JPH04316538A - 光学活性3,5−アンチ−ジヒドロキシカルボン酸エステル誘導体の製造法 - Google Patents

光学活性3,5−アンチ−ジヒドロキシカルボン酸エステル誘導体の製造法

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JPH04316538A
JPH04316538A JP3020379A JP2037991A JPH04316538A JP H04316538 A JPH04316538 A JP H04316538A JP 3020379 A JP3020379 A JP 3020379A JP 2037991 A JP2037991 A JP 2037991A JP H04316538 A JPH04316538 A JP H04316538A
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JP
Japan
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methyl
formula
group
mmol
compound
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Pending
Application number
JP3020379A
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English (en)
Inventor
Mitsuyo Sugiura
光代 杉浦
Kazutoshi Miyazawa
宮沢 和利
Naoyuki Yoshida
尚之 吉田
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JNC Corp
Original Assignee
Chisso Corp
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Publication date
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Publication of JPH04316538A publication Critical patent/JPH04316538A/ja
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    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02PCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P20/00Technologies relating to chemical industry
    • Y02P20/50Improvements relating to the production of bulk chemicals
    • Y02P20/55Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups

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  • Heterocyclic Compounds That Contain Two Or More Ring Oxygen Atoms (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、特定の光学活性3−ヒ
ドロキシカルボン酸エステルを用いた一般式
【0002
【化3】
【0003】(式中、R1 およびR4 はアルキル基
、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、またはア
ラルキル基、R3 は水素または一体となってイソプロ
ピリデン基を示す。*は不斉炭素を示す。)で表される
光学活性3,5−アンチ−ジヒドロキシカルボン酸エス
テル誘導体の製造法に関する。前記一般式(I)で表さ
れる光学活性3,5−アンチ−ジヒドロキシカルボン酸
エステル誘導体は、様々な生理活性物質や機能性物質の
合成中間体として非常に有用な化合物である。例えば、
本化合物を中間体として高脂血症治療薬として有用なコ
ンパクチン類縁体を合成する事が出来る。
【0004】
【従来の技術】3,5−ジヒドロキシカルボン酸エステ
ル誘導体においては、2つの不斉中心に起因する4つの
光学異性体((3R,5R)−、(3S,5S)−、(
3R,5S)−および(3S,5R)−体)が存在する
が、目的物が十分な生理活性や機能を発現するためには
特定の一つの異性体を光学活性体として合成する必要が
ある。
【0005】光学活性の3,5−syn −ジヒドロキ
シカルボン酸エステル誘導体((3R,5R)−または
(3S,5S)−体)の合成法に関しては、(1) ア
セト酢酸エステルジアニオンをアルデヒドに付加して得
られるδ−ヒドロキシ−β−ケトエステル体を水添する
方法(Kathawalaら、Helvetica C
himica Acta, 69, 803(1986
))、(2) cis −シクロヘキサン−1,3,5
−トリオールを出発物質とする方法(Prasadら、
Tetrahedron Lett., 25, 48
89(1984))、(3) アセト酢酸エステルジア
ニオンおよびN−メトキシN−メチルアミドとの反応に
よって得られるβ,δ−ジケトエステル体を還元する方
法(Hanamotoら、Tetrahedron L
ett., 29, 6467(1988))、(4)
 光学活性(R)−または(S)−リンゴ酸を出発物質
とする方法(Prasadら、Tetrahedron
: Asymmetry, 1, 307(1990)
)等を始めとする多くの方法が知られている。
【0006】これに対して光学活性3,5−アンチ−ジ
ヒドロキシカルボン酸エステル誘導体((3R,5S)
−または(3S,5R)−体)の合成法としては、■光
学活性(R)−または(S)−リンゴ酸を出発物質とす
る方法(Prasadら、Tetrahedron: 
Asymmetry, 1, 307(1990))、
■光学活性(R)−2−ヒドロキシ−1,2,2−トリ
フェニルエチルアセテートと光学活性アルデヒドとのア
ルドール反応を利用する方法(Mahlerら、Che
m. Ber. 121,2035(1988)) 、
■酵母還元を用いる方法(Satoら、Can. J.
 Chem., 65, 2732(1987))、■
酵母還元と化学的還元を組み合わせる方法(Chris
tenら、J. Chem. Soc., Chem.
