JPH0721377A - 画像処理システム - Google Patents
画像処理システムInfo
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- JPH0721377A JPH0721377A JP5147800A JP14780093A JPH0721377A JP H0721377 A JPH0721377 A JP H0721377A JP 5147800 A JP5147800 A JP 5147800A JP 14780093 A JP14780093 A JP 14780093A JP H0721377 A JPH0721377 A JP H0721377A
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- 230000000873 masking effect Effects 0.000 claims abstract description 9
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 claims description 3
- 238000001514 detection method Methods 0.000 abstract description 13
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 abstract description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 9
- 238000000034 method Methods 0.000 description 7
- 230000006870 function Effects 0.000 description 2
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 1
- 230000001788 irregular Effects 0.000 description 1
- 238000003909 pattern recognition Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Image Processing (AREA)
- Image Analysis (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】回転リファレンス画像のパターンマッチング時
の検出精度の向上。 【構成】リファレンス画像データを実質的にマスクする
マスク画像データを、前記リファレンス画像データと同
様に回転させてなるマスク付リファレンス画像データを
作成する手段を具備したことを特徴とする。
の検出精度の向上。 【構成】リファレンス画像データを実質的にマスクする
マスク画像データを、前記リファレンス画像データと同
様に回転させてなるマスク付リファレンス画像データを
作成する手段を具備したことを特徴とする。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、画像処理システムに関
し、特にパターンマッチングにより、画像検出を行う場
合に使用する。
し、特にパターンマッチングにより、画像検出を行う場
合に使用する。
【０００２】
【従来の技術】画像パターン認識の一手法として、パタ
ーンマッチングによる類似度法がある。ところで従来
は、パターンマッチングに使用するリファレンス画像デ
ータ（例えばメモリに記憶されている）に、マスク（阻
止／透過）エリアを設ける（マスクを掛ける）という概
念がなかった。そのため、リファレンス画像データ内に
不定形な画像が存在するものは、検出精度が低下してし
まい、リファレンス画像データとして使用できなくなる
ことがあった。
ーンマッチングによる類似度法がある。ところで従来
は、パターンマッチングに使用するリファレンス画像デ
ータ（例えばメモリに記憶されている）に、マスク（阻
止／透過）エリアを設ける（マスクを掛ける）という概
念がなかった。そのため、リファレンス画像データ内に
不定形な画像が存在するものは、検出精度が低下してし
まい、リファレンス画像データとして使用できなくなる
ことがあった。
【０００３】上記の事項の一例を上げれば、サイコロの
画像があって、サイコロの目の数などどうでもよく、サ
イコロの位置だけを検出したい場合、不要なサイコロの
目の画像が邪魔になり、サイコロ位置の検出制度が低下
してしまう。
画像があって、サイコロの目の数などどうでもよく、サ
イコロの位置だけを検出したい場合、不要なサイコロの
目の画像が邪魔になり、サイコロ位置の検出制度が低下
