JPH07214015A - 基板洗浄装置 - Google Patents
基板洗浄装置Info
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- JPH07214015A JPH07214015A JP1055894A JP1055894A JPH07214015A JP H07214015 A JPH07214015 A JP H07214015A JP 1055894 A JP1055894 A JP 1055894A JP 1055894 A JP1055894 A JP 1055894A JP H07214015 A JPH07214015 A JP H07214015A
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- JP
- Japan
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- substrate
- ultrasonic
- cleaning
- nozzles
- cleaning apparatus
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-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10P—GENERIC PROCESSES OR APPARATUS FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10P72/00—Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof
- H10P72/04—Apparatus for manufacture or treatment
- H10P72/0402—Apparatus for fluid treatment
- H10P72/0418—Apparatus for fluid treatment for etching
- H10P72/0422—Apparatus for fluid treatment for etching for wet etching
- H10P72/0424—Apparatus for fluid treatment for etching for wet etching using mainly spraying means, e.g. nozzles
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B08—CLEANING
- B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
- B08B3/00—Cleaning by methods involving the use or presence of liquid or steam
- B08B3/04—Cleaning involving contact with liquid
- B08B3/10—Cleaning involving contact with liquid with additional treatment of the liquid or of the object being cleaned, e.g. by heat, by electricity or by vibration
- B08B3/12—Cleaning involving contact with liquid with additional treatment of the liquid or of the object being cleaned, e.g. by heat, by electricity or by vibration by sonic or ultrasonic vibrations
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- Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
- Liquid Crystal (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 基板の洗浄を短時間で効果的に行う。
【構成】 ３本の超音波ノズル１５は噴出する洗浄液が
基板Ｗ上の１点（収束点Ｐ）で収束すべく水平面（基板
面）に対してその軸線が傾斜するとともに、各超音波ノ
ズル１５の軸は前記収束点Ｐを中心とした水平方向で９
０〜１８０°の範囲内に全て収められている。
基板Ｗ上の１点（収束点Ｐ）で収束すべく水平面（基板
面）に対してその軸線が傾斜するとともに、各超音波ノ
ズル１５の軸は前記収束点Ｐを中心とした水平方向で９
０〜１８０°の範囲内に全て収められている。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はガラス基板等の表面に付
着している微細なゴミを洗浄する装置に関する。
着している微細なゴミを洗浄する装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】例えばガラス基板の一面にＴＦＴ（薄膜
