JPH0721655U - スチーム処理装置 - Google Patents

スチーム処理装置

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JPH0721655U
JPH0721655U JP5611493U JP5611493U JPH0721655U JP H0721655 U JPH0721655 U JP H0721655U JP 5611493 U JP5611493 U JP 5611493U JP 5611493 U JP5611493 U JP 5611493U JP H0721655 U JPH0721655 U JP H0721655U
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JP
Japan
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steam
tray
bobbin
transport path
steam processing
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JP5611493U
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泰寛 井上
功 福田
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Murata Machinery Ltd
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Murata Machinery Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 従来のスチーム処理装置のこのような点に鑑
みて、精紡機から供給されたボビンをワインディング工
程の直前において、管糸内層の濡れを防止した状態で連
続的にスチームセットするのを可能としたスチーム処理
装置を提供する。 【構成】 スチーム処理装置内部と外部とを循環するト
レイ搬送路、及び該搬送路に沿ってボビンを挿立したト
レイを搬送する搬送手段を備え、上記トレイが基盤上に
ボビン挿立用ペグを有し基盤からペグを通して通気孔を
貫通したものであり、且つ、スチーム処理前のトレイ搬
送路に沿って、上記通気孔に臨み、高温空気噴射手段を
備えた予熱装置を設けた。

Description

【考案の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】
本考案はスチーム処理装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
一般に、紡績糸には、撚入れされたことによって残留トルクが存在している。 この残留トルクは、適当な張力下においては、糸に集束力と風合を与える効果を 有するが、張力が低くなると糸の撚を戻して集束力を低下させるのみならず、糸 の長手方向への自己撚運動,所謂「ビリ」を発生させる場合があり、各工程にお いて様々な悪影響を及ぼすことになる。
【0003】 上記残留トルクを解消する目的で、糸に温湿度を与えるセット工程が設けられ ている。従来、このセット工程としては、糸をボビンごと一時的にタンクに収容 し、該タンクを減圧して高温蒸気を吹き込むタンク式のバッチ処理装置によるも のが一般的であるが、装置が比較的大規模となるばかりか、精紡機とワインダー とを連結した連続式のシステムには不向きであった。
【0004】 そこで、精紡機からワインダーに至るボビン搬送路に沿ってスチーム処理室を 形成し、搬送過程において常圧でスチームセットする装置が検討されている。し かし、このようなスチーム処理装置においては、熱の移動は殆どが蒸気の凝縮潜 熱によっているため、管糸の内層側に濡れを生じさせるといった問題があった。
【0005】
【考案が解決しようとする課題】
本考案は、従来のスチーム処理装置のこのような点に鑑みて、精紡機から供給 されたボビンをワインディング工程の直前において、管糸内層の濡れを防止した 状態で連続的にスチームセットするのを可能としたスチーム処理装置を提供する ことを目的とするものである。
【0006】
【課題を解決するための手段】
