JPH0722117B2 - 荷電粒子ビーム描画方法 - Google Patents
荷電粒子ビーム描画方法Info
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- JPH0722117B2 JPH0722117B2 JP2055955A JP5595590A JPH0722117B2 JP H0722117 B2 JPH0722117 B2 JP H0722117B2 JP 2055955 A JP2055955 A JP 2055955A JP 5595590 A JP5595590 A JP 5595590A JP H0722117 B2 JPH0722117 B2 JP H0722117B2
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Description
【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は微小幅の長いパターンを描画するのに適した荷
電粒子ビーム描画方法に関する。
電粒子ビーム描画方法に関する。
（従来の技術） 最近、複数（例えば、二枚）の正方形状若しくは矩形状
の孔を持つアパーチャ板と、該各アパーチャ板間に集束
レンズと整形用偏向器を夫々光軸に沿って配置し、上方
のアパーチャ板の光を通過した荷電粒子ビームを該偏向
器により偏向させ、下方アパーチャ板の孔から所定の断
面形状及び大きさのビームを通過させ、該ビームを位置
決め用偏向器によりターゲット上の所定位置に照射する
事により所定のパターンを描画する様にした荷電粒子ビ
ーム描画方法（例えば、特願昭50−127833号参照）がパ
ターン描画に使用されている。この方法はターゲット上
に描画するパターンの形状及び大きさに合わせてビーム
の諾面形状及び大きさを可変してパターンを描画するの
で、高速に且つ高精度にパターン描画する事が出来る。
の孔を持つアパーチャ板と、該各アパーチャ板間に集束
レンズと整形用偏向器を夫々光軸に沿って配置し、上方
のアパーチャ板の光を通過した荷電粒子ビームを該偏向
器により偏向させ、下方アパーチャ板の孔から所定の断
面形状及び大きさのビームを通過させ、該ビームを位置
決め用偏向器によりターゲット上の所定位置に照射する
事により所定のパターンを描画する様にした荷電粒子ビ
ーム描画方法（例えば、特願昭50−127833号参照）がパ
ターン描画に使用されている。この方法はターゲット上
に描画するパターンの形状及び大きさに合わせてビーム
の諾面形状及び大きさを可変してパターンを描画するの
で、高速に且つ高精度にパターン描画する事が出来る。
さて、この様な描画方法に用いて、微小幅の長いパター
ンを描画する場合、ビームの断面を該描画すべきパター
ンの幅と同一幅で、適宜長さを有する様に整形し、該整
形したビームを該整形ビームの長さに等しいピッチで移
動させている。しかし、この様な長方形状の整形ビーム
（第３図（ａ））のビーム強度は均一ではなく、例え
ば、長さ方向のビーム強度分布は、第３図（ｂ）の様に
周辺部にだれがある。その為に、描画されたパターンの
各ショット毎のパターンの繋ぎ目の部分が滑らかになら
ない。
ンを描画する場合、ビームの断面を該描画すべきパター
ンの幅と同一幅で、適宜長さを有する様に整形し、該整
形したビームを該整形ビームの長さに等しいピッチで移
動させている。しかし、この様な長方形状の整形ビーム
（第３図（ａ））のビーム強度は均一ではなく、例え
ば、長さ方向のビーム強度分布は、第３図（ｂ）の様に
周辺部にだれがある。その為に、描画されたパターンの
各ショット毎のパターンの繋ぎ目の部分が滑らかになら
ない。
この様な問題を解決する為に、次の様な描画方法が提案
されている。
されている。
第２図は、微小幅△Ｗで長さＬのパターン１を、矩形状
ビームを矢印２の方向に順次移動させて描画する描画手
順を説明する為の図である。以下、描画に使用される矩
形ビームの長さの増大，縮小は前記ビーム断面整形方法
により行われ、そのビームの移動は位置決め用偏向器の
制御により行われる事は特に説明しない。先ず図示のよ
うに小さい矩形ビーム５で描画し、次のショットは矩形
ビーム６、次は矩形ビーム７と各ショット毎に矩形ビー
ムの大きさを大きくして行く。そして長さｌの有する矩
形ビーム８に至る。この間矩形ビーム５〜８の始点側端
部５′〜８′はパターン１の始点側端部３の位置に一致
させたまま固定しビームの移動方向（矢印２の方向）に