 Commn., 1988, 264)等が知られて
いるにすぎない。
【0007】■の方法は、高価なLDAを過剰に用いる
上にリチウム酢酸t−ブチルを反応させる際に−78℃
という低温条件が必要である。■の方法も、アルドール
反応の際に−130 ℃という低温条件が必要であり、
また不斉源の入手が困難であるため実用性に乏しい。■
の方法は、エステルの還元及びリチウム酢酸エチルの付
加反応の二工程において−78℃という低温条件が必要
であり、しかも付加反応の立体選択性が低いため、ラク
トン体に誘導してクロマト分離する工程が必要となる。
【0008】■の方法は、■〜■の方法に比べればより
実用的であるが、酵母還元が大量合成に不向きである上
に、還元による生成物の光学純度が低い。また増炭反応
の収率が低い。以上のように何れの方法も工業的レベル
で実用化するには、程遠いものがほとんどであった。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】以上のことから、生理
活性物質や機能性物質の合成中間体として極めて応用範
囲の広い有用な光学活性3,5−アンチ−ジヒドロキシ
カルボン酸エステル誘導体の簡便な製造法の開発が強く
要望されていた。本発明者らは光学活性3,5−アンチ
−ジヒドロキシカルボン酸エステル誘導体を効率よく大
量に得るという目的を達成するため鋭意検討した結果、
前記一般式(I)で表される光学活性3,5−アンチ−
ジヒドロキシカルボン酸エステル誘導体を効率よく大量
に得る製造法を見出し本発明に至った。
【0010】
【課題を解決するための手段】本発明は、一般式
【00
11】
【化4】
【0012】(式中、R1 およびR2 はアルキル基
、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、またはア
ラルキル基、*は不斉炭素を示す。)で表される光学活
性3−ヒドロキシカルボン酸エステルから、マグネシウ
ムマロネートを反応させる増炭反応により、光学活性5
−ヒドロキシ−3−ケトカルボン酸エステルを得て、こ
の化合物から、一般式
【0013】
【化5】
【0014】(式中、R1 およびR4 はアルキル基
、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、またはア
ラルキル基、R3 は水素または一体となってイソプロ
ピリデン基を示す。*は不斉炭素を示す。)で表される
化合物を得ることを特徴とする光学活性3,5−アンチ
−ジヒドロキシカルボン酸エステル誘導体の製造法であ
る。次に本発明について詳細に述べる。本発明の光学活
性3,5−アンチ−ジヒドロキシカルボン酸エステル誘
導体(I)は、以下の反応工程に従って製造することが
できる。
【0015】
【化6】
【0016】(式中、R1 、R2 およびR4 はア
ルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、
またはアラルキル基を示し、R5 は保護基を示す。*
は不斉炭素を示す。)出発物質である(IV)で表され
る化合物は、ラセミ体の3−ヒドロキシカルボン酸エス
テルをリパーゼを用いて光学分割することにより(R)
−、(S)−体の各々を光学純度良く取得する事が出来
る(特開平2−219598)。
【0017】次に、式(V) で表される化合物は、式
(IV)で表される化合物の水酸基を常法に従って保護
することにより容易に合成できる。保護基の例としては
、テトラヒドロピラニル基、t−ブチルジメチルシリル
基、ベンジル基、メトキシエトキシメチル基等が挙げら
れる。例えば、テトラヒドロピラニル基はピリジニウム
 p−トルエンスルホネート等を触媒とする3,4−ジ
ヒドロ−2H−ピランとの反応により、容易に導入する
ことが出来る。
【0018】式(V) で表される化合物は、塩基性条
件下に加水分解を行うことにより、式(VI)で表され
る化合物に容易に変換することが出来る。反応に用いら
