JPH07218854A - 電子写真装置 - Google Patents
電子写真装置Info
- Publication number
- JPH07218854A JPH07218854A JP3645794A JP3645794A JPH07218854A JP H07218854 A JPH07218854 A JP H07218854A JP 3645794 A JP3645794 A JP 3645794A JP 3645794 A JP3645794 A JP 3645794A JP H07218854 A JPH07218854 A JP H07218854A
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- Japan
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- light
- polygon mirror
- reflecting surface
- emission amount
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- Prior art date
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- Pending
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- Laser Beam Printer (AREA)
- Mechanical Optical Scanning Systems (AREA)
- Cleaning In Electrography (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 回転多面鏡の汚染や半導体レーザの発光量の
変化に伴う画質の低下を防ぐ。 【構成】 回転多面鏡1は透明な材料で作られ、各反射
面1bは半透過膜によって構成されている。光センサ3
は回転多面鏡1の内部に組込まれており、半透過膜の透
過光を検出する。半導体レーザ4は光センサ3の出力に
基づいてその発光量を調節する発光量調節装置を有し、
各反射面が塵等によって汚染されて反射率が低下したと
き、あるいは半導体レーザ自体の発光量が変化したとき
にその発光量を調節し、画質の低下を防ぐ。
変化に伴う画質の低下を防ぐ。 【構成】 回転多面鏡1は透明な材料で作られ、各反射
面1bは半透過膜によって構成されている。光センサ3
は回転多面鏡1の内部に組込まれており、半透過膜の透
過光を検出する。半導体レーザ4は光センサ3の出力に
基づいてその発光量を調節する発光量調節装置を有し、
各反射面が塵等によって汚染されて反射率が低下したと
き、あるいは半導体レーザ自体の発光量が変化したとき
にその発光量を調節し、画質の低下を防ぐ。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、レーザプリンタやレー
ザファクシミリ等に用いられる電子写真装置に関するも
のである。
ザファクシミリ等に用いられる電子写真装置に関するも
のである。
【0002】
【従来の技術】レーザプリンタやレーザファクシミリ等
に用いられる電子写真装置においては、図5に示すよう
に、半導体レーザSから発生されたレーザ光L1 を図示
しないコリメータレンズによって平行化したうえでシリ
ンドリカルレンズCによって線状に集光し、回転多面鏡
101の外周面の各鏡面101aに照射する。回転多面
鏡101の回転によって偏向されたレーザ光L2 は結像
レンズFおよび折返しミラーMを経て回転ドラムD上の
感光体に結像され、回転多面鏡101の回転による主走
査および回転ドラムDの回転による副走査によって静電
潜像を形成する。また、回転多面鏡101によって偏向
されたレーザ光L2 の一部は検出ミラーNによって光フ
ァイバGの受光端に反射され、書込み開始信号として半
導体レーザSに入力される。なお、回転多面鏡101、
結像レンズF、折返しミラーM、検出ミラーN、光ファ
イバG等は光学箱E内に収容され、半導体レーザSは光
学箱Eの一側壁に装着される。また、光学箱Eの底壁に
は折返しミラーMから回転ドラムDに向って反射される
レーザ光L3 の取出窓Wが設けられている。
に用いられる電子写真装置においては、図5に示すよう
に、半導体レーザSから発生されたレーザ光L1 を図示
しないコリメータレンズによって平行化したうえでシリ
ンドリカルレンズCによって線状に集光し、回転多面鏡
101の外周面の各鏡面101aに照射する。回転多面
鏡101の回転によって偏向されたレーザ光L2 は結像
レンズFおよび折返しミラーMを経て回転ドラムD上の