トランジスタ）を形成したカラー液晶基板を製作するに
は、半導体ウェーハ上にデバイスを形成する場合と同様
に被膜の形成等多くの表面処理工程を経て製作される。
トランジスタ）を形成したカラー液晶基板を製作するに
は、半導体ウェーハ上にデバイスを形成する場合と同様
に被膜の形成等多くの表面処理工程を経て製作される。
【０００３】ここで、表面処理を行う前または後にガラ
ス基板表面にゴミが付着していると、歩留まり低下の原
因となる。そこで、従来から表面処理を行う前後には必
ず洗浄処理を行っている。斯かる洗浄処理を行う装置と
してディスクブラシ或いはロールブラシを用いて表面に
付着しているゴミを排出する装置が知られている。
ス基板表面にゴミが付着していると、歩留まり低下の原
因となる。そこで、従来から表面処理を行う前後には必
ず洗浄処理を行っている。斯かる洗浄処理を行う装置と
してディスクブラシ或いはロールブラシを用いて表面に
付着しているゴミを排出する装置が知られている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】上述したようにブラシ
によってゴミを排除する場合には、ブラシにゴミが付着
し、洗浄能力が低下しやすく、また洗浄能力自体も十分
でなく洗浄時間がかかる不利がある。しかも、表面に傷
をつける恐れがあり問題となっている。
によってゴミを排除する場合には、ブラシにゴミが付着
し、洗浄能力が低下しやすく、また洗浄能力自体も十分
でなく洗浄時間がかかる不利がある。しかも、表面に傷
をつける恐れがあり問題となっている。
【０００５】そこで、洗浄液に超音波による振動を与
え、この洗浄水により表面に付着しているゴミを除去す
る手段が考えられる。この場合には洗浄水を噴出するノ
ズルとして超音波ノズルを用いることとなるが、超音波
ノズルにて洗浄水を基板表面に当てた場合、反射する洗
浄水の向きが定まらず、あらゆる方向に洗浄水が飛び散
り、環境の汚染や再付着もあり得る。
え、この洗浄水により表面に付着しているゴミを除去す
る手段が考えられる。この場合には洗浄水を噴出するノ
ズルとして超音波ノズルを用いることとなるが、超音波
ノズルにて洗浄水を基板表面に当てた場合、反射する洗
浄水の向きが定まらず、あらゆる方向に洗浄水が飛び散
り、環境の汚染や再付着もあり得る。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決すべく本
発明は、基板洗浄装置として３本以上の超音波ノズルを
有する超音波洗浄ユニットを備えるようにし、しかも３
本以上の超音波ノズルの軸を噴出した洗浄液が基板表面
の１点において収束するように配列し、更に各超音波ノ
ズルの軸を前記収束点を中心とした水平方向で９０〜１
８０°の範囲内に全て収めるようにした。ここで、超音
波ノズルの配置範囲を水平方向で９０〜１８０°とした
のは、９０°以内に３本以上の超音波ノズルを配置する
のは困難であるとともに基板表面を攪拌する効果が落ち
るので、洗浄効果が低下し、また１８０°を超えると、
各超音波ノズルからの洗浄液が互いに反発して飛散する
ことによる。
発明は、基板洗浄装置として３本以上の超音波ノズルを
有する超音波洗浄ユニットを備えるようにし、しかも３
本以上の超音波ノズルの軸を噴出した洗浄液が基板表面
の１点において収束するように配列し、更に各超音波ノ
ズルの軸を前記収束点を中心とした水平方向で９０〜１
８０°の範囲内に全て収めるようにした。ここで、超音
波ノズルの配置範囲を水平方向で９０〜１８０°とした
のは、９０°以内に３本以上の超音波ノズルを配置する
のは困難であるとともに基板表面を攪拌する効果が落ち
るので、洗浄効果が低下し、また１８０°を超えると、
各超音波ノズルからの洗浄液が互いに反発して飛散する
ことによる。
【０００７】
【作用】複数の超音波ノズルの軸を基板表面上の洗浄液
の収束点を中心とした水平方向で９０〜１８０°の範囲
内に全て収めるようにしたので、各超音波ノズルから噴
出する洗浄液が互いに反発し合うことなく、超音波洗浄
を行う。
の収束点を中心とした水平方向で９０〜１８０°の範囲
内に全て収めるようにしたので、各超音波ノズルから噴
出する洗浄液が互いに反発し合うことなく、超音波洗浄
を行う。
【０００８】
【実施例】以下に本発明の実施例を添付図面に基づいて
説明する。ここで、図１は本発明に係る基板洗浄装置の
全体縦断面図、図２は同基板洗浄装置の要部拡大平面
図、図３は同基板洗浄装置を構成する超音波洗浄ユニッ
トの縦断面図、図４は超音波洗浄ユニットを構成する超
音波ノズルの配置を示す平面図、図５は超音波ノズルの
取り付けプレートの平面図である。
説明する。ここで、図１は本発明に係る基板洗浄装置の
全体縦断面図、図２は同基板洗浄装置の要部拡大平面
図、図３は同基板洗浄装置を構成する超音波洗浄ユニッ
トの縦断面図、図４は超音波洗浄ユニットを構成する超
音波ノズルの配置を示す平面図、図５は超音波ノズルの
取り付けプレートの平面図である。
【０００９】基板洗浄装置は洗浄ステーション１の側方
に超音波洗浄ユニット１０を配置している。洗浄ステー
ション１には洗浄ケース２が設けられ、この洗浄ケース
２底部にスピンナー３が配置され、このスピンナー３の
上端部に半導体ウェーハやガラス基板Ｗを受けるチャッ
