベンジルジメチルケタール、ジベ
ンジル、ジアセチル、アントラキノン、ナフトキノン、
3,3′−ジメチル−4−メトキシベンゾフェノン、ベ
ンゾフェノン、p,p′−ビス(ジメチルアミノ)ベン
ゾフェノン、p,p′−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾ
フェノン、ピバロインエチルエーテル、1,1−ジクロ
ロアセトフェノン、p−t−ブチルジクロロアセトフェ
ノン、ヘキサアリールイミダゾール二量体、2−クロロ
チオキサントン、2−メチルチオキサントン、2,4−
ジエチルチオキサントン、2,2−ジエトキシアセトフ
ェノン、2,2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェ
ノン、2,2−ジクロロ−4−フェノキシアセトフェノ
ン、フェニルグリオキシレート、α−ヒドロキシイソブ
チルフェノン、ジベゾスパロン、1−(4−イソプロピ
ルフェニル)−2−ヒドロキシ−2−メチル−1−プロ
パノン、2−メチル−[4−(メチルチオ)フェニル]
−2−モルフォリノ−1−プロパノン、トリブロモフェ
ニルスルホン、トリブロモメチルフェニルスルホン等を
挙げることができる。光重合開始剤(C)の配合割合
は、バインダーポリマー(A)とエチレン性不飽和化合
物(B)との合計量100重量部に対して0.1〜20
重量部、好ましくは0.5〜18重量部、更に好ましく
は1〜15重量部とするのが適当である。
(A)、(B)、(C)を必須成分とするが、必要に応
じて熱重合禁止剤、可塑剤、染料(色素、変色剤)、密
着性付与剤、酸化防止剤、溶剤、表面張力改質材、安定
剤、連鎖移動剤、消泡剤、難燃剤、等の添加剤を適宜添
加することができる。例えば、熱重合禁止剤は感光性樹
脂組成物の熱的な重合又は経時的な重合を防止するため
に添加するもので、p−メトキシフェノール、ヒドロキ
ノン、t−ブチルカテコール、ピロガロール、2−ヒド
ロキシベンゾフェノン、4−メトキシ−2−ヒドロキシ
ベンゾフェノン、塩化第一銅、フェノチアジン、クロラ
ニル、ナフチルアミン、β−ナフトール、2,6−ジ−
t−ブチル−p−クレゾール、ニトロベンゼン、ジニト
ロベンゼン、ピクリン酸、p−トルイジン等が挙げられ
る。
添加するもので、例えばジブチルフタレート、ジヘプチ
ルフタレート、ジオクチルフタレート、ジアリルフタレ
ート等のフタル酸エステル類;トリエチレングリコール
ジアセテート、テトラエチレングリコールジアセテート
等のグリコールエステル類;トリクレジルホスフェー
ト、トリフェニルホスフェート等のリン酸エステル類;
p−トルエンスルホンアミド、ベンゼンスルホンアミ
ド、N−n−ブチルアセトアミド等のアミド類;ジイソ
ブチルアジペート、ジオクチルアジペート、ジメチルセ
バケート、ジオクチルアゼレート、ジブチルマレート等
の脂肪族二塩基酸エステル類;クエン酸トリエチル、ク
エン酸トリブチル、グリセリントリアセチルエステル、
ラウリン酸ブチル、4,5−ジエポキシシクロヘキサン
−1,2−ジカルボン酸ジオクチル、ポリエチレングリ
コール、ポリプロピレングリコール等のグリコール類等
が挙げられる。
ン、エオシン、エチルバイオレット、エリスロシンB、
メチルグリーン、クリスタルバイオレット、ベイシック
フクシン、フェノールフタレイン、1,3−ジフェニル
トリアジン、アリザリンレッドS、チモールフタレイ
ン、メチルバイオレット2B、キナルジンレッド、ロー
ズベンガル、メタニルイエロー、チモールスルホフタレ
イン、キシレノールブルー、メチルオレンジ、オレンジ
IV、ジフェニルチオカルバゾン、2,7−ジクロロフル
オレセイン、パラメチルレッド、コンゴーレッド、ベン
