JPH07220514A - 光拡散板の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】高い正面輝度、光学性能に優れた光拡散板の製
造方法を提供する。 【構成】支持体上に光重合速度の異なる光重合性透明樹
脂層を光重合速度の大きい順に積層して２層以上の多層
構造の光硬化性層を設け、次いで、規則的な配置、間隔
を有するネガマスクパターンを介して光重合速度の低い
光重合性樹脂層側から露光、硬化し、未硬化部分を現像
により除去して微細な多数の凹凸を形成する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、ディスプレイや照明カ
バーなどに用いられる光拡散板の製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】光拡散板は、点光源あるいは線状光源の
光の拡散、出射角度の調整などにより、均一で正面輝度
が高い面照明を得る為に、液晶ディスプレイのバックラ
イトユニット、透過型スクリーン、照明装置のカバーな
どに用いられるものである。従来、上記の光拡散板は、
光学的に透明な熱可塑性樹脂押し出しフィルムもしくは
シートの表面に、砂ずり、ホーニング処理、エンボスロ
ール加工、表面に微細な凹凸加工が施された金型をもち
いるプレス成形などにより、多数の微細で規則的なある
いはランダムな凹凸を形成することにより製造されてい
る。

【０００３】また、上記熱可塑性樹脂押し出しフィルム
もしくはシートとしては、例えば、二酸化チタン、二酸
化珪素、酸化アルミニウム等の金属酸化物；雲母の様な
鉱物；アルミニウム粉、錫粉、金粉、銀粉等の金属粉な
どの光拡散性物質を均一に混合分散させたものも用いら
れている。

【０００４】上記規則的な凹凸を有する光拡散板に関し
ては、例えば、プリズム形状を有する拡散板を用いて光
線方向を調整する方法が、特開昭６１−５７９０２号公
報、特開昭６１−１５１０４号公報に開示されている。

【０００５】上記の光拡散板の微細な凹凸を作成する方
法としては、例えば、熱で軟化した樹脂をエンボスロー
ルで加圧加工する方法が、特開昭５６−１５７３１９号
公報、特開平１−３１６７０３号公報などに開示されて
いる。また、光または熱硬化性樹脂を表面に微細な凹凸
加工が施された金型に押し当て硬化する方法が、特開昭
６３−８２４０１号公報、特開平２−１９３１０２号公
報に開示されている。

【０００６】上記のエンボスロール、金型を用いる方法
では、表面に微細な凹凸形状を付与し、高い正面輝度が
得られる光拡散板の製造には手数がかかっていた。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記欠点に
鑑みてなされたもので、その目的とするところは、高い
正面輝度、光学性能に優れた光拡散板の製造方法を提供
することにある。

【０００８】

【課題を解決するための手段】本発明で用いられる支持
体としては、化学的および熱的に安定な樹脂あるいはガ
ラスの板、シート、フィルムなどを用いることができる
が、塗工工程上特に、合成樹脂のフィルムが好適に用い
られ、上記の支持体として、例えば、ポリエチレンテレ
フタレートの様なポリエステル類；ポリエチレン、ポリ
プロピレン等のポリオレフィン類；ポリ塩化ビニル、ポ
リ塩化ビニリデン等のポリハロゲン化ビニル類；ポリア
ミド類；ポリカーボネート等の樹脂フィルムが挙げら
れ、特に２軸延伸ポリエチレンテレフタレートが好まし
い。

【０００９】上記支持体は、取り除くことなく光拡散板
とすることもでき、光硬化層の厚さが、充分に厚く且つ
光硬化によってシ−ト状にすることができる場合は、支
持体を取り除いて光拡散板とすることもできる。

【００１０】上記支持体には、支持体を除去せずに光拡
散板として使用する場合は、透明な支持体を用いる。そ
の際、光重合性透明樹脂層が設けられる面に放電処理な
どの易接着処理が加えられていてもよく、また、支持体
を除去して使用する場合は離型処理が施されていてもよ
い。

【００１１】本発明で用いられる光重合性透明樹脂層
は、光重合性を有し、現像によって未露光部を除去でき
るものであればよく、例えば、光重合性の不飽和化合
物、光重合開始剤および線状重合体からなるものが挙げ
られる。

【００１２】上記光重合性の不飽和化合物は、光重合開
始剤の光照射により重合反応を開始して硬化し得る、常
温で液体の光重合性単量体が好ましく、このような光重
合性単量体としては、多官能性（メタ）アクリレート、
単官能性（メタ）アクリレートなどがあげられる。

