JPH0789673A - スチーム処理装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 精紡機から供給されたボビンをワインディン
グ工程の直前において連続的にスチームセットすること
が可能であると共に、簡素な構造で種々のワインダーに
対応して容易に設置可能であり、且つ、設置面積を縮小
可能なスチーム処理装置を提供する。 【構成】 ワインダー機台背後に、該機台長手方向に沿
って予熱ユニット及びスチームセットユニットを列設
し、それらの内部を貫通して、上記ワインダーのトレイ
循環路の一部をなす往路及び復路よりなるトレイ搬送路
を形成すると共に、該搬送路に沿ってボビンを挿立した
トレイを搬送する搬送手段を備えた。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明はスチーム処理装置に関す
る。

【０００２】

【従来の技術】一般に、紡績糸には、撚入れされたこと
によって残留トルクが存在している。この残留トルク
は、適当な張力下においては、糸に集束力と風合を与え
る効果を有するが、張力が低くなると糸の撚を戻して集
束力を低下させるのみならず、糸の長手方向への自己撚
運動，所謂「ビリ」を発生させる場合があり、各工程に
おいて様々な悪影響を及ぼすことになる。

【０００３】そこで、上記残留トルクを解消する目的
で、糸に温湿度を与えるセット工程が設けられている。
従来、このセット工程としては、糸をボビンごと一時的
にタンクに収容し、該タンクを減圧して高温蒸気を吹き
込むタンク式のバッチ処理装置によるものが一般的であ
るが、装置が比較的大規模となるばかりか、精紡機とワ
インダーとを連結した連続式のシステムには不向きであ
った。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、従来のスチ
ーム処理装置のこのような点に鑑みて、精紡機から供給
されたボビンをワインディング工程の直前において連続
的にスチームセットすることが可能であると共に、簡素
な構造で種々のワインダーに対応して容易に設置可能で
あり、且つ、設置面積を縮小可能なスチーム処理装置を
提供することを目的とするものである。

【０００５】

【課題を解決するための手段】ワインダー機台背後に、
該機台長手方向に沿って予熱ユニット及びスチームセッ
トユニットを列設し、それらの内部を貫通して、上記ワ
インダーのトレイ循環路の一部をなす往路及び復路より
なるトレイ搬送路を形成すると共に、該搬送路に沿って
ボビンを挿立したトレイを搬送する搬送手段を備えた。

【０００６】

【作用】ボビンはトレイに挿立された状態で、トレイ搬
送チェーンにより搬送路に沿って連続的に搬送される過
程においてスチームセットされ、ワインダーに供給され
る。また、ワインダーの機台長に合わせて、設置する予
熱ユニット及びスチームセットユニットの数を調整し
て、上記ワインダーの機台背後に全長に亘ってスチーム
処理装置を設置すれば、該スチーム処理装置の処理能力
とワインダーの処理能力とはバランスされる。

【０００７】

【実施例】実施の一例について図面と共に説明する。

【０００８】本発明スチーム処理装置の概要を図１乃至
図３に示す。図１において、スチーム処理装置１はワイ
ンダーＷの機台背後に、該機台の長手方向に沿って設け
た予熱装置Ｐ，スチームセット装置Ｓより主に構成され
ている。

【０００９】予熱装置Ｐ及びスチームセット装置Ｓは夫
々複数の予熱ユニットＰｕ及びスチームセットユニット
Ｓｕよりなり、予熱ユニットＰｕとスチームセットユニ
ットＳｕとの間にはシャッターユニットＲＳを、スチー
ムセットユニットＳｕの端部には反転ユニットＲＴを設
けている。そして、それらの内部を貫通してトンネル状
の空洞２を形成しており、該空洞２内には、ボビンＢを
挿立したトレイＴの２本の搬送路Ｌ１，Ｌ２が平行に設
けられている。上記各搬送路Ｌ１，Ｌ２は、反転ユニッ
トＲＴにおいて互いに連結され、往復路をなしている。