ゾプルプリン4B、α−ナフチルレッド、ナイルブルー
A、フェナセタリン、メチルバイオレット、マラカイト
グリーン、パラフクシン、オイルブルー#603[オリ
エント化学工業(株)製]、ビクトリアピュアブルーB
OH、スピロンブルーGN[保土ケ谷化学工業(株)
製]、ローダミン6G、ダイヤモンドグリーン等であ
る。
ができるように感光性樹脂組成物中に添加され、具体例
として前記色素の他にジフェニルアミン、ジベンジルア
ニリン、トリフェニルアミン、ジエチルアニリン、ジフ
ェニル−p−フェニレンジアミン、p−トルイジン、
4、4′−ビフェニルジアミン、o−クロロアニリン、
ロイコクリスタルバイオレット、ロイコマラカイトグリ
ーン、ロイコアニリン、ロイコメチルバイオレット等が
挙げられる。
ゾール、ベンズチアゾール、ベンズオキソゾール、ベン
ズトリアゾール、2−メルカプトベンズチアゾール、2
−メルカプトベンズイミダゾール、カルボキシベンゾト
リアゾール、N,N−ジオクチルアミノメチルベンゾト
リアゾール等が挙げられる。
ドライフィルムレジスト用積層体の製造及びそれを用い
る印刷配線基板の製法について説明する。
これをポリエステルフィルム、ポリプロピレンフィル
ム、ポリスチレンフィルムなどのベースフィルム面に塗
工した後、その塗工面の上からポリエチレンフィルム、
ポリビニルアルコール系フィルムなどの保護フィルムを
被覆してドライフィルムレジスト用積層体とする。ドラ
イフィルムレジスト以外の用途としては、本発明の感光
性樹脂組成物を、ディップコート法、フローコート法、
スクリーン印刷法等の常法により、加工すべき(銅)基
板上に直接塗工してもよい。かかる塗工時に、メチルエ
チルケトン、メチルセロソルブアセテート、エチルセロ
ソルブアセテート、シクロヘキサン、メチルセルソル
ブ、塩化メチレン、1,1,1−トリクロルエタン、メ
チルアルコール、エチルアルコール、酢酸エチル等の溶
剤を添加することもできる。
画像を形成させるにはベースフィルムと感光性樹脂組成
物層との接着力及び保護フィルムと感光性樹脂組成物層
との接着力を比較し、接着力の低い方のフィルムを剥離
してから感光性樹脂組成物層の側を銅張基板の銅面など
の金属面に貼り付けた後、他方のフィルム上にパターン
マスクを密着させて露光する。感光性樹脂組成物が粘着
性を有しないときは、前記他方のフィルムを剥離してか
らパターンマスクを感光性樹脂組成物層に直接接触させ
て露光することもできる。金属面に直接塗工した場合
は、その塗工面に直接またはポリエステルフィルムなど
を介してパターンマスクを接触させ、露光に供する。露
光は通常紫外線照射により行い、その際の光源として
は、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、カーボンアーク灯、キ
セノン灯、メタルハライドランプ、ケミカルランプなど
が用いられる。紫外線照射後は、必要に応じ加熱を行っ
て、硬化の完全を図ることもできる。
を剥離除去してから現像を行う。本発明の感光性樹脂組
成物は稀アルカリ現像型であるので、露光後の現像は、
炭酸ソーダ、炭酸カリウムなどのアルカリ0.5〜2重
量%程度の稀薄水溶液を用いて行う。該アルカリ水溶液
中には、表面活性剤、消泡剤、現像を促進させるための
少量の有機溶剤等を混入させてもよい。 (エッチング、めっき)エッチングは、通常塩化第二銅
−塩酸水溶液や塩化第二鉄−塩酸水溶液などの酸性エッ
チング液を用いて常法に従ってエッチングを行う。希に
アンモニア系のアルカリエッチング液も用いられる。め
っき法は、脱脂剤、ソフトエッチング剤などのめっき前
処理剤を用いて前処理を行った後、めっき液を用いてめ