【００１３】上記多官能（メタ）アクリレートとして
は、例えば、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリ
レート、テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレ
ート、ノナエチレングリコールジ（メタ）アクリレー
ト、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、
トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、テ
トラプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ノ
ナプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリ
プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタ
エリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエ
リスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエ
リスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、トリメチロ
ールプロパントリ（メタ）アクリレート、２，２−ビス
〔４−（アクリロキシジエトキシ）フェニル〕プロパ
ン、２，２−ビス〔４−（メタクリロキシジエトキシ）
フェニル〕プロパン、３−フェノキシ−２−プロパノイ
ルアクリレート、１，６−ビス〔３−アクリロキシ−２
−ヒドロキシプロピル〕ヘキシルエーテル等があげられ
る。、

【００１４】上記単官能（メタ）アクリレートとして
は、例えば、メチル（メタ）アクリレート、ベンジル
（メタ）アクリレート等があげられる。

【００１５】上記以外の光重合性単量体としては、ウレ
タンやポリエステルのアクリレートオリゴマーなどがあ
げられる。

【００１６】上記光重合性の不飽和化合物は単独で用い
ても、２種以上を混合して用いても良い。

【００１７】上記線状重合体は、例えば、現像液にアル
カリ水溶液を用いる場合、アルカリ水溶液に可溶もしく
は膨潤するものであってあればよく、例えば、カルボキ
シル基を有するα，β−不飽和エチレン系単量体の重合
体とカルボキシル基を有さないα，β−不飽和エチレン
系単量体との共重合体から構成される。

【００１８】上記カルボキシル基を有するα、β−不飽
和エチレン系単量体としては、例えば、（メタ）アクリ
ル酸、クロトン酸、マレイン酸（無水物）、フマル酸、
イタコン酸等の不飽和カルボン酸類があげられる。

【００１９】また、カルボキシル基を有さないα，β−
不飽和エチレン系単量体としては、例えば、スチレン、
ｏ−メチルスチレン、ｍ−メチルスチレン、ｐ−メチル
スチレン、α−メチルスチレン、ｐ−エチルスチレン、
２，４−ジメチルスチレン、ｐ−ｎ−ヘキシルスチレ
ン、ｐ−ｎ−オクチルスチレン、ｐ−メトキシスチレ
ン、ｐ−フェニルスチレン、３，４−ジメチルクロルス
チレンなどのスチレン類；α−ビニルナフタレンの様な
ビニルナフタレン類；エチレン、プロピレン、ブチレン
またはＣ₅ 〜Ｃ₃₀及びそれ以上のα−オレフィン類；塩
化ビニル、臭化ビニル、弗化ビニルなどのハロゲン化ビ
ニル類；酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、酪酸ビニル
などのビニルエステル類；（メタ）アクリル酸メチル、
（メタ）アクリル酸プロピル、（メタ）アクリル酸ブチ
ル、（メタ）アクリル酸イチブチル、（メタ）アクリル
酸オクチル、（メタ）アクリル酸ラウリル、（メタ）ア
クリル酸−２−エチルヘキシル、（メタ）アクリル酸−
２−クロルエチル、α−クロル（メタ）アクリル酸メチ
ル、（メタ）アクリル酸フェニル、（メタ）アクリル酸
ジメチルアミノエチルなどの（メタ）アクリル酸エステ
ル類；ビニルメチルエーテル、ビニルエチルエーテルな
どのビニルエーテル類；ビニルメチルケトン、ビニルエ
チルケトンなどのビニルケトン類；Ｎ−ビニルピロー
ル、Ｎ−ビニルインドールなどのＮ−ビニル化合物；
（メタ）アクリロニトリル、（メタ）アクリル酸アミド
類があげられる。

【００２０】上記線状重合体の重量平均分子量は、小さ
くなると、いわゆるコールドフローをおこしやすくな
り、光重合性透明樹脂層を形成した後、ロール状に巻い
て保存すると、光重合性透明樹脂層にしわが入るため、
大きくなると、塗工する際、溶媒に溶解し難くなり、ま
た、塗工粘度も上がり塗工性が低下するため、２万〜３
０万が好ましく、より好ましくは５万〜２０万である。