してしまう。
【０００４】ところで、リファレンス画像データを用い
て検出したい画像（処理対象画像）が傾いた（回転し
た）サイコロの場合、リファレンス画像（データ）も、
同様に傾いたものを用いる必要があるが、この場合、サ
イコロの目を隠すマスクも同様に傾けておかないと、傾
いた処理対象の画像に対するリファレンス画像の役目を
正常に果たせない。
て検出したい画像（処理対象画像）が傾いた（回転し
た）サイコロの場合、リファレンス画像（データ）も、
同様に傾いたものを用いる必要があるが、この場合、サ
イコロの目を隠すマスクも同様に傾けておかないと、傾
いた処理対象の画像に対するリファレンス画像の役目を
正常に果たせない。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】本発明は上記実情に鑑
みてなされたもので、リファレンス画像データにマスク
エリアを設けることにより、これから検出しようとする
所要部分の画像以外の部分はカットし、被検出パターン
に対する検出精度が向上させる画像処理システムにおい
て、傾いた処理対象画像に対しても良好な検出が行える
画像処理システムを提供しようとするものである。
みてなされたもので、リファレンス画像データにマスク
エリアを設けることにより、これから検出しようとする
所要部分の画像以外の部分はカットし、被検出パターン
に対する検出精度が向上させる画像処理システムにおい
て、傾いた処理対象画像に対しても良好な検出が行える
画像処理システムを提供しようとするものである。
【０００６】
【課題を解決するための手段と作用】本発明は、リファ
レンス画像データを実質的にマスクするマスク画像デー
タを、前記リファレンス画像データと同様に回転させて
なるマスク付リファレンス画像データを作成する手段を
具備したことを特徴とする画像処理システムである。ま
た本発明は、原リファレンス画像データを回転させた第
１のリファレンス画像データの生成部と、該画像データ
の生成部のデータに実質的マスクを掛けるマスク画像デ
ータを、前記第１のリファレンス画像データと同様の角
度回転させた第１のマスク画像データの生成部と、前記
両画像データ生成部のデータから、演算で前記第１のリ
ファレンス画像データの不要データを実質的にマスクす
るマスク処理部と、処理対象画像データ送出部と、前記
処理対象画像データ送出部からのデータと前記マスク処
理部からのデータとの比較によりパターンマッチング処
理を行い、パターンマッチングの成否を検出するパター
ンマッチング処理部とを具備したことを特徴とする画像
処理システムである。
レンス画像データを実質的にマスクするマスク画像デー
タを、前記リファレンス画像データと同様に回転させて
なるマスク付リファレンス画像データを作成する手段を
具備したことを特徴とする画像処理システムである。ま
た本発明は、原リファレンス画像データを回転させた第
１のリファレンス画像データの生成部と、該画像データ
の生成部のデータに実質的マスクを掛けるマスク画像デ
ータを、前記第１のリファレンス画像データと同様の角
度回転させた第１のマスク画像データの生成部と、前記
両画像データ生成部のデータから、演算で前記第１のリ
ファレンス画像データの不要データを実質的にマスクす
るマスク処理部と、処理対象画像データ送出部と、前記
処理対象画像データ送出部からのデータと前記マスク処
理部からのデータとの比較によりパターンマッチング処
理を行い、パターンマッチングの成否を検出するパター
ンマッチング処理部とを具備したことを特徴とする画像
処理システムである。
【０００７】すなわち本発明は、リファレンス画像デー
タの不要部分を隠すマスクパターンエリアを設け、これ
でリファレンス画像データの不要部分を、実質的になく
すようにする。このようにしてパターンマッチングの検
出精度を上げるのであるが、処理対象画像が回転した画
像である場合、リファレンス画像データの方も同様に回
転させたものを用い、この時マスク画像データの方も、
同様に回転させておくことにより、いわゆるマスク付き
リファレンス画像データとして用意しておき、これと上
記処理対象画像との比較が行えるようにして、回転した
処理対象画像に対する検出精度を上げるものである。
タの不要部分を隠すマスクパターンエリアを設け、これ
でリファレンス画像データの不要部分を、実質的になく
すようにする。このようにしてパターンマッチングの検
出精度を上げるのであるが、処理対象画像が回転した画
像である場合、リファレンス画像データの方も同様に回
転させたものを用い、この時マスク画像データの方も、
同様に回転させておくことにより、いわゆるマスク付き
リファレンス画像データとして用意しておき、これと上
記処理対象画像との比較が行えるようにして、回転した
