JPH0721376A - 画像処理システム - Google Patents

画像処理システム

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JPH0721376A
JPH0721376A JP5147799A JP14779993A JPH0721376A JP H0721376 A JPH0721376 A JP H0721376A JP 5147799 A JP5147799 A JP 5147799A JP 14779993 A JP14779993 A JP 14779993A JP H0721376 A JPH0721376 A JP H0721376A
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JP
Japan
Prior art keywords
image data
data
mask
reduced
processing
Prior art date
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Pending
Application number
JP5147799A
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English (en)
Inventor
Yasuki Takayanagi
泰樹 高柳
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Asia Electronics Co
Original Assignee
Asia Electronics Co
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Publication date
Application filed by Asia Electronics Co filed Critical Asia Electronics Co
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Publication of JPH0721376A publication Critical patent/JPH0721376A/ja
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Abstract

(57)【要約】 【目的】画像処理のパターンマッチング時の検出精度の
向上。 【構成】処理対象画像データに対するリファレンス画像
データに、該リファレンス画像データの不要部分の実質
的マスクを行う手段を具備したことを特徴とする。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、画像処理システムに関
し、特にパターンマッチングにより、画像検出を行う場
合に使用する。
【0002】
【従来の技術】画像パターン認識の一手法として、パタ
ーンマッチングによる類似度法がある。ところで従来
は、パターンマッチングに使用するリファレンス画像デ
ータ(例えばメモリに記憶されている)に、マスク(阻
止/透過)エリアを設ける(マスクを掛ける)という概
念がなかった。そのため、リファレンス画像データ内に
不定形な画像が存在するものは、検出精度が低下してし
まい、リファレンス画像データとして使用できなくなる
ことがあった。
【0003】上記の事項の一例を上げれば、サイコロの
画像があって、サイコロの目の数などどうでもよく、サ
イコロの位置だけを検出したい場合、不要なサイコロの
目の画像が邪魔になり、サイコロ位置の検出制度が低下
してしまう。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】本発明は上記実情に鑑
みてなされたもので、リファレンス画像データにマスク
エリアを設けることにより、これから検出しようとする
所要部分の画像以外の部分はカットし、被検出パターン
に対する検出精度が向上できる画像処理システムを提供
しようとするものである。
【0005】
【課題を解決するための手段と作用】本発明は、処理対
象画像データに対するリファレンス画像データに、該リ
ファレンス画像データの不要部分の実質的マスクを行う
手段を具備したことを特徴とする画像処理システムであ
る。また本発明は、処理対象の縮小画像データに対する
縮小リファレンス画像データに、該縮小リファレンス画
像データの不要部分の実質的マスクを行う手段を具備し
たことを特徴とする画像処理システムである。
【0006】すなわち本発明は、リファレンス画像デー
タの不要部分を隠すマスクパターンエリアを設け、これ
でリファレンス画像データの不要部分を、実質的になく
すようにする。一方、リファレンス画像データがこれを
もとに作成した縮小画像データの場合には、リファレン
ス画像データに対応するマスクパターンを縮小した縮小
マスクパターンを設け、これで縮小リファレンス画像デ
ータの不要部分を隠すようにすることにより、パターン
マッチング検出のために取り込んだ画像データまたはそ
の縮小画像データの所要部分の検出精度が向上できる画
像処理システムを提供しようとするものである。
【0007】
【実施例】以下図面を参照して、本発明の実施例を説明
する。図1は、同実施例を、動作フロー的に示した構成
図である。この図において1は、リファレンス画像デー
タ生成部、2は、該画像データ生成部1のデータに実質
的マスクを掛けるマスク画像データ生成部、3は、両画
像データ生成部1、2のデータから、演算で前記リファ
レンス画像データ生成部1の不要データを実質的にマス
クするマスク処理部、4は、処理対象画像データ送出
部、5は、処理対象画像データ送出部からのデータと前
記マスク処理部からのデータとの比較によりパターンマ
ッチング処理を行い、パターンマッチングの成否を検出
するパターンマッチング処理部である。
【0008】上記マスク処理部での実質的マスクとは、
不要部分のデータにマスクを掛けるとか、不要部分のデ
ータを無効にするとか、不要部分のデータを除去すると
かなど、実質的にデータにマスクを掛けたのと同等の行
為をいうものである。
【0009】図2は、リファレンス画像データ11とマ
スクパターンエリア12との関係を示しており、図2の
ような関係にあるリファレンス画像データに対応するマ
スクパターンエリアには、図3の左図に参照されるよう
なマスクパターン21のデータが、図3の右図のように
格納されている。図2のリファレンス画像データ11と
かマスクパターンエリア12は、1画面分と考えてもよ
いし、1リファレンス画面分と考えてもよい。図3のま
す目22それぞれは画素を示し、各画素22内の数値
は、画素データを示す。リファレンス画像データ11に
ついても、内部構成は、図3の右図と同じように、多数