【００２１】上記線状重合体の添加量が多くなると、現
像性が低下し、所望の凹凸を形成することが困難とな
り、少なくなると光重合性透明樹脂層のアルカリ水溶液
に対する溶解性が低下し、現像性が低下するため、光重
合性の不飽和化合物１００重量部に対して３０重量部〜
３００重量部用いることが好ましい。

【００２２】上記光重合開始剤としては、可視光線、紫
外線などの活性光線により前記光重合性の不飽和化合物
の重合開始させる性質を有するものであればよく、その
ような光重合開始剤としては、例えば、ソジウムメチル
ジオカーバメイトサルファイド、テトラメチルチウラム
モノサルファイド、ジフェニルモノサルファイド、ジベ
ンゾチアゾイルモノサルファイド及びジサルファイドな
どのサルファイド類；チオキサントン、２−エチルチオ
キサントン、２−クロロチオキサントン、２，４−ジエ
チルチオキサントンなどのチオキサントン誘導体；ヒド
ラゾン、アゾビスイソブチロニトリル、ベンゼンジアゾ
ニウムなどのジアゾ化合物；ベンゾイン、ベンゾインメ
チルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾイン
イソプロピルエ−テル、ベンゾフェノン、ジメチルアミ
ノベンゾフェノン、ミヒラーケトン、ベンジルアントラ
キノン、ｔ−ブチルアントラキノン、２−メチルアント
ラキノン、２−エチルアントラキノン、２−アミノアン
トラキノン、２−クロロアントラキノン、ベンジルジメ
チルケタール、メチルフェニルグリオキシレートなどの
芳香族カルボニル化合物；４−（２−ヒドロキシエトキ
シ）フェニル（２−ヒドロキシ−２−プロピル）ケト
ン、α−ヒドロキシ−α，α'−ジメチル−アセトフェ
ノン、２，２−ジエトキシアセトフェノン、２，２−ジ
メトキシアセトフェノンなどのアセトフェノン誘導体；
ｐ−ジメチルアミノ安息香酸メチル、ｐ−ジメチルアミ
ノ安息香酸エチル、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸ブチ
ル、ｐ−ジエチルアミノ安息香酸イソプロピルなどのジ
アルキルアミノ安息香酸エステル類；ベンゾイルパーオ
キサイド、ジ−ｔ−ブチルパーオキサイド、ジクミルパ
ーオキサイド、キュメンハイドロパーオキサイドなどの
過酸化物；９−フェニルアクリジン、９−ｐ−メトキシ
フェニルアクリジン、９−アセチルアミノアクリジン、
ベンズアクリジンなどのアクリジン誘導体；９，１０−
ジメチルベンズフェナジン、９−メチルベンズフェナジ
ン、１０−メトキシベンズフェナジンなどのフェナジン
誘導体；４，４’，４”−トリメトキシ−２，３−ジフ
ェニルキノサリンなどのキノサリン誘導体；２，４，５
−トリフェニルイミダゾイル２量体；ハロゲン化ケト
ン；アシルホスフィンオキシド、アシルホスフォナ−ト
などのアシル化リン化合物などがあげられる。

【００２３】上記光重合開始剤の添加量は、少なくなる
と、硬化時間がかかり、また、充分硬化しないで、凹凸
の形成性が低下し、多くなると、硬化した光重合性透明
樹脂層が黄変したり、もろくなったりするので、上記光
重合性の不飽和化合物に対して、０．０５〜１０重量部
が好ましい。

【００２４】本発明における光重合速度とは、光重合性
の不飽和化合物の光硬化反応速度を言い、該光硬化反応
速度は、光重合性透明樹脂層に添加される光重合開始剤
の添加量が多くなると、大きくなり、該添加量を少なく
なると小さくなる。

【００２５】本発明で用いられる最も光重合速度の小さ
い光重合性透明樹脂層の光重合速度に対する最も光重合
速度の大きい光重合性透明樹脂層の光重合速度の倍率
は、小さくなると支持体と光重合性透明樹脂層との接合
部の硬化が遅くなり、必要露光量が多なって、過露光と
なり、大きくなると、光重合開始剤量が多くなって、光
拡散板が黄変しやすくなるので、２〜２０倍が好まし
く、より好ましくは４〜１０倍であり、これらの中間の
光重合速度を有する光重合性透明樹脂層は、光重合開始
剤の添加量を調節し必要に応じて作成される。

【００２６】上記光重合性透明樹脂層には、ヒドロキノ
ン、ｐ−メトキシフェノール等の熱重合禁止剤；安定
剤；紫外線吸収剤；酸化防止剤；表面改質剤；脱泡剤な
どの添加物を加えてもよく、これらの添加物の添加量
は、少なくなると、効果がなく、多くなると光重合性透
明樹脂層が着色したり、光透過性が低下するので、光重
合性の不飽和化合物１００重量部に対して５〜０．０５
重量部添加することが好ましい。

【００２７】上記光重合性透明樹脂層には、光拡散性能
を向上させ、通常光拡散板の背面に配置される導光板に
形成された光散乱性ドットを隠蔽する目的で光散乱性の
粉体を加えてもよく、このような光散乱性粉末として
は、例えば、二価化チタン、二酸化珪素、酸化アルミニ
ウム等の金属酸化物、雲母の様な鉱物、アルミニウム
粉、錫粉、金粉、銀粉等の金属粉などの光散乱性物質と
して一般的に用いられるものが使用できる。

【００２８】上記光散乱性粉末の添加量は、多くなる
と、光透過性が悪くなり、光拡散板が脆くなり、少なく
なると、光散乱が局所的に起こり輝点を生じたり、光拡
散性能が低下するため、光重合性の不飽和化合物１００
重量部に対して１〜４００重量部が好ましく、より好ま
しくは１０〜３００重量部である。

【００２９】本発明で用いられる光重合性透明樹脂層を
形成するには、例えば、前記光重合性の不飽和化合物、
光重合開始剤および線状重合体を溶剤に混合し、一般的
に用いられる撹拌装置を用いて、撹拌して溶解し、塗工
液とし、ロールコート法、ドクターブレード法、バーコ
ート法などの公知の方法により塗布することができる
が、特にロールコート法が良好に用いられ、このように
して塗工し、必要に応じて、乾燥機を用いて溶媒を除去
し、形成される。

【００３０】上記光重合性透明樹脂層を形成するために
用いる溶剤としては、通常用いられる無色の有機溶剤が
使用でき、これらの有機溶剤としては、例えば、メチル
エチルケトン、トルエン、メチルイソブチルケトン、シ
クロヘキサノン、エチレングリコールモノメチルエーテ
ル（メチルセロソルブ）、エチレングリコールモノエチ
ルエーテル（エチルセロソルブ）、酢酸ブチル、イソプ
ロピルアルコール、アセトン、アニソール等が挙げら
れ、単独で使用してもよく、混合して使用してもよい

【００３１】本発明で用いられる光硬化層は、光重合性
透明樹脂層の光重合速度が大きいものから順次塗工し、
光重合速度の異なる光重合性透明樹脂層を２層、あるい
は３層以上の多層に積層し、形成する。光重合性透明樹
層上に、光重合性透明樹脂層を積層する方法としては、
光重合性透明樹脂層上に直接塗工する方法；別々の支持
体上に光重合性透明樹脂層を上記と同様の方法で形成
し、光重合性透明樹脂層が互いに接する様に重ね合わ
せ、一定圧力下で気泡などが入らぬよう積層し、次い
で、光重合速度のより小さい光重合性透明樹脂層の設け
られている支持体を剥離し、転写する方法などが挙げら
れる。

【００３２】上記の光重合性透明樹脂層を転写する方法
では、積層は、できる限り低温、低圧で行うことが好ま
しく、温度は１０〜３０℃、圧力は３ｋｇ／ｃｍ² 以下
であることが好ましい。

【００３３】上記光硬化層の厚さは、薄くなると、凹凸
の形成性が低下し、厚くなると液晶表示板に用いる際に
表示板自体の厚みが増すため、光重合速度の異なる各光
重合性透明樹脂層の厚みは３〜２００μｍが好ましく、
５〜５００μｍが好ましい。

【００３４】上記光硬化層には、酸素などによる光硬化
反応の阻害を防ぐと共に、ネガマスクの汚染を防ぐ目的
で、保護層を積層することが好ましく、保護層は、ポリ
エチレンテレフタレート、延伸ポリプロピレン等の、実
質的に光に透明なフィルムをラミネートしたり、ポリビ
ニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ポリアクリル
酸、ポリアクリルアミド等の現像液に可溶な樹脂の希薄
溶液を塗工し、乾燥することにより設けられ、上記保護
層の厚さは、厚くなると、光の回折あるいは散乱、反射
等により、凹凸の形成性が低下することので、５０μｍ
以下であることが好ましい。

