JPH0722496A - 基板の吸着保持装置 - Google Patents
基板の吸着保持装置Info
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- JPH0722496A JPH0722496A JP15851293A JP15851293A JPH0722496A JP H0722496 A JPH0722496 A JP H0722496A JP 15851293 A JP15851293 A JP 15851293A JP 15851293 A JP15851293 A JP 15851293A JP H0722496 A JPH0722496 A JP H0722496A
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- suction
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Abstract
(57)【要約】
【目的】基板の上下動速度を向上させるようにし、ま
た、プリアライメント精度を劣化させない。 【構成】ウエハの受け渡しをするためのウエハ上下装置
５を持つウエハホルダ１上に、全面に渡り貫通孔４を設
けることにより、ウエハ２が上下する際に発生するウエ
ハ表裏面の空気の圧力差を小さくし、基板の上下動の速
度を速くすると共にプリアライメント精度を劣化させな
い。
た、プリアライメント精度を劣化させない。 【構成】ウエハの受け渡しをするためのウエハ上下装置
５を持つウエハホルダ１上に、全面に渡り貫通孔４を設
けることにより、ウエハ２が上下する際に発生するウエ
ハ表裏面の空気の圧力差を小さくし、基板の上下動の速
度を速くすると共にプリアライメント精度を劣化させな
い。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】 本発明は、半導体素子を製造す
るための半導体ウエハや、液晶基板を製造するためのガ
ラスプレ─ト等の板状の基板を吸着保持する吸着保持装
置に関するものである。
るための半導体ウエハや、液晶基板を製造するためのガ
ラスプレ─ト等の板状の基板を吸着保持する吸着保持装
置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】 従来この種の基板を加工する投影型露
光装置やレ─ザリペア装置等においては、基板を載置台
（ホルダ）上で基板（ウエハ）を保持するために基板を
ホルダ上で真空吸着している。図７、図８はこのような
従来の基板の吸着保持装置を示すものであり、図７は平
面図、図８は図７のＤ−Ｄ矢視断面図である。
光装置やレ─ザリペア装置等においては、基板を載置台
（ホルダ）上で基板（ウエハ）を保持するために基板を
ホルダ上で真空吸着している。図７、図８はこのような
従来の基板の吸着保持装置を示すものであり、図７は平
面図、図８は図７のＤ−Ｄ矢視断面図である。
【０００３】図７、図８において、載置台（以下、ウエ
ハを保持するのでウエハホルダという）１には同心円状
および放射状のウエハ吸着溝４０，４１が穿設されてお
り、溝４０，４１内には吸着穴３が１カ所あるいは数カ
所形成されている。この吸着穴３は図８に示したように
通気穴６に通じており、空圧継手７、配管８、電磁弁９
を介して真空源１０に通じている。
ハを保持するのでウエハホルダという）１には同心円状
および放射状のウエハ吸着溝４０，４１が穿設されてお
り、溝４０，４１内には吸着穴３が１カ所あるいは数カ
所形成されている。この吸着穴３は図８に示したように
通気穴６に通じており、空圧継手７、配管８、電磁弁９
を介して真空源１０に通じている。
【０００４】ウエハホルダ１は、ウエハステ─ジ１１上
に取り付けられており、ウエハステ─ジ１１内には、ウ
エハ上下装置５が設けられている。ウエハ上下装置５は
ウエハを上下させる１本あるいは数本の上下動棒５ａを
有しており、ウエハ交換時にウエハホルダ１に形成した
貫通孔１ａを突き抜けて上下動し、ウエハ２を不図示の
搬送装置からウエハホルダ１へ受け渡し、もしくはウエ