れる塩基の例としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリ
ウム、水酸化リチウム等が挙げられる。反応溶媒として
は、無溶媒またはメタノール、エタノール等のアルコー
ル系溶媒、これらと水との混合溶媒を用いることが出来
る。反応温度は−20℃〜−50℃が適当であり、特に
好ましくは0℃〜25℃である。
【0019】式(VII)で表される化合物は、式(V
I)で表される化合物をN,N’−カルボニルジイミダ
ゾールと反応させてイミダゾライドとした後に、マロン
酸モノアルキルエステルとマグネシウム化合物とから調
製したマグネシウムマロネートと反応させることにより
良好な収率で得ることが出来る。反応に用いられるマグ
ネシウム化合物の例としては、塩化マグネシウム、臭化
マグネシウム等のハロゲン化マグネシウム、塩化イソプ
ロピルマグネシウム、臭化イソプロピルマグネシウム等
のハロゲン化アルキルマグネシウム等が挙げられる。反
応溶媒としては、テトラヒドロフラン、エーテル等のエ
ーテル系溶媒を用いることが出来る。反応温度は−30
℃〜50℃が適当であり、特に好ましくは0℃〜25℃
である。
【0020】式(VII)で表される化合物は、水酸基
の保護基を適当な方法で脱保護することにより式(VI
II) で表される化合物に容易に変換することが出来
る。例えば水酸基がテトラヒドロピラニル基で保護され
た化合物は、酸性条件下脱保護される。反応に用いられ
る酸の例としては、酢酸、塩酸、p−トルエンスルホン
酸、ピリジニウム p−トルエンスルホネート等が挙げ
られる。反応溶媒としては、メタノール、エタノール等
のアルコール系溶媒、テトラヒドロフラン等のエーテル
系溶媒、またはこれらと水との混合溶媒を用いることが
出来る。反応温度は−20℃〜100 ℃が適当であり
、特に好ましくは0℃〜50℃である。
【0021】式(I−1)((I)式においてR3 が
水素のもの)で表される化合物は、式(VIII)で表
される化合物を適当な還元剤を用いて高立体選択的に還
元することにより得ることが出来る。反応に用いられる
還元剤の例としては、水素化ホウ素テトラメチルアンモ
ニウム、水素化ホウ素テトラブチルアンモニウム、水素
化ホウ素ナトリウム、テトラメチルアンモニウムトリア
セトキシボロヒドリド、テトラブチルアンモニウムトリ
アセトキシボロヒドリド、ナトリウムトリアセトキシボ
ロヒドリド等が挙げられる。反応溶媒としては、酢酸、
プロピオン酸等の低級カルボン酸、またはこれらとアセ
トニトリル、テトラヒドロフラン、アセトン等との混合
溶媒を用いることが出来るが、その際の酢酸の割合は全
体の10%以上、より好ましくは50%以上である。反
応温度は−78℃〜50℃が適当であり、特に好ましく
は−40℃〜25℃である。
【0022】最後に、式(I−1) で表される化合物
はピリジニウム p−トルエンスルホネート等を触媒と
して2,2−ジメトキシプロパンと反応させることによ
り、式(I−2)((I)式においてR3 がイソプロ
ピリデン基のもの)で表される化合物に容易に導くこと
が出来る。 以上の操作により、光学活性(3R,5S)−または(
3S,5R)−3,5−ジヒドロキシカルボン酸エステ
ル誘導体(I)を各々得ることが出来る。
【0023】以上のようにして得られる光学活性3,5
−アンチ−ジヒドロキシカルボン酸エステル誘導体のう
ち代表的なものの名称を以下に示す。 (3R,5S)−3,5−ジヒドロキシヘキサン酸メチ
ル、(3R,5S)−3,5−ジヒドロキシヘキサン酸
エチル、(3R,5S)−3,5−ジヒドロキシヘキサ
ン酸プロピル、(3R,5S)−3,5−ジヒドロキシ
ヘキサン酸イソプロピル、(3R,5S)−3,5−ジ
ヒドロキシヘキサン酸ブチル。
【0024】(3R,5S)−3,5−ジヒドロキシヘ
プタン酸メチル、(3R,5S)−3,5−ジヒドロキ
シヘプタン酸エチル、(3R,5S)−3,5−ジヒド
ロキシヘプタン酸プロピル、(3R,5S)−3,5−