処理対象画像に対する検出精度を上げるものである。
【０００８】
【実施例】以下図面を参照して、本発明の実施例を説明
する。図１は、同実施例を、動作フロー的に示した構成
図である。この図において１ａは、リファレンス画像デ
ータ側の回転処理を行うリファレンス側回転処理部、１
ｂは、上記リファレンス画像データにおける不要部分の
データを隠したごとき状態にするためのマスク画像デー
タを、上記リファレンス画像データと同様の角度だけ回
転させるための処理を行うマスク側回転処理部、また１
は、上記のごとく回転されたリファレンス画像データの
生成部（例えば処理部１ａからのデータのメモリよりな
る）、２は、該画像データ生成部１のデータに実質的マ
スクを掛けるマスク画像データ生成部（例えば処理部１
ｂからのデータのメモリよりなる）であり、このデータ
生成部２からのデータは、上記の角度だけ回転されたも
のである。３は、両画像データ生成部１、２のデータか
ら、演算で前記リファレンス画像データ生成部１の不要
データを実質的にマスクするマスク処理部、４は、処理
対象画像データ送出部、５は、処理対象画像データ送出
部からのデータと前記マスク処理部からのデータとの比
較によりパターンマッチング処理を行い、パターンマッ
チングの成否を検出するパターンマッチング処理部であ
る。
する。図１は、同実施例を、動作フロー的に示した構成
図である。この図において１ａは、リファレンス画像デ
ータ側の回転処理を行うリファレンス側回転処理部、１
ｂは、上記リファレンス画像データにおける不要部分の
データを隠したごとき状態にするためのマスク画像デー
タを、上記リファレンス画像データと同様の角度だけ回
転させるための処理を行うマスク側回転処理部、また１
は、上記のごとく回転されたリファレンス画像データの
生成部（例えば処理部１ａからのデータのメモリよりな
る）、２は、該画像データ生成部１のデータに実質的マ
スクを掛けるマスク画像データ生成部（例えば処理部１
ｂからのデータのメモリよりなる）であり、このデータ
生成部２からのデータは、上記の角度だけ回転されたも
のである。３は、両画像データ生成部１、２のデータか
ら、演算で前記リファレンス画像データ生成部１の不要
データを実質的にマスクするマスク処理部、４は、処理
対象画像データ送出部、５は、処理対象画像データ送出
部からのデータと前記マスク処理部からのデータとの比
較によりパターンマッチング処理を行い、パターンマッ
チングの成否を検出するパターンマッチング処理部であ
る。
【０００９】上記マスク処理部での実質的マスクとは、
不要部分のデータにマスクを掛けるとか、不要部分のデ
ータを無効にするとか、不要部分のデータを除去すると
かなど、実質的にデータにマスクを掛けたのと同等の行
為をいうものである。
不要部分のデータにマスクを掛けるとか、不要部分のデ
ータを無効にするとか、不要部分のデータを除去すると
かなど、実質的にデータにマスクを掛けたのと同等の行
為をいうものである。
【００１０】図２は、リファレンス画像データ１１とマ
スクパターンエリア１２との関係を示しており、図２の
ような関係にあるリファレンス画像データに対応するマ
スクパターンエリアには、図３の左図に参照されるよう
なマスクパターン２１のデータが、図３の右図のように
格納されている。図２のリファレンス画像データ１１と
かマスクパターンエリア１２は、１画面分と考えてもよ
いし、１リファレンス画面分と考えてもよい。図３のま
す目２２それぞれは画素を示し、各画素２２内の数値
は、画素データを示す。リファレンス画像データ１１に
ついても、内部構成は、図３の右図と同じように、多数
の画素からなっている。
スクパターンエリア１２との関係を示しており、図２の
ような関係にあるリファレンス画像データに対応するマ
スクパターンエリアには、図３の左図に参照されるよう
なマスクパターン２１のデータが、図３の右図のように
格納されている。図２のリファレンス画像データ１１と
かマスクパターンエリア１２は、１画面分と考えてもよ
いし、１リファレンス画面分と考えてもよい。図３のま
す目２２それぞれは画素を示し、各画素２２内の数値
は、画素データを示す。リファレンス画像データ１１に
ついても、内部構成は、図３の右図と同じように、多数
の画素からなっている。
【００１１】図３の右図において、データは、ここでは
「０」または「１」であり、「１」の場合はマスクの掛
かる画素、「０」の場合はマスクの掛からない画素とな
る。本実施例の主旨は、外部から処理対象画像データ送
出部４に、設定角度だけ回転した処理対象画像データが
取り込まれた場合、この処理対象画像データに対するマ
スク処理部３からのリファレンス画像データは、該リフ
ァレンス画像データの不要部分が実質的にマスクされて