ハホルダ１上から不図示の搬送装置に受け渡す構造とな
っている。
に取り付けられており、ウエハステ─ジ１１内には、ウ
エハ上下装置５が設けられている。ウエハ上下装置５は
ウエハを上下させる１本あるいは数本の上下動棒５ａを
有しており、ウエハ交換時にウエハホルダ１に形成した
貫通孔１ａを突き抜けて上下動し、ウエハ２を不図示の
搬送装置からウエハホルダ１へ受け渡し、もしくはウエ
ハホルダ１上から不図示の搬送装置に受け渡す構造とな
っている。
【０００５】図９は、ウエハをプリアライメントしてか
らウエハステ─ジ１１上のウエハホルダ１に吸着保持さ
れるまでの流れを模式的に示した図である。プリアライ
メント装置５１において外形レベルのプリアライメント
を行ったウエハ２は、ウエハ搬送ア─ム５２によってウ
エハステ─ジ１１上のウエハホルダ１の位置まで運ばれ
る。ここで、ウエハ位置決めステ─ジ１１内部に設置さ
れたウエハ上下装置５が上昇し、ウエハ搬送ア─ム５２
からウエハ２を受け取る。その後、ウエハ搬送ア─ム５
２はウエハホルダ１から退避し、ウエハ２を乗せたウエ
ハ上下装置の上下動棒５ａは下降して、ウエハホルダ１
にウエハ２を受け渡す。
らウエハステ─ジ１１上のウエハホルダ１に吸着保持さ
れるまでの流れを模式的に示した図である。プリアライ
メント装置５１において外形レベルのプリアライメント
を行ったウエハ２は、ウエハ搬送ア─ム５２によってウ
エハステ─ジ１１上のウエハホルダ１の位置まで運ばれ
る。ここで、ウエハ位置決めステ─ジ１１内部に設置さ
れたウエハ上下装置５が上昇し、ウエハ搬送ア─ム５２
からウエハ２を受け取る。その後、ウエハ搬送ア─ム５
２はウエハホルダ１から退避し、ウエハ２を乗せたウエ
ハ上下装置の上下動棒５ａは下降して、ウエハホルダ１
にウエハ２を受け渡す。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】図７、図８の如き従来
技術においては、ウエハ上下装置５に受け渡されたウエ
ハ２を下降させる時、ウエハ２とウエハホルダ１の隙間
の空気が抵抗となるため、ウエハ上下装置５の下降速度
を大きく出来ないという問題があった。さらに、この抵
抗となっている空気は、ウエハ２とウエハホルダ１の間
の狭い空間から放射状にしか逃げられない（図８に図示
した矢印方向）ため、ウエハ上下装置５が降りきって、
ウエハ上下装置の上下動棒５ａの真空吸着を止めてから
ウエハホルダ１の真空吸着がはじまるまでの間に、ウエ
ハ２とウエハホルダ１の載置面との間に残った空気の層
がウエハ２をウェハホルダ１上で横滑りさせる方向の力
として働くため、せっかくプリアライメント済で搬送さ
れてきたウエハ２のプリアライメント精度を劣化させて
しまうという問題点があった。また、処理済ウエハ２を
上昇させる時も、ウエハ２の表面と裏面の大気圧の差の
ためウエハがウエハホルダからはがれにくくなり、ウエ
ハ上昇速度を大きく出来ないという問題があった。
技術においては、ウエハ上下装置５に受け渡されたウエ
ハ２を下降させる時、ウエハ２とウエハホルダ１の隙間
の空気が抵抗となるため、ウエハ上下装置５の下降速度
を大きく出来ないという問題があった。さらに、この抵
抗となっている空気は、ウエハ２とウエハホルダ１の間
の狭い空間から放射状にしか逃げられない（図８に図示
した矢印方向）ため、ウエハ上下装置５が降りきって、
ウエハ上下装置の上下動棒５ａの真空吸着を止めてから
ウエハホルダ１の真空吸着がはじまるまでの間に、ウエ
ハ２とウエハホルダ１の載置面との間に残った空気の層
がウエハ２をウェハホルダ１上で横滑りさせる方向の力
として働くため、せっかくプリアライメント済で搬送さ
れてきたウエハ２のプリアライメント精度を劣化させて
しまうという問題点があった。また、処理済ウエハ２を
上昇させる時も、ウエハ２の表面と裏面の大気圧の差の
ためウエハがウエハホルダからはがれにくくなり、ウエ
ハ上昇速度を大きく出来ないという問題があった。
【０００７】
【課題を解決する為の手段】上記問題点を解決するため
に、基板が載置される載置面に一方の開口を形成された