ジヒドロキシヘプタン酸イソプロピル、(3R,5S)
−3,5−ジヒドロキシヘプタン酸ブチル。 (3R,5S)−3,5−ジヒドロキシオクタン酸メチ
ル、(3R,5S)−3,5−ジヒドロキシオクタン酸
エチル、(3R,5S)−3,5−ジヒドロキシオクタ
ン酸プロピル、(3R,5S)−3,5−ジヒドロキシ
オクタン酸イソプロピル、(3R,5S)−3,5−ジ
ヒドロキシオクタン酸ブチル。
【0025】(3R,5S)−3,5−ジヒドロキシ−
6−メチルヘプタン酸メチル、(3R,5S)−3,5
−ジヒドロキシ−6−メチルヘプタン酸エチル、(3R
,5S)−3,5−ジヒドロキシ−6−メチルヘプタン
酸プロピル、(3R,5S)−3,5−ジヒドロキシ−
6−メチルヘプタン酸イソプロピル、(3R,5S)−
3,5−ジヒドロキシ−6−メチルヘプタン酸ブチル。
【0026】(3R,5S)−3,5−ジヒドロキシ−
6−ヘプテン酸メチル、(3R,5S)−3,5−ジヒ
ドロキシ−6−オクテン酸メチル、(3R,5S)−3
,5−ジヒドロキシ−6−ヘプチン酸メチル、(3R,
5S)−3,5−ジヒドロキシ−6−オクチン酸メチル
、(3R,5S)−3,5−ジヒドロキシ−5−フェニ
ルペンタン酸メチル、(3R,5S)−3,5−ジヒド
ロキシ−6−フェニルペンタン酸メチル、(3R,5S
)−3,5−ジヒドロキシ−7−フェニルペンタン酸メ
チル。
【0027】(3S,5R)−3,5−ジヒドロキシヘ
キサン酸メチル、(3S,5R)−3,5−ジヒドロキ
シヘキサン酸エチル、(3S,5R)−3,5−ジヒド
ロキシヘキサン酸プロピル、(3S,5R)−3,5−
ジヒドロキシヘキサン酸イソプロピル、(3S,5R)
−3,5−ジヒドロキシヘキサン酸ブチル。 (3S,5R)−3,5−ジヒドロキシヘプタン酸メチ
ル、(3S,5R)−3,5−ジヒドロキシヘプタン酸
エチル、(3S,5R)−3,5−ジヒドロキシヘプタ
ン酸プロピル、(3S,5R)−3,5−ジヒドロキシ
ヘプタン酸イソプロピル、(3S,5R)−3,5−ジ
ヒドロキシヘプタン酸ブチル。
【0028】(3S,5R)−3,5−ジヒドロキシオ
クタン酸メチル、(3S,5R)−3,5−ジヒドロキ
シオクタン酸エチル、(3S,5R)−3,5−ジヒド
ロキシオクタン酸プロピル、(3S,5R)−3,5−
ジヒドロキシオクタン酸イソプロピル、(3S,5R)
−3,5−ジヒドロキシオクタン酸ブチル。 (3S,5R)−3,5−ジヒドロキシ−6−メチルヘ
プタン酸メチル、(3S,5R)−3,5−ジヒドロキ
シ−6−メチルヘプタン酸エチル、(3S,5R)−3
,5−ジヒドロキシ−6−メチルヘプタン酸プロピル、
(3S,5R)−3,5−ジヒドロキシ−6−メチルヘ
プタン酸イソプロピル、(3S,5R)−3,5−ジヒ
ドロキシ−6−メチルヘプタン酸ブチル。
【0029】(3S,5R)−3,5−ジヒドロキシ−
6−ヘプテン酸メチル、(3S,5R)−3,5−ジヒ
ドロキシ−6−オクテン酸メチル、(3S,5R)−3
,5−ジヒドロキシ−6−ヘプチン酸メチル、(3S,
5R)−3,5−ジヒドロキシ−6−オクチン酸メチル
、(3S,5R)−3,5−ジヒドロキシ−5−フェニ
ルペンタン酸メチル、(3S,5R)−3,5−ジヒド
ロキシ−6−フェニルペンタン酸メチル、(3S,5R
)−3,5−ジヒドロキシ−7−フェニルペンタン酸メ
チル。
【0030】(3R,5S)−3,5−O−イソプロピ
リデンヘキサン酸メチル、(3R,5S)−3,5−O
−イソプロピリデンヘキサン酸エチル、(3R,5S)
−3,5−O−イソプロピリデンヘキサン酸プロピル、
(3R,5S)−3,5−O−イソプロピリデンヘキサ
ン酸イソプロピル、(3R,5S)−3,5−O−イソ
プロピリデンヘキサン酸ブチル。
【0031】(3R,5S)−3,5−O−イソプロピ
リデンヘプタン酸メチル、(3R,5S)−3,5−O
−イソプロピリデンヘプタン酸エチル、(3R,5S)
−3,5−O−イソプロピリデンヘプタン酸プロピル、
(3R,5S)−3,5−O−イソプロピリデンヘプタ