っきを行う。
程後、残っている硬化レジストの剥離を行う。硬化レジ
ストの剥離除去は、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム
などの0.5〜5重量%程度の濃度のアルカリ水溶液か
らなるアルカリ剥離液を用いて行う。本発明の感光性樹
脂組成物及び該組成物のドライフィルムレジスト用積層
体は、印刷配線板の製造、金属の精密加工等に用いられ
るエッチングレジスト又はめっきレジストとして有用で
あり、上記化4または化5で示される特定の化合物を含
有するエチレン性不飽和化合物(B)と特定の光重合開
始剤(C)を用いているため、レジストの金属基板への
密着性、感光性(感度)に優れ、更には現像時のスラッ
ジの発生量が少なく、かつ現像液の抑泡性にも優れた効
果を示すものである。
する。尚、例中「%」、「部」とあるのは断りのない限
り重量基準を意味する。 実施例1 (ドープの調整)下記のベースポリマー(A)58部、
下記のエチレン性不飽和化合物(B)39部、下記処方
の光重合開始剤(C)2.35部及び下記の添加剤
(D)0.65部をを混合して感光性樹脂組成物を調製
した。ベースポリマー(A) メチルメタクリレート/n−ブチルメタクリレート/2
−ヒドロキシエチルメタクリレート/メタクリル酸の共
重合割合が重量基準で54/19/5/22である共重
合体(酸価143.3、重量平均分子量9万)
成化学工業(株)製、アロニックスM−120)(B1)/
ビスフェノールAポリオキシエチレンジメタクリレート
(新中村化学工業(株)製、BPE−10)(B3)/ポリ
プロピレングリコールジアクリレート(新中村化学工業
(株)製、APG−400)(B3)の重量比(部)13/
20/6の混合物
(C2)/ベンゾフェノン(C3)/P,P’−ビス(ジエ
チルアミノ)ベンゾフェノン(C3)/ヘキサアリールイ
ミダゾール二量体(C3)の重量比(部)0.15/0.
1/1/0.1/1の混合物添加剤(D) ロイコクリスタルバイオレット/マラカイトグリーンの
重量比(部)0.6/0.05の混合物
で、得られたドープをギャップ8ミルのアプリケーター
を用いて厚さ20μmのポリエステルフィルム上に塗工
し、室温で1分30秒放置した後、60℃、90℃、1
10℃のオーブンでそれぞれ3分間乾燥して、レジスト
厚40μmのドライフィルムとした(ただし保護フィル
ムは設けていない)。このドライフィルムを、オーブン
で60℃に予熱した銅張基板上に、ラミネートロール温
度100℃、同ロール圧3kg/cm2、ラミネート速
度1.5m/secにてラミネートした。得られたラミ
ネート基板を用いて、以下の評価を行った。
灯で40mj/cm2の露光を行った。この際、光感度
を評価できるように光透過量が段階的に少なくなるよう
に作られたネガフィルム(ストーファー21段ステップ
タブレット)を用いた。露光後15分経過してからポリ
エステルフィルムを剥離し、30℃で1%炭酸ナトリウ
ム水溶液を50〜60秒間スプレーすることにより未露
光部分を除却した。感光性樹脂組成物の光感度は銅張基
板上に形成された光硬化膜のステップタブレットの段数
を測定することにより評価した。(このステップタブレ
ットの段数が高いほど光感度が高いことを示してい
る。)
ト)後、ライン幅10、15、20、25、30、3
5、40、45、50μmのパターンマスク(スペース
幅は400μm)を用いて感度評価の場合と同様に現像
して密着性良好な最小ライン幅(μm)を調べた。
ジスト)を用いて、以下の評価を行った。 [抑泡性]1%炭酸ナトリウム溶液300mlに未露光
レジストを0.2m2/l(レジスト厚み40μm)と