ク４が取り付けられている。
に超音波洗浄ユニット１０を配置している。洗浄ステー
ション１には洗浄ケース２が設けられ、この洗浄ケース
２底部にスピンナー３が配置され、このスピンナー３の
上端部に半導体ウェーハやガラス基板Ｗを受けるチャッ
ク４が取り付けられている。
【００１０】また、洗浄ケース２の外側にはレール５が
設けられ、このレール５に沿って基板Ｗを搬送するハン
ドラー６が走行可能とされ、また洗浄ケース２の内側壁
には上下に離間して２種類のスカート部７，８を設けて
いる。下方のスカート部７は上下に位置調整可能とされ
ている。
設けられ、このレール５に沿って基板Ｗを搬送するハン
ドラー６が走行可能とされ、また洗浄ケース２の内側壁
には上下に離間して２種類のスカート部７，８を設けて
いる。下方のスカート部７は上下に位置調整可能とされ
ている。
【００１１】一方、超音波洗浄ユニット１０はシリンダ
ユニット１１によって２段回で上下動可能とされた中空
状の旋回アーム１２の先端にパイプ１３を取り付け、こ
のパイプ１３の下端に取り付けプレート１４を介して３
本の超音波ノズル１５を固着している。具体的には取り
付けプレート１４には図５に示すように下向きの傾斜面
１４ａが３カ所形成され、これら傾斜面１４ａに取り付
け金具１６によって超音波ノズル１５を固着している。
ユニット１１によって２段回で上下動可能とされた中空
状の旋回アーム１２の先端にパイプ１３を取り付け、こ
のパイプ１３の下端に取り付けプレート１４を介して３
本の超音波ノズル１５を固着している。具体的には取り
付けプレート１４には図５に示すように下向きの傾斜面
１４ａが３カ所形成され、これら傾斜面１４ａに取り付
け金具１６によって超音波ノズル１５を固着している。
【００１２】前記超音波ノズル１５には洗浄水を供給す
るチューブ１８が側面に接続され、また供給された洗浄
水を振動させる超音波を印加するケーブル１７が上部に
接続されている。
るチューブ１８が側面に接続され、また供給された洗浄
水を振動させる超音波を印加するケーブル１７が上部に
接続されている。
【００１３】また、３本の超音波ノズル１５は噴出する
洗浄液が基板Ｗ上の１点（収束点Ｐ）で収束すべく図３
に示すように水平面（基板面）に対してその軸線が傾斜
（実施例では約４５°）するとともに、また図４に示す
ように、各超音波ノズル１５の軸は前記収束点Ｐを中心
とした水平方向で９０〜１８０°の範囲内に全て収めて
いる。特に本実施例にあっては３本の超音波ノズル１５
の水平方向の間隔を約７０°としている。このように、
各超音波ノズル１５の軸を収束点Ｐを中心とした水平方
向で９０〜１８０°の範囲内に収めることで、超音波ノ
ズルから噴出する洗浄液が互いに反発し合うことなく、
互いに協働してゴミを浮き上がらせて一定の方向へ向け
て叩き出す。
洗浄液が基板Ｗ上の１点（収束点Ｐ）で収束すべく図３
に示すように水平面（基板面）に対してその軸線が傾斜
（実施例では約４５°）するとともに、また図４に示す
ように、各超音波ノズル１５の軸は前記収束点Ｐを中心
とした水平方向で９０〜１８０°の範囲内に全て収めて
いる。特に本実施例にあっては３本の超音波ノズル１５
の水平方向の間隔を約７０°としている。このように、
各超音波ノズル１５の軸を収束点Ｐを中心とした水平方
向で９０〜１８０°の範囲内に収めることで、超音波ノ
ズルから噴出する洗浄液が互いに反発し合うことなく、
互いに協働してゴミを浮き上がらせて一定の方向へ向け
て叩き出す。
【００１４】また、前記取り付けプレート１４にはブラ
ケット１９を介して傘２０が取り付けられ、この傘２０
内に各超音波ノズル１５の先端部が臨んでいる。このよ
うに超音波ノズル１５の先端部を傘２０内に臨ませるこ
とで、洗浄液の跳ね返りが防止される。更に、傘２０の
中心部にはアーム１２及びパイプ１３内を通した洗浄液
管２１の噴出口が開口している。このようにすると、傘
２０内側の２次汚染が防げる。
ケット１９を介して傘２０が取り付けられ、この傘２０
内に各超音波ノズル１５の先端部が臨んでいる。このよ
うに超音波ノズル１５の先端部を傘２０内に臨ませるこ
とで、洗浄液の跳ね返りが防止される。更に、傘２０の
中心部にはアーム１２及びパイプ１３内を通した洗浄液
管２１の噴出口が開口している。このようにすると、傘
２０内側の２次汚染が防げる。
【００１５】以上において、基板Ｗの洗浄を行うには、
ハンドラー６によって基板Ｗをチャック４上に載置し、
基板Ｗを１００〜４００ｒｐｍで回転しつつ、図４に示
すように超音波洗浄ユニット１０のアーム１２を必要な
回数だけ往復揺動させ、基板Ｗの外径から内径方向へ、
また内径から外径方向に洗浄を行う。
ハンドラー６によって基板Ｗをチャック４上に載置し、
基板Ｗを１００〜４００ｒｐｍで回転しつつ、図４に示
すように超音波洗浄ユニット１０のアーム１２を必要な
回数だけ往復揺動させ、基板Ｗの外径から内径方向へ、
また内径から外径方向に洗浄を行う。
【００１６】そして、この洗浄において、基板Ｗの回転
速度は外径部で大きく、内径部で小さくなる。この場
合、アーム１２の揺動速度を一定にしていると、基板の
外径部付近では基板と超音波ノズルとの相対速度が大き
くなり、基板の内径部付近では基板と超音波ノズルとの
相対速度が小さくなる。この相対速度が大きいと洗浄液