【００１０】また、上記往路Ｌ１及び復路Ｌ２よりなる
搬送路Ｌ１，Ｌ２は、図２に示す如くワインダーＷを循
環する搬送路Ｌ３，Ｌ４に連結され、それらは全体とし
て閉ループの循環路Ｌを形成しており、該循環路Ｌ内を
トレイＴが循環するようになっている。

【００１１】即ち、搬送路Ｌ１は、精紡機ＳＰにおいて
紡績された２種類の精紡管糸（実ボビン）Ｂａ，Ｂｂを
トレイＳＴに移載する移載ステーション３ａ，３ｂに連
結されている。また、搬送路Ｌ２はワインダーＷの搬送
路Ｌ３に連なり、該搬送路Ｌ３上には口出し装置Ｆが設
けられている。搬送路Ｌ３はワインダーＷの各ユニット
Ｗａ，Ｗｂを経て搬送路Ｌ４に連なり、空ボビンＢｏを
抜き取るリムーバーＲＭを経て移載ステーション２ａ，
２ｂに至り搬送路Ｌ１に循環している。尚、Ｌ５，Ｌ
６，Ｌ７は口出しミスしたボビンＢｍを再び口出し処理
するためのフィードバックループであり、Ｌ６，Ｌ７に
はワインディング工程を経た残糸付きボビンＢｒもフィ
ードバックされる。

【００１２】次に、ワインダーＷ及びスチーム処理装置
１のユニット構成について図２を参照しながら説明す
る。

【００１３】図２において、ワインダーＷは、１０乃至
１２錘のワインダーユニットＷｕを１スパン（Ｗａ，Ｗ
ｂ）として２スパンを設け、夫々のスパンＷａ，Ｗｂに
おけるワインダーユニットｕで互いに異種のボビンＢ
ａ，Ｂｂをワインディングするものであり、Ｗｆは口出
し空ビン抜取り等のボビン処理ユニットである。

【００１４】このように構成されたワインダーＷに対し
てスチーム処理装置１は、図示の例では２個の予熱ユニ
ットＰｕよりなる予熱装置Ｐと４個のスチームセットユ
ニットＳｕよりなるスチームセット装置Ｓとにより該装
置を構成し、スチーム処理装置１の長さをワインダーＷ
の機台長と同じに設定し、ワインダーＷの機台背後の空
きスペースを最大限に活用している。しかし、スチーム
処理装置１の長さは、必ずしもワインダーＷの機台長と
一致させる必要のないものである。

【００１５】また、図２においては２スパンＷａ，Ｗｂ
のユニットより構成されているワインダーＷを示した
が、該ワインダーＷに更に１スパンを加え、２スパン分
のユニットよりワインダーＷを構成する場合には、スチ
ーム処理装置１のスチームセットユニットＳｕを更に２
ユニット追加して、スチームセットユニット６ユニット
と予熱ユニット２ユニットで装置を構成するか、又は、
スチームセットユニットＳｕと予熱ユニットＰｕとを各
１ユニットづつ追加して、スチームセットユニット５ユ
ニットと予熱ユニット３ユニットで装置を構成すること
によりスチーム処理装置１の長さをワインダーＷの機台
長と同じに設定することが可能である。

【００１６】この際、スチーム処理装置１における処理
時間は常に一定で良く、該スチーム処理装置１のスチー
ムセット装置Ｓの長さの増減に比例して処理速度、即
ち、トレイ搬送速度を増減することが可能である。即
ち、上述の前者においては1.5 倍、後者においては1.25
倍処理速度を増速することができる。

【００１７】これにより、ワインダーＷのユニット数が
増えたことによるボビンＢの処理量の増加に対応して、
スチーム処理装置１のスチーム処理量を増加させ、バラ
ンスすることが可能であり、尚且つ、上述の後者の例の
如く、スチームセット装置Ｓと予熱装置Ｐとの長さ、即
ち処理時間を均一化することで、ワインダーＷの機台長
に拘らずスチーム処理状態を均質化できる。