貫通孔を載置面にほぼ均一に分散するように複数形成し
た。
に、基板が載置される載置面に一方の開口を形成された
貫通孔を載置面にほぼ均一に分散するように複数形成し
た。
【０００８】
【作用】本発明における基板の表裏面の大気が基板にあ
たえる影響について本発明の第１実施例を示した図１，
図２を参照して説明する。図１は、ウエハホルダの平面
図、図２は図１の矢視断面図である。図１，図２のウエ
ハホルダ１上のウエハ載置面に、貫通孔４の一方の開口
を多数設けている。そのため、搬送装置からウエハ上下
装置５に受け渡されたウエハ２を下降させるとき、ウエ
ハ２とウエハホルダ１の隙間の空気が貫通孔４を通って
逃げられる。したがって、空気抵抗が小さくなり、ウエ
ハ上下装置５の下降速度を大きくすることができる。さ
らにウエハ上下装置５が降りきった時にウエハ２とウエ
ハホルダ１の載置面との間に薄い空気の層が出来にくい
ため、ウエハ上下装置５の上下動棒５ａの真空吸着が止
まってから、ウエハホルダ１の真空吸着穴３からの真空
吸着が始まるまでの間に、ウエハ２がウエハホルダ１上
を横滑りして、プリアライメント精度を劣化させるとい
う問題も解消あるいは軽減される。
たえる影響について本発明の第１実施例を示した図１，
図２を参照して説明する。図１は、ウエハホルダの平面
図、図２は図１の矢視断面図である。図１，図２のウエ
ハホルダ１上のウエハ載置面に、貫通孔４の一方の開口
を多数設けている。そのため、搬送装置からウエハ上下
装置５に受け渡されたウエハ２を下降させるとき、ウエ
ハ２とウエハホルダ１の隙間の空気が貫通孔４を通って
逃げられる。したがって、空気抵抗が小さくなり、ウエ
ハ上下装置５の下降速度を大きくすることができる。さ
らにウエハ上下装置５が降りきった時にウエハ２とウエ
ハホルダ１の載置面との間に薄い空気の層が出来にくい
ため、ウエハ上下装置５の上下動棒５ａの真空吸着が止
まってから、ウエハホルダ１の真空吸着穴３からの真空
吸着が始まるまでの間に、ウエハ２がウエハホルダ１上
を横滑りして、プリアライメント精度を劣化させるとい
う問題も解消あるいは軽減される。
【０００９】また、ウエハホルダ１上での作業処理済ウ
エハ２をウエハホルダ１から上昇させる時も、ウエハ２
表裏面の圧力差を小さく保てるため、ウエハ２の上昇速
度を大きく出来る。
エハ２をウエハホルダ１から上昇させる時も、ウエハ２
表裏面の圧力差を小さく保てるため、ウエハ２の上昇速
度を大きく出来る。
【００１０】
【実施例】図１，図２は本発明の第１実施例である。図
１は平面図、図２は図１の矢視断面図である。ウエハホ
ルダ１には中心と周縁に計７個の吸着穴３が設けられて
おり、それぞれが、通気穴６，空圧継手７，配管８電磁
弁９を介して真空源１０に通じている。
１は平面図、図２は図１の矢視断面図である。ウエハホ
ルダ１には中心と周縁に計７個の吸着穴３が設けられて
おり、それぞれが、通気穴６，空圧継手７，配管８電磁
弁９を介して真空源１０に通じている。
【００１１】また、ウエハホルダ１上には、ウエハ載置
面全面に渡って複数の貫通孔４が設けられている。貫通
孔４はウエハ載置面から垂直にウエハホルダを貫通する
ように形成されている。ウエハステ─ジ１１上にはウエ
ハ上下装置５が設けられている。ウエハ上下装置５は、
ウエハを上下させる３本の上下動棒５ａを有しており、
ウエハ交換時にウエハホルダに形成された貫通孔１ａを
突き抜けて上下動しウエハ２を受け渡す。
面全面に渡って複数の貫通孔４が設けられている。貫通
孔４はウエハ載置面から垂直にウエハホルダを貫通する
ように形成されている。ウエハステ─ジ１１上にはウエ
ハ上下装置５が設けられている。ウエハ上下装置５は、
ウエハを上下させる３本の上下動棒５ａを有しており、
ウエハ交換時にウエハホルダに形成された貫通孔１ａを
突き抜けて上下動しウエハ２を受け渡す。
【００１２】上述の如く構成された実施例の動作につい
て、以下に説明する。図１、図２のウエハホルダ１で
は、複数の貫通孔４が設けられている。そのため、ウエ
ハ上下装置５に受渡されたウエハ２を下降させる時、ウ
エハとウエハホルダ１との隙間の空気が、貫通孔４を通