矩形ビームの長さを増大させる。矩形ビームの長さは第
１ショットに用いたビーム５の長さを基準長ｌの1/n
（ｎは整数）とする。第２図では、ｎ＝４としたので、
ビーム５の長さはl/4となる。次いでビーム６は2l/4、
ビーム７は3l/4、ビーム８はｌと一定の割合で長さを増
大させる。矩形ビームの長さがｌに到達した後は、ビー
ムの長さｌに固定し各ショット毎にビームの位置を矢印
２の方向に矩形ビーム９、10、11、12、……と、l/4の
ピッチで移動させる。そして、矩形ビーム13に至って終
点側端部13′がパターン１の終点側端部４の位置に一致
する。この後は矩形ビーム14、15、16と各ショット毎に
ビーム長さをl/4づつ縮小し、長さl/4の矩形ビーム16を
最終ショットしてパターン１の全描画過程を終了する。
上記ビーム13〜16の間は終点側端部13′〜16′の位置を
パターン１の終点側端部４に一致させたまま固定してお
く。
ビームを矢印２の方向に順次移動させて描画する描画手
順を説明する為の図である。以下、描画に使用される矩
形ビームの長さの増大，縮小は前記ビーム断面整形方法
により行われ、そのビームの移動は位置決め用偏向器の
制御により行われる事は特に説明しない。先ず図示のよ
うに小さい矩形ビーム５で描画し、次のショットは矩形
ビーム６、次は矩形ビーム７と各ショット毎に矩形ビー
ムの大きさを大きくして行く。そして長さｌの有する矩
形ビーム８に至る。この間矩形ビーム５〜８の始点側端
部５′〜８′はパターン１の始点側端部３の位置に一致
させたまま固定しビームの移動方向（矢印２の方向）に
矩形ビームの長さを増大させる。矩形ビームの長さは第
１ショットに用いたビーム５の長さを基準長ｌの1/n
（ｎは整数）とする。第２図では、ｎ＝４としたので、
ビーム５の長さはl/4となる。次いでビーム６は2l/4、
ビーム７は3l/4、ビーム８はｌと一定の割合で長さを増
大させる。矩形ビームの長さがｌに到達した後は、ビー
ムの長さｌに固定し各ショット毎にビームの位置を矢印
２の方向に矩形ビーム９、10、11、12、……と、l/4の
ピッチで移動させる。そして、矩形ビーム13に至って終
点側端部13′がパターン１の終点側端部４の位置に一致
する。この後は矩形ビーム14、15、16と各ショット毎に
ビーム長さをl/4づつ縮小し、長さl/4の矩形ビーム16を
最終ショットしてパターン１の全描画過程を終了する。
上記ビーム13〜16の間は終点側端部13′〜16′の位置を
パターン１の終点側端部４に一致させたまま固定してお
く。
この様な方法によれば、描画すべきパターン１は、各シ
ョットの繋ぎ目を除く残りの全ての部分は４ショット分
の露光量が与えられている。又、各ショットの繋ぎ目
は、最大の場合で、５ショット分以下、最少の場合で３
ショット分以上と成るので（特開昭57−112016号参
照）、露光量はパターン１全域に亙って、４ショット分
±１ショット分以内となる。即ち、この方法での露光量
の変動は±25％以下となる。この実施例ではｎを４とし
たので、露光量の変動は±25％以下であるが、ｎを大き
くする事により、露光量の変動（±100％/n）をより小
さく出来る。
ョットの繋ぎ目を除く残りの全ての部分は４ショット分
の露光量が与えられている。又、各ショットの繋ぎ目
は、最大の場合で、５ショット分以下、最少の場合で３
ショット分以上と成るので（特開昭57−112016号参
照）、露光量はパターン１全域に亙って、４ショット分
±１ショット分以内となる。即ち、この方法での露光量
の変動は±25％以下となる。この実施例ではｎを４とし
たので、露光量の変動は±25％以下であるが、ｎを大き
くする事により、露光量の変動（±100％/n）をより小
さく出来る。
（発明が解決しようとする問題点） さて、上記描画方法では、描画すべきパターン１の長さ
Ｌがピッチ（l/n）の整数倍の場合には良いが、パター
ン１の長さＬがピッチ（l/n）の整数倍でない場合、例
えば、パターン１の長さがＬ＋△Ｈ（△Ｈ＜L/n）の場
合には、前記方法でＬの長さ分を描画した後、断面の幅
が△Ｗ、長さ△Ｈの矩形ビームを整形し、該ビームでシ
ョット時間を増して残りの部分を描画している。
Ｌがピッチ（l/n）の整数倍の場合には良いが、パター
ン１の長さＬがピッチ（l/n）の整数倍でない場合、例
えば、パターン１の長さがＬ＋△Ｈ（△Ｈ＜L/n）の場
合には、前記方法でＬの長さ分を描画した後、断面の幅
が△Ｗ、長さ△Ｈの矩形ビームを整形し、該ビームでシ