【００１８】上記ワインダーＷを循環する各トレイ搬送
路Ｌ１乃至Ｌ７は、いずれもトレイＴの動きを搬送方向
に規制するガイド部材、若しくはガイド溝として形成さ
れ、ワインダーＷの機台側においては図３に示す如く上
記搬送路Ｌ３，Ｌ４に沿って搬送ベルトＬｃを設けると
供に、搬送路Ｌ３からワインダーユニットＷｕに至る部
分や、フィードバックループＬ５，Ｌ７等には回転円板
ＬＤを設けて、トレイＴを一定方向に搬送しているが、
スチーム処理装置１における搬送路Ｌ１，Ｌ２において
は、該搬送路Ｌ１，Ｌ２に沿ってエンドレスチェーンＣ
を周回させ、該チェーンＣによりトレイＴを搬送してお
り、以下、トレイＴの搬送装置について、図４，図５を
参照しながら説明する。

【００１９】図４及び図５において、実ボビンＢを挿立
したトレイＴは、対向して設けた断面コ字形のガイド部
材４ａ，４ｂに摺動自在に支持されており、該ガイド部
材４ａ，４ｂの間のトレイ搬送路Ｌ１（Ｌ２）内には、
リンクを連結するピン５を垂直方向にして設けられたチ
ェーンＣのピン５に同軸に設けたローラ６を上方に突出
している。また、チェーンＣのローラ６を設けたピン５
の下方端には、上記ガイド部材４ａ，４ｂ間下位にそれ
と平行に設けた断面Ｌ字形のチェーンガイド部材８の垂
直ガイド面８ａに転接するローラ７ａを設け、チェーン
Ｃの蛇行を阻止している。更に、チェーンＣの上記ロー
ラ６及びローラ７ａを設けたリンクＣａと交互に配置さ
れたリンクＣｂには上記チェーンガイド部材８の水平ガ
イド面８ｂに転接するローラ７ｂを設けて、チェーンＣ
の自重を支えるようにしている。尚且つ、必要に応じて
チェーンＣに当接しつつ、該チェーンＣの側方への弛み
を規制するチェーンガイド部材９を設ける。

【００２０】上記チェーンＣは、反転ユニットＲＴ（図
１に図示）に設けたスプロケット８０を駆動回転するこ
とにより駆動され、該チェーンＣの駆動に伴ないトレイ
Ｔはローラ６に押圧され、ガイド部材４，４に案内され
て搬送される。この際、チェーンＣは、後述の理由によ
りトレイ１個分を１ピッチとして、１ピッチづつ間欠駆
動するものとする。

【００２１】次に、図１及び図６，図７を参照しなが
ら、予熱装置Ｐについて説明する。

【００２２】図において予熱装置Ｐは、ボビンＢ，Ｂ´
を挿立したトレイＴの搬送路Ｌ１，Ｌ２に沿って、該搬
送路Ｌ１，Ｌ２を掩覆する上部ケーシング１０及び下部
ケーシング１１を設けている。上部ケーシング１０は、
外層板１０ａと内層板１０ｂとの間に断熱材１２を充填
した３層構造をなしており、下部ケーシング１１に固定
され、それらの内部に空洞２を形成している。更に、該
空洞２は、上部ケーシング１０に支持部材１３で支持さ
れている仕切板１４により往搬送路Ｌ１側と復搬送路Ｌ
２側とに仕切られており、夫々予熱室２ａと乾燥室２ｂ
とが形成されている。該予熱室２ａと乾燥室２ｂとは上
部において互いに連通されている。

【００２３】下部ケーシング１１は、往搬送路Ｌ１側の
ケーシング１１ａと復搬送路Ｌ２側のケーシング１１ｂ
とからなり、夫々にトレイＴを案内するガイド部材４が
固定されている。そして、予熱室２ａ側の往搬送路Ｌ１
の下面に沿って圧空噴射管１５を設けてある。

【００２４】圧空噴射管１５は、各予熱ユニットＰｕ毎
に設けられ、上部には往搬送路Ｌ１のトレイＴ下面に臨
ませて、スリット状の圧空噴射孔１６を多数開口してお
り、該圧空噴射孔１６はチェーンＣにより搬送されるト
レイＴの１ピッチ分の間隔で配置されている。尚、本発
明において使用されるトレイＴは、トレイＴの下面から
立設されているペグＴｐの先端部にかけて通気孔Ｔｈを
貫通しており、チェーンＣを間欠駆動してトレイＴを間
欠送りすれば、トレイＴが静止した際、圧空噴射孔１６
上には、常にトレイＴの通気孔Ｔｈが位置するようにな
っている。そして、各予熱ユニットＰｕの圧空噴射管１
５は、分岐管１７により導管１８に連結されている。