いるから、処理部５におけるパターンマッチング時の検
出必要部分の検出精度を向上させることができる。この
ことを、図１によって更に詳細に説明する。
「０」または「１」であり、「１」の場合はマスクの掛
かる画素、「０」の場合はマスクの掛からない画素とな
る。本実施例の主旨は、外部から処理対象画像データ送
出部４に、設定角度だけ回転した処理対象画像データが
取り込まれた場合、この処理対象画像データに対するマ
スク処理部３からのリファレンス画像データは、該リフ
ァレンス画像データの不要部分が実質的にマスクされて
いるから、処理部５におけるパターンマッチング時の検
出必要部分の検出精度を向上させることができる。この
ことを、図１によって更に詳細に説明する。
【００１２】リファレンス画像データ生成部１のデータ
不要部は、マスク画像データ生成部２のデータにより、
マスク処理部３における演算によって、実質的マスクが
掛けられる。一方、処理対象画像データ送出部４からの
１画面または１リファレンス分のデータと、マスク処理
部からのマスク処理済みのデータ（１画面または１リフ
ァレンス分の）とは、パターンマッチング処理部５にお
いて、パターンマッチング処理され、その処理部５か
ら、パターンマッチングの成否の結果が得られるもので
ある。
不要部は、マスク画像データ生成部２のデータにより、
マスク処理部３における演算によって、実質的マスクが
掛けられる。一方、処理対象画像データ送出部４からの
１画面または１リファレンス分のデータと、マスク処理
部からのマスク処理済みのデータ（１画面または１リフ
ァレンス分の）とは、パターンマッチング処理部５にお
いて、パターンマッチング処理され、その処理部５か
ら、パターンマッチングの成否の結果が得られるもので
ある。
【００１３】この様な処理においては、マスク処理部３
において、両入力が同じ角度だけ回転していて、マスク
処理部３からのリファレンス画像データは、パターンマ
ッチング処理部５でのパターンマッチング処理には不要
であるデータ分が除去されているから、パターンマッチ
ング時の検出精度が向上するものである。
において、両入力が同じ角度だけ回転していて、マスク
処理部３からのリファレンス画像データは、パターンマ
ッチング処理部５でのパターンマッチング処理には不要
であるデータ分が除去されているから、パターンマッチ
ング時の検出精度が向上するものである。
【００１４】図４は、上記画像データを回転させる場合
の説明図で、図４（ａ）は、リファレンス画像データが
０度、つまり回転前の状態を示す。図４（ｂ）は、回転
後のリァレンス画像データが４５度、つまり設定回転角
度が４５度の場合である。図４において３１はマスク画
像データ（マスクパターン）を示し、３２は、１画面と
考えてもよいし、１リファレンス画面分と考えてもよ
い。マスクパターン３１の部分は、画素データ「１」の
集まりの部分と考えてよく、その周りの部分は、画素デ
ータ「０」の集まりの部分と考えてよい、図４（ａ）の
状態から、図４（ｂ）に示される回転後のマスク付きリ
ファレンス画像データを得る方法を説明する。
の説明図で、図４（ａ）は、リファレンス画像データが
０度、つまり回転前の状態を示す。図４（ｂ）は、回転
後のリァレンス画像データが４５度、つまり設定回転角
度が４５度の場合である。図４において３１はマスク画
像データ（マスクパターン）を示し、３２は、１画面と
考えてもよいし、１リファレンス画面分と考えてもよ
い。マスクパターン３１の部分は、画素データ「１」の
集まりの部分と考えてよく、その周りの部分は、画素デ
ータ「０」の集まりの部分と考えてよい、図４（ａ）の
状態から、図４（ｂ）に示される回転後のマスク付きリ
ファレンス画像データを得る方法を説明する。
【００１５】（イ）まず後述の、回転後の位置を求める
数式により、画素単位で、回転後の位置（ｘ、ｙ）（た
だしｘ＝ｘ1 、ｘ2 ……、またｙ＝ｙ1 、ｙ2 、……）
を求める。
数式により、画素単位で、回転後の位置（ｘ、ｙ）（た
だしｘ＝ｘ1 、ｘ2 ……、またｙ＝ｙ1 、ｙ2 、……）
を求める。
【００１６】（ロ）次に後述の、回転後のマスクパター
ン値を求める数式により、画素単位で、回転後のマスク
パターン値（０、１）を求める。 （ハ）マスクパターンの画素すべてにつき、以上の作業
を行い、回転マスクパターンを作成する。
ン値を求める数式により、画素単位で、回転後のマスク
パターン値（０、１）を求める。 （ハ）マスクパターンの画素すべてにつき、以上の作業
を行い、回転マスクパターンを作成する。
【００１７】図５は、上記（イ）項において、回転後の
位置を求める数式により、位置ｐ0を角度βだけ回転さ
せた位置ｐ1 を求める場合（図５は１画素分のみの場合
しか示していない）の例である。回転前の位置ｐ0 （ｘ