スチーム処理装置内部と外部とを循環するトレイ搬送路、及び該搬送路に沿っ てボビンを挿立したトレイを搬送する搬送手段を備え、上記トレイが基盤上にボ ビン挿立用ペグを有し基盤からペグを通して通気孔を貫通したものであり、且つ 、スチーム処理前のトレイ搬送路に沿って、上記通気孔に臨み、高温空気噴射手 段を備えた予熱装置を設けた。
【0007】
【作用】
ボビンはトレイに挿立された状態で、トレイ搬送チェーンにより搬送路に沿っ て予熱装置に導入され、該装置を通過する際、高温空気噴射手段より噴射される 高温空気がトレイの通気孔よりボビン内を通過して噴出され、これに伴い上記ボ ビンは内層側から加熱される。
【0008】 続いて、内層側を加熱されたボビンはスチーム処理装置内に導入され、該装置 内を連続的に搬送される過程においてスチームセットされる。この際、ボビンは 、予熱装置により予め内層側を加熱してあるので内層が濡れるといった事態は発 生しない。
【0009】
【実施例】
実施の一例について図面と共に説明する。
【0010】 本考案スチーム処理装置の概観を図1乃至図3に示す。図1において、スチー ム処理装置1はワインダーWの機台背後に、該機台の長手方向に沿って設けた予 熱装置P,スチームセット装置Sより主に構成されている。
【0011】 予熱装置P及びスチームセット装置Sは夫々複数の予熱ユニットPu及びスチ ームセットユニットSuよりなり、予熱ユニットPuとスチームセットユニット Suとの間にはシャッターユニットRSを、スチームセットユニットSuの端部 には反転ユニットRTを設けている。そして、それらの内部を貫通してトンネル 状の空洞2を形成しており、該空洞2内には、ボビンBを挿立したトレイTの2 本の搬送路L1,L2が平行に設けられている。上記各搬送路L1,L2は、反 転ユニットRTにおいて互いに連結され、往復路をなしている。
【0012】 また、上記往路L1及び復路L2よりなる搬送路L1,L2は、図2に示す如 くワインダーWを循環する搬送路L3,L4に連結され、それらは全体として閉 ループの循環路Lを形成しており、該循環路L内をトレイTが循環するようにな っている。
【0013】 即ち、搬送路L1は、精紡機SPにおいて紡績された2種類の精紡管糸(実ボ ビン)Ba,BbをトレイSTに移載する移載ステーション3a,3bに連結さ れている。また、搬送路L2はワインダーWの搬送路L3に連なり、該搬送路L 3上には口出し装置Fが設けられている。搬送路L3はワインダーWの各ユニッ トWa,Wbを経て搬送路L4に連なり、空ボビンBoを抜き取るリムーバーR Mを経て移載ステーション2a,2bに至り搬送路L1に循環している。尚、L 5,L6,L7は口出しミスしたボビンBmを再び口出し処理するためのフィー ドバックループであり、L6,L7にはワインディング工程を経た残糸付きボビ ンBrもフィードバックされる。
【0014】 上記ワインダーWを循環する各トレイ搬送路L1乃至L7は、いずれもトレイ Tの動きを搬送方向に規制するガイド部材、若しくはガイド溝として形成され、 ワインダーWの機台側においては図3に示す如く上記搬送路L3,L4に沿って 搬送ベルトLcを設けると供に、搬送路L3からワインダーユニットWuに至る 部分や、フィードバックループL5,L7等には回転円板LDを設けて、トレイ Tを一定方向に搬送しているが、スチーム処理装置1における搬送路L1,L2 においては、該搬送路L1,L2に沿ってエンドレスチェーンCを周回させ、該 チェーンCによりトレイTを搬送しており、以下、トレイTの搬送装置について 、図4,図5を参照しながら説明する。
【0015】 図4及び図5において、実ボビンBを挿立したトレイTは、対向して設けた断 面コ字形のガイド部材4a,4bに摺動自在に支持されており、該ガイド部材4 a,4bの間のトレイ搬送路L1(L2)内には、リンクを連結するピン5を垂 直方向にして設けられたチェーンCのピン5に同軸に設けたローラ6を上方に突 出している。また、チェーンCのローラ6を設けたピン5の下方端には、上記ガ イド部材4a,4b間下位にそれと平行に設けた断面L字形のチェーンガイド部 材8の垂直ガイド面8aに転接するローラ7aを設け、チェーンCの蛇行を阻止 している。更に、チェーンCの上記ローラ6及びローラ7aを設けたリンクCa と交互に配置されたリンクCbには上記チェーンガイド部材8の水平ガイド面8 bに転接するローラ7bを設けて、チェーンCの自重を支えるようにしている。 尚且つ、必要に応じてチェーンCに当接しつつ、該チェーンCの側方への弛みを 規制するチェーンガイド部材9を設ける。