【００２５】導管１８は、各予熱ユニットＰｕ，Ｐｕ…
…毎に夫々の端部においてジョイント１９で互いに連結
され予熱装置Ｐ全体に亘って設けられており、該導管１
８は管２０を介して熱交換器２１の出口に連結されてい
る。熱交換器２１の入口側は、管２２，ボックス２３，
管２４を介してブロア２５の送気口２５ａに連結されて
いる。熱交換器２１にはスチーム供給管２６を介して、
図示しないボイラーより蒸気が供給され、ブロア２５か
ら送気された空気を加熱する。尚、上記ブロア２５の吸
気口２５ｂには図示しないフィルターユニットが接続し
てある。また２７は熱交換器２１のドレン管である。

【００２６】また、上部ケーシング１０の乾燥室２ｂ側
上部には、該上部ケーシング１０を貫通してファン２８
を設け、且つ、乾燥室２ｂ側の下部ケーシング１１ｂ側
壁を貫通して排気口２９を設けている。

【００２７】上述の通り構成された予熱装置Ｐは以下の
如く作動する。

【００２８】即ち、ブロア２５より管２４を通じて送給
される圧縮空気と、図示しないボイラーよりスチーム供
給管２６を通じて供給されるスチームとは熱交換器２１
にて熱が交換され、圧縮空気は管２０，導管１８，及び
分岐管１７を通じて各予熱ユニットＰｕ，Ｐｕの圧空噴
射管１５に送給され、該圧空噴射管１５に開口してある
圧空噴射孔１６より噴射される。

【００２９】この際、上記圧空噴射孔１６上には、チェ
ーンＣにより間欠送りされているトレイＴが次々に位置
するので、圧空噴射孔１６より噴射された高温乾燥の圧
縮空気は図７に示す如くトレイＴの通気孔Ｔｈより、該
トレイＴに挿立されているボビンＢの内面を通り、該ボ
ビンＢの上端より予熱室２ａ内に噴出され、この過程を
通じてボビンＢは適宜温度に加熱される。

【００３０】続いて、予熱室２ａ内に噴出された上記高
温乾燥の圧縮空気は、予熱室２ａの上部より乾燥室２ｂ
内に流入し、該乾燥室２ｂの上部のファン２８より乾燥
室２ｂ内に送風される空気と混合し、温風となって乾燥
室２ｂ内の後述するスチーム処理後のボビンＢ´に吹き
付けられ、排気口２９より外部に排気される。

【００３１】次に、図８乃至図１０を参照しながらシャ
ッターユニットＲＳにおける扉開閉機構について説明す
る。図において、シャッターユニットＲＳは、上部ケー
シング３０と下部ケーシング３１との間にロータリーシ
ャッター３３を設けてなるものである。

【００３２】上部ケーシング３０は門形の内層フレーム
３０ｂと外層板３０ａとの間に断熱材３０を充填してお
り、下部ケーシング３１に適宜の手段により着脱自在に
固定されている。尚、内層フレーム３０ｂは、図９に示
す如くロータリーシャッター３３の側方においては、該
ロータリーシャッター３３の回転の軌跡に沿って円弧状
に湾入している。また、下部ケーシング３１内には先述
したトレイＴを案内するガイド部材４，垂直ガイド面８
ａ及び水平ガイド面８ｂとを有するチェーンガイド部材
８、及び軸受３４が設けられ、該軸受３４はロータリー
シャッター３３の回転軸３４が回転自在に支持されてい
る。

【００３３】回転軸３４には、チェーンＣに噛合するス
プロケット３６が固定され、且つ、該スプロケット３６
の上方には、ガイド部材４の上面及び下面と同一仮想平
面上位置に２枚のガイド円板４３，４４が設けられてい
る。尚、上記ガイド部材４は、図９に示す如くロータリ
ーシャッター３３の側方においては、上記ガイド円板４
３，４４と同心の円弧状に湾曲している。また、スプロ
ケット３６の前後にはチェーンガイド部材９を設けて、
チェーンＣの側方への弛みを規制して、該チェーンＣが
スプロケット３６に確実に噛合するようにしている。