0 、ｙ0 ）に対応するｒの角度はαである。まず、 ｘ0 ＝ｒ・ｃｏｓα ……（１） ｙ0 ＝ｒ・ｓｉｎα ……（２） ｘ1 ＝ｒ・ｃｏｓ（α＋β）……（３） ｙ1 ＝ｒ・ｓｉｎ（α＋β）……（４） である。三角関数の加法定理は、 ｓｉｎ（α±β）＝ｓｉｎα・ｃｏｓβ±ｃｏｓα・ｓｉｎβ …（５） ｃｏｓ（α±β）＝ｃｏｓα・ｓｉｎβ±ｓｉｎα・ｃｏｓβ …（６） である。従って（３）〜（６）式より、 ｘ1 ＝ｒ・ｃｏｓα・ｃｏｓβ−ｒ・ｓｉｎα・ｓｉｎβ …（７） ｙ1 ＝ｒ・ｓｉｎα・ｃｏｓβ＋ｒ・ｃｏｓα・ｓｉｎβ …（８） よって（１）式、（２）式より、 ｘ1 ＝ｘ0 ・ｃｏｓβ−ｙ0 ・ｓｉｎβ ……（９） ｙ1 ＝ｙ0 ・ｃｏｓβ＋ｘ0 ・ｓｉｎβ ……（１０） となるから、この（９）式、（１０）式を用いて、回転
後の位置を求めることができる。
位置を求める数式により、位置ｐ0を角度βだけ回転さ
せた位置ｐ1 を求める場合（図５は１画素分のみの場合
しか示していない）の例である。回転前の位置ｐ0 （ｘ
0 、ｙ0 ）に対応するｒの角度はαである。まず、 ｘ0 ＝ｒ・ｃｏｓα ……（１） ｙ0 ＝ｒ・ｓｉｎα ……（２） ｘ1 ＝ｒ・ｃｏｓ（α＋β）……（３） ｙ1 ＝ｒ・ｓｉｎ（α＋β）……（４） である。三角関数の加法定理は、 ｓｉｎ（α±β）＝ｓｉｎα・ｃｏｓβ±ｃｏｓα・ｓｉｎβ …（５） ｃｏｓ（α±β）＝ｃｏｓα・ｓｉｎβ±ｓｉｎα・ｃｏｓβ …（６） である。従って（３）〜（６）式より、 ｘ1 ＝ｒ・ｃｏｓα・ｃｏｓβ−ｒ・ｓｉｎα・ｓｉｎβ …（７） ｙ1 ＝ｒ・ｓｉｎα・ｃｏｓβ＋ｒ・ｃｏｓα・ｓｉｎβ …（８） よって（１）式、（２）式より、 ｘ1 ＝ｘ0 ・ｃｏｓβ−ｙ0 ・ｓｉｎβ ……（９） ｙ1 ＝ｙ0 ・ｃｏｓβ＋ｘ0 ・ｓｉｎβ ……（１０） となるから、この（９）式、（１０）式を用いて、回転
後の位置を求めることができる。
【００１８】回転後のマスクパターン値を求める式につ
いては、ｐ（ｘ、ｙ）を、回転する画素の値とする。 ｎ＝ ｛ｐ（ｘ、ｙ）＋ｐ（ｘ＋１、ｙ）＋ｐ（ｘ、ｙ＋１） ＋ｐ（ｘ＋１、ｙ＋１）｝÷４ …（１１） この（１１）式において、ｎが０．５以上の場合は、回
転後のマスクパターン値の値を「１」とする。また（１
１）式において、ｎが０．５未満の場合は、回転後のマ
スクパターン値を「０」とする。
いては、ｐ（ｘ、ｙ）を、回転する画素の値とする。 ｎ＝ ｛ｐ（ｘ、ｙ）＋ｐ（ｘ＋１、ｙ）＋ｐ（ｘ、ｙ＋１） ＋ｐ（ｘ＋１、ｙ＋１）｝÷４ …（１１） この（１１）式において、ｎが０．５以上の場合は、回
転後のマスクパターン値の値を「１」とする。また（１
１）式において、ｎが０．５未満の場合は、回転後のマ
スクパターン値を「０」とする。
【００１９】なお本発明は上記実施例のみに限られるこ
となく、種々の応用が可能である。例えば、画像データ
生成部１、２は、例えばメモリ（記憶装置）としても実
現することができるが、画像データ送出部４も、例えば
中継的役割をするメモリを用いて実現することができ
る。
となく、種々の応用が可能である。例えば、画像データ
生成部１、２は、例えばメモリ（記憶装置）としても実
現することができるが、画像データ送出部４も、例えば
中継的役割をするメモリを用いて実現することができ
る。
【００２０】
【発明の効果】以上説明したごとく本発明によれば、リ
ファレンス画像データの不要部分を隠すマスクパターン
エリアを設け、これでリファレンス画像データの不要部
分を実質的になくすようにして、パターンマッチングの
検出精度を上げるのであるが、処理対象画像が回転した
画像である場合、リファレンス画像データの方も同様に
回転したものを用い、この時マスク画像データの方も、
同様に回転させておくことにより、いわゆるマスク付き
リファレンス画像データとして用意しておき、これと上
記処理対象画像との比較が行えるようにして、回転した
処理対象画像に対する検出精度を上げることができるも
のである。
ファレンス画像データの不要部分を隠すマスクパターン
エリアを設け、これでリファレンス画像データの不要部
分を実質的になくすようにして、パターンマッチングの
検出精度を上げるのであるが、処理対象画像が回転した
画像である場合、リファレンス画像データの方も同様に
回転したものを用い、この時マスク画像データの方も、
同様に回転させておくことにより、いわゆるマスク付き
リファレンス画像データとして用意しておき、これと上
記処理対象画像との比較が行えるようにして、回転した
処理対象画像に対する検出精度を上げることができるも
のである。
【図１】本発明の一実施例の構成図。
【図２】リファレンス画像データとマスクパターンの関
係図。
係図。
【図３】マスクパターンの構成図。
【図４】マスクパターン付きリファレンス画像データの
