JPH07228553A - ２−ヒドロキシ−１−トリフルオロメチルアルキル＝４−ベンジルオキシベンゾアートおよびその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 反強誘電性液晶化合物の中間原料として有
用な新規の含フッ素化合物およびその製造方法を提供す
る。 【構成】 新規化合物２−ヒドロキシ−１−トリフルオ
ロメチルアルキル＝４−ベンジルオキシベンゾアート、
並びに有機溶媒中で１−（４−ベンジルオキシベンゾイ
ルオキシ）−２，２，２−トリフルオロエチルアルキル
ケトンを金属水素化物を用いて還元することによる前記
新規化合物を製造する方法。 【効果】 この新規化合物は、反強誘電性液晶化合物の
中間原料等として有用であり、簡単な操作で、効率的
に、かつ高収率で製造出来る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、例えば大画面液晶ディ
スプレイおよび電子デバイス等の素材である反強誘電性
液晶化合物の中間原料として有用である新規の含フッ素
化合物およびその製造方法に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】大画面液晶ディスプレイ等の素材である
反強誘電性液晶化合物の中間原料として有用である１−
トリフルオロメチルアルキル＝４−ベンジルオキシベン
ゾアートは知られている。しかしながら、この化合物か
ら誘導される反強誘電性液晶化合物は強誘電性液晶相が
かなり高温側に存在するため、室温作動性に劣り、かつ
応答速度も遅く、大画面液晶ディスプレイ材料として実
用化されるに至っておらず、室温でのスイッチング操作
が容易な材料が強く求められている。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】そこで、本発明者ら
は、室温で作動し、かつ高速応答性であり、スイッチン
グ操作の容易な反強誘電性液晶化合物の中間材料として
有用な新規の化合物につき鋭意研究した結果、本発明化
合物を発明し、また該化合物を効率的に、高収率で製造
する方法を見出し、本発明を完成した。

【０００４】

【課題を解決するための手段】本発明は新規化合物であ
る式（１）で示される２−ヒドロキシ−１−トリフルオ
ロメチルアルキル＝４−ベンジルオキシベンゾアート
（以下、本発明化合物という）である。

【０００５】

【化３】

【０００６】また、本発明は上記化合物を効率的に製造
する方法、すなわち、有機溶媒中で、式（２）で示され
る１−（４−ベンジルオキシベンゾイルオキシ）−２，
２，２−トリフルオロエチルアルキルケトン（以下、原
料化合物という）を、金属水素化物を用いて還元するこ
とにより、該化合物を製造する方法に関するものであ
る。

【０００７】

【化４】

【０００８】〔本発明化合物：２−ヒドロキシ−１−ト
リフルオロメチルアルキル＝４−ベンジルオキシベンゾ
アート〕本発明化合物は、上記式（１）で示される通り
であり、式中Ｒで表わされるアルキル基は、炭素数が３
〜１０の直鎖状アルキル基、すなわち、ｎ−プロピル
基、ｎ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、
ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−ノニル基および
ｎ−デシル基であり、それらの中でも製造の容易性から
有用である化合物はＲが炭素数４〜８の直鎖状アルキル
基である。

【０００９】本発明化合物の特に好ましい具体例を示す
と、２−ヒドロキシ−１−トリフルオロメチルヘキシル
＝４−ベンジルオキシベンゾアート、２−ヒドロキシ−
１−トリフルオロメチルオクチル＝４−ベンジルオキシ
ベンゾアートおよび２−ヒドロキシ−１−トリフルオロ
メチルデシル＝４−ベンジルオキシベンゾアート等が挙
げられる。

【００１０】〔原料化合物：１−（４−ベンジルオキシ
ベンゾイルオキシ）−２，２，２−トリフルオロエチル
アルキルケトン〕原料化合物である前述の式（２）で示
される１−（４−ベンジルオキシベンゾイルオキシ）−
２，２，２−トリフルオロエチルアルキルケトンは新規
化合物であり、既に出願済である（特願平５−３０１２
１４）

【００１１】上記化合物について具体的に説明すると、
式中Ｒで表わされる直鎖状アルキル基は式（１）のＲに
対応し、上記化合物の好適な具体例としては、１−（４
−ベンジルオキシベンゾイルオキシ）−２，２，２−ト
リフルオロエチル ｎ−ブチルケトン、１−（４−ベン
ジルオキシベンゾイルオキシ）−２，２，２−トリフル
オロエチル ｎ−ヘキシルケトンおよび１−（４−ベン
ジルオキシベンゾイルオキシ）−２，２，２−トリフル
オロエチル ｎ−オクチルケトン等が挙げられる。

【００１２】上記化合物は、例えば式（３）で代表され
るように、２−ヒドロキシ−３，３，３−トリフルオロ
プロピオニトリルとアルキルリチウムを反応させ、次い
で該反応生成物を鉱酸で加水分解することにより、１−
ヒドロキシ−２，２，２−トリフルオロエチルアルキル
ケトン（以下、出発原料化合物という）を製造し、次い
で式（４）で示すように該出発原料化合物とアルカリ金
属水素化物を有機溶媒中で反応させた後、反応生成物と
４−ベンジルオキシベンゾイルクロリドを反応させるこ
とにより得られる。

【００１３】

【化５】

【００１４】

【化６】

【００１５】以下、出発原料化合物について詳細に説明
する。 〔出発原料化合物：１−ヒドロキシ−２，２，２−トリ
フルオロエチルアルキルケトン〕。出発原料化合物であ
る前述の式（３）中に示されている１−ヒドロキシ−
２，２，２−トリフルオロエチルアルキルケトンは新規
化合物であり、既に出願済である（特願平４−２３２７
７７）。

【００１６】上記化合物を具体的に説明すると、式中Ｒ
で表わされる直鎖状アルキル基は式（１）のＲに対応
し、好適な化合物の具体例としては、１−ヒドロキシ−
２，２，２−トリフルオロエチル ｎ−ブチルケトン、
１−ヒドロシキ−２，２，２−トリフルオロエチル ｎ
−ヘキシルケトンおよび１−ヒドロキシ−２，２，２−
トリフルオロエチル ｎ−オクチルケトン等が挙げられ
る。

【００１７】〔出発原料化合物の製造方法〕出発原料化
合物の製造方法の一例については、前述した通り式
（３）で示されるが、この製造方法については出願済で
ある（特願平５−２２３９３６）。

【００１８】上記反応を更に詳細に説明すると、例え
ば、反応温度−２０℃〜−７８℃で、２−ヒドロキシ−
３，３，３−トリフルオロプロピオニトリルの有機溶媒
溶液に、アルキルリチウムの有機溶媒溶液を滴下し、滴
下終了後、３０分程度攪拌して、反応を充分完結させ、
反応生成物を生成させる。

【００１９】アルキルリチウムは炭素数３〜１０の直鎖
状アルキルリチウムである。アルキルリチウムは有機溶
媒に溶解して用いるのが好ましく、好ましい有機溶媒と
してはｎ−ヘキサン等が挙げられる。市販されている代
表的なアルキルリチウムの有機溶媒溶液としては、濃度
１５％のｎ−ブチルリチウムのｎ−ヘキサン溶液、ある
いは濃度３７％のｎ−ヘキシルリチウムのｎ−ヘキサン
溶液等が挙げられる。