が飛散するため、アーム１２の揺動速度を一定にする場
合には、その速度は基板Ｗの外径部での回転速度に律せ
られることになり、内径部付近での速度が必要以上に遅
くなる。そこで、本実施例にあってはアーム１２の揺動
速度を、基板の外径部付近では遅く、基板の内径部付近
では速くして、基板と超音波ノズルとの相対速度が一定
となるようにし、洗浄時間の短縮を図っている。
速度は外径部で大きく、内径部で小さくなる。この場
合、アーム１２の揺動速度を一定にしていると、基板の
外径部付近では基板と超音波ノズルとの相対速度が大き
くなり、基板の内径部付近では基板と超音波ノズルとの
相対速度が小さくなる。この相対速度が大きいと洗浄液
が飛散するため、アーム１２の揺動速度を一定にする場
合には、その速度は基板Ｗの外径部での回転速度に律せ
られることになり、内径部付近での速度が必要以上に遅
くなる。そこで、本実施例にあってはアーム１２の揺動
速度を、基板の外径部付近では遅く、基板の内径部付近
では速くして、基板と超音波ノズルとの相対速度が一定
となるようにし、洗浄時間の短縮を図っている。
【００１７】また。別実施例にあってはアーム１２の揺
動速度を一定とし、基板Ｗの回転速度を変化させる。ア
ーム１２が基板の外径部付近にあるときは基板Ｗの回転
速度を速く、基板の内径部付近にあるときは遅くして、
基板と超音波ノズルとの相対速度が一定になるようにし
ている。
動速度を一定とし、基板Ｗの回転速度を変化させる。ア
ーム１２が基板の外径部付近にあるときは基板Ｗの回転
速度を速く、基板の内径部付近にあるときは遅くして、
基板と超音波ノズルとの相対速度が一定になるようにし
ている。
【００１８】
【発明の効果】以上に説明したように本発明によれば、
基板洗浄装置の超音波洗浄ユニットとして３本以上の超
音波ノズルを設け、これら３本以上の超音波ノズルの軸
を噴出した洗浄液が基板表面の１点において収束するよ
うに配列し、更に各超音波ノズルの軸を前記収束点を中
心とした水平方向で９０〜１８０°の範囲内に全て収め
るようにしたので、各超音波ノズルから噴出する洗浄液
が互いに反発し合うことなく、基板に非接触で超音波洗
浄を行う。したがって、洗浄能力自体も十分で洗浄時間
が短縮でき、しかも基板表面に傷をつける恐れもない。
基板洗浄装置の超音波洗浄ユニットとして３本以上の超
音波ノズルを設け、これら３本以上の超音波ノズルの軸
を噴出した洗浄液が基板表面の１点において収束するよ
うに配列し、更に各超音波ノズルの軸を前記収束点を中
心とした水平方向で９０〜１８０°の範囲内に全て収め
るようにしたので、各超音波ノズルから噴出する洗浄液
が互いに反発し合うことなく、基板に非接触で超音波洗
浄を行う。したがって、洗浄能力自体も十分で洗浄時間
が短縮でき、しかも基板表面に傷をつける恐れもない。
【００１９】また、各超音波ノズルの洗浄液の噴出量及
び超音波の発振数を個別に制御可能とすることで、洗浄
液の排出方向を変更したり、ゴミの付着の量や種類に応
じた洗浄が可能となる。
び超音波の発振数を個別に制御可能とすることで、洗浄
液の排出方向を変更したり、ゴミの付着の量や種類に応
じた洗浄が可能となる。
【００２０】また、各超音波ノズルの先端部を１つの傘
内に臨ませることで、洗浄液の跳ね返りが防止され、ま
た霧化した洗浄液の巻き上げも防止され、更に傘の中心
部に洗浄液噴出口を開口させることで、傘内側の２次汚
染も防げる。
内に臨ませることで、洗浄液の跳ね返りが防止され、ま
た霧化した洗浄液の巻き上げも防止され、更に傘の中心
部に洗浄液噴出口を開口させることで、傘内側の２次汚
染も防げる。
【図１】本発明に係る基板洗浄装置の全体縦断面図
【図２】同基板洗浄装置の要部拡大平面図
【図３】同基板洗浄装置を構成する超音波洗浄ユニット
の縦断面図
の縦断面図
【図４】超音波洗浄ユニットを構成する超音波ノズルの
配置を示す平面図
配置を示す平面図
【図５】超音波ノズルの取り付けプレートの平面図
１…洗浄ステーション、２…洗浄ケース、３…スピンナ
ー、４…チャック、１０…超音波洗浄ユニット、１２…
旋回アーム、１４…取り付けプレート、１５…超音波ノ
ズル、２０…傘、Ｐ…洗浄液の収束点、Ｗ…基板。
ー、４…チャック、１０…超音波洗浄ユニット、１２…
旋回アーム、１４…取り付けプレート、１５…超音波ノ
ズル、２０…傘、Ｐ…洗浄液の収束点、Ｗ…基板。
フロントページの続き (72)発明者 小針 英也 神奈川県川崎市中原区中丸子150番地 東 京応化工業株式会社内
Claims (4)
- 【請求項１】 基板表面に存在するゴミを基板を回転さ
せつつ排除する基板洗浄装置において、この基板洗浄装
置は洗浄液を基板表面に向けて噴出する超音波洗浄ユニ
ットを備え、この超音波洗浄ユニットは３本以上の超音
波ノズルを有し、これら超音波ノズルの軸は噴出した洗
浄液が基板表面の１点において収束するように配列さ
れ、更に各超音波ノズルの軸は前記収束点を中心とした
水平方向で９０〜１８０°の範囲内に全て収められてい
ることを特徴とする基板洗浄装置。 - 【請求項２】 請求項１に記載の基板洗浄装置におい
て、複数の超音波ノズルは洗浄液の噴出量及び超音波の
発振数が個別に制御可能とされていることを特徴とする
基板洗浄装置。 - 【請求項３】 請求項１または２に記載の基板洗浄装置