【0016】 上記チェーンCは、反転ユニットRTに設けたスプロケットGaを駆動回転す ることにより駆動され、該チェーンCの駆動に伴ないトレイTはローラ6に押圧 され、ガイド部材4a,4bに案内されて搬送される。この際、チェーンCは、 後述の理由によりトレイ1個分を1ピッチとして、1ピッチづつ間欠駆動するも のとする。
【0017】 次に、図1及び図6,図7を参照しながら、予熱装置Pについて説明する。
【0018】 図において予熱装置Pは、ボビンB,B´を挿立したトレイTの搬送路L1,L 2に沿って、該搬送路L1,L2を掩覆する上部ケーシング10及び下部ケーシ ング11を設けている。上部ケーシング10は、外層板10aと内層板10bと の間に断熱材12を充填した3層構造をなしており、下部ケーシング11に固定 され、それらの内部に空洞2を形成している。更に、該空洞2は、上部ケーシン グ10に支持部材13で支持されている仕切板14により往搬送路L1側と復搬 送路L2側とに仕切られており、夫々予熱室2aと乾燥室2bとが形成されてい る。該予熱室2aと乾燥室2bとは上部において互いに連通されている。
【0019】 下部ケーシング11は、往搬送路L1側のケーシング11aと復搬送路L2側 のケーシング11bとからなり、夫々にトレイTを案内するガイド部材4が固定 されている。そして、予熱室2a側の往搬送路L1の下面に沿って圧空噴射管1 5を設けてある。
【0020】 圧空噴射管15は、各予熱ユニットPu毎に設けられ、上部には往搬送路L1 のトレイT下面に臨ませて、スリット状の圧空噴射孔16を多数開口しており、 該圧空噴射孔16はチェーンCにより搬送されるトレイTの1ピッチ分の間隔で 配置されている。尚、本考案において使用されるトレイTは、トレイTの下面か ら立設されているペグのTp先端部にかけて通気孔Thを貫通しており、チェー ンCを間欠駆動してトレイTを間欠送りすれば、トレイTが静止した際、圧空噴 射孔16上には、常にトレイTの通気孔Thが位置するようになっている。そし て、各予熱ユニットPuの圧空噴射管15は、分岐管17により導管18に連結 されている。
【0021】 導管18は、各予熱ユニットPu,Pu……毎に夫々の端部においてジョイン ト19で互いに連結され予熱装置P全体に亘って設けられており、該導管18は 管20を介して熱交換器21の出口に連結されている。熱交換器21の入口側は 、管22,ボックス23,管24を介してブロア25の送気口25aに連結され ている。熱交換器21にはスチーム供給管26を介して、図示しないボイラーよ り蒸気が供給され、ブロア25から送気された空気を加熱する。尚、上記ブロア 25の吸気口25bには図示しないフィルターユニットが接続してある。また2 7は熱交換器21のドレン管である。
【0022】 また、上部ケーシング10の乾燥室2b側上部には、該上部ケーシング10を 貫通してファン28を設け、且つ、乾燥室2b側の下部ケーシング11b側壁を 貫通して排気口29を設けている。
【0023】 上述の通り構成された予熱装置Pは以下の如く作動する。
【0024】 即ち、ブロア25より管24を通じて送給される圧縮空気と、図示しないボイ ラーよりスチーム供給管26を通じて供給されるスチームとは熱交換器21にて 熱が交換され、圧縮空気は管20,導管18,及び分岐管17を通じて各予熱ユ ニットPu,Puの圧空噴射管15に送給され、該圧空噴射管15に開口してあ る圧空噴射孔16より噴射される。
【0025】 この際、上記圧空噴射孔16上には、チェーンCにより間欠送りされているト レイTが次々に位置するので、圧空噴射孔16より噴射された高温乾燥の圧縮空 気は図7に示す如くトレイTの通気孔Thより、該トレイTに挿立されているボ ビンBの内面を通り、該ボビンBの上端より予熱室2a内に噴出され、この過程 を通じてボビンBは適宜温度に加熱される。
【0026】 続いて、予熱室2a内に噴出された上記高温乾燥の圧縮空気は、予熱室2aの 上部より乾燥室2b内に流入し、該乾燥室2bの上部のファン28より乾燥室2 b内に送風される空気と混合し、温風となって乾燥室2b内の後述するスチーム 処理後のボビンB´に吹き付けられ、排気口29より外部に排気される。