ョット時間を増して残りの部分を描画している。
しかし、最終ショットの部分だけショット時間を変える
のは操作上面倒である。
のは操作上面倒である。
又、極めて長さの短いビームを作成する事自体難しいの
で、パターンの終点部分の描画精度が低下する。
で、パターンの終点部分の描画精度が低下する。
本発明はこのような問題を解決することを目的としたも
のである。
のである。
（問題を解決するための手段） その為に本発明は、材料面における荷電粒子ビームの投
影像を所望の形状に整形し、該整形ビームを所定のピッ
チで移動させて所定のパターンを描画する荷電粒子ビー
ム描画方法において、描画開始に当たっては描画すべき
パターンの描画始点側端部に整形ビームの始点側端部を
一致させ、各ショット毎に該整形ビームの始点側端部を
固定したまま整形ビームの長さを段階的に増大し、該整
形ビームの長さが基準長さに達した後は該基準長さの整
形ビームを各ショット毎に該整形ビームの基準長さより
小なるピッチで移動せしめ、該整形ビームの終点側端部
と描画すべきパターンの描画終点側端部の距離がピッチ
の２倍の長さより小さくなった時、次のビームを、前記
距離から１ピット分差し引いた距離に対応した長さに前
記基準長さを加えた長さに整形して１ピッチ分移動さ
せ、その後は該ビームの終点側端部を固定したまま各シ
ョット毎に整形ビームの長さを段階的に縮小し、描画す
べきパターンのすべての部分に略一様に複数ショットの
描画を行うようにした。
影像を所望の形状に整形し、該整形ビームを所定のピッ
チで移動させて所定のパターンを描画する荷電粒子ビー
ム描画方法において、描画開始に当たっては描画すべき
パターンの描画始点側端部に整形ビームの始点側端部を
一致させ、各ショット毎に該整形ビームの始点側端部を
固定したまま整形ビームの長さを段階的に増大し、該整
形ビームの長さが基準長さに達した後は該基準長さの整
形ビームを各ショット毎に該整形ビームの基準長さより
小なるピッチで移動せしめ、該整形ビームの終点側端部
と描画すべきパターンの描画終点側端部の距離がピッチ
の２倍の長さより小さくなった時、次のビームを、前記
距離から１ピット分差し引いた距離に対応した長さに前
記基準長さを加えた長さに整形して１ピッチ分移動さ
せ、その後は該ビームの終点側端部を固定したまま各シ
ョット毎に整形ビームの長さを段階的に縮小し、描画す
べきパターンのすべての部分に略一様に複数ショットの
描画を行うようにした。
（実施例） 第１図は本発明の一実施例の手順を示す図で、例えば、
微小幅△Ｗで長さＬ＋△Ｈ（△Ｈはピッチより小さい）
のパターン17を、矩形状ビームを矢印18の方向に順次移
動して描画する例で説明する。尚、19及び20はパターン
17の描画始点及び終点側端部を示す。以下、描画に使用
される矩形ビームの長さの増大，縮小は前記ビーム断面
整形方法により行われ、そのビームの移動は位置決め用
偏向器の制御により行われる事は特に説明しない。
微小幅△Ｗで長さＬ＋△Ｈ（△Ｈはピッチより小さい）
のパターン17を、矩形状ビームを矢印18の方向に順次移
動して描画する例で説明する。尚、19及び20はパターン
17の描画始点及び終点側端部を示す。以下、描画に使用
される矩形ビームの長さの増大，縮小は前記ビーム断面
整形方法により行われ、そのビームの移動は位置決め用
偏向器の制御により行われる事は特に説明しない。
先ず、ピッチを基準長l/n（ｎは整数）とした時、例え
ば、ｎ＝４とした場合、長さl/4の矩形ビーム５で描画
する。次のショットは2l/4の矩形ビーム６、次は3l/4の
矩形ビーム７と各ショット毎に矩形ビームの大きさを大
きくして行く。そして、長さｌを有する矩形ビーム８に
至る。この間矩形ビーム５〜８の始点側端部５′〜８′
はパターン17の始点側端部19の位置に一致させたまま固
定しビームの移動方向（矢印18の方向）に矩形ビームの
長さを増大させる。そして矩形ビームの長さがｌに達し
た後は、ビームの長さｌに固定し各ショット毎にビーム
の位置を矢印18の方向に矩形ビーム９、10、11、12、…
……とl/4のピッチで移動させる。
ば、ｎ＝４とした場合、長さl/4の矩形ビーム５で描画
する。次のショットは2l/4の矩形ビーム６、次は3l/4の
矩形ビーム７と各ショット毎に矩形ビームの大きさを大
きくして行く。そして、長さｌを有する矩形ビーム８に
至る。この間矩形ビーム５〜８の始点側端部５′〜８′
はパターン17の始点側端部19の位置に一致させたまま固
定しビームの移動方向（矢印18の方向）に矩形ビームの