りウエハホルダ１の裏面に逃げるため、空気抵抗が非常
に小さくなりウエハ上下装置１８の下降速度を大きく出
来る。さらにウエハ上下装置１８が降りきってウエハ上
下装置５の上下動棒５ａの真空吸着を止めてから、ウエ
ハホルダ１の真空吸着が始まるまでの間に、ウエハ２と
ウエハホルダ１の載置面との間に薄い空気の層が出来に
くいため、ウエハ２がウエハホルダ１上を横滑りして、
プリアライメント精度を劣化させるという問題も解消あ
るいは軽減する。また、処理済ウエハ２をウエハホルダ
１から上昇させる時も、ウエハ表裏面の空気の圧力差が
小さくなるため、ウエハ上下装置５の上昇速度を大きく
できる。
て、以下に説明する。図１、図２のウエハホルダ１で
は、複数の貫通孔４が設けられている。そのため、ウエ
ハ上下装置５に受渡されたウエハ２を下降させる時、ウ
エハとウエハホルダ１との隙間の空気が、貫通孔４を通
りウエハホルダ１の裏面に逃げるため、空気抵抗が非常
に小さくなりウエハ上下装置１８の下降速度を大きく出
来る。さらにウエハ上下装置１８が降りきってウエハ上
下装置５の上下動棒５ａの真空吸着を止めてから、ウエ
ハホルダ１の真空吸着が始まるまでの間に、ウエハ２と
ウエハホルダ１の載置面との間に薄い空気の層が出来に
くいため、ウエハ２がウエハホルダ１上を横滑りして、
プリアライメント精度を劣化させるという問題も解消あ
るいは軽減する。また、処理済ウエハ２をウエハホルダ
１から上昇させる時も、ウエハ表裏面の空気の圧力差が
小さくなるため、ウエハ上下装置５の上昇速度を大きく
できる。
【００１３】図３、図４は、本発明の第２実施例であ
る。図３は平面図、図４は図３のＢ−Ｂ矢視断面図であ
る。ウエハホルダ１上には、ウエハホルダ１の中心と２
重の同心円上にほぼ等間隔に計１３個の島状のウエハ吸
着面１６ａ，１６ｂが設けられており（１３個の吸着面
のうち異なる同心円上のもの１６ａ，１６ｂを例にと
る。）、ウエハ２は、ウエハ吸着面１６ａ，１６ｂのみ
でウエハホルダ１と接触出来るようになっている（図４
から明らかなように、他の部分は、低くなっているので
ウエハ２とは接触しない）。ウエハ吸着面１６ａ，１６
ｂの内部には、それぞれウエハ吸着溝１５ａ，１５ｂお
よび吸着穴３ａ，３ｂが設けられており、通気穴６ａ，
６ｂ、空圧継手７ａ，７ｂ、配管８ａ，８ｂ、電磁弁９
ａ，９ｂを介してそれぞれ真空源１０に通じている。
る。図３は平面図、図４は図３のＢ−Ｂ矢視断面図であ
る。ウエハホルダ１上には、ウエハホルダ１の中心と２
重の同心円上にほぼ等間隔に計１３個の島状のウエハ吸
着面１６ａ，１６ｂが設けられており（１３個の吸着面
のうち異なる同心円上のもの１６ａ，１６ｂを例にと
る。）、ウエハ２は、ウエハ吸着面１６ａ，１６ｂのみ
でウエハホルダ１と接触出来るようになっている（図４
から明らかなように、他の部分は、低くなっているので
ウエハ２とは接触しない）。ウエハ吸着面１６ａ，１６
ｂの内部には、それぞれウエハ吸着溝１５ａ，１５ｂお
よび吸着穴３ａ，３ｂが設けられており、通気穴６ａ，
６ｂ、空圧継手７ａ，７ｂ、配管８ａ，８ｂ、電磁弁９
ａ，９ｂを介してそれぞれ真空源１０に通じている。
【００１４】また、ウエハホルダ１上には、ウエハ載置
面全面に渡って小断面積の開口を持つ貫通孔が多数設け
られている。なお、貫通孔４はウエハ載置面から垂直に
設けられている。ウエハホルダ１は、ウエハステ─ジ１
１上に取り付けられており、ウエハステ─ジ１１内に
は、ウエハ上下装置５が設けられている。ウエハ上下装
置５は、ウエハを上下動させる３本の上下動棒５ａを有
しておりウエハ交換時にウエハホルダ１に形成された貫
通孔１ａを突き抜けて上下動し、ウエハ２を受け渡す。
面全面に渡って小断面積の開口を持つ貫通孔が多数設け
られている。なお、貫通孔４はウエハ載置面から垂直に
設けられている。ウエハホルダ１は、ウエハステ─ジ１
１上に取り付けられており、ウエハステ─ジ１１内に
は、ウエハ上下装置５が設けられている。ウエハ上下装
置５は、ウエハを上下動させる３本の上下動棒５ａを有
しておりウエハ交換時にウエハホルダ１に形成された貫
通孔１ａを突き抜けて上下動し、ウエハ２を受け渡す。