ン酸イソプロピル、(3R,5S)−3,5−O−イソ
プロピリデンヘプタン酸ブチル。
【0032】(3R,5S)−3,5−O−イソプロピ
リデンオクタン酸メチル、(3R,5S)−3,5−O
−イソプロピリデンオクタン酸エチル、(3R,5S)
−3,5−O−イソプロピリデンオクタン酸プロピル、
(3R,5S)−3,5−O−イソプロピリデンオクタ
ン酸イソプロピル、(3R,5S)−3,5−O−イソ
プロピリデンオクタン酸ブチル。
【0033】(3R,5S)−3,5−O−イソプロピ
リデン−6−メチルヘプタン酸メチル、(3R,5S)
−3,5−O−イソプロピリデン−6−メチルヘプタン
酸エチル、(3R,5S)−3,5−O−イソプロピリ
デン−6−メチルヘプタン酸プロピル、(3R,5S)
−3,5−O−イソプロピリデン−6−メチルヘプタン
酸イソプロピル、(3R,5S)−3,5−O−イソプ
ロピリデン−6−メチルヘプタン酸ブチル。
【0034】(3R,5S)−3,5−O−イソプロピ
リデン−6−ヘプテン酸メチル、(3R,5S)−3,
5−O−イソプロピリデン−6−オクテン酸メチル、(
3R,5S)−3,5−O−イソプロピリデン−6−ヘ
プチン酸メチル、(3R,5S)−3,5−O−イソプ
ロピリデン−6−オクチン酸メチル、(3R,5S)−
3,5−O−イソプロピリデン−5−フェニルペンタン
酸メチル、(3R,5S)−3,5−O−イソプロピリ
デン−6−フェニルペンタン酸メチル、(3R,5S)
−3,5−O−イソプロピリデン−7−フェニルペンタ
ン酸メチル。
【0035】(3S,5R)−3,5−O−イソプロピ
リデンヘキサン酸メチル、(3S,5R)−3,5−O
−イソプロピリデンヘキサン酸エチル、(3S,5R)
−3,5−O−イソプロピリデンヘキサン酸プロピル、
(3S,5R)−3,5−O−イソプロピリデンヘキサ
ン酸イソプロピル、(3S,5R)−3,5−O−イソ
プロピリデンヘキサン酸ブチル。
【0036】(3S,5R)−3,5−O−イソプロピ
リデンヘプタン酸メチル、(3S,5R)−3,5−O
−イソプロピリデンヘプタン酸エチル、(3S,5R)
−3,5−O−イソプロピリデンヘプタン酸プロピル、
(3S,5R)−3,5−O−イソプロピリデンヘプタ
ン酸イソプロピル、(3S,5R)−3,5−O−イソ
プロピリデンヘプタン酸ブチル、(3S,5R)−3,
5−O−イソプロピリデンオクタン酸メチル、(3S,
5R)−3,5−O−イソプロピリデンオクタン酸エチ
ル、(3S,5R)−3,5−O−イソプロピリデンオ
クタン酸プロピル、(3S,5R)−3,5−O−イソ
プロピリデンオクタン酸イソプロピル、(3S,5R)
−3,5−O−イソプロピリデンオクタン酸ブチル。
【0037】(3S,5R)−3,5−O−イソプロピ
リデン−6−メチルヘプタン酸メチル、(3S,5R)
−3,5−O−イソプロピリデン−6−メチルヘプタン
酸エチル、(3S,5R)−3,5−O−イソプロピリ
デン−6−メチルヘプタン酸プロピル、(3S,5R)
−3,5−O−イソプロピリデン−6−メチルヘプタン
酸イソプロピル、(3S,5R)−3,5−O−イソプ
ロピリデン−6−メチルヘプタン酸ブチル。
【0038】(3S,5R)−3,5−O−イソプロピ
リデン−6−ヘプテン酸メチル、(3S,5R)−3,
5−O−イソプロピリデン−6−オクテン酸メチル、(
3S,5R)−3,5−O−イソプロピリデン−6−ヘ
プチン酸メチル、(3S,5R)−3,5−O−イソプ
ロピリデン−6−オクチン酸メチル、(3S,5R)−
3,5−O−イソプロピリデン−5−フェニルペンタン
酸メチル、(3S,5R)−3,5−O−イソプロピリ
デン−6−フェニルペンタン酸メチル、(3S,5R)
−3,5−O−イソプロピリデン−7−フェニルペンタ
ン酸メチル等である。
【0039】
【発明の効果】本発明の効果を列挙すれば、以下の通り
である。 1.反応が0℃〜室温付近の穏和な条件下で行える為、
特別な装置を必要としない。 2.操作が簡便である。