【００２０】２−ヒドロシキ−３，３，３−トリフルオ
ロプロピオニトリルのための有機溶媒としてはジエチル
エーテル、ＴＨＦおよびジグリム等が挙げられる。この
混合割合は２−ヒドロキシ−３，３，３−トリフルオロ
プロピオニトリル１モルに対して、０．５〜３リットル
が好ましい。

【００２１】式（３）の反応において、アルキルリチウ
ムの供給割合は２−ヒドロキシ−３，３，３−トリフル
オロプロピオニトリル１モルに対して、アルキルリチウ
ム２〜３モルが好ましい。アルキルリチウム溶液の反応
系への供給速度はアルキルリチウム１モルを４５〜９５
分間で滴下するのが好ましい。

【００２２】次いで、得られた反応生成物を攪拌しなが
ら、室温まで昇温し、室温にて鉱酸で加水分解すること
により、出発原料化合物が生成する。加水分解反応終了
後、エーテルで抽出し、抽出液を水で洗浄した後、抽出
液に無水硫酸マグネシウムを加えて、水分を除去した
後、溶媒を減圧留去し、シロップ状の粗生成物を得る。
得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ーにより精製し、無色透明な液状の出発原料化合物を取
得することができる。

【００２３】鉱酸としては、塩酸、硫酸、硝酸等が挙げ
られる。特に好ましい鉱酸は塩酸である。その使用量は
２−ヒドロキシ−３，３，３−トリフルオロプロピオニ
トリル１モルに対して、３〜４グラム当量が好ましい。
鉱酸の濃度は１〜５規定が好ましい。鉱酸の反応系への
供給速度は２−ヒドロキシ−３，３，３−トリフルオロ
プロピオニトリル１モルに対して、４５〜９５分程度か
けて滴下するのが好ましい。

【００２４】加水分解反応は出来るだけ穏やかな温度、
通常１０℃〜３０℃で行なうことが好ましい。鉱酸の滴
下後、更に常温で２０分間程度攪拌保持することによ
り、反応を完結させ、出発原料化合物を得る。

【００２５】〔原料化合物の製造方法〕原料化合物は、
式（４）で示すように、上記で述べた出発原料化合物
を、例えば有機溶媒中でアルカリ金属水素化物を反応さ
せ（原第一段反応）、次いで反応生成物と４−ベンジル
オキシベンゾイルクロリドを反応させる（原第二段反
応）ことにより得られる。以下、この反応につき更に詳
細に説明する。

【００２６】（原第一段反応）有機溶媒中で、出発原料
化合物とアルカリ金属水素化物とを反応させ反応生成物
を生成させる。

【００２７】有機溶媒としては特に限定されるものでは
なく、例えばジエチルエーテル、ｎ−ヘキサン、トルエ
ンおよびＴＨＦ等が挙げられ、特に好ましくはジエチル
エーテルである。その使用量は原料化合物１モルを基準
として、１〜５リットルが好ましく、特に好ましくは２
〜４リットルである。

【００２８】アルカリ金属水素化物は水素化リチウム、
水素化ナトリウムおよび水素化カリウム等が挙げられ、
経済的に安価な水素化ナトリウムが特に好ましい。市販
のアルカリ金属水素化物は通常、油性であるので、ｎ−
ヘキサン等で洗浄精製乾燥した後、有機溶媒に懸濁した
ものを用いるとよい。アルカリ金属水素化物は、出発原
料化合物１モルを基準として、１．０〜１．２モルが好
ましい。

【００２９】アルカリ金属水素化物と出発原料化合物の
反応系への供給方法は、アルカリ金属水素化物の有機溶
媒懸濁液中に、出発原料化合物の有機溶媒溶液を滴下す
ることが好ましい。出発原料化合物の供給速度は１モル
を３０〜９０分程度かけて滴下するのが好ましい。有機
溶媒の使用比率はアルカリ金属水素化物／出発原料化合
物＝１／９程度の容量比に按分するのが好ましい。

【００３０】反応温度は−１０℃〜１０℃が好ましく、
特に０℃付近が好ましい。出発原料化合物の滴下完了
後、攪拌しながら、室温迄昇温し、引きつづき６０分間
攪拌保持して、反応を完結させ、反応生成物を得る。

【００３１】（原第二段反応）次いで、上述で得られた
反応生成物と４−ベンジルオキシベンゾイルクロリド
を、前述の式（４）に示されるように、有機溶媒中で反
応させることにより原料化合物を生成させる。

【００３２】有機溶媒は上記反応で用いた有機溶媒が使
用できる。したがって原第一段反応により得られた反応
生成物溶液に、４−ベンジルオキシベンゾイルクロリド
の有機溶媒溶液を直接加えることにより、反応を行うこ
とが出来る。

【００３３】４−ベンジルオキシベンゾイルクロリドの
反応系への供給割合は、出発原料化合物１モルを基準と
して、１．１〜１．３モルが好ましい。４−ベンジルオ
キシベンゾイルクロリドは有機溶媒に溶解して反応系に
供給するのが好ましく、有機溶媒の好適な混合割合は、
４−ベンジルオキシベンゾイルクロリド１モルに対して
０．５〜２リットルが好ましい。また４−ベンジルオキ
シベンゾイルクロリドの反応系への供給速度は、出発原
料化合物の１モルを基準として１〜３時間が好ましい。

【００３４】反応温度は−１０℃〜１０℃が好ましい。
４−ベンジルオキシベンゾイルクロリド溶液の滴下完了
後、攪拌しながら室温まで昇温し、室温で１５０分間程
度攪拌保持することにより、反応を完結させるとよい。

【００３５】反応終了後、例えば室温で、１規定塩酸を
用いて、過剰のアルカリ金属水素化物あるいは４−ベン
ジルオキシベンゾイルクロリドを、それぞれ塩化アルカ
リあるいは４−ベンジルオキシベンゾアートとし、次い
で５％炭酸水素ナトリウム溶液等によりｐＨ８程度に調
整した後、エーテルを加えて目的生成物を抽出し、次い
で抽出液を水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムを加えて
水分を除去した後、溶媒を減圧除去濃縮することによ
り、淡黄色のシロップ状物質を得る。次いでこの物質を
シリカゲルクロマトグラフィー等により精製し、活性炭
等で脱色し、無色透明な液状の原料化合物である１−
（４−ベンジルオキシベンゾイルオキシ）−２，２，２
−トリフルオロエチルアルキルケトンを得る。

【００３６】〔本発明化合物：２−ヒドロキシ−１−ト
リフルオロメチルアルキル＝４−ベンジルオキシベンゾ
アートの製造方法〕本発明化合物は、前述したとおりで
あり、下記式（５）に示す通り、有機溶媒中、上記原料
化合物を金属水素化物を用いて還元することにより得ら
れる。以下、原料化合物からの製造方法について詳細に
説明する。

【００３７】

【化７】

【００３８】式（５）における反応を説明すると、原料
化合物である１−（４−ベンジルオキシベンゾイルオキ
シ）−２，２，２−トリフルオロエチルアルキルケトン
のカルボニル炭素へのヒドリドのジアステレオ面区別し
た攻撃を経由して付加生成物が生成し、これを酸処理す
ることにより本発明化合物が製造される。

【００３９】本発明において、好適な金属水素化物とし
ては水素化ジイソブチルアルミニウム、水素化アルミニ
ウムリチウムおよび水素化ホウ素ナトリウム等が挙げら
れる。水素化アルミニウムリチウムを用いる場合は水素
化アルミニウムリチウムの有機溶媒溶液が用いられ、例
えば市販の水素化アルミニウムリチウムの有機溶媒溶液
としては１モル／リットルのＴＨＦ溶液が挙げられる。

【００４０】これらの金属水素化物は、原料化合物のカ
ルボニル基をジアステレオ面区別還元して、ｓｙｎ体と
ａｎｔｉ体との生成比率に最も大きな影響を及ぼすと考
えられる。従って目的に応じて、金属水素化物を適宜選
択すればよい。すなわち特定の金属水素化物を用いるこ
とにより、ｓｙｎ体あるいはａｎｔｉ体を選択的に生成
させることができる。

【００４１】例えば、ｓｙｎ体２−ヒドロキシ＝ベンジ
ルオキシベンゾアートに富んだ本発明化合物を得るのに
好適な金属水素化物として、水素化ジイソブチルアルミ
ニウムが挙げられ、他方、ａｎｔｉ体２−ヒドロキシ＝
ベンジルオキシベンゾアートに富んだ本発明化合物を得
るのに好適な金属水素化物として水素化アルミニウムリ
チウムの有機溶媒溶液が挙げられる。

【００４２】原料化合物と金属水素化物の反応系への供
給割合は、金属水素化物の種類によって異なるが、例え
ば金属水素化物として水素化ジイソブチルアルミニウム
あるいは水素化ホウ素ナトリウムを用いる場合は、原料
化合物１モルに対して１．０〜１．２グラム当量（水素
原子換算、以下同じ）が好ましい。１．０グラム当量未
満では本発明化合物の収率低下を招く恐れがあり、１．
２グラム当量を超えると経済的とはいえない。

【００４３】一方、金属水素化物として水素化アルミニ
ウムリチウムを用いる場合は、原料化合物１モルに対し
て１．０〜１．１グラム当量が好ましい。１．０グラム
当量未満では本発明化合物の収率低下を招く恐れがあ
り、１．１グラム当量を超えると、原料化合物における
エステル部分も還元されて副生物が増大し、収率の低下
を招く恐れがある。

【００４４】有機溶媒としては、ＴＨＦ、ジエチルエー
テル、ｎ−ヘキサン、トルエンおよびメタノール等が挙
げられる。

【００４５】有機溶媒の使用割合は原料化合物１モルを
基準として、１．６〜４リットルが好ましい。１．６リ
ットル未満では原料化合物におけるエステル部分も還元
され、副生成物が増大する可能性があり、４リットルを
超えると経済的とはいえない。

【００４６】原料化合物と金属水素化物の好適な混合方
法は、例えば、原料化合物の有機溶媒溶液に、金属水素
化物の有機溶媒溶液を滴下するのが好適である。逆の供
給方法を行うと、原料化合物におけるエステル部分も還
元されて、副生成物が増大し、収率の低下を招く恐れが
ある。

【００４７】例えば、原料化合物１モルと、金属水素化
物として水素化ジイソブチルアルミニウムを前述した好
適な量である１．０〜１．２グラム当量用いた場合、上
記した有機溶媒の好適な量のうちの１リットル程度を水
素化ジイソブチルアルミニウムに対して用い、残りの量
を原料化合物に対して用いるのが好適である。

【００４８】また、金属水素化物として水素化アルミニ
ウムリチウムの有機溶媒溶液を用いた場合、上記した有
機溶媒の好適な量のうち、原料化合物１モルに対して有
機溶媒１．５リットル程度を用い、残りの有機溶媒は水
素化アルミニウムリチウムの有機溶媒を利用するのが好
適である。

【００４９】原料化合物溶液中への金属水素化物溶液の
滴下時間は、原料化合物１モルに対して４０〜９０分が
好ましい。４０分未満では反応熱の除去が困難であると
ともに、原料化合物におけるエステル部分も還元され
て、副生物が増大する恐れがある。９０分間を超えると
経済的とはいえない。

【００５０】原料化合物と金属水素化物との反応温度は
−１０℃〜１０℃が好ましい。−１０℃未満では経済的
といえず、１０℃を超えると反応温度の制御が困難にな
るとともに原料化合物におけるエステル部分も還元さ
れ、副生物が増大する恐れがある。滴下完了後、室温に
昇温して、９０分程度攪拌保持して、反応を完結させ
る。

【００５１】次いで得られた付加生成物を常法に従い酸
処理することにより、ジアステレオマー混合物である本
発明化合物を生成させる。

【００５２】酸としては鉱酸が適しており、具体的には
塩酸、硫酸、硝酸等があげられるが、それらの中でも塩
酸が最適である。塩酸を例にとると、その使用量は原料
化合物１モルに対して１〜２モルが好ましい。１モル未
満では前記付加生成物の分解が不十分となり、収率の低
下を招く恐れがあり、２モルを超えると経済的とはいえ
ない。またその濃度は０．５〜２規定が好ましく、特に
好ましくは０．８〜１．２規定である。０．５規定未満
では加水分解反応時間が長くかかり、経済的とはいえな
い。２規定を超えると反応熱の制御が困難となり、収率
の低下を招く。

【００５３】付加生成物溶液中への酸の滴下時間は、原
料化合物１モルに対して、２０〜４０分間である。２０
分間未満では反応熱の制御が困難となり収率の低下を招
く恐れがあり、４０分間を超えると経済的とはいえな
い。

【００５４】酸処理温度は−１０℃〜１０℃が好まし
く、特に好ましくは０℃である。−１０℃未満では経済
的とはいえず、１０℃を超えると反応熱の制御が困難と
なり、収率の低下を招く。滴下終了後、０℃で３０分間
程度攪拌保持して、反応を完結させる。

【００５５】酸処理完了後、室温まで昇温して、エーテ
ルを加えて目的生成物を抽出し、次いで抽出液を水で洗
浄し、無水硫酸マグネシウムを加えて水分を除去した
後、溶媒を減圧濃縮することにより無色透明な液状の目
的生成物を製造することが出来る。

【００５６】〔本発明化合物がｓｙｎ体およびａｎｔｉ
体のジアステレオマー混合物であることの確認〕上記目
的生成物である本発明化合物は、前述の式（５）中に示
した通り、ｓｙｎ−２−ヒドロキシ−１−トリフルオロ
メチルアルキル＝４−ベンジルオキシベンゾアート（以
下、ｓｙｎ体２−ヒドロキシ＝ベンジルオキシベンゾア
ートという）およびａｎｔｉ−２−ヒドロキシ−１−ト
リフルオロメチルアルキル＝４−ベンジルオキシベンゾ
アート（以下ａｎｔｉ体２−ヒドロキシ＝ベンジルオキ
シベンゾアートという）からなるジアステレオマー混合
物であり、本発明化合物がｓｙｎ体およびａｎｔｉ体の
ジステレオマー混合物であることは、以下により確認済
みである。

【００５７】後記同定例１より明らかなごとく、上記目
的生成物を、式（６）で示されるように、酸で加水分解
することにより、１，１，１−トリフルオロアルカン−
２，３−ジオール〔なお、この化合物は新規化合物であ
り、既に出願済みである（特願平５−１３２４５
２）。〕に誘導し、該ジオール誘導体を光学異性体分離
用カラムを有するガスクロマトグラフィーにより分析す
ることにより、このジオール誘導体が４本の光学異性体
ピークを有し、このうち、第１グループを構成する第１
ピークと第２ピークの面積比が１：１であり、また第２
グループを構成する第３ピークと第４ピークは面積比が
１：１であることから、第１グループ（第１ピークおよ
び第２ピーク）の各ピークと第２グループ（第３ピーク
および第４ピーク）の各ピークは、それぞれがエナンチ
オマーの関係にあることが判明し、また、上記ジオール
誘導体をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにかける
ことにより、第１フラクションと第２フラクションに分
取出来ることから、本発明化合物が互いに２つのエナン
チオマーを含有するｓｙｎ体２−ヒドロキシ＝ベンジル
オキシベンゾアートおよびａｎｔｉ体２−ヒドロキシ＝
ベンジルオキシベンゾアートからなるジアステレオマー
混合物であることが確認される。

【００５８】

【化８】

【００５９】〔本発明化合物におけるｓｙｎ体／ａｎｔ
ｉ体の生成比率〕後記同定例１より明らかなごとく、前
記ジオール誘導体を光学異性体分離用カラムを有するガ
スクロマトグラフィーにより分析することにより得られ
る第１グループ（ｓｙｎ体）〔第１ピークおよび第２ピ
ーク（面積比１：１）〕、および第２グループ（ａｎｔ
ｉ体）〔第３ピークおよび第４ピーク（面積比１：
１）〕の各面積比から、目的生成物のｓｙｎ体およびａ
ｎｔｉ体の生成比率を確認することが出来る。

【００６０】また、同じく後記同定例１より明らかなご
とく、目的生成物を¹⁹ＦＮＭＲスペクトルで分析するこ
とにより得られる２本のピークのうち、−１．３３ｐｐ
ｍのピークはｓｙｎ体２−ヒドロキシ＝ベンジルオキシ
ベンゾアートであり、−３．５０ｐｐｍのピークはａｎ
ｔｉ体２−ヒドロキシ＝ベンジルオキシベンゾアートで
あることより、これらのピークの面積比から、目的生成
物のｓｙｎ体およびａｎｔｉ体の生成比率を確認するこ
とが出来る。

【００６１】本発明の製造方法によれば、金属水素化物
の種類にもよるが、ｓｙｎ体２−ヒドロキシ＝ベンジル
オキシベンゾアート／ａｎｔｉ体２−ヒドロキシ＝ベン
ジルオキシベンゾアート＝７０〜２５／３０〜７５（面
積比）からなるジアステレオマー混合物である本発明化
合物が得られる。

【００６２】

【実施例】以下、参考例、実施例および同定例に基づい
て本発明を具体的に説明する。

【００６３】（参考例１）〔出発原料化合物：１−ヒド
ロキシ−２，２，２−トリフルオロエチル ｎ−ヘキシ
ルケトンの製造〕 還流冷却器、温度計、攪拌機および滴下ロートを備えた
四つ口丸底フラスコに、２−ヒドロキシ−３，３，３−
トリフルオロプロピオニトリル２５．０ｇ（２００ミリ
モル）とジエチルエーテル３００ｍｌを入れ、攪拌しな
がら均一な溶液とした。次いで、該溶液の入った四つ口
丸底フラスコをドライアイスアセトンバス中に挿入し、
攪拌しながら−７８℃に保持した。

【００６４】次に、滴下ロートにｎ−ヘキシルリチウム
溶液１０９．２ｇ〔濃度３７％のｎ−ヘキサン溶液、ｎ
−ヘキシルリチウム量４０．４ｇ（４４０ミリモル）、
メタルゲゼルシャフト社製〕を取り、５０分間かけて滴
下し、滴下完了後、３０分間攪拌した。この間の反応温
度は−７８℃〜−５０℃であった。

【００６５】次いで、ドライアイスアセトンバスを取り
去り、攪拌しながら２５℃迄昇温し、攪拌しながら３規
定塩酸溶液２５０ｍｌを３５分間かけて滴下し、滴下完
了後、１０分間攪拌した。

【００６６】得られた反応液をエーテル抽出し、抽出液
を水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムを加えて、水
分を除去した後、溶媒を減圧留去し、シロップ状の粗生
成物を得た。

【００６７】得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィー（溶離液：ｎ−ヘキサン／イソプロパノ
ール＝９０／１０）で精製し、無色透明な液状の目的生
成物〔収量３９ｇ（１８４ミリモル）収率９２％〕を得
た。

【００６８】この化合物の ¹ＨＮＭＲスペクトル、¹⁹Ｆ
ＮＭＲスペクトル、ＩＲ吸収スペクトルおよびＭＳスペ
クトルを測定した結果は次の通りであり、１−ヒドロキ
シ−２，２，２−トリフルオロエチル ｎ−ヘキシルケ
トンであることが確認された。

【００６９】¹ＨＮＭＲスペクトル（ＣＤＣｌ₃ ） ：０．５〜２．０５ｐｐｍ （１１Ｈ，ｍ） ：２．２０〜２．９５ｐｐｍ （２Ｈ，ｍ） ：３．４５ｐｐｍ （１Ｈ，ｍ） ：３．７２〜４．５０ｐｐｍ （１Ｈ，ｂ）¹⁹ ＦＮＭＲスペクトル（ｆｒｏｍ ｅｘｔ．ＣＦ₃ ＣＯ
ＯＨ） ：−２．１７ｐｐｍ ＩＲ吸収スペクトル（ｎｅａｔ） ：１，７３０ｃｍ^-1 （ＣＯ） ：３，５１０ｃｍ^-1 （ＯＨ） ＭＳスペクトル ：ｍ／Ｚ ２１２ （Ｍ⁺ ）

【００７０】また、 ¹ＨＮＭＲスペクトル図およびＩＲ
吸収スペクトル図を、それぞれ図１および図２に示す。

【００７１】（参考例２）〔原料化合物：１−（４−ベ
ンジルオキシベンゾイルオキシ）−２，２，２−トリフ
ルオロエチル ｎ−ヘキシルケトンの製造〕 温度計、攪拌機、還流冷却器および滴下ロートを備えた
四つ口丸底フラスコにｎ−ヘキサンで洗浄精製乾燥した
水素化ナトリウム４．９ｇ（２０４ミリモル）とジエチ
ルエーテル５０ｍｌを入れ、該フラスコを氷水バス中に
挿入し、攪拌しながら、０℃の懸濁液を調合した。

【００７２】次いで滴下ロートに参考例１で得た１−ヒ
ドロキシ−２，２，２−トリフルオロエチル ｎ−ヘキ
シルケトン３６．０ｇ（１７０ミリモル）とジエチルエ
ーテル４５０ｍｌを入れ、均一な溶液とし、攪拌しなが
ら、２８分間かけて滴下した。滴下完了後、氷水バスを
取り去り、攪拌しながら２５℃迄昇温し、引きつづき２
５℃で６０分間攪拌保持し、反応を完結させた。

【００７３】次いで上述のフラスコを、再度、氷水バス
中に挿入し、０℃に保持した。別途、滴下ロートに４−
ベンジルオキシベンゾイルクロリド５０．３ｇ（２０４
ミリモル）とジエチルエーテル２００ｍｌを入れ、攪拌
しながら、５５分間かけて滴下した。滴下完了後、氷水
バスを取り去り、攪拌しながら、２５℃迄昇温させ、引
きつづき２５℃で１５０分間攪拌保持して、反応を完結
させた。

【００７４】反応終了後、２５℃で１規定塩酸１７０ｍ
ｌを入れ、６０分間攪拌保持した後、５％炭酸水素ナト
リウム溶液でｐＨ８に調整した。次いでエーテルで抽出
し、抽出液を水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムを
加えて水分を除去した後、減圧濃縮により溶媒を留去
し、残った淡黄色のシロップ状物質をシリカゲルカラム
クロマトグラフィー〔溶離液ｎ−ヘキサン／イソプロピ
ルアルコール＝９６／４（容量比）〕にて精製した溶液
に、粒状活性炭３ｇを加えて３０分間攪拌した後、粒状
活性炭をろ別し、溶離液を減圧濃縮し、無色透明な液状
の生成物〔収量６１ｇ（１４５ミリモル）、収率８５
％〕を得た。

【００７５】この目的生成物の ¹ＨＮＭＲスペクトル、
¹⁹ＦＮＭＲスペクトル、ＩＲ吸収スペクトルおよびＭＳ
スペクトルを測定した結果は次の通りであり、１−（４
−ベンジルオキシベンゾイルオキシ）−２，２，２−ト
リフルオロエチル ｎ−ヘキシルケトンであることが確
認された。

【００７６】¹ＨＮＭＲスペクトル（ＣＤＣｌ₃ ） ：０．４０〜１．７５ｐｐｍ （１１Ｈ，ｍ） ：２．２０〜２．７２ｐｐｍ （２Ｈ，ｍ） ：３．９０〜４．５５ｐｐｍ （３Ｈ，ｍ） ：６．６５〜７．７１ｐｐｍ （９Ｈ，ｍ）¹⁹ ＦＮＭＲスペクトル（ｆｒｏｍ ｅｘｔ．ＣＦ₃ ＣＯ
ＯＨ） ：−５．５０ｐｐｍ ＩＲ吸収スペクトル（ｎｅａｔ） ：１，７４０ｃｍ^-1 （ＣＯ） ：１，７７０ｃｍ^-1 （ＣＯＯ） ＭＳスペクトル ：ｍ／Ｚ ４２２ （Ｍ⁺ ）

【００７７】また ¹ＨＮＭＲスペクトル図、ＩＲ吸収ス
ペクトル図をそれぞれ図３および図４に示す。

【００７８】〔実施例１〕〔本発明化合物：２−ヒドロ
キシ−１−トリフルオロメチルオクチル＝４−ベンジル
オキシベンゾアートの製造方法〕 （金属水素化物：水素化ジイソブチルアルミニウム）還
流冷却器、温度計、攪拌機および滴下ロートを備えた四
つ口丸底フラスコに参考例２で得た１−（４−ベンジル
オキシベンゾイルオキシ）−２，２，２−トリフルオロ
エチル ｎ−ヘキシルケトン５４．９ｇ（１３０ミリモ
ル）とＴＨＦ１３０ｍｌを入れ、攪拌しながら均一な溶
液とし、氷水バス中に挿入し、０℃に調整した。

【００７９】次いで水素化ジイソブチルアルミニウム２
０．３ｇ（１４３ミリモル）とＴＨＦ１３０ｍｌを滴下
ロートに入れ、上記溶液を攪拌しながら、０℃で２５分
間かけて滴下した。

【００８０】滴下完了後、氷水バスを取り去り、攪拌し
ながら２５℃迄昇温し、引きつづき、２５℃で９０分間
攪拌保持して、反応を完結させた。

【００８１】次いで、上記で得られた反応液を再度、氷
水バスで０℃に冷却し、滴下ロートに１規定塩酸２００
ｍｌを入れ、６分間かけて滴下し、滴下完了後、０℃で
３０分間攪拌保持して反応を完結させた。得られた反応
液をエーテルで抽出し、抽出液に無水硫酸マグネシウム
を加えて水分を除去した後、エーテルを減圧留去し、無
色透明な液状の目的生成物〔収量４８．３ｇ（１１４ミ
リモル）収率８７．３％〕を得た。

【００８２】この目的生成物の ¹ＨＮＭＲスペクトル、
ＩＲ吸収スペクトルおよびＭＳスペクトルを測定した結
果は次の通りであり、２−ヒドロキシ−１−トリフルオ
ロメチルオクチル＝４−ベンジルオキシベンゾアートで
あることが確認された。

【００８３】¹ＨＮＭＲスペクトル（ＣＤＣｌ₃ ） ：０．４５〜１．９２ｐｐｍ （１３Ｈ、ｍ） ：２．８３〜３．２０ｐｐｍ （１Ｈ、ｍ） ：３．８４〜４．２１ｐｐｍ （１Ｈ、ｍ） ：４．２１〜４．６４ｐｐｍ （ＯＨ、ｂ） ：４．７６〜４．９３ｐｐｍ （２Ｈ、ｍ） ：６．６４〜７．８３ｐｐｍ （１０Ｈ、ｍ） ＩＲ吸収スペクトル（ｎｅａｔ） ：１，１１０ｃｍ^-1（ＣＯＣ） ：１，７６０ｃｍ^-1（ＣＯ） ：３，４５０ｃｍ^-1（ＯＨ） ＭＳスペクトル ｍ／Ｚ ４２４（Ｍ⁺ ）

【００８４】¹ＨＮＭＲスペクトル図およびＩＲ吸収ス
ペクトル図を、それぞれ図５および図６に示す。

【００８５】また、この目的生成物の¹⁹ＦＮＭＲスペク
トルを測定した結果は次の通りであった。¹⁹ ＦＮＭＲスペクトル（ｆｒｏｍ ｅｘｔ．ＣＦ₃ ＣＯ
ＯＨ） ：−１．３３ｐｐｍ 面積比 ７０％（syn 体^*1） ：−３．５０ｐｐｍ 面積比 ３０％（anti体^*1） （*1 後記同定例1 により確認）

【００８６】上記の結果および後記同定例１より、実施
例１で得た目的生成物がｓｙｎ−２−ヒドロキシ−１−
トリフルオロメチルオクチル＝４−ベンジルオキシベン
ゾアート／ａｎｔｉ−２−ヒドロキシ−１−トリフルオ
ロメチルオクチル＝４−ベンジルオキシベンゾアート＝
７０／３０（面積比）からなるジアステレオマー混合物
であることが判明した。

【００８７】〔同定例１〕（実施例１におけるｓｙｎ−
２−ヒドロキシ−１−トリフルオロメチルオクチル＝４
−ベンジルオキシベンゾアートおよびａｎｔｉ−２−ヒ
ドロキシ−１−トリフルオロメチルオクチル＝４−ベン
ジルオキシベンゾアートからなるジアステレオマー混合
物の同定） 実施例１で得た目的生成物を用いて以下の同定を行っ
た。まず、実施例１で得た目的生成物を酸で加水分解す
ることによりジオール誘導体を生成した。次いでこのジ
オール誘導体を光学異性体分離用カラムを有するガスク
ロマトグラフィーにかけた結果、光学活性な４本のピー
クが検出され、第１ピークおよび第２ピーク（面積比
１：１）で構成される第１グループと、第３ピークおよ
び第４ピーク（面積比１：１）で構成される第２グルー
プの保持時間に間隔があり、第１グループ／第２グルー
プ＝７０／３０（面積比）であることを確認した。

【００８８】次いで、前記ジオール誘導体をシリカゲル
カラムクロマトグラフィーにかけ、第１フラクションお
よび第２フラクションを分取した。各フラクションをパ
ラトルエンスルホン酸を用いてアセタール交換反応を行
い、１，３−ジオキソラン誘導体とし、２７０ＭＨｚの
¹ＨＮＭＲスペクトルを求めることにより、第１フラク
ションから誘導された１，３−ジオキソラン誘導体がｔ
ｒａｎｓ体であり、第２フラクションから誘導された
１，３−ジオキソラン誘導体がｃｉｓ体であることを確
認し、これより、ジオール誘導体の第１フラクションが
ｓｙｎ体であり、第２フラクションがａｎｔｉ体である
ことが確認された。

【００８９】上記の結果より、実施例１で得た目的生成
物がｓｙｎ−２−ヒドロキシ−１−トリフルオロメチル
オクチル＝４−ベンジルオキシベンゾアート／ａｎｔｉ
−２−ヒドロキシ−１−トリフルオロメチルオクチル＝
４−ベンジルオキシベンゾアート＝７０／３０（面積
比）からなるジアステレオマー混合物であることを確認
した。

【００９０】上記同定例を更に具体的に説明する。還流
冷却器、温度計、攪拌機および滴下ロートを備えた四つ
口丸底フラスコに実施例１で得た目的生成物１２．７２
ｇ（３０ミリモル）、３規定塩酸１５０ｍｌおよびメタ
ノール６００ｍｌを加えて、攪拌しながら、８０℃まで
昇温し、６時間還流して加水分解反応を行った。

【００９１】反応終了後、室温まで冷却した後、エーテ
ル抽出し、得られた抽出液を２０％炭酸水素ナトリウム
水溶液６０ｍｌで洗浄し、次いで水６００ｍｌで洗浄し
た後、無水硫酸マグネシウムを加えて、水分を除去した
後、エーテルを減圧留去し、無色透明な液状の生成物
〔収量５．１４ｇ（２４ミリモル）収率８０％〕を得
た。

【００９２】得られた生成物の ¹ＨＮＭＲスペクトル、
¹⁹ＦＮＭＲスペクトル、ＩＲ吸収スペクトルおよびＭＳ
スペクトルを測定した結果は次の通りであり、１，１，
１−トリフルオロノナン−２，３−ジオールであること
が確認された。¹ ＨＮＭＲスペクトル（ＣＤＣｌ₃ ） ：０．６５〜２．１６ｐｐｍ （１３Ｈ，ｍ） ：２．９０〜３．６０ｐｐｍ （２Ｈ，ｍ） ：３．６０〜４．２４ｐｐｍ （２Ｈ，ｍ）¹⁹ ＦＮＭＲスペクトル（ｆｒｏｍ ｅｘｔ．ＣＦ₃ ＣＯ
ＯＨ） ：−０．４０ｐｐｍ 面積比 ７０％（syn 体^*2） ：−１．８５ｐｐｍ 面積比 ３０％（anti体^*2） （ *2 本同定例により確認） ＩＲ吸収スペクトル（ｎｅａｔ） ：３，４００ｃｍ^-1（ＯＨ） ＭＳスペクトル ：ｍ／Ｚ ２１４（Ｍ⁺ ）

【００９３】また ¹ＨＮＭＲスペクトル図、およびＩＲ
吸収スペクトル図をそれぞれ図７および図８に示す。

【００９４】上記で得た生成物を下記条件で光学異性体
分離用カラムを有するガスクロマトグラフィーにかけ
た。 カラム ：商品名シクロデックスβ２３６Ｍ（クロム
パック社製） 内径０．２５ｍｍφ，長さ２５ｍ シリカキャピラリーカラム カラム温度：８０℃×１０分保持した後、昇温速度４℃
／ｍｉｎで、２００℃まで昇温 キャリアーガス：ヘリウム ：流速 ガス流量７０ｍｌ／ｍｉｎ ：スプリット比１００／１ 検出 ：ＦＩＤ

【００９５】上記ガスクロマトグラフィーのチャートは
図９の通りであり、図９の解析結果は次の通りであり、
光学活性な４本のピークが検出され、第１ピークおよび
第２ピーク（面積比１：１）で構成される第１グループ
と、第３ピークおよび第４ピーク（面積比１：１）で構
成される第２グループの保持時間に間隔が有り、第１グ
ループ／第２グループ＝７０／３０（面積比）であるこ
とを確認した。

【００９６】第１グループ〔第１ピーク／第２ピーク＝
１／１（面積比）〕 〔ｓｙｎ−１，１，１−トリフルオロノナン−２，３−
ジオール^*3〕 ・保持時間：第１ピーク ３６．８分 ：第２ピーク ３７．０分 ・面積比 ：７０％ 第２グループ〔第３ピーク／第４ピーク＝１／１（面積
比）〕 〔ａｎｔｉ−１，１，１−トリフルオロノナン−２，３
−ジオール^*3〕 ・保持時間：第３ピーク ３８．５分 ：第４ピーク ３８．７分 ・面積比 ：３０％ （*3 本同定例により確認）

【００９７】また、生成物〔４．２８ｇ（２０ミリモ
ル）〕をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶離液
ｎ−ヘキサン）にかけ、第１フラクションと第２フラク
ションを分取し、溶媒を留去して次の通り第１フラクシ
ョンと第２フラクションを得た。

【００９８】第１フラクション 〔ｓｙｎ−１，１，１−トリフルオロノナン−２，３−
ジオール^*3〕 ・収得量 ：２．７０ｇ（１２．６ミリモル） ・収得率 ：６３％ 第２フラクション 〔ａｎｔｉ−１，１，１−トリフルオロノナン−２，３
−ジオール^*3〕 ・収得量 ：１．１６ｇ（５．４ミリモル） ・収得率 ：２７％

【００９９】還流冷却器、温度計、攪拌機および滴下ロ
ートを備えた四つ口丸底フラスコに、上記各フラクショ
ンを各４ミリモルと、２，２−ジメトキシプロパン４ｍ
ｇおよびパラトルエンスルホン酸０．１ｇを加えて、９
０℃で５時間還流し、アセタール交換反応を行い、反応
終了後、各反応生成物をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィー（溶離液ｎ−ヘキサン）を用いて分取し、８２℃
で蒸留し、留分を濃縮して、いずれも無色透明な液状の
各生成物を得た。

【０１００】これらの各生成物の６０ＭＨｚの ¹ＨＮＭ
Ｒスペクトル、ＩＲ吸収スペクトルおよびＭＳスペクト
ルを測定した結果は次の通りであり、各々２，２−ジメ
チル−４−ｎ−ヘキシル−５−トリフルオロメチル−
１，３−ジオキソラン（以下、１，３−ジオキソラン誘
導体という）であることが確認された。

【０１０１】¹ＨＮＭＲスペクトル（ＣＤＣｌ₃ ） ：０．８０〜２．００ｐｐｍ （１３Ｈ，ｍ） ：２．８０〜４．３０ｐｐｍ （２Ｈ，ｍ） ＩＲ吸収スペクトル（ｎｅａｔ） ：１，０９０ｃｍ^-1 （ＣＯＣ） ：２，９４０ｃｍ^-1 （ＣＨ） ＭＳスペクトル ：ｍ／Ｚ ２５４ （Ｍ⁺ ）

【０１０２】また ¹ＨＮＭＲスペクトル図、ＩＲ吸収ス
ペクトル図をそれぞれ図１０および図１１に示す。

【０１０３】更に、上記各１，３−ジオキソラン誘導体
を¹⁹ＦＮＭＲスペクトルで測定した結果は、次の通りで
あった。¹⁹ ＦＮＭＲスペクトル（ｆｒｏｍ ｅｘｔ．ＣＦ₃ ＣＯ
ＯＨ） 第１フラクションから誘導された１，３−ジオキソラン
誘導体 ：−０．２７ｐｐｍ 第２フラクションから誘導された１，３−ジオキソラン
誘導体 ：−３．５０ｐｐｍ

【０１０４】また、上記の各１，３−ジオキソラン誘導
体の２７０ＭＨｚの ¹ＨＮＭＲスペクトルを求めた結果
は表１の通りであり、メチル基とメチンプロトンの位置
から、第１フラクションから誘導された１，３−ジオキ
ソラン誘導体は、ｔｒａｎｓ−２，２−ジメチル−４−
ｎ−ヘキシル−５−トリフルオロメチル−１，３−ジオ
キソランであり、第２フラクションから誘導された１，
３−ジオキソラン誘導体は、ｃｉｓ−２，２−ジメチル
−４−ｎ−ヘキシル−５−トリフルオロメチル−１，３
−ジオキソランであることが確認された。

【０１０５】

【表１】

【０１０６】上記の結果より、前述のジオール誘導体の
第１フラクションはｓｙｎ体であり、第２フラクション
はａｎｔｉ体であることが確認され、かつそれらのフラ
クションの取得比率は第１フラクション／第２フラクシ
ョン＝６３／２７（％）〔７０／３０（取得比）〕であ
り、これが前述の面積比と一致したことから、該ジオー
ル誘導体はｓｙｎ−１，１，１−トリフルオロノナン−
２，３−ジオールおよびａｎｔｉ−１，１，１−トリフ
ルオロノナン−２，３−ジオールからなるジアステレオ
マー混合物であり、その生成比率はｓｙｎ体／ａｎｔｉ
体＝７０／３０（面積比）であることが判明した。

【０１０７】従って、実施例１の目的生成物はｓｙｎ−
２−ヒドロキシ−１−トリフルオロメチルオクチル＝４
−ベンジルオキシベンゾアートおよびａｎｔｉ−２−ヒ
ドロキシ−１−トリフルオロメチルオクチル＝４−ベン
ジルオキシベンゾアートからなるジアステレオマー混合
物であリ、その生成比率はｓｙｎ体／ａｎｔｉ体＝７０
／３０（面積比）であることが確認された。

【０１０８】また、実施例１の目的生成物の¹⁹ＦＮＭＲ
スペクトルの第１ピーク（−１．３３ｐｐｍ）と第２ピ
ーク（−３．５０ｐｐｍ）の面積比は７０／３０であ
り、この比が、上記で明らかとなった実施例１の目的生
成物のｓｙｎ体／ａｎｔｉ体の面積比と一致したことよ
り、目的生成物の¹⁹ＦＮＭＲスペクトルの第１ピーク
（−１．３３ｐｐｍ）はｓｙｎ体であり、また第２ピー
ク（−３．５０ｐｐｍ）はａｎｔｉ体であることが判明
した。

【０１０９】従って、目的生成物を¹⁹ＦＮＭＲスペクト
ルで分析することにより得られる２本のピークのうち、
−１．３３ｐｐｍのピークはｓｙｎ−２−ヒドロキシ−
１−トリフルオロメチルオクチル＝４−ベンジルオキシ
ベンゾアートを示し、−３．５０ｐｐｍのピークはａｎ
ｔｉ体−２−ヒドロキシ−１−トリフルオロメチルオク
チル＝４−ベンジルオキシベンゾアートを示すこと、ま
たこれらのピークの面積比から、目的生成物のｓｙｎ体
およびａｎｔｉ体の生成比率を確認出来ることが明確と
なった。

【０１１０】〔実施例２〕〔本発明化合物２−ヒドロキ
シ−１−トリフルオロメチルオクチル＝４−ベンジルオ
キシベンゾアートの製造方法〕 （金属水素化物：水素化アルミニウムリチウム有機溶媒
溶液〕温度計、攪拌機、還流冷却器、および滴下ロート
を備えた四つ口丸底フラスコに、参考例２で得た１−
（４−ベンジルオキシベンゾイルオキシ）−２，２，２
−トリフルオロエチル−ｎ−ヘキシルケトン５４．９ｇ
（１３０ミリモル）とＴＨＦ１９５ｍｌを入れ、他方、
滴下ロートに水素化アルミニウムリチウム溶液３４ｍｌ
〔水素化アルミニウムリチウム１．２９ｇ（３４ミリモ
ル）をＴＨＦ溶媒で溶解した水素化アルミニウムリチウ
ム溶液〔濃度１モル／リットル（アルドリッチ社製）〕
を入れた以外は実施例１と同様に反応を行い、無色透明
な液状の目的生成物〔収量４８．５ｇ（１１５ミリモ
ル）収率８８．２％〕を得た。

【０１１１】この目的生成物の ¹ＨＮＭＲスペクトル、
ＩＲ吸収スペクトルおよびＭＳスペクトルを測定した結
果は実施例１と同様であり、２−ヒドロキシ−１−トリ
フルオロメチルオクチル＝４−ベンジルオキシベンゾア
ートであることが確認された。

【０１１２】また、実施例２で得た目的生成物を¹⁹ＦＮ
ＭＲスペクトルを測定した結果、次の通りであった。¹⁹ ＦＮＭＲスペクトル（ｆｒｏｍ ｅｘｔ．ＣＦ₃ ＣＯ
ＯＨ） ：−１．３３ｐｐｍ 面積比 ２５％（syn 体^*4） ：−３．５０ｐｐｍ 面積比 ７５％（anti体^*4） （*4 後記同定例２により確認）

【０１１３】上記の結果と、同定例２より、実施例２で
得た目的生成物がｓｙｎ−２−ヒドロキシ−１−トリフ
ルオロメチルアルキル＝４−ベンジルオキシベンゾアー
ト／ａｎｔｉ−２−ヒドロキシ−１−トリフルオロメチ
ルアルキル＝４−ベンジルオキシベンゾアート＝２５／
７５（面積比）からなるジアステレオマー混合物である
ことが判明した。

【０１１４】（同定例２）（実施例２におけるｓｙｎ−
２−ヒドロキシ−１−トリフルオロメチルオクチル＝４
−ベンジルオキシベンゾアートおよびａｎｔｉ−２−ヒ
ドロキシ−１−トリフルオロメチルオクチル＝４−ベン
ジルオキシベンゾアートからなるジアステレオマー混合
物の同定） 実施例１で得た目的生成物に代えて、実施例２で得た目
的生成物を用いた以外は、同定例１と同様にして同定を
行なった結果、該生成物を酸で加水分解することにより
生成した１，１，１−トリフルオロノナン−２，３−ジ
オールを光学異性体分離用カラムを有するガスクロマト
グラフィーで分析したチャートは図１２の通りであり、
図１２の解析結果は次の通りであった。

【０１１５】第１グループ〔第１ピーク／第２ピーク＝
１／１（面積比）〕 〔ｓｙｎ−１，１，１−トリフルオロノナン−２，３−
ジオール^*5〕 ・保持時間：第１ピーク ３６．８分 ：第２ピーク ３７．０分 ・面積比 ：２５％ 第２グループ〔第３ピーク／第４ピーク＝１／１（面積
比）〕 〔ａｎｔｉ−１，１，１−トリフルオロノナン−２，３
−ジオール^*5〕 ・保持時間：第３ピーク ３８．５分 ：第４ピーク ３８．７分 ・面積比 ：７５％ （*5 本同定例により確認）

【０１１６】また、上記生成物〔４．７１ｇ（２２ミリ
モル）〕をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶離
液ｎ−ヘキサン）にかけ、第１フラクションと第２フラ
クションを分取し、溶媒を留去して次の通り第１フラク
ションと第２フラクションを得た。

【０１１７】第１フラクション 〔ｓｙｎ−１，１，１−トリフルオロノナン−２，３−
ジオール^*5〕 ・収得量 ：１．０６ｇ（５．０ミリモル） ・収得率 ：２２．５％ 第２フラクション 〔ａｎｔｉ−１，１，１−トリフルオロノナン−２，３
−ジオール^*5〕 ・収得量 ：３．１８ｇ（１４．９ミリモル） ・収得率 ：６７．５％ （*5 本同定例により確認）

【０１１８】また、上記各フラクションを６０ＭＨｚの
¹ＨＮＭＲスペクトル、ＩＲ吸収スペクトルおよびＭＳ
スペクトルにかけ確認された、各２，２−ジメチル−４
−ｎ−ヘキシル−５−トリフルオロノナン−１，３−ジ
オキソランの２７０ＭＨｚの¹ＨＮＭＲスペクトルを求
めた結果は、同定例１と同じであった。

【０１１９】以上の結果より、同定例１と同様の理由
で、実施例２で得た目的生成物がｓｙｎ−２−ヒドロキ
シ−１−トリフルオロメチルアルキル＝４−ベンジルオ
キシベンゾアート／ａｎｔｉ−２−ヒドロキシ−１−ト
リフルオロメチルアルキル＝４−ベンジルオキシベンゾ
アート＝２５／７５（面積比）からなるジアステレオマ
ー混合物であることが裏付けられた。

【０１２０】

【発明の効果】本発明は、大画面液晶ディスプレイ等の
素材である反強誘電性液晶化合物の中間原料として有用
である新規な２−ヒドロキシ−１−トリフルオロメチル
アルキル＝４−ベンジルオキシベンゾアートの提供であ
り、また該化合物を効率的に高収率で製造することが出
来る製法を提供するものであり、更に本発明の製法では
ｓｙｎ体およびａｎｔｉ体を選択的に有為に製造するこ
とができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】参考例１で得た１−ヒドロキシ−２，２，２−
トリフルオロエチル ｎ−ヘキシルケトンの ¹ＨＮＭＲ
スペクトル図である。

【図２】参考例１で得た１−ヒドロキシ−２，２，２−
トリフルオロエチル ｎ−ヘキシルケトンのＩＲ吸収ス
ペクトル図である。

【図３】参考例２で得た１−（４−ベンジルオキシベン
ゾイルオキシ）−２，２，２−トリフルオロエチル ｎ
−ヘキシルケトンの ¹ＨＮＭＲスペクトル図である。

【図４】参考例２で得た１−（４−ベンジルオキシベン
ゾイルオキシ）−２，２，２−トリフルオロエチル ｎ
−ヘキシルケトンのＩＲ吸収スペクトル図である。

【図５】実施例１で得た２−ヒドロキシ−１−トリフル
オロメチルオクチル＝４−ベンジルオキシベンゾアート
の ¹ＨＮＭＲスペクトル図である。

【図６】実施例１で得た２−ヒドロキシ−１−トリフル
オロメチルオクチル＝４−ベンジルオキシベンゾアート
のＩＲ吸収スペクトル図である。

【図７】同定例１で得た１，１，１−トリフルオロノナ
ン−２，３−ジオールの ¹ＨＮＭＲスペクトル図であ
る。

【図８】同定例１で得た１，１，１−トリフルオロノナ
ン−２，３−ジオールのＩＲ吸収スペクトル図である。

【図９】同定例１で得た１，１，１−トリフルオロノナ
ン−２，３−ジオールの光学異性体分離用カラムを有す
るガスクロマトグラフィーのチャートである。

【図１０】同定例１で得た２，２−ジメチル−４−ｎ−
ヘキシル−５−トリフルオロメチル−１，３−ジオキソ
ランの ¹ＨＮＭＲスペクトル図である。

【図１１】同定例１で得た２，２−ジメチル−４−ｎ−
ヘキシル−５−トリフルオロメチル−１，３−ジオキソ
ランのＩＲ吸収スペクトル図である。

【図１２】実施例２で得た１，１，１−トリフルオロノ
ナン−２，３−ジオールの光学異性体分離用カラムを有
するガスクロマトグラフィーのチャートである。

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 式（１）で示される２−ヒドロキシ−１
   −トリフルオロメチルアルキル＝４−ベンジルオキシベ
   ンゾアート。 【化１】
2. 【請求項２】 有機溶剤中で、式（２）で示される１−
   （４−ベンジルオキシベンゾイルオキシ）−２，２，２
   −トリフルオロエチルアルキルケトンを金属水素化物を
   用いて還元することを特徴とする請求項１記載の２−ヒ
   ドロキシ−１−トリフルオロメチルアルキル＝４−ベン
   ジルオキシベンゾアートの製造方法。 【化２】