なるように溶解し、一日撹拌した後、該炭酸ナトリウム
水溶液(未露光レジスト溶解液)100mlを500m
l容発泡瓶(瓶の内径:6cm)に移し、該発泡瓶を3
0℃の恒温水槽で1時間放置した。その後1.0l/分
の通気量で空気を送り込み、液を発泡させた。空気を送
り始めてから60分後、120分後、360分後の泡の
みの高さ(cm)を測定することにより抑泡性を評価し
た。評価基準は、以下の通り。 ◎ −−− 360分後においても泡のみの高さが3c
m未満 ○ −−− 360分後においても泡のみの高さが3〜
10cm △ −−− 120分後で泡のみの高さが10cm以上 × −−− 60分後で泡のみの高さが10cm以上
液300mlに未露光レジストを0.5m2/l(レジ
スト厚み40μm)となるように溶解し、一日撹拌した
後、該炭酸ナトリウム水溶液(未露光レジスト溶解液)
を500ml容発泡瓶に移して1.0l/分の通気量で
5時間空気を送り込んだ。その後、該水溶液をポアサイ
ズ3μmのテフロン製メンブレンフィルターで吸引濾過
し、該フィルターを120℃で5時間乾燥した後、その
重量よりスラッジ発生量(mg)を算出した。
−エチルヘキシルカルビトールアクリレート(東亜合成
化学工業(株)製、アロニックスM−120)(B1)に替
えてノニルフェノキシポリエチレングリコールアクリレ
ート(東亜合成化学工業(株)製、アロニックスM−11
3)(B2)を用いた以外は同様に行って感光性樹脂組成
物を得て、同様に評価を行った。
不飽和化合物(B)の配合量を65部と32部とした以
外は同様に行って感光性樹脂組成物を得て、同様に評価
を行った。
て、2−エチルヘキシルカルビトールアクリレート(東
亜合成化学工業(株)製、アロニックスM−120)(B
1)/ノニルフェノキシポリエチレングリコールアクリ
レート(東亜合成化学工業(株)製、アロニックスM−1
13)(B2)/ビスフェノールAポリオキシエチレンジ
メタクリレート(新中村化学工業(株)製、BPE−1
0)(B3)/ポリプロピレングリコールジアクリレート
(新中村化学工業(株)製、APG−400)(B3)の重
量比(部)7/6/20/6の混合物を用いた以外は同
様に行って感光性樹脂組成物を得て、同様に評価を行っ
た。
子量を13万とした以外は同様に行って感光性樹脂組成
物を得て、同様に評価を行った。
N−フェニルグリシン(C2)の配合量をそれぞれ0.2
部及び0.05部とした以外は同様に行って感光性樹脂
組成物を得て、同様に評価を行った。
合量を0.5部とした以外は同様に行って感光性樹脂組
成物を得て、同様に評価を行った。
量を0.3部とした以外は同様に行って感光性樹脂組成
物を得て、同様に評価を行った。
て、ビスフェノールAポリオキシエチレンジメタクリレ
ート(新中村化学工業(株)製、BPE−10)(B3)/
ポリプロピレングリコールジアクリレート(新中村化学
工業(株)製、APG−400)(B3)の重量比(部)3
0/9の混合物を用いた以外は同様に行って感光性樹脂
組成物を得て、同様に評価を行った。
ェニルグリシン(C1)を無配合とした以外は同様に行っ
て感光性樹脂組成物を得て、同様に評価を行った。
ェニルグリシン(C2)を無配合とした以外は同様に行っ
て感光性樹脂組成物を得て、同様に評価を行った。実施
例および比較例の評価結果を表1に示す。
のドライフィルムレジスト用積層体は、上記化4および
/または化5で示される特定の化合物を含有するエチレ
ン性不飽和化合物(B)と特定の光重合開始剤(C)を
用いているため、レジストの金属基板への密着性、感光
性(感度)に優れ、更には現像性時のスラッジの発生量
が少なく、かつ現像液の抑泡性にも優れた効果を示すた