の画素からなっている。
【0010】図3の右図において、データは、ここでは
「0」または「1」であり、「1」の場合はマスクの掛
かる画素、「0」の場合はマスクの掛からない画素とな
る。本実施例の主旨は、処理対象画像データに対するリ
ファレンス画像データに、該リファレンス画像データの
不要部分の実質的マスクを行うことにより、パターンマ
ッチング時の必要部分の検出精度を向上させることであ
る。このことを、図1によって更に詳細に説明する。
【0011】リファレンス画像データ生成部1のデータ
不要部は、マスク画像データ生成部2のデータにより、
マスク処理部3における演算によって、実質的マスクが
掛けられる。一方、処理対象画像データ送出部4からの
1画面または1リファレンス分のデータと、マスク処理
部からのマスク処理済みのデータ(1画面または1リフ
ァレンス分の)とは、パターンマッチング処理部5にお
いて、パターンマッチング処理され、その処理部5か
ら、パターンマッチングの成否の結果が得られるもので
ある。
【0012】この様な処理においては、マスク処理部3
において、パターンマッチング処理部5でのパターンマ
ッチング処理には不要であるデータ分が除去されている
から、パターンマッチング時の検出精度が向上するもの
である。
【0013】図4ないし図6は、本発明の他の実施例で
あり、前実施例の画像データを、縮小パターンとした場
合の例である。本実施例は、前実施例のものと対応させ
た場合の例であるから、対応箇所には同一符号を用い、
かつそれにダッシュを付しておく。
【0014】図4は、本実施例を動作フロー的に示した
構成図である。この図において1´は、縮小リファレン
ス画像データ生成部、2´は、該画像データ生成部1´
のデータに実質的マスクを掛ける縮小マスク画像データ
生成部、3´は、画像データ生成部1´、2´のデータ
から、演算で前記リファレンス画像データ生成部1´の
不要データを実質的にマスクするマスク処理部、4´
は、処理対象の縮小画像データ送出部、5´は、処理対
象縮小画像データ送出部4´からのデータと前記マスク
処理部3´からのデータとの比較によりパターンマッチ
ング処理を行い、パターンマッチングの成否を検出する
パターンマッチング処理部である。
【0015】上記マスク処理部での実質的マスクとは、
不要部分のデータにマスクを掛けるとか、不要部分のデ
ータを無効にするとか、不要部分のデータを除去すると
かなど、実質的にデータにマスクを掛けたのと同等の行
為をいうものである。
【0016】図5は縮小リファレンス画像データ11´
と縮小マスクパターンエリア12´との関係を示してい
る。図5のリファレンス画像データ11´とかマスクパ
ターンエリア12´は、1画面分と考えてもよいし、1
リファレンス画面分と考えてもよく、それぞれ画素の集
まりで構成されている。その構成は、図3の場合と対応
して考えればよい。
【0017】図6は、縮小マスクパターンの作成例であ
り、縮小率が1/4の場合である。図6のマスクパター
ン31は、図2のマスクパターンエリア12の一部と考
えてよい。32は、パターン縮小処理部33を介して得
られる縮小マスクパターンを示す。
【0018】パターン縮小処理部33は、次のようなパ
ターン縮小動作を行う。(イ)リファレンス画像データ
(図2の符号11に相当)に対応するマスクパターン3
1を、縮小率(この場合1/4)に応じた縮小リファレ
ンス画像データに対応する位置のマスクパターンの平均
を求める。この場合は縮小率1/4だから、対応するマ
スクパターンの4画素の平均を求める。(ロ)対応する
マスクパターン4画素のデータの平均値が0.5以上の
場合は、縮小マスクパターン32の画素データを「1」
とする。平均値が0.5未満の場合は、縮小マスクパタ
ーン32の画素データを「0」とする。(ハ)縮小マス
クパターン32の画素すべてに以上の作業を行い、図6
の縮小マスクパターン32を得る。このようなパターン
縮小処理部33の作業は、ソフトウェア的に行ってもよ
いし、ハードウェア的(専用のハードウェアを用いて)
に行ってもよい。
【0019】縮小リファレンス画像データ生成部1´に
おけるデータも、図6と同様の原理で、リファレンス画
像データ11から得ることができる。処理対象縮小画像
データ生成部4´についても同様である。
【0020】本実施例の主旨は、処理対象縮小画像デー
タに対する縮小リファレンス画像データに、該縮小リフ
ァレンス画像データの不要部分の実質的マスクを行うこ
とにより、パターンマッチング時の必要部分の検出精度
を向上させることである。このことを、図4によって更
に詳細に説明する。
【0021】縮小リファレンス画像データ生成部1´の
データ不要部は、縮小マスク画像データ生成部2´のデ
ータにより、マスク処理部3´における演算によって、
実質的マスクが掛けられる。一方、処理対象縮小画像デ
ータ送出部4´からの1画面または1リファレンス分の
データと、マスク処理部3´からのマスク処理済みのデ
ータ(1画面又は1リファレンス分の)とは、パターン
マッチング処理部5´において、パターンマッチング処
理され、その処理部5´から、縮小パターンのマッチン
グの成否の結果が得られるものである。
【0022】この様な処理においては、マスク処理部3
´において、パターンマッチング処理部5´でのパター
ンマッチング処理には不要であるデータ分が除去されて
いるから、パターンマッチング時の検出精度が向上する
ものである。
【0023】なお本発明は上記実施例のみに限られるこ
となく、種々の応用が可能である。例えば、画像データ
生成部1、2、1´、2´などは、メモリ(記憶装置)
としても実現することができる。また、画像データ送出
部4、4´も、中継的役割をするメモリを用いて実現す
ることができる。
【0024】
【発明の効果】以上説明したごとく本発明によれば、リ
ファレンス画像データ、縮小リファレンス画像データ
に、マスクエリア、縮小マスクエリアを設けることによ
り、これから検出しようとする所要部分の画像以外の部
分はカットし、被検出パターンに対する検出精度が向上
できる画像処理システムを提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施例の構成図。
【図2】リファレンス画像データとマスクパターンの関
係図。
【図3】マスクパターンの構成図。
【図4】本発明の他の実施例の構成図。
【図5】縮小リファレンス画像データと縮小マスクパタ
ーンの関係図。
【図6】縮小マスクパターンの作成例を示す構成図。
【符号の説明】
1…リファレンス画像データ生成部、1´…縮小リファ
レンス画像データ生成部、2…マスク画像データ生成
部、2´…縮小マスク画像データ生成部、3、3´…マ
スク処理部、4…処理対象画像データ送出部、4´…処
理対象縮小画像データ送出部、5、5´…パターンマッ
チング処理部、33…パターン縮小処理部。