【0027】 次に、図8及び図9を参照しながらスチームセット装置Sについて説明する。
【0028】 図においてスチームセット装置Sは、ボビンBを挿立したトレイTの搬送路L 1,L2に沿って、該搬送路L1,L2をL2を掩覆する上部ケーシング30、 及び、下部ケーシングを兼ねた温水タンク31を設けている。上部ケーシング3 0は外層板30aと内層板30bとの間に断熱材32を充填した3層構造をなし ており、温水タンク31の上部にシールバンド33により固定されている。
【0029】 シールバンド33は、各スチームセットユニットSuの接合部毎に配置され、 一端にはフック34を、他端には掛止レバー35を設けており、上部ハウジング 30を温水タンクに緊締して固定すると共に、上部ケーシング30の接合部分を シールしている。そして、メンテナンス時等においては掛止レバー35を倒して シールバンド33を外すことで上部ケーシング30を容易に取り外すことができ る。
【0030】 温水タンク31内の上位には図4及び図5に示した先述のトレイ搬送路L1, L2及びトレイ搬送装置を構成するガイド部材4,チェーンC,チェーンガイド 部材8,9等が設けられ、それらは、温水タンク31に架設した支持部材36に 支持されている。
【0031】 また、温水タンク31の下底部には、該温水タンク31内に温水を供給及び排 出するための給排水口37を設け、該給排水口37は給排水管38に接続されて いる。給排水管38は各ユニットSu毎にジョイント39で連結してスチームセ ット装置Sの全長に亘って設け、図1に示す如く該スチームセット装置Sの外部 に設置したバランスタンクBTに接続されており、該バランスタンクBTより給 排水管38,給排水口37を通じて温水タンク31内に給水,排水を行う。尚、 40はオーバーフロー管であり、該オーバーフロー管は排水管41に接続され、 温水タンク31内の水位をトレイ搬送路L1,L2の下位の所定の位置に保持す るものである。
【0032】 上記温水タンク31は、支持部材43を介してフレーム44上に支持されてい る。フレーム44は断面L字形をなし、スチームセットユニットSuの長さ方向 に沿って平行に配置した2本よりなり、それらを横フレーム45で一体としては しご形に形成し、スチームセットユニットSuの基台フレームを構成している。 そして、各ユニットSuのフレーム44は、両端部においてジョイント46で互 いに連結されている。
【0033】 ジョイント46は、断面L字形をなし、水平部分にはナット47が設けられて おり、該ナット47にはジャッキボルト48を螺合し、該ジャッキボルト48を 回動することにより各スチームセットユニットSuの高さを調節可能である。尚 、49はジャッキボルト47を支持するベースである。
【0034】 上述の如く、構成されたスチームセット装置Sと予熱装置Pとの間には図1に 示すロータリーシャッター60を備えたシャッターユットRSが設けられている 。
【0035】 ロータリーシャッター60は、互いに90°間隔で等角配置した4枚の扉より 構成され、対向する2枚の扉により、該部分の空洞2を閉鎖可能であり、且つ、 該ローラーシャッター60の回転軸には、トレイ搬送チェーンCと噛合するスプ ロケットGsが設けてある。これにより、チェーンCを駆動してトレイTを間欠 送りすれば、これた同期してロータリーシャッター60が間欠的に回転し、トレ イTに挿立したボビンBがスチーム処理装置S内に出し入れされる。この際、上 記間欠送りのインタ―バルにおいては、ロータリーシャッター60は常に閉鎖状 態となるようにする。
【0036】 また、スチームセット装置Sの端部には先述の反転ユニットRTが設けられ、 該反転ユニットRTにおいて空洞2の端部は塞がれており、前述のシャッターユ ニットRSのロータリーシャッター60との間にスチーム処理室2cを形成する 。スチーム処理室2cは外部とは上記ロータリーシャッター60のみを介して連 通され、該ロータリーシャッター60が閉じれば、外部と遮断されるが、スチー ム処理は後述の如く常圧で行われるためスチーム処理室2cは高い気密性は必要 としない。
【0037】 次にスチームセット装置Sの加熱装置Hについて説明する。