【００３４】ロータリーシャッター３３は、上記回転軸
３４に部材３７で固定した４枚の扉３８よりなり、それ
らは互いに９０°間隔で等角配置されている。各扉３８
の形状は上部ケーシング３０（内層フレーム３０ｂ）の
断面形状と同形状であり周縁部には可撓性のシール部材
４０を部材３９により固着して、遮蔽効果を高めてい
る。また、回転軸３４の上端部は、Ｏリング４１を外嵌
した状態で、上部ケーシング３０の内層フレーム３０ｂ
に固定した軸承部材４２に嵌挿され、該軸承部材４２に
より回転自在に支持されている。

【００３５】上述のとおり構成されたロータリーシャッ
ター３３は以下の如く開閉される。

【００３６】即ち、トレイＴの間欠送りにおける静止状
態では、チェーンＣ，スプロケット３５及びロータリー
シャッター３３は図９に示すような位置関係にあり、ロ
ータリーシャッター３３は、対向する３８（Ｂ），３８
（Ｄ）の位置にある２枚の扉３８ｂ，３８ｄがトレイＴ
の搬送方向に対してほぼ直角に位置し、ロータリーシャ
ッター３３は閉じられ、スチームセット装置Ｓ内は、予
熱装置Ｐ側に対して遮蔽される。

【００３７】この状態から、チェーンＣが１ピッチ駆動
されると、該チェーンＣと噛合しているスプロケット３
５、及び、該スプロケット３５と回転軸３４を介して一
体のロータリーシャッター３３は図中反時計針方向に４
分の１回転される。この間、扉３８ａ，３８ｃは位置３
８Ｂ，３８Ｄまで回転し再び遮蔽状態となり、且つ、搬
送路Ｌ１の予熱装置Ｐ側の位置Ｔ（Ａ）にあったトレイ
Ｔａはこの部分では円弧状のガイド部材４とガイド円板
４３，４４とに案内され、ロータリーシャッター３３と
共に回転しながら位置Ｔ（Ｂ）まで移動し、スチームセ
ット装置Ｓ側に取り込まれる。一方、搬送路Ｌ２のスチ
ームセット装置Ｓ側にあったトレイ（図示せず）は予熱
装置Ｐ側に送出される。

【００３８】上述の過程においてロータリーシャッター
３３の回転とトレイＴの移動とはチェーンＣ及びスプロ
ケット３５により完全に同期して行なわれ、ロータリー
シャッター３３にトレイＴや、該トレイＴに挿立されて
いるボビンＢが接触することはない。また、ロータリー
シャッター３３の扉３８（ｂ），３８（ｃ）が内層フレ
ーム３０ｂの円弧状湾入部分より離れ開かれると同時
に、次の扉３８（ａ），３８（ｃ）が内層フレーム３０
ｂの上記円弧状湾入部分に達するので、スチームセット
装置Ｓ側は予熱装置Ｓ側に対して常時遮蔽されており、
トレイＴの出入と共にロータリーシャッター３３の１セ
グメント分の空気が出入するのみである。

【００３９】次に、図１１及び図１２を参照しながらス
チームセット装置Ｓについて説明する。

【００４０】図においてスチームセット装置Ｓは、ボビ
ンＢを挿立したトレイＴの搬送路Ｌ１，Ｌ２に沿って、
該搬送路Ｌ１，Ｌ２をＬ２を掩覆する上部ケーシング５
０、及び、下部ケーシングを兼ねた温水タンク５１を設
けている。上部ケーシング５０は外層板５０ａと内層板
５０ｂとの間に断熱材５２を充填した３層構造をなして
おり、温水タンク５１の上部にシールバンド５３により
固定されている。