感光体に結像され、回転多面鏡101の回転による主走
査および回転ドラムDの回転による副走査によって静電
潜像を形成する。また、回転多面鏡101によって偏向
されたレーザ光L2 の一部は検出ミラーNによって光フ
ァイバGの受光端に反射され、書込み開始信号として半
導体レーザSに入力される。なお、回転多面鏡101、
結像レンズF、折返しミラーM、検出ミラーN、光ファ
イバG等は光学箱E内に収容され、半導体レーザSは光
学箱Eの一側壁に装着される。また、光学箱Eの底壁に
は折返しミラーMから回転ドラムDに向って反射される
レーザ光L3 の取出窓Wが設けられている。
【0003】回転多面鏡101を回転させる駆動系は、
図6に示すように、軸受105に支承された軸103と
一体であるロータ104と、軸受105のハウジング1
05aに固定されたステータ106からなり、ロータ1
04とステータ106は回転多面鏡101を回転駆動す
るモータを構成している。すなわち、ロータ104のマ
グネット104aとステータ106のコイル106aが
対向して配設され、回転多面鏡101は板バネ102に
よってロータ104に押圧されてこれと一体的に結合さ
れ、ステータ106のコイル106aに、これを搭載し
た基板107上の図示しない駆動回路から電流が供給さ
れると、軸103とロータ104と回転多面鏡101が
一体となって回転する。
図6に示すように、軸受105に支承された軸103と
一体であるロータ104と、軸受105のハウジング1
05aに固定されたステータ106からなり、ロータ1
04とステータ106は回転多面鏡101を回転駆動す
るモータを構成している。すなわち、ロータ104のマ
グネット104aとステータ106のコイル106aが
対向して配設され、回転多面鏡101は板バネ102に
よってロータ104に押圧されてこれと一体的に結合さ
れ、ステータ106のコイル106aに、これを搭載し
た基板107上の図示しない駆動回路から電流が供給さ
れると、軸103とロータ104と回転多面鏡101が
一体となって回転する。
【0004】また、半導体レーザSは、回転ドラムDの
感光体に結像するレーザ光すなわち露光光の必要光量に
応じてレーザ光L1 の発光量を調節するための光量調節
装置を有する。
感光体に結像するレーザ光すなわち露光光の必要光量に
応じてレーザ光L1 の発光量を調節するための光量調節
装置を有する。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら上記従来
の技術によれば、回転多面鏡の各鏡面に空気中の塵など
が付着して反射率が低下したときにこれを検知する手段
が設けられておらず、従って、鏡面の汚染等によって露
光光の光量すなわち感光体の露光量が変化して電子写真
装置の画質が低下するのを避けることができない。
の技術によれば、回転多面鏡の各鏡面に空気中の塵など
が付着して反射率が低下したときにこれを検知する手段
が設けられておらず、従って、鏡面の汚染等によって露
光光の光量すなわち感光体の露光量が変化して電子写真
装置の画質が低下するのを避けることができない。
【0006】また、回転多面鏡の鏡面が著しく汚染され
たときは、回転多面鏡全体を新しいものと交換するのが
一般的であり、交換頻度を少なくするために、回転多面
鏡の鏡面の汚染を防ぐカバーを設けるなどの工夫がなさ
れているが、装置の大型化を招きかつ回転多面鏡の交換
作業も繁雑であるため好ましくない。
たときは、回転多面鏡全体を新しいものと交換するのが
一般的であり、交換頻度を少なくするために、回転多面
鏡の鏡面の汚染を防ぐカバーを設けるなどの工夫がなさ
れているが、装置の大型化を招きかつ回転多面鏡の交換
作業も繁雑であるため好ましくない。
【0007】本発明は上記従来の技術の有する問題点に
鑑みてなされたものであり、回転多面鏡の鏡面の汚染や
半導体レーザの発光量の変化に起因する画質の低下を防
ぐことができる電子写真装置を提供することを目的とす
るものである。
鑑みてなされたものであり、回転多面鏡の鏡面の汚染や
半導体レーザの発光量の変化に起因する画質の低下を防
ぐことができる電子写真装置を提供することを目的とす
るものである。
【0008】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
め本発明の電子写真装置は、外周面に少なくとも1個の
反射面を有する回転多面鏡と、前記反射面に照明光を照
射する光源と、前記反射面の反射光によって露光される
感光体と、前記反射光の光量を検出する検出手段を有す
ることを特徴とする。
め本発明の電子写真装置は、外周面に少なくとも1個の
反射面を有する回転多面鏡と、前記反射面に照明光を照