【００３５】上記保護層として樹脂フィルムをラミネー
トしたものはその保護層を取り除いて現像し、保護層と
して現像液に可溶な樹脂溶液を塗工し形成したものは、
現像液を吹き付け、保護層を除去しながら現像する。

【００３６】本発明で用いられる微細な凹凸は、凹凸同
志の間隔が大きくなると、光拡散板を液晶表示板上で用
いたときに凹凸が、視認されて画質が低下するため、５
００μｍ以下であることが好ましい。

【００３７】上記凹凸の形状は、該凹凸の深さもしくは
高さ方向の断面が略三角形であるものが好ましく、例え
ば、三角錘、四角錐の凸形状、三角錘、四角錐の凹形
状、連続プリズム状の凸形状が挙げられる。

【００３８】上記連続プリズム状、錐状の凸では、下記
の式で算出される斜面率（Ｓ）が高い程、また、頂角
（α）が９０゜に近い程正面輝度は高くなるので、Ｓが
０．３以上、αが３０〜１５０゜のものがより好適に用
いられる。

【００３９】Ｓ＝Ａ／Ｌ

【００４０】〔式（１）中、Ｌは、連続プリズム状の凸
では、光拡散板に対し垂直で且つ連続プリズム状の凸の
長手方向に対し垂直な面と該凸の外面との交線の長さで
あり、Ａは、そのうちの斜面部の直線の長さを表し、錘
状の凸では、光拡散板に対し垂直で且つ頂点を含む面と
該錘状の凸の外面との交線の長さであり、Ａは、そのう
ちの斜面部の直線の長さを表す。〕

【００４１】上記凸は、上部や底部付近で曲面を有する
ものであってもよい。

【００４２】上記の微細な凹凸の形成は、前記光硬化層
を規則的な配置あるいは間隔を有するパターン状の光学
密度分布を有するネガマスクを通して紫外線などの活性
光線で露光し、光硬化層を対応するパタ−ン状に硬化
し、現像液を吹き付け、未硬化部分を現像液により洗い
流し、溶解しない硬化部分を支持体に残すことによって
おこなわれる。

【００４３】上記露光光源としては、活性光線を発生す
るものであればよく、紫外線を発する（超）高圧水銀ラ
ンプ、水銀キセノンランプ等が好ましく用いられる。

【００４４】上記ネガマスクとしては、例えば、光透過
部が格子、円、点、線などのパタ−ンとされ、該パタ−
ンが規則的またはランダムに配置され、活性光線の強度
を上記パターン状に変換するものであればよく、このよ
うな活性光線の強度をパターン状に変換する物として
は、例えば、ネガフィルム、クロム乾板、微細なスリッ
トを有する金属板などが挙げられる。

【００４５】上記現像液は、未硬化の光重合性透明樹脂
層を溶かし得るものであれば特に限定されるものではな
いが、例えば、０．５〜５重量％の濃度の炭酸ナトリウ
ム水溶液が好適に用いられ、現像に用いられる現像装置
も特に制限はなく、公知のものが使用可能である。

【００４６】

【実施例】次に、本発明の実施例を説明する。尚、以下
「部」とあるのは「重量部」を意味する。

【００４７】（実施例１） （光重合速度の大きい光重合性透明樹脂層の塗工液の調
製）重量平均分子量１０万のメチルメタクリレート／ブ
チルメタクリレート／２ーエチルヘキシルアクリレート
／メタクリル酸共重合体（重量比３１：３１：１３：２
５）１００部、ウレタンアクリレ−トオリゴマ−（新中
村化学製；ＰＵ−４０００）２０部、トリメチロ−ルプ
ロパントリアクリレ−ト（新中村化学製；Ａ−ＴＭＰ
Ｔ）８０部、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセト
フェノン（チバガイギー製；イルガキュアー６５１）６
部を３００部のメチルエチルケトンに溶解させ、光重合
速度の大きい光重合性透明樹脂層の塗工液を調製した。

【００４８】（光重合速度の小さい光重合性透明樹脂層
塗工液の調製）上記の２，２−ジメトキシ−２−フェニ
ルアセトフェノンを６部から０．８部とした以外は上記
と同様にして光重合速度の小さい光重合性透明樹脂層の
塗工液を調製した。）

【００４９】（光硬化層の形成）支持体として厚さ１０
０μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（帝人
製）に、上記の光重合速度の大きい光重合性透明樹脂層
の塗工液をロールコート法で塗工し、５０℃で１分、そ
の後更に、１００℃で１分間乾燥した後、厚さ８０μｍ
の光重合性透明樹脂層を設けた。