め、印刷配線板の製造、金属の精密加工等に用いられる
エッチングレジスト又はめっきレジストとして有用であ
る。
する。尚、例中「%」、「部」とあるのは断りのない限
り重量基準を意味する。 実施例1 (ドープの調製)下記のベースポリマー(A)58部、
下記のエチレン性不飽和化合物(B)39部、下記処方
の光重合開始剤(C)2.35部及び下記の添加剤
(D)0.65部をを混合して感光性樹脂組成物を調製
した。ベースポリマー(A) メチルメタクリレート/n−ブチルメタクリレート/2
−ヒドロキシエチルメタクリレート/メタクリル酸の共
重合割合が重量基準で54/19/5/22である共重
合体(酸価143.3、重量平均分子量9万)
で、得られたドープをギャップ8ミルのアプリケーター
を用いて厚さ20μmのポリエステルフィルム上に塗工
し、室温で1分30秒放置した後、60℃、90℃、1
10℃のオーブンでそれぞれ3分間乾燥して、レジスト
厚40μmのドライフィルムとした(ただし保護フィル
ムは設けていない)。このドライフィルムを、オーブン
で60℃に予熱した銅張基板上に、ラミネートロール温
度100℃、同ロール圧3kg/cm2、ラミネート速
度1.5m/minにてラミネートした。得られたラミ
ネート基板を用いて、以下の評価を行った。
Claims (6)
- 【請求項1】 α,β−不飽和カルボキシル基含有モノ
マーを共重合成分とするバインダーポリマー(A)、下
記化1で示される化合物(B1)および/または化2で示
される化合物(B2)を含有するエチレン性不飽和化合物
(B)、 【化1】 (式中、R1は水素原子又はメチル基で、R2は炭素数4
以上の飽和炭化水素で、nは2〜5の整数、mは1〜1
4の整数である。) 【化2】 (式中、R1は水素原子又はメチル基で、R3は炭素数6
〜10のアルキル基で、nは2〜5の整数、lは1〜6
の整数である。) 9−フェニルアクリジン(C1)及び下記化3で示される
化合物(C2)を含有する光重合開始剤(C)、 【化3】 (式中、R4はアルキル基で置換されていてもよいフェ
ニル基で、R5は水素原子または炭素数1〜8のアルキ
ル基である。)を主成分とすることを特徴とする感光性
樹脂組成物。 - 【請求項2】 9−フェニルアクリジン(C1)の配合量
がバインダーポリマー(A)とエチレン性不飽和化合物
(B)の合計量100重量部に対して、0.01〜2.
0重量部であることを特徴とする請求項1記載の感光性
樹脂組成物。 - 【請求項3】 上記化3で示される化合物(C2)の配合
量がバインダーポリマー(A)とエチレン性不飽和化合
物(B)の合計量100重量部に対して、0.01〜
1.0重量部であることを特徴とする請求項1または2
記載の感光性樹脂組成物。 - 【請求項4】 エチレン性不飽和化合物(B)中の化1
で示される化合物(B1)および/または上記化2で示さ
れる化合物(B2)の含有量が10〜80重量%であるこ
とを特徴とする請求項1〜3いずれか記載の感光性樹脂
組成物。 - 【請求項5】 エチレン性不飽和化合物(B)の配合量
がバインダーポリマー(A)100重量部に対して、2
5〜85重量部であることを特徴とする請求項1〜4い
ずれか記載の感光性樹脂組成物。 - 【請求項6】 請求項1〜5いずれか記載の感光性樹脂
組成物の層をベースフィルムと保護フィルムとの間に形
成させてなることを特徴とするフォトレジスト用積層
体。
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|---|---|---|---|
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