回転説明図。
回転説明図。
【図５】１画素分の回転後の位置を求める式の説明に用
いた座標図。
いた座標図。
１ａ…リファレンス側回転処理部、１ｂ…マスク側回転
処理部、１…リファレンス画像データ生成部、２…マス
ク画像データ生成部、３…マスク処理部、４…処理対象
画像データ送出部、５…パターンマッチング処理部。
処理部、１…リファレンス画像データ生成部、２…マス
ク画像データ生成部、３…マスク処理部、４…処理対象
画像データ送出部、５…パターンマッチング処理部。
Claims (2)
- 【請求項１】リファレンス画像データを実質的にマスク
するマスク画像データを、前記リファレンス画像データ
と同様に回転させてなるマスク付リファレンス画像デー
タを作成する手段を具備したことを特徴とする画像処理
システム。 - 【請求項２】原リファレンス画像データを回転させた第
１のリファレンス画像データの生成部と、該画像データ
の生成部のデータに実質的マスクを掛けるマスク画像デ
ータを、前記第１のリファレンス画像データと同様の角
度回転させた第１のマスク画像データの生成部と、前記
両画像データ生成部のデータから、演算で前記第１のリ
ファレンス画像データの不要データを実質的にマスクす
るマスク処理部と、処理対象画像データ送出部と、前記
処理対象画像データ送出部からのデータと前記マスク処
理部からのデータとの比較によりパターンマッチング処
理を行い、パターンマッチングの成否を検出するパター
ンマッチング処理部とを具備したことを特徴とする画像
処理システム。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5147800A JP2835262B2 (ja) | 1993-06-18 | 1993-06-18 | 画像処理システム |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5147800A JP2835262B2 (ja) | 1993-06-18 | 1993-06-18 | 画像処理システム |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0721377A true JPH0721377A (ja) | 1995-01-24 |
| JP2835262B2 JP2835262B2 (ja) | 1998-12-14 |
Family
ID=15438504
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5147800A Expired - Lifetime JP2835262B2 (ja) | 1993-06-18 | 1993-06-18 | 画像処理システム |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2835262B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004348266A (ja) * | 2003-05-20 | 2004-12-09 | Fanuc Ltd | 画像処理装置 |
| US7013039B2 (en) | 2001-07-18 | 2006-03-14 | Kabushiki Kaisha Shinkawa | Image processing method, an image processing device and a bonding apparatus |
| JP2007334702A (ja) * | 2006-06-16 | 2007-12-27 | Hitachi High-Technologies Corp | テンプレートマッチング方法、および走査電子顕微鏡 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| JPS63170789A (ja) * | 1987-01-09 | 1988-07-14 | Agency Of Ind Science & Technol | パタ−ン類似度検出回路 |
| JPH02148180A (ja) * | 1988-11-29 | 1990-06-07 | Nippon Seiko Kk | パターン検査方法及び装置 |
-
1993
- 1993-06-18 JP JP5147800A patent/JP2835262B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| JP2835262B2 (ja) | 1998-12-14 |
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