長さを増大させる。そして矩形ビームの長さがｌに達し
た後は、ビームの長さｌに固定し各ショット毎にビーム
の位置を矢印18の方向に矩形ビーム９、10、11、12、…
……とl/4のピッチで移動させる。
以下、ビームの位置を順次移動させて描画を行い、矩形
ビーム21に至ると、該矩形ビーム21の終端部21′が描画
すべきパターン17の終点側端部20からビーム移動方向の
反対方向にl/4＋△Ｈの距離にある。この後は、本実施
例では次にショットする矩形ビームの長さをｌ＋△Ｈに
整形し、該矩形ビーム22の端部22′をパターン17の描画
終点端部20に一致させ、ショットする。そして、この御
は矩形ビーム23、24、25と各ショット毎にビーム長さを
l/4づつ縮小し、長さl/4＋△Ｈの矩形ビーム25を最終シ
ョットとしてパターン17の全描画過程を終了する。上記
ビーム22、23、24、25の間は終点側端部22′〜25′の位
置をパターン17の終点端部20に一致させたまま固定して
おく。
ビーム21に至ると、該矩形ビーム21の終端部21′が描画
すべきパターン17の終点側端部20からビーム移動方向の
反対方向にl/4＋△Ｈの距離にある。この後は、本実施
例では次にショットする矩形ビームの長さをｌ＋△Ｈに
整形し、該矩形ビーム22の端部22′をパターン17の描画
終点端部20に一致させ、ショットする。そして、この御
は矩形ビーム23、24、25と各ショット毎にビーム長さを
l/4づつ縮小し、長さl/4＋△Ｈの矩形ビーム25を最終シ
ョットとしてパターン17の全描画過程を終了する。上記
ビーム22、23、24、25の間は終点側端部22′〜25′の位
置をパターン17の終点端部20に一致させたまま固定して
おく。
尚、本発明は電子ビームの断面形状及び大きさを描画す
べきパターンに応じて整形し、所定位置にショットする
描画方法により微小幅で長いパターンを描画する場合だ
けではなく、同様のイオンビーム描画方法で微小幅で長
いパターンを描画する場合にも使用出来る。
べきパターンに応じて整形し、所定位置にショットする
描画方法により微小幅で長いパターンを描画する場合だ
けではなく、同様のイオンビーム描画方法で微小幅で長
いパターンを描画する場合にも使用出来る。
（効果） 本発明は、描画開始に当たっては描画すべきパターンの
描画始点側端部に整形ビームの始点側端部を一致させ、
各ショット毎に該整形ビームの始点側端部を固定したま
ま整形ビームの長さを段階的に増大し、該整形ビームの
長さが基準長さに達した後は該基準長さの整形ビームを
各ショット毎に該整形ビームの基準長さより小なるピッ
チで移動せしめ、該整形ビームの終点側端部と描画すべ
きパターンの描画終点側端部の距離がピッチの２倍の長
さより小さくなった時、次のビームを、前記距離から１
ピッチ分差し引いた距離に対応した長さに前記基準長さ
を加えた長さに整形して１ピッチ分移動させ、その後は
該ビームの終点側端部を固定したまま各ショット毎に整
形ビームの長さを段階的に縮小し、描画すべきパターン
のすべての部分に略一様に複数ショットの描画を行うよ
うにしたので、描画すべきパターンの長さがピッチの整
数倍でない場合、最終のビームの大きさは従来の様に作
成不可能な程小さくならないので、終点部分の描画精度
が向上する。
描画始点側端部に整形ビームの始点側端部を一致させ、
各ショット毎に該整形ビームの始点側端部を固定したま
ま整形ビームの長さを段階的に増大し、該整形ビームの
長さが基準長さに達した後は該基準長さの整形ビームを
各ショット毎に該整形ビームの基準長さより小なるピッ
チで移動せしめ、該整形ビームの終点側端部と描画すべ
きパターンの描画終点側端部の距離がピッチの２倍の長
さより小さくなった時、次のビームを、前記距離から１
ピッチ分差し引いた距離に対応した長さに前記基準長さ
を加えた長さに整形して１ピッチ分移動させ、その後は
該ビームの終点側端部を固定したまま各ショット毎に整
形ビームの長さを段階的に縮小し、描画すべきパターン
のすべての部分に略一様に複数ショットの描画を行うよ
うにしたので、描画すべきパターンの長さがピッチの整
数倍でない場合、最終のビームの大きさは従来の様に作
成不可能な程小さくならないので、終点部分の描画精度
が向上する。
又、最終ショットのショット時間を従来を様に変える必
要がないので操作も簡単になる。
要がないので操作も簡単になる。
第１図は本発明の一実施例の描画手順を説明する為の
図、第２図は従来の描画手順を説明する為の図、第３図