【0040】3.光学純度の高い生成物を得る事ができ
る。 4.出発物質が容易に入手できる。 すなわち、本発明の製造法は、生理活性物質や機能性物
質の合成中間体として極めて応用範囲の広い有用な化合
物である光学活性3,5−アンチ−ジヒドロキシカルボ
ン酸エステル誘導体を効率的に、しかも大量に得ること
ができる優れた方法である。
【0041】
【実施例】以下、実施例により本発明を更に詳しく説明
するが、本発明はこれらの実施例によって制限されるも
のではない。 実施例1 (3R,5S)−3,5−ジヒドロキシヘプタン酸メチ
ル及び(3R,5S)−3,5−O−イソプロピリデン
ヘプタン酸メチルの製造 工程1 dl−3−ヒドロキシペンタン酸メチル9.1g、トリ
カプロイン29.0g、リパーゼアマノP3.0gの混
合物を38℃で70時間攪拌した。吸引濾過によりリパ
ーゼを除去した後、蒸留により精製を行い、(S)−(
+)−3−ヒドロキシペンタン酸メチル3.8g、及び
蒸留残渣として(R)−(+)−3−ヘキサノイルオキ
シペンタン酸メチル5.7gを得た。(S)−(+)−
3−ヒドロキシペンタン酸メチル2.3gとトリカプロ
イン7.0g、リパーゼアマノP1.0gの混合物を、
再び38℃で70時間攪拌した。吸引濾過によりリパー
ゼを除去した後、蒸留により精製を行い、(S)−(+
)−3−ヒドロキシペンタン酸メチル0.9g、及び蒸
留残渣として(R)−(+)−3−ヘキサノイルオキシ
ペンタン酸メチル0.4gを得た。Eu(hfc)3を
シフト試薬として用いNMRにより(S)−(+)−3
−ヒドロキシペンタン酸メチルの光学純度を検定したと
ころ、約99%eeであることが判った。本化合物の 
1HNMRチャートは良くその構造を支持していた。
【0042】また、物性値は以下の通りであった。 沸点:62.5〜63.5℃/6mmHg比旋光度:+
37.9°(cl.46, CHCl3) 。 工程2 (S)−3−ヒドロキシペンタン酸メチル31.70g
(240mmol) 、3,4−ジヒドロ−2H−ピラ
ン30.56g(363mmol) 、塩化メチレン3
00ml の混合物に、氷冷下ピリジニウム p−トル
エンスルホネート(以下PPTSと略記する) 6.1
1g(24.3mmol)(少量の塩化メチレンに溶解
)を加え、室温で6時間攪拌した。反応混合物を食塩水
(300ml)に注ぎ、酢酸エチル(200ml ×4
)で抽出した。抽出液を水、飽和食塩水(各100ml
)で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウム上で乾燥した。 濾過、溶媒留去して、粗製の(S)−3−テトラヒドロ
ピラニルオキシペンタン酸メチル54.76gを得た。
【0043】本化合物は 1H NMRチャート解析に
より同定した。 1H NMR(CDCl3)のデータ
を下記に示す。  1H NMR:δ0.9(dt, 3H), 1.3
−2.1(m, 8H), 2.3−2.9(m, 2
H),3.3−4.2(m, 2H), 3.7(s,
 3H), 4.0(quint, 1H), 4.6
−5.0(m, 1H) 。 工程3 粗製の(S)−3−テトラヒドロピラニルオキシペンタ
ン酸メチル10.18g(44.6mmol)をメタノ
ール22.3mlに溶解し、氷冷下、10%水酸化カリ
ウム水溶液44.6ml(89.2mmol)を滴下し
た。氷冷下4時間、更に室温で30分間攪拌した。反応
混合物を6N塩酸(14.9ml)で中和した後、塩化
メチレン(150ml×4)で抽出した。抽出液を無水
硫酸マグネシウム上で乾燥、濾過、溶媒留去し、粗製の
(S)−3−テトラヒドロピラニルオキシペンタン酸8
.81gを得た。
【0044】本化合物は 1H NMRチャート解析に
より同定した。 1H NMR(CDCl3)のデータ
を下記に示す。  1H NMR:δ0.9(dt, 3H), 1.3
−2.1(m, 8H), 2.3−2.9(m, 2
H),3.3−3.7(m, 1H), 3.7−4.
2(m, 1H), 4.0(quint, 1H),
4.6−5.1(m, 1H),9.8(brs, 1
H) 。
【0045】工程4 粗製の(S)−3−テトラヒドロピラニルオキシペンタ
ン酸8.81g(43.6mmol)をテトラヒドロフ
ラン88mlに溶解し、氷冷下、N,N’−カルボニル
ジイミダゾール10.86g(67.0mmol)を加
えて室温で20時間攪拌し、イミダゾライドを得た。マ
ロン酸モノメチルエステル10.34g(87.6mm
ol)をテトラヒドロフラン100ml に溶解し、氷
冷下塩化マグネシウム4.86g(51.0mmol)
 を加えた。続いてトリエチルアミン14ml(100
mmol) を内温が10℃以下を保つように滴下し、
同温度で1時間攪拌した。前記イミダゾライドを滴下し
た後、室温で48時間攪拌した。反応混合物を塩化アン
モニウム54gを含む水(200ml) に注ぎ、酢酸
エチル(100ml×4)で抽出した。抽出液を1N塩
酸、飽和重曹水、水、飽和食塩水(各50ml)で順次
洗浄後、無水硫酸マグネシウム上で乾燥した。濾過、溶
媒留去し、粗製の(S)−3−オキソ−5−テトラヒド
ロピラニルオキシヘプタン酸メチル13.20gを得た
。シリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘプタン:酢
酸エチル10:1→5:1)で精製し、(S)−3−オ
キソ−5−テトラヒドロピラニルオキシヘプタン酸メチ
ル8.98g(34.8mmol) を得た。工程1で
得られた(S)−3−ヒドロキシペンタン酸メチルから
の通算収率は78%であった。
【0046】本化合物は 1H NMRチャート解析に
より同定した。 1H NMR(CDCl3)のデータ
を下記に示す。  1H NMR:δ0.9(dt, 3H), 1.3
−2.0(m, 8H), 2.3−3.0(m, 2
H),3.2−4.2(m, 5H), 3.7(s,
 3H), 4.5−4.8(m, 1H) 。 工程5 (S)−3−オキソ−5−テトラヒドロピラニルオキシ
ヘプタン酸メチル8.98g(34.8mmol)、メ
タノール90ml、水45mlの混合物に、氷冷下、p
−トルエンスルホン酸1水和物8.68g(45.6m
mol)(少量の水に溶解)を滴下し、同温度で5時間
攪拌した。反応混合物を、重曹39gを含む水(180
ml)に注ぎ、酢酸エチル(100ml×4)で抽出し
た。抽出液を、飽和重曹水、水、飽和食塩水(各50m
l)で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウム上で乾燥した
。濾過、溶媒留去し、粗製の(S)−3−オキソ−5−
ヒドロキシヘプタン酸メチル5.78gを得た。
【0047】本化合物は 1H NMRチャート解析に
より同定した。 1H NMR(CDCl3)のデータ
を下記に示す。  1H NMR:δ1.0(t, 3H), 1.3−
1.8(m, 2H), 2.6−2.8(m, 2H
),3.0(brs, 1H), 3.5(s, 2H
), 3.7(s, 3H), 3.8−4.2(m,
1H)。 工程6 アセトニトリル35ml、酢酸47mlの混合溶液に、
氷冷下、水素化ホウ素テトラメチルアンモニウム6.1
2g(68.8mmol)を少量ずつ加え、室温で30
分間攪拌した。続いて氷冷下、粗製の(S)−3−オキ
ソ−5−ヒドロキシヘプタン酸メチル7.03g(40
.4mmol) を滴下し、同温度で6時間攪拌した。 反応混合物を重曹85gを含む水(140ml)に滴下
し酢酸エチル(140ml×4)で抽出した。抽出液を
飽和重曹水、水、飽和食塩水(各70ml)で順次洗浄
後、無水硫酸マグネシウム上で乾燥した。濾過、溶媒留
去し、粗製の(3R,5S)−3,5−ジヒドロキシヘ
プタン酸メチル5.30gを得た。
【0048】本化合物は 1H NMRチャート解析に
より同定した。 1H NMR(CDCl3)のデータ
を下記に示す。  1H NMR:δ0.9(t, 3H), 1.3−
1.9(m, 4H), 2.3−2.7(m, 2H
),3.4−4.0(m, 1H), 3.7(s, 
3H), 4.1−4.6(m, 1H)。 工程7 粗製の(3R,5S)−3,5−ジヒドロキシヘプタン
酸メチル5.30g(30.1mmol)を塩化メチレ