【００５０】支持体として厚さ１００μｍの離型処理を
施されたポリエチレンテレフタレートフィルム（帝人
製）の離型処理面に上記光重合速度の小さい光重合性透
明樹脂層の塗工液を、離型面上にロールコート法で塗工
し、５０℃で１分、その後更に、１００℃で１分間乾燥
した後、厚さ８０μｍの光重合性透明樹脂層を設けた。

【００５１】上記光重合速度の大きい光重合性透明樹脂
層と光重合速度の小さい光重合性透明樹脂層が接するよ
うに重ね合わせ、室温下でラミネーターを用い、プレス
圧２ｋｇ／ｃｍ² 、ライン速度０．８ｍ／分で均一にラ
ミネートし、光重合速度の小さい光重合性透明樹脂層が
設けられている支持体を剥離除去し、光重合速度の小さ
い光重合性透明樹脂層を転写し、その上に、保護層とし
て厚さが６μｍのポリエチレンテレフタレ−トフィルム
（帝人製）を上記のラミネートと同じ条件で張り合わせ
て、保護層／光硬化層（光重合速度の小さい光重合性透
明樹脂層／光重合速度の大きい光重合性透明樹脂層／支
持体の層構成の積層体を得た。

【００５２】（凸の形成）上記積層体の保護層に接し
て、ガラス板上にクロムメッキして得られた幅３０μｍ
の直線マスク部と、幅３０μｍの直線光透過部が交互に
並んだ模様を有するネガマスクを重ね合わせ、これを介
して水銀キセノンランプにより照射量６０および１２０
ｍＪ／ｃｍ² で露光し、光透過部を硬化し、次いで、保
護層を剥離し、２５℃で、１重量％炭酸ナトリウム水溶
液を用いて、吐出圧１．５ｋｇ／ｃｍ ² で５分間スプレ
ー現像し、未硬化部を溶解除去して凹凸を形成し、光拡
散板を作製した。

【００５３】（実施例２）実施例１の光重合速度の大き
い光重合性透明樹脂層の塗工液を作製するのに、２，２
−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン６部を１．
６部とし、凹凸を形成するための照射量を１４０ｍＪ／
ｃｍ² とした以外は、実施例１と同様にして光拡散板を
作製した。

【００５４】（比較例１）実施例１の光重合速度の小さ
い光重合性透明樹脂層のみからなる光硬化層を用い、凸
を形成するのに照射量を、１２０，１８０，２５０ｍＪ
／ｃｍ² とした以外は実施例１と同一にして光拡散板を
作製した。

【００５５】（比較例２）光拡散板を用いず液晶表示板
のみを使用して、正面輝度を測定した。

【００５６】実施例１、２および比較例１で得られた光
拡散板を液晶表示板用バックライト上に載せ、正面輝度
を測定した結果を表１に示した。正面輝度は、冷陰極管
が１灯設置された液晶表示用バックライトモジュールの
導光板上に、光拡散板を連続突起の連続方向が冷陰極管
の長手方向と平行になるように配置し、輝度計（ミノル
タ製；ＬＳ−１００）を距離３０ｃｍに設置し、測定し
た。

【００５７】また、実施例１、２および比較例１で得ら
れた光拡散板の凸の斜面率および頂角を走査型電子顕微
鏡写真（日立製；Ｓ−２３００型）から測定し表１に示
した。

【００５８】

【表１】

【００５９】

【発明の効果】本発明の光拡散板の製造方法は、上述の
通り、支持体に光重合速度の異なる光重合性透明樹脂層
を光重合速度の大きいものから順次積層し、光重合速度
の小さい光重合性透明樹脂層側から露光し、現像して凸
部が形成されるので、少ない露光量でも正面輝度の高い
光拡散板を製造でき、さらに支持体とともに光拡散板と
して用いる場合にも凸の剥離が防止され、液晶表示用、
照明カバ−用として使用できる。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】支持体上に光重合速度の異なる光重合性透
   明樹脂層を光重合速度の大きい順に積層して２層以上の
   多層構造の光硬化性層を設け、次いで、規則的な配置、
   間隔を有するネガマスクパターンを介して光重合速度の
   低い光重合性樹脂層側から露光、硬化し、未硬化部分を
   現像により除去して凹凸を形成することを特徴とする光
   拡散板の製造方法