【００４１】シールバンド５３は、各スチームセットユ
ニットＳｕの接合部毎に配置され、一端にはフック５４
を、他端には掛止レバー５５を設けており、上部ハウジ
ング５０を温水タンクに緊締して固定すると共に、上部
ケーシング５０の接合部分をシールしている。そして、
メンテナンス時等においては掛止レバー５５を倒してシ
ールバンド５３を外すことで上部ケーシング５０を容易
に取り外すことができる。

【００４２】温水タンク５１内の上位には図４及び図５
に示した先述のトレイ搬送路Ｌ１，Ｌ２及びトレイ搬送
装置を構成するガイド部材４，チェーンＣ，チェーンガ
イド部材８，９等が設けられ、それらは、温水タンク５
１に架設した支持部材５６に支持されている。

【００４３】また、温水タンク５１の下底部には、該温
水タンク５１内に温水を供給及び排出するための給排水
口５７を設け、該給排水口５７は給排水管５８に接続さ
れている。給排水管５８は各ユニットＳｕ毎にジョイン
ト５９で連結してスチームセット装置Ｓの全長に亘って
設け、図１に示す如く該スチームセット装置Ｓの外部に
設置したバランスタンクＢＴに接続されており、該バラ
ンスタンクＢＴより給排水管５８，給排水口５７を通じ
て温水タンク５１内に給水，排水を行う。尚、６０はオ
ーバーフロー管であり、該オーバーフロー管は排水管６
１に接続され、温水タンク５１内の水位をトレイ搬送路
Ｌ１，Ｌ２の下位の所定の位置に保持するものである。

【００４４】上記温水タンク５１は、支持部材６３を介
してフレーム６４上に支持されている。フレーム６４は
断面Ｌ字形をなし、スチームセットユニットＳｕの長さ
方向に沿って平行に配置した２本よりなり、それらを横
フレーム６５で一体としてはしご形に形成し、スチーム
セットユニットＳｕの基台フレームを構成している。そ
して、各ユニットＳｕのフレーム６４は、両端部におい
てジョイント６６で互いに連結されている。

【００４５】ジョイント６６は、断面Ｌ字形をなし、水
平部分にはナット６７が設けられており、該ナット６７
にはジャッキボルト６８を螺合し、該ジャッキボルト６
８を回動することにより各スチームセットユニットＳｕ
の高さを調節可能である。尚、６９はジャッキボルト６
７を支持するベースである。

【００４６】また、スチームセット装置Ｓの端部には先
述の反転ユニットＲＴが設けられ、該反転ユニットＲＴ
において空洞２の端部は塞がれており、前述のシャッタ
ーユニットＲＳのロータリーシャッター３３との間にス
チーム処理室２ｃを形成する。スチーム処理室２ｃは外
部とは上記ロータリーシャッター３３のみを介して連通
され、該ロータリーシャッター３３が閉じれば、外部と
遮断されるがスチーム処理は後述の如く常圧で行われる
ためスチーム処理室２ｃは高い気密性は必要としない。

【００４７】次にスチームセット装置Ｓの加熱装置Ｈに
ついて説明する。

【００４８】加熱装置Ｈは、上記温水タンク５１の内部
の水中に浸漬する位置に設けられており、図１３に示す
如く、ディフューザー部７１ａを形成した先端側に噴射
管７０を接続した混合ノズル７１、該混合ノズル７１の
基端開口部７１ｂより混合ノズル７１内に先端を開口し
たインジェクションノズル７２、及び、該インジェクシ
ョンノズル７２を螺合して支持する支持管７３よりな
り、それらは軸心を一にして図１１及び図１２に示す如
くブラケット６２上に列設されている。

【００４９】そして、上記支持管７３にはジョイント７
４を介して導管７５が接続され、該導管７５は、温水タ
ンク５１外部のソレノイドバルブＶを介してスチーム供
給管７６に接続されている。

【００５０】ソレノイドバルブＶは図示しないコントロ
ーラに接続されており、また、該コントローラには温水
タンク５１の内側壁に空洞２の上方に向けて立設した温
度センサ７７が接続されている。