【0038】 加熱装置Hは、上記温水タンク31の内部の水中に浸漬する位置に設けられて おり、図10に示す如く、ディフューザー部51aを形成した先端側に噴射管7 0を接続した混合ノズル51、該混合ノズル51の基端開口部51bより混合ノ ズル51内に先端を開口したインジェクションノズル51、及び、該インジェク ションノズル52を螺合して支持する支持管53よりなり、それらは軸心を一に して図8及び図9に示す如くブラケット42上に列設されている。
【0039】 そして、上記支持管53にはジョイント54を介して導管55が接続され、該 導管55は、温水タンク31外部のソレノイドバルブVを介してスチーム供給管 56に接続されている。
【0040】 ソレノイドバルブVは図示しないコントローラに接続されており、また、該コ ントローラには温水タンク31の内側壁に空洞2の上方に向けて立設した温度セ ンサ77が接続されている。
【0041】 以下、加熱装置Hによるスチームセット装置Sの作動、及び温度制御方法につ いて説明する。
【0042】 図示しないボイラよりスチーム供給管56により供給されるスチームは、ソレ ノイドバルブVが開かれると導管55を通じて加熱装置Hのインジェクションノ ズル52に送給され、該インジェクションノズル52より混合ノズル52内に噴 射される。するとスチームの噴射に伴い混合ノズル51は減圧されるので、温水 タンク31内の水は開口部51bより混合ノズル51内に吸入され、該スチーム と混合ノズル52内の水とが混合しながらディフューザー部51aを通過する過 程でスチームの熱エネルギーが水に置換され、該水は加熱され温水となり噴射管 50より温水タンク31内に噴射される。これにより温水タンク31内の水が加 熱され、水蒸気となって水面より立ちのぼり、スチーム処理室2c内はセット処 理に適した温度のスチーム(飽和水蒸気)で充たされる。
【0043】 スチーム処理室2c内の温度が所定のセット温度に達し、温度センサー57が これを感知すると、該温度センサー57に接続されているコントローラによりソ レノイドバルブVが閉じられ、加熱装置Hのインジェクションノズル52へのス チームの供給が停止されるか、若しくはスチームの供給量が減ぜられる。これに より温水タンク31からのスチーム発生量が減少し、スチーム処理室2c内の温 度は下げられる。
【0044】 また、スチーム処理室2c内の温度が所定の温度以下になり、温度センサー5 7がこれを感知するとコントローラによりソレノイドバルブVが開けられ、加熱 装置Hのインジェクションノズル52にスチームが供給され、若しくはスチーム の供給量が増加され、温水タンク31からのスチーム発生量が増加し、スチーム 処理室2c内の温度は再び上昇され、以上の制御によりスチーム処理室2c内の 温度は、常に一定に保持される。
【0045】 次に上述の実施例に基づいて、スチーム処理装置1によるスチームセット工程 について主に図1及び図2を参照しながら説明する。
【0046】 図1において、精紡機SPより送出された2種類のボビンBa,Bb(精紡管 糸)は、夫々、移載ステーション3,3bにおいてワインダーWのトレイ循環路 Lに沿って搬送される空トレイTに挿立され、供給される。次いで、上記ボビン Ba,Bbを挿立した実トレイTは搬送路L1に達すると搬送手段をチェーンC に引き継がれ、該チェーンCにより間欠送りされ、スチーム処理装置1の予熱装 置Pに導入される。
【0047】 予熱装置Pにおいて、ボビンBが搬送路L1に沿って予熱室2a内を間欠送り される際、該搬送路L1の下面に沿って設けた圧空噴射管15の圧空噴射孔16 より噴射される高温の圧縮空気がトレイTの通気孔ThよりボビンBを通過する ことにより、ボビンB及び該ボビンB上の糸層の内層部が漸次加熱される。
【0048】 そして、予熱装置Pを通過したボビンBは、ロータリーシャッター60よりス チームセット装置Sのスチーム処理室2c内に導入され搬送路L1より反転ユニ ットRTを経て、搬送路L2を往復しながら所定のセット温度に恒温制御されて いる常圧飽和水蒸気中を長時間に亘り通過することにより連続的にスチームセッ トがなされる。
【0049】 この際、ボビンBの糸層内での熱の移動は殆どが蒸気の凝縮潜熱によるもので あるため、セット後の糸層内での水分の分布が問題になる場合があるが、本考案 におけるスチーム処理装置1については、予め予熱装置PによりボビンBの糸層 の内層側の温度を上昇し、水分分布を調整してあるので内層のぬれといった事態 は起こらない。