は矩形ビームの強度分布を説明する為の図である。 １……描画すべきパターン、２……矩形ビーム進行方
向、３……描画始点側端部、４……描画終点側端部、５
〜16……矩形ビーム、５′〜８′……始点側端部、13′
〜16′……終点側端部、21〜25……矩形ビーム、21′〜
25′……終点側端部、17……描画すべきパターン、18…
…矩形ビーム進行方向、19……描画始点側端部、20……
描画終点側端部
図、第２図は従来の描画手順を説明する為の図、第３図
は矩形ビームの強度分布を説明する為の図である。 １……描画すべきパターン、２……矩形ビーム進行方
向、３……描画始点側端部、４……描画終点側端部、５
〜16……矩形ビーム、５′〜８′……始点側端部、13′
〜16′……終点側端部、21〜25……矩形ビーム、21′〜
25′……終点側端部、17……描画すべきパターン、18…
…矩形ビーム進行方向、19……描画始点側端部、20……
描画終点側端部
Claims (1)
- 【請求項１】材料面における荷電粒子ビームの投影像を
所望の形状に整形し、該整形ビームを所定のピッチで移
動させて所定のパターンを描画する荷電粒子ビーム描画
方法において、描画開始に当たっては描画すべきパター
ンの描画始点側端部に整形ビームの始点側端部を一致さ
せ、各ショット毎に該整形ビームの始点側端部を固定し
たまま整形ビームの長さを段階的に増大し、該整形ビー
ムの長さが基準長さに達した後は該基準長さの整形ビー
ムを各ショット毎に該整形ビームの基準長さより小なる
ピッチで移動せしめ、該整形ビームの終点側端部と描画
すべきパターンの描画終点側端部の距離がピッチの２倍
の長さより小さくなった時、次のビームを、前記距離か
ら１ピッチ分差し引いた距離に対応した長さに前記基準
長さを加えた長さに整形して１ピッチ分移動させ、その
後は該ビームの終点側端部を固定したまま各ショット毎
に整形ビームの長さを段階的に縮小し、描画すべきパタ
ーンのすべての部分の略一様に複数ショットの描画を行
うことを特徴とする電子ビーム描画方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2055955A JPH0722117B2 (ja) | 1990-03-07 | 1990-03-07 | 荷電粒子ビーム描画方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2055955A JPH0722117B2 (ja) | 1990-03-07 | 1990-03-07 | 荷電粒子ビーム描画方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03257815A JPH03257815A (ja) | 1991-11-18 |
| JPH0722117B2 true JPH0722117B2 (ja) | 1995-03-08 |
Family
ID=13013499
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2055955A Expired - Fee Related JPH0722117B2 (ja) | 1990-03-07 | 1990-03-07 | 荷電粒子ビーム描画方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0722117B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4790324B2 (ja) * | 2005-06-15 | 2011-10-12 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | パターン欠陥検査方法および装置 |
| JP5228080B2 (ja) * | 2011-05-11 | 2013-07-03 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | パターン欠陥検査方法および装置 |
-
1990
- 1990-03-07 JP JP2055955A patent/JPH0722117B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH03257815A (ja) | 1991-11-18 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |