JPH05301137A - 真空チャック - Google Patents

真空チャック

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JPH05301137A
JPH05301137A JP13606292A JP13606292A JPH05301137A JP H05301137 A JPH05301137 A JP H05301137A JP 13606292 A JP13606292 A JP 13606292A JP 13606292 A JP13606292 A JP 13606292A JP H05301137 A JPH05301137 A JP H05301137A
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JP
Japan
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suction
thin plate
exhaust hole
hole
vacuum
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Pending
Application number
JP13606292A
Other languages
English (en)
Inventor
Masao Yamagishi
正男 山岸
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Oki Electric Industry Co Ltd
Original Assignee
Oki Electric Industry Co Ltd
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Publication date
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  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Jigs For Machine Tools (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 反りのある薄板体であっても完全にを吸着面
に密着させた状態で真空吸着することができる真空チャ
ックを提供する。 【構成】 複数個の吸着孔13が形成された吸着面12
と、各吸着孔13の下方に連通して形成されたチャンバ
ー14と、各チャンバー14の下方に連通して形成され
た排気孔15と、チャンバー14内に上下動可能に設け
られ且つバネ部材20により吸着孔13側に付勢された
弁19とを有し、吸着孔13を通して流入する外気の押
圧力によって弁19の下端部が排気孔15の上側開口部
を閉塞する真空チャックであって、弁19の下端部若し
くは排気孔15の上側開口部に、排気孔15の上側開口
部が閉塞された状態でチャンバー14と排気孔15とを
僅かに連通させるリーク孔21を形成した。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体ウエハやガラス
マスクなどの薄板体を真空吸着して保持する真空チャッ
クの構造に関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来、この種の真空チャックとしては、
特開昭61−8250号公報で開示されたものがある。
図4は上記従来の真空チャックを示す平面図であり、図
5は同側断面図である。図示した真空チャック50にお
いて、51は台板、52は台板51の内部に形成された
凹部、53は台板51の側壁に貫通して設けられたニッ
プル、54は台板51の上端部に組み入れられたボール
弁形成板、55は複数個の吸着孔56を吸着面57に形
成してなる吸着板、58は吸着孔56の下方に連通して
形成されたチャンバー、59はチャンバー58の下方に
連通して形成された排気孔、60はチャンバー58内に
おいてバネ部材61の弾性力により吸着板55側に付勢
されたボール弁である。
【0003】上記従来の真空チャック50においては、
ニップル53に接続された図示せぬ真空装置を作動させ
ることにより、吸着面57上の各吸着孔56から外気が
チャック内に流入する。そして各吸着孔56より流入し
た外気はチャンバー58から排気孔59を通して凹部5
2で合流し、ニップル53から図示せぬ真空装置へと排
気される。
【0004】この状態から、真空チャック50の吸着面
57に、この吸着面57よりも面積の小さい薄板体を載
置する。そうすると、薄板体に覆われた部分では、吸着
孔56が薄板体62によって塞がれる(図6左側参
照)。一方、薄板体に覆われない部分では、吸着孔56
から流入する外気がバネ部材61の付勢力に抗してボー
ル弁60を押し下げ、ベール弁60をシーリング材63
に圧接させる(図6右側参照)。これにより、チャンバ
ー58の途中で空気の流れが完全に遮断されるため、薄
板体に覆われた部分のチャンバー58及び排気孔59は
真空状態に保持され、この状態で薄板体が吸着面57に
真空吸着される。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】ところで、半導体ウエ
ハのような薄板体の製造工程においては、SiO2 、S
i3 N4 ,Al、ポリシリコンなど、熱膨張率の異なっ
た膜をSi基板に形成したり、またそれを部分的に除去
したりする工程が繰り返されるため、薄板体に微小な反
りが発生しやすい。このような反りのある薄板体を上記
従来の真空チャック50で吸着しようとすると、たとえ
薄板体に覆われた部分であっても、吸着される箇所と吸
着されない箇所とが発生する。すなわち、吸着面57に
薄板体を載置した際、薄板体に接した吸着孔56は瞬時
に薄板体を吸着状態に保持するが、反りなどによって薄
板体に接しなかった吸着孔56は、ボール弁60の動作
によって空気の流れが完全に遮断されるため、それ以降
は薄板体を吸着できない状態となる。よって、従来の真
空チャック50では、反りのある薄板体を完全に吸着面
57に密着させることができず、例えば、半導体ウエハ
の各種熱処理工程においては膜質及び膜厚等が均一に形
成されないなど、種々の問題が発生する。
【0006】本発明は、上記問題を解決するためになさ
れたもので、反りのある薄板体であっても完全にを吸着
面に密着させた状態で真空吸着することができる真空チ
ャックを提供することを目的とする。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明は、上記目的を達
成するためになされたもので、複数個の吸着孔が形成さ
れた吸着面と、これら各吸着孔の下方に連通して形成さ
れたチャンバーと、これら各チャンバーの下方に連通し
て形成された排気孔と、チャンバー内に上下動可能に設
けられ且つバネ部材により吸着孔側に付勢された弁とを
有し、吸着孔を通して流入する外気の押圧力によって弁
の下端部が排気孔の上側開口部を閉塞する真空チャック
であって、弁の下端部若しくは排気孔の上側開口部に、
排気孔の上側開口部が閉塞された状態でチャンバーと排
気孔とを僅かに連通させるリーク孔を形成したものであ
る。
【0008】また、複数個の案内凹部が形成された吸着
面と、各案内凹部に上下動可能に嵌挿され且つバネ部材
により上側に付勢された状態で上面が吸着面から突出し
て配置された吸着コマと、案内凹部の下方に連通して形
成された第一の排気孔とを有する真空チャックであっ
て、吸着コマの上面には吸着凹部が形成されるととも
に、同内部には吸着凹部に連通する状態で上下に貫通し
た第二の排気孔が形成されたものである。
【0009】
【作用】本発明の真空チャックにおいては、吸着面上の
各吸着孔から流入した外気がチャンバーから排気孔を通
して排気される。この状態から吸着孔が薄板体によって
塞がれると、チャンバーと排気孔とが真空状態となって
薄板体が吸着孔に真空吸着される。一方、薄板体によっ
て塞がれなかった箇所では、吸着孔から流入する外気に
よって、弁がバネ部材の付勢力に抗して押し下げられ、
排気孔の上側開口部が弁の下端部に閉塞される。この
時、弁の下端部若しくは排気孔の上側開口部に形成した
リーク孔においては、チャンバーから排気孔に向けて僅
かに外気が流出し、各吸着孔には若干の吸引力が作用す
る。この状態から、その後吸着孔が薄板体によって塞が
れると、チャンバーと排気孔の圧力が等圧状態(真空状
態)となって、バネ部材の付勢力により弁が吸着孔側に
押し上げられると共に排気孔の上側開口部が開放され
て、薄板体が吸着孔に真空吸着される。これにより、吸
着面上に載置された薄板体は、その吸着面に完全に密着
した状態で真空吸着される。
【0010】また、本発明の真空チャックにおいては、
吸着面から突出して配置された吸着コマの上面が薄板体
によって塞がれると、吸着コマの吸着凹部と第二の排気
孔が真空状態に保持されて、薄板体が吸着コマの上面に
吸着される。さらに、上記吸着コマの吸着凹部と第二の
排気孔とに連通する案内凹部も同様に真空状態に保持さ
れることから、吸着コマはバネ部材の付勢力に抗して引
き下げられる。その際、吸着コマの上面に吸着された薄
板体も一緒に引き下げられて、それまで薄板体に接して
いなかった吸着コマも薄板体を吸着するようになる。こ
れにより、薄板体は全ての吸着コマに吸着された状態で
吸着面側に引き寄せられ、遂いには吸着面に圧接された
状態となる。これにより、吸着コマの上面に載置された
薄板体は、チャックの吸着面に完全に密着した状態で真
空吸着される。
【0011】
【実施例】以下、本発明に係わる真空チャックの実施例
を図面に基づいて説明する。図1は、本発明に係わる真
空チャックの第一実施例を説明する図であり、さらに図
1(a)は、真空チャックの側断面図、図1(b)は、
図1(a)のC部を拡大した図である。
【0012】図示した真空チャック10において、11
はベース板であり、このベース板11の上面、すなわち
吸着面12には複数個の吸着孔13が形成されている。
また、各吸着孔13の下方にはチャンバー14が連通し
て形成されており、さらにチャンバー14の下方には排
気孔15が連通して形成されている。ここで各排気孔1
5は、ベース板11の内部に形成された空間16に連通
しており、さらにこの空間16に連通した状態でベース
板11の底部にニップル17が設けられている。
【0013】一方、チャンバー14の中間部には支持板
18が配設されており、この支持板18の中心孔(不図
示)に弁19が上下動可能に嵌合支持されている。この
弁19は、例えば上端側にフランジ19aが形成された
ニードル弁によって構成されており、しかも上端側のフ
ランジ19aには第一の空気流通孔19bが穿設されて
いる。また、弁19のフランジ19aと支持板18との
間にはバネ部材20が介装されており、このバネ部材2
0の弾性力によって弁19は吸着孔13側に付勢されて
いる。
【0014】加えて、チャンバー14の中間部に配設さ
れた支持板18には、第二の空気流通孔18aが穿設さ
れている。さらに、排気孔15の上側開口部にはリーク
孔19が形成されている。このリーク孔21は、排気孔
15の上側開口部が弁19の下端部に閉塞された状態で
チャンバー14と排気孔15とを僅かに連通させるもの
である。
【0015】続いて、上記第一実施例の真空チャック1
0の動作について説明する。まず、ニップル17に接続
された図示せぬ真空装置を作動させると、吸着面12上
の各吸着孔13から外気がチャック内に流入し、図中一
点鎖線で示す経路を通して排気される。その際、各吸着
孔13から流入した外気はバネ部材20の付勢力に抗し
て弁19を押し下げる。これにより、弁17の下端部が
排気孔15の上側開口部を閉塞する。またこの時、排気
孔15の上側開口部に形成したリーク孔21において
は、チャンバー14から排気孔15内に向けて僅かに外
気が流出している。
【0016】この状態から、真空チャック10の吸着面
12に、この吸着面12よりも面積の小さい薄板体を載
置する。なお、ここで載置される薄板体には微小な反り
が生じているものとする。そうすると、薄板体に覆われ
なかった部分では、上述したように弁19が外気によっ
て押し下げられ、排気孔15の上側開口部が弁17の下
端部によって閉塞される。
【0017】一方、薄板体に覆われた部分では、薄板体
の反りが原因となって、各吸着孔13の中でも薄板体に
接する箇所と接しない箇所とが発生する。まず、薄板体
に接する箇所では、吸着孔12が薄板体によって塞がれ
るため、吸着孔12からの外気の流入が完全に遮断され
る。これに対し、薄板体に接しない箇所では、吸着孔1
2と薄板体との間に僅かな隙間が存在するため、その隙
間を通して吸着孔12から外気が流入し、この外気の流
入によって弁19が押し下げられ、排気孔15の上側開