【００５１】以下、加熱装置Ｈによるスチームセット装
置Ｓの作動、及び温度制御方法について説明する。

【００５２】図示しないボイラよりスチーム供給管７６
により供給されるスチームは、ソレノイドバルブＶが開
かれると導管７５を通じて加熱装置Ｈのインジェクショ
ンノズル７２に送給され、該インジェクションノズル７
２より混合ノズル７２内に噴射される。するとスチーム
の噴射に伴い混合ノズル７１は減圧されるので、温水タ
ンク５１内の水は開口部７１ｂより混合ノズル７１内に
吸入され、該スチームと混合ノズル７２内の水とが混合
しながらディフューザー部７１ａを通過する過程でスチ
ームの熱エネルギーが水に置換され、該水は加熱され温
水となり噴射管７０より温水タンク５１内に噴射され
る。これにより温水タンク５１内の水が加熱され、水蒸
気となって水面より立ちのぼり、スチーム処理室２ｃ内
はセット処理に適した温度のスチーム（飽和水蒸気）で
充たされる。

【００５３】スチーム処理室２ｃ内の温度が所定のセッ
ト温度に達し、温度センサー７７がこれを感知すると、
該温度センサー７７に接続されているコントローラによ
りソレノイドバルブＶが閉じられ、加熱装置Ｈのインジ
ェクションノズル７２へのスチームの供給が停止される
か、若しくはスチームの供給量が減ぜられる。これによ
り温水タンク５１からのスチーム発生量が減少し、スチ
ーム処理室２ｃ内の温度は下げられる。

【００５４】また、スチーム処理室２ｃ内の温度が所定
の温度以下になり、温度センサー７７がこれを感知する
とコントローラによりソレノイドバルブＶが開けられ、
加熱装置Ｈのインジェクションノズル７２にスチームが
供給され、若しくはスチームの供給量が増加され、温水
タンク５１からのスチーム発生量が増加し、スチーム処
理室２ｃ内の温度は再び上昇され、以上の制御によりス
チーム処理室２ｃ内の温度は、常に一定に保持される。

【００５５】次に上述の実施例に基づいて、スチーム処
理装置１によるスチームセット工程について主に図１及
び図２を参照しながら説明する。

【００５６】図２において、精紡機ＳＰより送出された
２種類のボビンＢａ，Ｂｂ（精紡管糸）は、夫々、移載
ステーション３ａ，３ｂにおいてワインダーＷのトレイ
循環路Ｌに沿って搬送される空トレイＴに挿立され、供
給される。次いで、上記ボビンＢａ，Ｂｂを挿立した実
トレイＴは搬送路Ｌ１に達すると搬送手段をチェーンＣ
に引き継がれ、該チェーンＣにより間欠送りされ、スチ
ーム処理装置１の予熱装置Ｐに導入される。

【００５７】予熱装置Ｐにおいて、ボビンＢが搬送路Ｌ
１に沿って予熱室２ａ内を間欠送りされる際、該搬送路
Ｌ１の下面に沿って設けた圧空噴射管１５の圧空噴射孔
１６より噴射される高温の圧縮空気がトレイＴの通気孔
ＴｈよりボビンＢを通過することにより、ボビンＢ及び
該ボビンＢ上の糸層の内層部が漸次加熱される。

【００５８】そして、予熱装置Ｐを通過したボビンＢ
は、ロータリーシャッター３３よりスチームセット装置
Ｓのスチーム処理室２ｃ内に導入され搬送路Ｌ１より反
転ユニットＲＴを経て、搬送路Ｌ２を往復しながら所定
のセット温度に恒温制御されている常圧飽和水蒸気中を
長時間に亘り通過することにより連続的にスチームセッ
トがなされる。

【００５９】この際、ボビンＢの糸層内での熱の移動は
殆どが蒸気の凝縮潜熱によるものであるため、セット後
の糸層内での水分の分布が問題になる場合があるが、本
発明におけるスチーム処理装置１については、予め予熱
装置ＰによりボビンＢの糸層の内層側の温度を上昇し、
水分分布を調整してあるので内層のぬれといった事態は
起こらない。