において、複数の超音波ノズルは少なくともその先端部
が１つの傘内に臨んでいることを特徴とする基板洗浄装
置。 - 【請求項４】 請求項３に記載の基板洗浄装置におい
て、前記傘の中心部に洗浄液噴出口が開口していること
を特徴とする基板洗浄装置。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP01055894A JP3361872B2 (ja) | 1994-02-01 | 1994-02-01 | 基板洗浄装置 |
| KR1019950001437A KR100292932B1 (ko) | 1994-02-01 | 1995-01-27 | 기판세정장치 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP01055894A JP3361872B2 (ja) | 1994-02-01 | 1994-02-01 | 基板洗浄装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07214015A true JPH07214015A (ja) | 1995-08-15 |
| JP3361872B2 JP3361872B2 (ja) | 2003-01-07 |
Family
ID=11753588
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP01055894A Expired - Fee Related JP3361872B2 (ja) | 1994-02-01 | 1994-02-01 | 基板洗浄装置 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3361872B2 (ja) |
| KR (1) | KR100292932B1 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH10308370A (ja) * | 1997-05-08 | 1998-11-17 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板洗浄装置 |
| KR100416592B1 (ko) * | 2001-02-10 | 2004-02-05 | 삼성전자주식회사 | 매엽식 웨이퍼 세정 장치 및 이를 이용한 웨이퍼 세정 방법 |
| KR100634832B1 (ko) * | 2000-02-24 | 2006-10-17 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | 파인 젯 장치 |
| CN115009667A (zh) * | 2022-05-27 | 2022-09-06 | 浙江创泷环境检测技术有限公司 | 一种土质检测中土壤样品的存放装置 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR940001307A (ko) * | 1992-06-27 | 1994-01-11 | 김광호 | 반도체 기판의 표면 세정 장치 |
-
1994
- 1994-02-01 JP JP01055894A patent/JP3361872B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1995
- 1995-01-27 KR KR1019950001437A patent/KR100292932B1/ko not_active Expired - Fee Related
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH10308370A (ja) * | 1997-05-08 | 1998-11-17 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板洗浄装置 |
| KR100634832B1 (ko) * | 2000-02-24 | 2006-10-17 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | 파인 젯 장치 |
| KR100416592B1 (ko) * | 2001-02-10 | 2004-02-05 | 삼성전자주식회사 | 매엽식 웨이퍼 세정 장치 및 이를 이용한 웨이퍼 세정 방법 |
| CN115009667A (zh) * | 2022-05-27 | 2022-09-06 | 浙江创泷环境检测技术有限公司 | 一种土质检测中土壤样品的存放装置 |
| CN115009667B (zh) * | 2022-05-27 | 2024-02-09 | 曹阳 | 一种土质检测中土壤样品的存放装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR100292932B1 (ko) | 2001-06-15 |
| JP3361872B2 (ja) | 2003-01-07 |
| KR950034560A (ko) | 1995-12-28 |
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