射する光源と、前記反射面の反射光によって露光される
感光体と、前記反射光の光量を検出する検出手段を有す
ることを特徴とする。
【0009】反射面が半透過膜であり、検出手段が、前
記反射面に照射された照明光のうちでこれを透過したも
のを検出する光センサを有しその出力に基づいて反射光
の光量を検出するように構成されているとよい。
記反射面に照射された照明光のうちでこれを透過したも
のを検出する光センサを有しその出力に基づいて反射光
の光量を検出するように構成されているとよい。
【0010】また、光センサが回転多面鏡に組込まれて
いるとよい。
いるとよい。
【0011】また、光源が、検出手段の出力に基づいて
発光量を調節する発光量調節装置を備えているとよい。
発光量を調節する発光量調節装置を備えているとよい。
【0012】また、反射面を清浄化する清浄化手段を有
するとよい。
するとよい。
【0013】
【作用】回転多面鏡の反射面に照射された照明光の反射
光の光量を検出手段によって検出し、その出力に基づい
て感光体の露光量を検知し、光源の発光量を調節した
り、前記反射面を清浄化することで、前記反射面の汚染
や光源の発光量の変化に起因する画質の低下を防ぐこと
ができる。
光の光量を検出手段によって検出し、その出力に基づい
て感光体の露光量を検知し、光源の発光量を調節した
り、前記反射面を清浄化することで、前記反射面の汚染
や光源の発光量の変化に起因する画質の低下を防ぐこと
ができる。
【0014】反射面が半透過膜であり、検出手段が、前
記反射面に照射された照明光のうちでこれを透過したも
のを検出する光センサを有しその出力に基づいて反射光
の光量を検出するように構成されていれば、反射面の反
射光の光量を高精度で検出できる。また、光センサが回
転多面鏡に組込まれていれば、検出手段を設置する新た
なスペースを必要としないため、装置の大型化や複雑化
を避けることができる。また、光源が、検出手段の出力
に基づいて発光量を調節する発光量調節装置を備えてい
れば、検出手段の出力に基づいて光源の発光量を自動的
に調節して画質の低下を防ぐことができる。反射面を清
浄化する清浄化手段を有すれば、反射面が汚染したとき
にこれを清浄化手段によって清浄化することで感光体の
露光量の変化を防止できる。
記反射面に照射された照明光のうちでこれを透過したも
のを検出する光センサを有しその出力に基づいて反射光
の光量を検出するように構成されていれば、反射面の反
射光の光量を高精度で検出できる。また、光センサが回
転多面鏡に組込まれていれば、検出手段を設置する新た
なスペースを必要としないため、装置の大型化や複雑化
を避けることができる。また、光源が、検出手段の出力
に基づいて発光量を調節する発光量調節装置を備えてい
れば、検出手段の出力に基づいて光源の発光量を自動的
に調節して画質の低下を防ぐことができる。反射面を清
浄化する清浄化手段を有すれば、反射面が汚染したとき
にこれを清浄化手段によって清浄化することで感光体の
露光量の変化を防止できる。
【0015】
【実施例】本発明の実施例を図面に基づいて説明する。
【0016】図1は一実施例の主要部を説明する説明図
であって、これは透明な材料で作られた正六角柱状の本
体1aを有し、その外周面に6個の反射面1bを備えて
いる回転多面鏡1と、これと一体的に結合された軸2
と、回転多面鏡1の本体1aの内部に組込まれた光セン
サ3と、回転多面鏡1の外周面に照明光であるレーザ光
Lを照射する光源である半導体レーザ4を有し、回転多
面鏡1の各反射面1bは、これに照射された光の一部を
透過させ残りを反射させる半透過膜によって構成されて
おり、光センサ3は、6個の反射面1bのうちの1つを
透過した透過光を受光しその光量を検出するように配設
されている。また、半導体レーザ4は、光センサ3の出
力に基づいて反射面1bの反射光の光量を検出する検出
手段とその出力に基づいて半導体レーザ4の発光量を制
御する図示しない発光量調節装置を備えている。
であって、これは透明な材料で作られた正六角柱状の本
体1aを有し、その外周面に6個の反射面1bを備えて
いる回転多面鏡1と、これと一体的に結合された軸2
と、回転多面鏡1の本体1aの内部に組込まれた光セン
サ3と、回転多面鏡1の外周面に照明光であるレーザ光
Lを照射する光源である半導体レーザ4を有し、回転多
面鏡1の各反射面1bは、これに照射された光の一部を
透過させ残りを反射させる半透過膜によって構成されて
おり、光センサ3は、6個の反射面1bのうちの1つを
透過した透過光を受光しその光量を検出するように配設
されている。また、半導体レーザ4は、光センサ3の出
力に基づいて反射面1bの反射光の光量を検出する検出
手段とその出力に基づいて半導体レーザ4の発光量を制
御する図示しない発光量調節装置を備えている。
【0017】回転多面鏡1は、軸2と一体化された図示
しないロータと、回転多面鏡1や半導体レーザ4を支持
する図示しない筐体と一体である基板上のステータから
なるモータによって回転され、前記筐体は図示しない結
像レンズ系、反射ミラー、光ファイバ、折返しミラー等
を支持する。
しないロータと、回転多面鏡1や半導体レーザ4を支持
する図示しない筐体と一体である基板上のステータから
なるモータによって回転され、前記筐体は図示しない結
像レンズ系、反射ミラー、光ファイバ、折返しミラー等
を支持する。
【0018】半導体レーザ4から発せられたレーザ光L
の一部分は各反射面1bを透過し残りは回転多面鏡1の
回転によって偏向走査され、前述の結像レンズ系や折返
しミラーを経て図示しない回転ドラムの感光体に結像し
これを露光する。
の一部分は各反射面1bを透過し残りは回転多面鏡1の
回転によって偏向走査され、前述の結像レンズ系や折返
しミラーを経て図示しない回転ドラムの感光体に結像し
これを露光する。
【0019】回転多面鏡1の回転速度は毎分1万数千回
に達し、極めて高速度であるために、周囲の空気との間
の摩擦が大きく、空気中の塵等が各反射面1bに付着し
て反射率が低下する。このような回転多面鏡1の各反射
面1bの反射率の低下や半導体レーザ4自体の発光量の
変化は、各反射面1bによる反射光の光量を変化させ、
その結果、感光体の露光量が変化して画質が低下する。
そこで、各反射面1bの反射光の光量を光センサ3によ
って検出される透過光の光量に基づいて検知し、前述の
発光量調節装置を制御することで半導体レーザ4の発光
量を調節し、感光体の露光量の変化を補償し、安定した
高画質を実現する。
に達し、極めて高速度であるために、周囲の空気との間
の摩擦が大きく、空気中の塵等が各反射面1bに付着し
て反射率が低下する。このような回転多面鏡1の各反射
面1bの反射率の低下や半導体レーザ4自体の発光量の
変化は、各反射面1bによる反射光の光量を変化させ、
その結果、感光体の露光量が変化して画質が低下する。
そこで、各反射面1bの反射光の光量を光センサ3によ
って検出される透過光の光量に基づいて検知し、前述の
発光量調節装置を制御することで半導体レーザ4の発光
量を調節し、感光体の露光量の変化を補償し、安定した
高画質を実現する。
【0020】図2は、光センサ3の出力に基づいて半導
体レーザ4の発光量を制御することで感光体の露光量を
適正に制御する工程を説明するもので、ステップS1で
半導体レーザ4の発光を開始し、ステップS2で光セン
サ3の出力に基づいて反射光の光量を検出し、これに基
づいて感光体の露光量を検知し、ステップS3で露光量
が予め記憶された基準値に対して例えば±10%の誤差
の範囲内の適正値であるか否かを判別し、適正値であれ
ば、ステップS4で電子写真装置によるコピー等の画像
形成サイクルを開始する。前記露光量が適正値でないと
きはステップS5で適正値より大であるか小であるか判
別し、適正値より大であれば、ステップS6で半導体レ
ーザ4の発光量を削減し、適正値より小であればステッ
プS7で半導体レーザ4の発光量を増加させてステップ
S1にもどる。
体レーザ4の発光量を制御することで感光体の露光量を
適正に制御する工程を説明するもので、ステップS1で
半導体レーザ4の発光を開始し、ステップS2で光セン
サ3の出力に基づいて反射光の光量を検出し、これに基
づいて感光体の露光量を検知し、ステップS3で露光量
が予め記憶された基準値に対して例えば±10%の誤差
の範囲内の適正値であるか否かを判別し、適正値であれ
ば、ステップS4で電子写真装置によるコピー等の画像
形成サイクルを開始する。前記露光量が適正値でないと
きはステップS5で適正値より大であるか小であるか判
別し、適正値より大であれば、ステップS6で半導体レ
ーザ4の発光量を削減し、適正値より小であればステッ
プS7で半導体レーザ4の発光量を増加させてステップ
S1にもどる。
【0021】本実施例は、回転多面鏡の各反射面を透過
するレーザ光の光量を回転多面鏡に組込まれた光センサ
によって検出することで各反射面の汚染等による反射率
の低下や半導体レーザの発光量の変化を検知するもので
あるため、回転ドラムの感光体の露光量の変化を迅速か
つ正確に検知して半導体レーザの発光量を調節し、前記
露光量を適正値に維持することができる。従って、回転
多面鏡の各反射面が汚染してもあるいは半導体レーザの
発光量が変化しても、これによって画像の濃度が変化す
るおそれはない。その結果、安定した精度の高い画像を
得ることができる。
するレーザ光の光量を回転多面鏡に組込まれた光センサ
によって検出することで各反射面の汚染等による反射率
の低下や半導体レーザの発光量の変化を検知するもので
あるため、回転ドラムの感光体の露光量の変化を迅速か
つ正確に検知して半導体レーザの発光量を調節し、前記
露光量を適正値に維持することができる。従って、回転
多面鏡の各反射面が汚染してもあるいは半導体レーザの
発光量が変化しても、これによって画像の濃度が変化す
るおそれはない。その結果、安定した精度の高い画像を
得ることができる。
【0022】また、光センサ3の出力によって回転多面
鏡1の反射光の光量の低下が検出されたとき、これが主
に回転多面鏡1の各反射面1bの汚染に起因するもので
あると判断された場合は、前述のように半導体レーザ4
の発光量を調節する替わりに、図3に示すような清浄化
手段であるワイパ5を用いて回転多面鏡1の各反射面1
bを清浄化するのが望ましい。
鏡1の反射光の光量の低下が検出されたとき、これが主
に回転多面鏡1の各反射面1bの汚染に起因するもので
あると判断された場合は、前述のように半導体レーザ4
の発光量を調節する替わりに、図3に示すような清浄化
手段であるワイパ5を用いて回転多面鏡1の各反射面1
bを清浄化するのが望ましい。
【0023】ワイパ5は、アーム5aに保持された清掃
パッド5bからなり、清掃パッド5bは、回転多面鏡1
の各反射面1bの周方向の幅と同じかわずかに広い幅を
有し、手動または図示しないロボットによって、図4に
示すように、各反射面1bに当接して回転多面鏡1の軸
方向へ摺動させることで各反射面1bに付着した塵等を
除去する。
パッド5bからなり、清掃パッド5bは、回転多面鏡1
の各反射面1bの周方向の幅と同じかわずかに広い幅を
有し、手動または図示しないロボットによって、図4に
示すように、各反射面1bに当接して回転多面鏡1の軸
方向へ摺動させることで各反射面1bに付着した塵等を
除去する。
【0024】なお、ワイパ5による各反射面1bの清浄
化は、光センサ3によって各反射面1bの汚染が検知さ
れたときのみに限ることなく、例えば、電子写真装置の
始動前に定常的に行えば、電子写真装置の信頼性が向上
し、高効率化に役立つことは言うまでもない。
化は、光センサ3によって各反射面1bの汚染が検知さ
れたときのみに限ることなく、例えば、電子写真装置の
始動前に定常的に行えば、電子写真装置の信頼性が向上
し、高効率化に役立つことは言うまでもない。
【0025】また、光センサ3は回転多面鏡1内に組込
まれており、光センサ3を設置するための新たなスペー
スを必要としないため、装置が大型化したり複雑化する
おそれはない。
まれており、光センサ3を設置するための新たなスペー
スを必要としないため、装置が大型化したり複雑化する
おそれはない。
【0026】さらに、光センサ3を複数設けて、それぞ
れ、回転多面鏡1の6個の反射面1bのうちのいくつか
あるいは全部の汚染を個別に検知するように構成するこ
ともできる。
れ、回転多面鏡1の6個の反射面1bのうちのいくつか
あるいは全部の汚染を個別に検知するように構成するこ
ともできる。
【0027】
【発明の効果】本発明は上述のように構成されているの
で、以下に記載するような効果を奏する。
で、以下に記載するような効果を奏する。
【0028】回転多面鏡の反射面の汚染や半導体レーザ
の発光量の変化に起因する感光体の発光量の変化を防
ぎ、安定した高画質を実現できる。
の発光量の変化に起因する感光体の発光量の変化を防
ぎ、安定した高画質を実現できる。
【0029】また、前記反射面による反射光の光量を検
出するための光センサを回転多面鏡に組込むことによっ
て、小型で簡単な電子写真装置を実現できる。
出するための光センサを回転多面鏡に組込むことによっ
て、小型で簡単な電子写真装置を実現できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】一実施例の主要部を示す模式図である。
【図2】露光光の光量を検出して半導体レーザの発光量
を調節する工程を示すシーケンス図である。
を調節する工程を示すシーケンス図である。
【図3】回転多面鏡の反射面を清浄化するワイパを示す
平面図である。
平面図である。
【図4】図3のワイパの操作を説明するもので、それぞ
れ、(a)はワイパを回転多面鏡の反射面に当接する直
前の状態、(b)はワイパを回転多面鏡の反射面の上端
に当接した状態、(c)はワイパを回転多面鏡の軸方向
に摺動させた状態を示す断面図である。
れ、(a)はワイパを回転多面鏡の反射面に当接する直
前の状態、(b)はワイパを回転多面鏡の反射面の上端
に当接した状態、(c)はワイパを回転多面鏡の軸方向
に摺動させた状態を示す断面図である。
【図5】電子写真装置の全体を説明する説明図である。
【図6】図5の回転多面鏡の駆動部を示す断面図であ
る。
る。
1 回転多面鏡 1b 反射面 2 軸 3 光センサ 4 半導体レーザ 5 ワイパ
Claims (5)
- 【請求項1】 外周面に少なくとも1個の反射面を有す
る回転多面鏡と、前記反射面に照明光を照射する光源
と、前記反射面の反射光によって露光される感光体と、
前記反射光の光量を検出する検出手段を有する電子写真
装置。 - 【請求項2】 反射面が半透過膜であり、検出手段が、
前記反射面に照射された照明光のうちでこれを透過した
ものを検出する光センサを有しその出力に基づいて反射
光の光量を検出するように構成されていることを特徴と
する請求項1記載の電子写真装置。 - 【請求項3】 光センサが回転多面鏡に組込まれている
ことを特徴とする請求項2記載の電子写真装置。 - 【請求項4】 光源が、検出手段の出力に基づいて発光
量を調節する発光量調節装置を備えていることを特徴と
する請求項1ないし3いずれか1項記載の電子写真装
置。 - 【請求項5】 反射面を清浄化する清浄化手段を有する
ことを特徴とする請求項1ないし4いずれか1項記載の
電子写真装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3645794A JPH07218854A (ja) | 1994-02-09 | 1994-02-09 | 電子写真装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3645794A JPH07218854A (ja) | 1994-02-09 | 1994-02-09 | 電子写真装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07218854A true JPH07218854A (ja) | 1995-08-18 |
Family
ID=12470357
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3645794A Pending JPH07218854A (ja) | 1994-02-09 | 1994-02-09 | 電子写真装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07218854A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6297839B1 (en) * | 1999-04-01 | 2001-10-02 | Toshiba Tec Kabushiki Kaisha | Light beam scanner unit and image forming apparatus with adjustment for contamination |
| US6344866B1 (en) | 1999-04-01 | 2002-02-05 | Toshiba Tec Kabushiki Kaisha | Light beam scanner unit with passing position and power control and image forming apparatus |
| CN110658707A (zh) * | 2018-06-28 | 2020-01-07 | 柯尼卡美能达株式会社 | 图像形成装置 |
-
1994
- 1994-02-09 JP JP3645794A patent/JPH07218854A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6297839B1 (en) * | 1999-04-01 | 2001-10-02 | Toshiba Tec Kabushiki Kaisha | Light beam scanner unit and image forming apparatus with adjustment for contamination |
| US6344866B1 (en) | 1999-04-01 | 2002-02-05 | Toshiba Tec Kabushiki Kaisha | Light beam scanner unit with passing position and power control and image forming apparatus |
| CN110658707A (zh) * | 2018-06-28 | 2020-01-07 | 柯尼卡美能达株式会社 | 图像形成装置 |
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