【００６０】このようにして、セットを完了したボビン
Ｂは、ロータリーシャッター３３を経て搬送路Ｌ２に沿
って予熱装置Ｐの乾燥室２ｂ内を間欠送りされる過程
で、高温である糸層自体からの水分の発散、及び、これ
を補助するファン２８による温風の吹き付けにより乾燥
され、ワインダーＷの口出し装置Ｆ側に連続的に供給さ
れる。

【００６１】

【発明の効果】本発明のスチーム処理装置は、上述の通
り構成されているので、以下に記載されるような効果を
奏する。

【００６２】ワインダーの機台背後に予熱ユニット及び
スチームセットユニットを列設し、それらの内部を貫通
して上記ワインダーのトレイ循環路の１部をなすトレイ
搬送路を形成すると共に、該搬送路に沿って、ボビンを
挿立したトレイを搬送する搬送手段を備えたので、精紡
機及び自動ワインダーと直結した連続処理が可能であ
り、紡績から巻取に至る完結した自動処理システムを構
築可能である。

【００６３】上記予熱ユニット及びスチームセットユニ
ットより装置を構成し、且つ、それらの内部を貫通する
トレイ搬送路を往復路としたので、ワインダーの機台長
に合わせて、ユニット数を調整することにより共通の設
計で上記ワインダーの機台全長に亘って処理装置を設置
でき、ワインダーの機台背後等の僅かな空きスペースを
最大限に利用できるのみならず、スチーム処理装置の処
理能力とワインダーの処理能力とを容易にバランスでき
る。

【００６４】ボビンをトレイに挿立し、且つ、該トレイ
の搬送手段を備えたことにより、スチームセットユニッ
トの扉開閉時や、予熱処理時、及びボビンのワインダー
への供給時等において、容易に同期が得られ装置の構造
を簡素化できるのみならず、糸層に対する各部材の接触
を完全に無くすことができ、糸層が保護される。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明実施例のスチーム処理装置の概観を示す
斜視図である。

【図２】本発明実施例のスチーム処理装置の設置状況を
示す平面図である。

【図３】図２のＸ−Ｘ´線における断面図である。

【図４】本発明実施例のスチーム処理装置におけるトレ
イ搬送装置を示す側面図である。

【図５】本発明実施例のスチーム処理装置におけるトレ
イ搬送装置を示す斜視図である。

【図６】本発明実施例の予熱装置を示す斜視図である。

【図７】本発明実施例の予熱装置を示す正断面図であ
る。

【図８】本発明実施例の扉開閉機構を示す正断面図であ
る。

【図９】本発明実施例の扉開閉機構を示す平面図であ
る。

【図１０】本発明実施例の扉開閉機構を示す斜視図であ
る。

【図１１】本発明実施例のスチームセット装置を示す側
断面図である。

【図１２】本発明実施例のスチームセット装置を示す正
断面図である。

【図１３】本発明実施例の加熱装置を示す側断面図であ
る。

【符号の説明】

１ スチーム処理装置 ２ 空洞 ２ａ 予熱室 ２ｂ 乾燥室 ２ｃ スチーム処理室 ４ ガイド部材 ８，９ チェーンガイド部材 １０，３０，５０ 上部ケーシング １１，３１ 下部ケーシング １５ 圧空噴射管 １６ 圧空噴射孔 ２１ 熱交換器 ２５ ブロア ２８ ファン ３３ ロータリーシャッター ３５ スプロケット ５１ 温水タンク ７２ インジェクションノズル ７７ 温度センサー Ｗ ワインダー Ｌ１，Ｌ２ 搬送路 Ｐ 予熱装置 Ｐｕ 予熱ユニット ＲＳ シャッターユニット Ｓ スチームセット装置 Ｓｕ スチームセットユニット ＲＴ 反転ユニット Ｈ 加熱装置 Ｖ ソレノイドバルブ Ｂ ボビン Ｔ トレイ

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 ワインダー機台背後に、該機台長手方向
   に沿って予熱ユニット及びスチームセットユニットを列
   設し、それらの内部を貫通して、上記ワインダーのトレ
   イ循環路の一部をなす往路及び復路よりなるトレイ搬送
   路を形成すると共に、該搬送路に沿ってボビンを挿立し
   たトレイを搬送する搬送手段を備えたことを特徴とする
   スチーム処理装置。