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】処理対象画像データに対するリファレンス
    画像データに、該リファレンス画像データの不要部分の
    実質的マスクを行う手段を具備したことを特徴とする画
    像処理システム。
  2. 【請求項2】処理対象の縮小画像データに対する縮小リ
    ファレンス画像データに、該縮小リファレンス画像デー
    タの不要部分の実質的マスクを行う手段を具備したこと
    を特徴とする画像処理システム。
  3. 【請求項3】前記マスクを行う手段は、マスクパターン
    の縮小処理部により、多数のマスクパターンデータの内
    容に応じた少数のマスクパターンデータに縮小するもの
    である請求項2に記載の画像処理システム。
  4. 【請求項4】リファレンス画像データ生成部と、該画像
    データ生成部のデータに実質的マスクを掛けるマスク画
    像データ生成部と、前記両画像データ生成部のデータか
    ら、演算で前記リファレンス画像データ生成部の不要デ
    ータを実質的にマスクするマスク処理部と、処理対象画
    像データ送出部と、前記処理対象画像データ送出部から
    のデータと前記マスク処理部からのデータとの比較によ
    りパターンマッチング処理を行い、パターンマッチング
    の成否を検出するパターンマッチング処理部とを具備し
    たことを特徴とする画像処理システム。
  5. 【請求項5】縮小リファレンス画像データ生成部と、該
    画像データ生成部のデータに実質的マスクを掛ける縮小
    マスク画像データ生成部と、前記両画像データ生成部の
    データから、演算で前記縮小リファレンス画像データ生
    成部の不要データを実質的にマスクするマスク処理部
    と、縮小された処理対象画像データの送出部と、この送
    出部からのデータと前記マスク処理部からのデータとの
    比較によりパターンマッチング処理を行い、パターンマ
    ッチングの成否を検出するパターンマッチング処理部と
    を具備したことを特徴とする画像処理システム。
  6. 【請求項6】前記縮小リファレンス画像データ、縮小マ
    スク画像データ、処理対象縮小画像データは、それぞれ
    多数の画像データを平均化した少数画像データに縮小す
    るパターン縮小処理部から得たものである請求項5に記
    載の画像データ処理システム。
JP5147799A 1993-06-18 1993-06-18 画像処理システム Pending JPH0721376A (ja)

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JP5147799A JPH0721376A (ja) 1993-06-18 1993-06-18 画像処理システム

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Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS617406A (ja) * 1984-06-21 1986-01-14 Mitsubishi Electric Corp 物体形状の欠陥検出方法
JPS63170789A (ja) * 1987-01-09 1988-07-14 Agency Of Ind Science & Technol パタ−ン類似度検出回路

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS617406A (ja) * 1984-06-21 1986-01-14 Mitsubishi Electric Corp 物体形状の欠陥検出方法
JPS63170789A (ja) * 1987-01-09 1988-07-14 Agency Of Ind Science & Technol パタ−ン類似度検出回路

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