口部が弁19の下端部に閉塞される。
【0018】この時、チャンバー14内に流入した外気
はリーク孔21を通して排気孔15側に僅かに流出して
いる。このリーク孔21における外気の流出量は、上記
薄板体に接した箇所のチャンバー14内の真空状態を保
持できる程度に調節され、これを基にリーク孔21の大
きさが設定される。よって、上述の薄板体に接する箇所
では、チャンバー14と排気孔15の圧力が真空状態に
保持されることから、薄板体は吸着孔12に真空吸着さ
れることになる。
【0019】また、このように薄板体が部分的にでも吸
着されると、薄板体の反りは徐々に矯正されていき、そ
れまで薄板体に接していなかった吸着孔12が薄板体に
接するようになる。これにより薄板体は、上述のリーク
孔21から流出する僅かな外気の流出によって、それま
で接していなかった吸着孔12にも僅かな力ではあるが
吸着されることになる。
【0020】このように、はじめは薄板体に接していな
かった吸着孔12が反りの矯正によって薄板体に塞がれ
ると、外気の流入が完全に遮断されるためにチャンバー
14と排気孔15の圧力が等圧状態(真空状態)とな
る。これにより、弁19がバネ部材20の付勢力によっ
て押し上げられ、排気孔15の上方開口部が開放され
る。
【0021】その結果、はじめは薄板体に接していなか
った箇所においても、チャンバー14と排気孔15の圧
力が真空状態に保持されるようになり、もって、薄板体
に覆われた部分では、薄板体の全面が真空チャック10
の吸着面12に均一に真空吸着されるようになる。つま
り、薄板体は吸着面12に完全に密着した状態で真空吸
着されるようになる。
【0022】なお、上記第一実施例の構成においては、
排気孔15の上側開口部にリーク孔21を形成するよう
にしたが、本発明はこれに限らず、弁19の下端部にリ
ーク孔を設けることでも同様の作用が得られる。
【0023】図2は、本発明に係わる真空チャックの第
二実施例を説明する図であり、さらに図2(a)は、真
空チャックの側断面図、図2(b)は、図2(a)のD
部を拡大した図である。
【0024】図示した真空チャック30において、31
はベース板であり、このベース板31の上面、すなわち
吸着面32には複数個の案内凹部33が形成されてい
る。また、各案内凹部33の下方には第一の排気孔34
が連通して形成されている。ここで各第一の排気孔34
は、ベース板31の内部に形成された空間35に連通し
ており、さらにこの空間35に連通した状態でベース板
31の底部にニップル36が設けられている。
【0025】一方、吸着面32に形成された各案内凹部
33には吸着コマ37が上下動可能に嵌挿されている。
この吸着コマ37の下面と上記案内凹部33との間には
バネ部材38が介装されており、このバネ部材38の弾
性力によって吸着コマ37は上方に付勢されている。こ
の状態で、吸着コマ37の上限位置は図示せぬストッパ
ーによって規制され、同時に吸着コマ37の上面は吸着
面32から所定量(例えば0.3〜1mm)突出して配
置される。また、吸着コマ37の上面には吸着凹部39
が形成されており、同内部にはその吸着凹部39に連通
した状態で上下に貫通する第二の排気孔40が形成され
ている。
【0026】続いて、上記第二実施例の真空チャック3
0の動作について説明する。まず、ニップル36に接続
された図示せぬ真空装置を作動させると、各吸着コマ3
7の吸着凹部39及び第二の排気孔40を通して外気が
チャック内に流入し、さらに案内凹部33及び第一の排
気孔34を通して上述の真空装置へと排気される。
【0027】この状態から、各吸着コマ37の上面にチ
ャックの吸着面32よりも面積の小さい薄板体(図中二
点鎖線で表示)を載置する。なお、ここで載置される薄
板体には微小な反りが生じているものとする。そうする
と、薄板体に覆われなかった部分では、上述したように
外気が所定の経路を通してチャック内に流入する。一
方、薄板体に覆われた部分では、薄板体の反りが原因と
なって、各吸着コマ37の中でも、薄板体に接するもの
と接しないものとが発生する。
【0028】まず、薄板体に接する吸着コマ37の場合
は、その上面が薄板体によって塞がれるため吸着凹部3
9からの外気の流入が完全に遮断される。これにより、
吸着コマ37の吸着凹部39は真空状態に保持されるた
め、薄板体は吸着コマ37の上面に吸着される。さら
に、吸着コマ37の吸着凹部39と第二の排気孔40と
に連通する案内凹部33も同様に真空状態に保持される
ことから、吸着コマ37はバネ部材38の付勢力に抗し
て引き下げられる。
【0029】この時、吸着コマ37の上面に吸着された
薄板体も吸着コマ37と共に引き下げられるため、それ
まで薄板体に接していなかった吸着コマ37にも薄板体
が接するようになる。これにより薄板体は、全ての吸着
コマ37に吸着された状態で吸着面32側に引き寄せら
れていき、その後は図3に示すようにチャックの吸着面
32に圧接される。その結果、薄板体の反りは徐々に矯
正されていき、最終的に薄板体は吸着面32に完全に密
着した状態で真空吸着されるようになる。
【0030】ここで、吸着コマ37の内部に形成される
第二の排気孔40の大きさについて説明すると、これ
は、真空装置が作動している状態において、何箇所かの
吸着コマ37の上面が塞がれた場合でも、各箇所の吸着
凹部39を真空状態に保持できる程度を基準に設定され
る。
【0031】
【発明の効果】以上、説明したように本発明によれば、
反りのある薄板体であっても吸着面に完全に密着させた
状態で薄板体を真空吸着することができる。特に、半導
体ウエハの製造工程においては、ウエハの反りを矯正し
た状態でチャックの吸着面にウエハを完全に密着させて
保持できるようになるため、各種熱処理工程でウエハ内
の熱分布をより均一化することが可能となる。その結
果、上記熱処理工程においてウエハ上に形成される膜
質、膜厚等を均一にすることが可能になり、もって、ウ
エハの品質向上が期待できる。さらに、マスクアライメ
ントに用いられるような解像深度のきわめて狭い装置で
も、反りを矯正した状態でウエハをチャックの吸着面に
完全に密着させて保持できることから、反りのあるウエ
ハに対しても高精度なパターンを形成することが可能と
なる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係わる真空チャックの第一実施例を説
明する図である。
【図2】本発明に係わる真空チャックの第二実施例を説
明する図である。
【図3】第二実施例におけるチャック状態の説明図であ
る。
【図4】従来構造を示す平面図である。
【図5】従来構造を示す側断面図である。
【図6】従来例におけるチャック状態の説明図である。
【符号の説明】
10 真空チャック 12 吸着面 13 吸着孔 14 チャンバー 15 排気孔 19 弁 20 バネ部材 21 リーク孔 30 真空チャック 32 吸着面 33 案内凹部 34 第一の排気孔 37 吸着コマ 38 バネ部材 39 吸着凹部 40 第二の排気孔

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 複数個の吸着孔が形成された吸着面と、
    前記各吸着孔の下方に連通して形成されたチャンバー
    と、前記各チャンバーの下方に連通して形成された排気
    孔と、前記チャンバー内に上下動可能に設けられ且つバ
    ネ部材により前記吸着孔側に付勢された弁とを有し、前
    記吸着孔を通して流入する外気の押圧力によって前記弁
    の下端部が前記排気孔の上側開口部を閉塞する真空チャ
    ックであって、 前記弁の下端部若しくは前記排気孔の上側開口部に、前
    記排気孔の上側開口部が閉塞された状態で前記チャンバ
    ーと前記排気孔とを僅かに連通させるリーク孔を形成し
    たことを特徴とする真空チャック。
  2. 【請求項2】 複数個の案内凹部が形成された吸着面
    と、前記各案内凹部に上下動可能に嵌挿され且つバネ部
    材により上側に付勢された状態で上面が前記吸着面から
    突出して配置された吸着コマと、前記案内凹部の下方に
    連通して形成された第一の排気孔とを有するものであっ
    て、 前記吸着コマの上面には吸着凹部が形成されるととも
    に、同内部には前記吸着凹部に連通した状態で上下に貫
    通する第二の排気孔が形成されたことを特徴とする真空
    チャック。
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