【0050】 このようにして、セットを完了したボビンBは、ロータリーシャッター60を 経て搬送路L2に沿って予熱装置Pの乾燥室2b内を間欠送りされる過程で、高 温である糸層自体からの水分の発散、及び、これを補助するファン28による温 風の吹き付けにより乾燥され、ワインダーWの口出し装置F側に連続的に供給さ れる。
【0051】
【考案の効果】
本考案のスチーム処理装置は、上述の通り構成されているので、以下に記載さ れるような効果を奏する。
【0052】 スチーム処理装置内部と外部とを循環するトレイ搬送路、及び該搬送路に沿っ てボビンを挿立したトレイを搬送する搬送手段を備えたので、精紡機及び自動ワ インダーと直結した連続処理が可能であり、紡績から巻取に至る完結した自動処 理システムを構築可能である。
【0053】 スチーム処理装置内部と外部とを循環するトレイ搬送路、及び該搬送路に沿っ てボビンを挿立したトレイを搬送する搬送手段を備え、上記トレイが基盤上にボ ビン挿立用ペグを有し基盤からペグを通して通気孔を貫通したものであり、且つ 、スチーム処理前のトレイ搬送路に沿って、上記通気孔に臨み、高温空気噴射手 段を備えた予熱装置を設けたので、スチーム処理に先立ち、ボビン内層を予め加 熱しておくことができ、常圧でスチーム処理した場合に問題となる内層の濡れを 防止可能である。
【0054】 この際、高温空気噴射手段の噴射孔を、間欠送りされるトレイの1ピッチ分の 間隔で間欠的に配置すれば、間欠送りのインターバルにおいて上記噴射孔上に常 にトレイが位置するようになり、ボビン内層の加熱をより効果的に行なうことが できる。
【0055】 また、スチーム処理後のトレイ搬送路を予熱装置と並行して設けることにより 、予熱処理後の高温の空気をボビンの乾燥に利用することが可能であり、且つ、 予熱装置の熱源として、スチーム処理装置の加熱源と同系のスチームを用いるこ とにより、装置全体としての熱コストが半減される。
【図面の簡単な説明】
【図1】本考案実施例のスチーム処理装置の概観を示す
斜視図である。
【図2】本考案実施例のスチーム処理装置の設置状況を
示す平面図である。
【図3】図2のX−X´線における断面図である。
【図4】本考案実施例のスチーム処理装置におけるトレ
イ搬送装置を示す側面図である。
【図5】本考案実施例のスチーム処理装置におけるトレ
イ搬送装置を示す斜視図である。
【図6】本考案実施例の予熱装置を示す斜視図である。
【図7】本考案実施例の予熱装置を示す正断面図であ
る。
【図8】本考案実施例のスチームセット装置を示す側断
面図である。
【図9】本考案実施例のスチームセット装置を示す正断
面図である。
【図10】本考案実施例の加熱装置を示す側断面図であ
る。
【符号の説明】
1 スチーム処理装置 2 空洞 2a 予熱室 2b 乾燥室 2c スチーム処理室 4 ガイド部材 8,9 チェーンガイド部材 10,30 上部ケーシング 11,31 下部ケーシング 15 圧空噴射管 16 圧空噴射孔 21 熱交換器 25 ブロア 28 ファン 31 温水タンク 52 インジェクションノズル 57 温度センサー 60 ロータリーシャッター W ワインダー L1,L2 搬送路 P 予熱装置 Pu 予熱ユニット RS シャッターユニット S スチームセット装置 Su スチームセットユニット RT 反転ユニット Gs,Gt スプロケット H 加熱装置 V ソレノイドバルブ B ボビン T トレイ Th 通気孔

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 【請求項1】 スチーム処理装置内部と外部とを循環す
    るトレイ搬送路、及び該搬送路に沿ってボビンを挿立し
    たトレイを搬送する搬送手段を備え、上記トレイが基盤
    上にボビン挿立用ペグを有し基盤からペグを通して通気
    孔を貫通したものであり、且つ、スチーム処理前のトレ
    イ搬送路に沿って、上記通気孔に臨み、高温空気噴射手
    段を備えた予熱装置を設けたことを特徴とするスチーム
    処理装置。
JP5611493U 1993-09-22 1993-09-22 スチーム処理装置 Pending JPH0721655U (ja)

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