【００１５】上述の如く構成された実施例の動作につい
て、以下に説明する。図３、図４のウエハホルダ１で
は、多数の貫通孔４が設けられている。そのため、ウエ
ハ上下装置５に受渡されたウエハ２を下降させる時、ウ
エハとウエハホルダ１との隙間の空気が、貫通孔４を通
りウエハホルダ１の裏面に逃げるため、空気抵抗が非常
に小さくなりウエハ上下装置１８の下降速度を大きく出
来る。さらにウエハ上下装置１８が降りきってウエハ上
下装置５の上下動棒５ａの真空吸着を止めてから、ウエ
ハホルダ１の真空吸着が始まるまでの間に、ウエハ２と
ウエハホルダ１の載置面との間に薄い空気の層が出来に
くいため、ウエハ２がウエハホルダ１上を横滑りして、
プリアライメント精度を劣化させるという問題も解消あ
るいは軽減する。また、処理済ウエハ２をウエハホルダ
１から上昇させる時も、ウエハ表裏面の空気の圧力差が
小さくなるため、ウエハ上下装置５の上昇速度を大きく
できる。
て、以下に説明する。図３、図４のウエハホルダ１で
は、多数の貫通孔４が設けられている。そのため、ウエ
ハ上下装置５に受渡されたウエハ２を下降させる時、ウ
エハとウエハホルダ１との隙間の空気が、貫通孔４を通
りウエハホルダ１の裏面に逃げるため、空気抵抗が非常
に小さくなりウエハ上下装置１８の下降速度を大きく出
来る。さらにウエハ上下装置１８が降りきってウエハ上
下装置５の上下動棒５ａの真空吸着を止めてから、ウエ
ハホルダ１の真空吸着が始まるまでの間に、ウエハ２と
ウエハホルダ１の載置面との間に薄い空気の層が出来に
くいため、ウエハ２がウエハホルダ１上を横滑りして、
プリアライメント精度を劣化させるという問題も解消あ
るいは軽減する。また、処理済ウエハ２をウエハホルダ
１から上昇させる時も、ウエハ表裏面の空気の圧力差が
小さくなるため、ウエハ上下装置５の上昇速度を大きく
できる。
【００１６】ところで、図３、図４において、二重の同
心円上に設けられた吸着面１６ａ，１６ｂのうち、外側
の同心円上の吸着面１６ａは、吸着経路１５ａ、３ａ、
６ａ、７ａ、８ａ、９ａ、１０を持ち、大きいサイズの
ウエハを吸着させるために設置されているものである。
また、内側の同心円上の吸着面１６ｂは、吸着経路１５
ｂ、３ｂ、６ｂ、７ｂ、８ｂ、９ｂ、１０を持ち、小さ
いサイズのウエハを吸着させるために設置されているも
のである。このように、電磁弁９ａ、９ｂを独立に切り
換えることにより、複数サイズのウエハの吸着にも対応
することができる。
心円上に設けられた吸着面１６ａ，１６ｂのうち、外側
の同心円上の吸着面１６ａは、吸着経路１５ａ、３ａ、
６ａ、７ａ、８ａ、９ａ、１０を持ち、大きいサイズの
ウエハを吸着させるために設置されているものである。
また、内側の同心円上の吸着面１６ｂは、吸着経路１５
ｂ、３ｂ、６ｂ、７ｂ、８ｂ、９ｂ、１０を持ち、小さ
いサイズのウエハを吸着させるために設置されているも
のである。このように、電磁弁９ａ、９ｂを独立に切り
換えることにより、複数サイズのウエハの吸着にも対応
することができる。
【００１７】図５、図６は、本発明の第３実施例であ
る。図５は平面図、図６は図５のＣ─Ｃ矢視断面図であ
る。ウエハホルダ１上には、計７個の島状のウエハ吸着
面１６がウエハホルダ１の中心と放射状にほぼ一定の間
隔で設けられており、ウエハ２は、ウエハ吸着面１６の
みでウエハホルダ１と接触出来るようになっている（他
の部分は、段差がついているので接触しない）。ウエハ
吸着面１６の内部には、ウエハ吸着溝１５および吸着穴
３が設けられており、通気穴６、空圧継手７、配管８、
電磁弁９を介して真空源１０に通じている。
る。図５は平面図、図６は図５のＣ─Ｃ矢視断面図であ
る。ウエハホルダ１上には、計７個の島状のウエハ吸着
面１６がウエハホルダ１の中心と放射状にほぼ一定の間
隔で設けられており、ウエハ２は、ウエハ吸着面１６の
みでウエハホルダ１と接触出来るようになっている（他
の部分は、段差がついているので接触しない）。ウエハ
吸着面１６の内部には、ウエハ吸着溝１５および吸着穴
３が設けられており、通気穴６、空圧継手７、配管８、
電磁弁９を介して真空源１０に通じている。
【００１８】また、ウエハホルダ１上には、ウエハ載置
面のほぼ全面に渡り数個の大きな開口を持つ貫通孔４が
ウエハ載置面のほぼ全面に渡って等間隔に設けられてい
る。ウエハホルダ１は、ウエハステ─ジ１１上に取り付
けられている。さらに、ウエハステ─ジ１１内には、ウ
エハ上下装置５が取り付けられている。ウエハ上下装置
５は、ウエハを上下させる３本の上下動棒５ａを有して
おり、ウエハ交換時にウエハホルダ１に形成した貫通孔
１ａを突き抜けて上下動し、ウエハ２を受け渡す構造と
なっている。
面のほぼ全面に渡り数個の大きな開口を持つ貫通孔４が
ウエハ載置面のほぼ全面に渡って等間隔に設けられてい
る。ウエハホルダ１は、ウエハステ─ジ１１上に取り付
けられている。さらに、ウエハステ─ジ１１内には、ウ
エハ上下装置５が取り付けられている。ウエハ上下装置
５は、ウエハを上下させる３本の上下動棒５ａを有して
おり、ウエハ交換時にウエハホルダ１に形成した貫通孔
１ａを突き抜けて上下動し、ウエハ２を受け渡す構造と
なっている。
【００１９】このように、多数の穴を開けるかわりに１
個または数個の大きな貫通孔を開けても、実施例１と同
様の効果が得られる。なお前記実施例においては、貫通
孔はウエハホルダのウエハ載置面から垂直にホルダ裏面
に穿孔したが、これに限られることなく載置面に一方の
開口を持っていれば、他方の開口は載置面以外の面であ
ればどのような位置でもよい。また実施例では円形のウ
エハについて考えたが、矩形のガラスプレ─ト等を吸着
保持するホルダについても、載置面に複数の開口を持つ
貫通孔を設けることによって、同様の効果が得られる。
個または数個の大きな貫通孔を開けても、実施例１と同
様の効果が得られる。なお前記実施例においては、貫通
孔はウエハホルダのウエハ載置面から垂直にホルダ裏面
に穿孔したが、これに限られることなく載置面に一方の
開口を持っていれば、他方の開口は載置面以外の面であ
ればどのような位置でもよい。また実施例では円形のウ
エハについて考えたが、矩形のガラスプレ─ト等を吸着
保持するホルダについても、載置面に複数の開口を持つ
貫通孔を設けることによって、同様の効果が得られる。
【００２０】
【発明の効果】以上のように、本発明によれば、載置台
上に貫通孔があるため基板下降時の基板と載置台の載置
面の間の空気抵抗が非常に小さくなり基板の下降速度を
大きく出来る。また、基板の表裏面の圧力差が小さくな
るので、基板上昇時の上昇速度も大きく出来る。したが
って、装置全体としてのサイクルタイムが小さくなると
いう効果がある。また、基板を下降させた時に基板と載
置台の載置面との隙間に薄い空気の層が出来にくいた
め、載置台上を基板が横滑りしてプリアライメント精度
を劣化させるという問題も解消あるいは軽減されるとい
う効果もある。
上に貫通孔があるため基板下降時の基板と載置台の載置
面の間の空気抵抗が非常に小さくなり基板の下降速度を
大きく出来る。また、基板の表裏面の圧力差が小さくな
るので、基板上昇時の上昇速度も大きく出来る。したが
って、装置全体としてのサイクルタイムが小さくなると
いう効果がある。また、基板を下降させた時に基板と載
置台の載置面との隙間に薄い空気の層が出来にくいた
め、載置台上を基板が横滑りしてプリアライメント精度
を劣化させるという問題も解消あるいは軽減されるとい
う効果もある。
【図１】本発明の第１実施例の平面図である。
【図２】図１のＡ─Ａ矢視断面図である。
【図３】本発明の第２実施例の平面図である。
【図４】図３のＢ─Ｂ矢視断面図である。
【図５】本発明の第３実施例の平面図である。
【図６】図５のＣ─Ｃ矢視断面図である。
【図７】従来の技術を示す平面図である。
【図８】図７のＤ─Ｄ矢視断面図である。
【図９】ウエハをプリアライメントしてから、ステ─ジ
上のウエハホルダに吸着するまでの流れを、模式的に示
した図である。
上のウエハホルダに吸着するまでの流れを、模式的に示
した図である。
１ ウエハホルダ １ａ ウエハ上下動棒突き抜け用貫通
孔 ２ ウエハ ３，３ａ，３ｂ 吸着穴 ４ 貫通孔 ５ ウエハ上下装置 ５ａ 上下動棒 ６，６ａ，６ｂ 通気穴 ７，７ａ，７ｂ 空圧継手 ８，８ａ，８ｂ 配管 ９，９ａ，９ｂ 電磁弁 １０ 真空源 １１ ウエハステ─ジ １５ａ，１５ｂ，１５ 吸着溝 １６ａ，１６ｂ，１６ ウエハ吸着面 ４０ 同心円状のウエハ吸着溝 ４１ 放射状のウエハ吸着溝 ５１ プリアライメント装置 ５２ ウエハ搬送ア─ム
孔 ２ ウエハ ３，３ａ，３ｂ 吸着穴 ４ 貫通孔 ５ ウエハ上下装置 ５ａ 上下動棒 ６，６ａ，６ｂ 通気穴 ７，７ａ，７ｂ 空圧継手 ８，８ａ，８ｂ 配管 ９，９ａ，９ｂ 電磁弁 １０ 真空源 １１ ウエハステ─ジ １５ａ，１５ｂ，１５ 吸着溝 １６ａ，１６ｂ，１６ ウエハ吸着面 ４０ 同心円状のウエハ吸着溝 ４１ 放射状のウエハ吸着溝 ５１ プリアライメント装置 ５２ ウエハ搬送ア─ム
Claims (1)
- 【請求項１】板状の基板が載置される載置面を有する載
置台と、前記載置面に前記基板を吸着保持させる吸着手
段と、前記載置面に対してほぼ垂直な方向へ上下し、基
板搬送装置から前記載置面に基板を受け渡す基板受け渡
し手段とを有する基板の吸着保持装置において、前記載
置面に一方の開口を形成された貫通孔を前記一方の開口
が前記載置面にほぼ均一に分散するように前記載置台に
複数形成したことを特徴とする基板の吸着保持装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15851293A JPH0722496A (ja) | 1993-06-29 | 1993-06-29 | 基板の吸着保持装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15851293A JPH0722496A (ja) | 1993-06-29 | 1993-06-29 | 基板の吸着保持装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0722496A true JPH0722496A (ja) | 1995-01-24 |
Family
ID=15673360
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15851293A Pending JPH0722496A (ja) | 1993-06-29 | 1993-06-29 | 基板の吸着保持装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0722496A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002057209A (ja) * | 2000-06-01 | 2002-02-22 | Tokyo Electron Ltd | 枚葉式処理装置および枚葉式処理方法 |
| WO2003034483A1 (fr) * | 2001-10-16 | 2003-04-24 | Tokyo Electron Limited | Mecanisme elevateur d'element a traiter et dispositif de traitement utilisant ce mecanisme |
| JP2007180125A (ja) * | 2005-12-27 | 2007-07-12 | Hitachi High-Technologies Corp | 露光装置、露光方法、及び表示用パネル基板の製造方法 |
| JP2009033178A (ja) * | 2007-07-30 | 2009-02-12 | Applied Materials Inc | 軸対称及び均一熱プロファイルの真空チャック型ヒーター |
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-
1993
- 1993-06-29 JP JP15851293A patent/JPH0722496A/ja active Pending
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