ン37.0mlに溶解し、氷冷下2,2−ジメトキシプ
ロパン37.0ml(303mmol)、PPTS 0
.78g(3.1mmol) を加えて室温で4時間攪
拌した。反応混合物を食塩水(100ml)に注ぎ、塩
化メチレン(75ml×4)で抽出した。抽出液を水、
飽和食塩水(各50ml)で順次洗浄後、無水硫酸マグ
ネシウム上で乾燥した。濾過し、溶媒留去して得た残渣
を再び塩化メチレン12.0mlに溶解し、氷冷下2,
2−ジメトキシプロパン12.0ml(98.4mmo
l)、PPTS 0.26g(1.0mmol) を加
えて室温で5時間攪拌した。反応混合物を飽和重曹水(
50ml) に注ぎ、塩化メチレン(75ml×4)で
抽出した。抽出液を水、飽和食塩水(各50ml)で順
次洗浄後、無水硫酸マグネシウム上で乾燥した。濾過、
溶媒留去し、粗製の(3R,5S)−3,5−O−イソ
プロピリデンヘプタン酸メチル5.81gを得た。蒸留
により精製し、(3R,5S)−3,5−O−イソプロ
ピリデンヘプタン酸メチル4.33g(20.0mmo
l)を得た。工程4で得られた(S)−3−オキソ−5
−テトラヒドロピラニルオキシヘプタン酸メチルからの
通算収率は46%であった。
【0049】キャピラリーガスクロマトグラフィーによ
る分析の結果、このものは(3R,5S)−体と(3S
,5S)−体との約9:1混合物であった。本化合物は
 1H NMRチャート解析により同定した。 1HN
MR(CDCl3)のデータを下記に示す。  1H NMR:δ0.9(t, 3H), 1.2−
2.0(m, 4H), 1.3(s, 3H), 1
.4(s, 3H),2.5(dd, 1H), 2.
5(dd, 1H), 3.7(s, 3H), 3.
7(quint, 1H), 4.2(quint, 
1H)。
【0050】また、物性値は以下の通りであった。 沸点:79℃/2mmHg 比旋光度:+37.0°(cl.064, CHCl3
) 。 実施例2 (3R,5S)−3,5−ジヒドロキシヘプタン酸メチ
ル及び(3R,5S)−3,5−O−イソプロピリデン
ヘプタン酸メチルの製造 工程1 実施例1の工程1で得られる(S)−3−ヒドロキシペ
ンタン酸メチル770mg(5.83mmol)、t−
ブチルジメチルシリルクロライド1.34g(8.89
mmol) 、イミダゾール600mg(8.81mm
ol)、ジメチルホルムアミド8mlの混合物を室温で
17時間攪拌した。反応混合物を飽和重曹水(80ml
) に注ぎ、酢酸エチル(80ml×4)で抽出した。 抽出液を水、飽和食塩水(各100ml)で順次洗浄後
、無水硫酸マグネシウム上で乾燥した。濾過、溶媒留去
し、粗製の(S)−3−t−ブチルジメチルシリルオキ
シペンタン酸メチル1.71gを得た。シリカゲルカラ
ムクロマトグラフィー(ヘプタン:酢酸エチル20:1
)で精製し、(S)−3−t−ブチルジメチルシリルオ
キシペンタン酸メチル1.39g(5.64mmol)
 を得た。収率97%。
【0051】本化合物は 1H NMRチャート解析に
より同定した。 1H NMR(CDCl3)のデータ
を下記に示す。  1H NMR:δ0.1(s, 6H), 0.8−
1.1(m, 3H), 0.9(s, 9H), 1
.4−1.7(m, 2H),2.4(d, 2H),
 3.7(s, 3H), 4.1(quint, 1
H)。 工程2 (S)−3−t−ブチルジメチルシリルオキシペンタン
酸メチル1.39g(5.64mmol) をメタノー
ル2.9ml に溶解し、氷冷下10%水酸化カリウム
水溶液5.7ml(11.4mmol) を滴下した。 氷冷下4時間、更に室温で30分間攪拌した。反応混合
物を6N塩酸(1.9ml)で中和した後エーテル(1
00ml×4)で抽出した。抽出液を無水硫酸マグネシ
ウム上で乾燥、濾過、溶媒留去し、粗製の(S)−3−
t−ブチルジメチルシリルオキシペンタン酸1.30g
を得た。
【0052】本化合物は 1H NMRチャート解析に
より同定した。 1H NMR(CDCl3)のデータ
を下記に示す。  1H NMR:δ0.1(sx2, 6H), 0.
8−1.2(m, 3H), 0.9(s, 9H),
1.4−1.9(m, 2H), 2.5(d, 2H
), 4.1(quint, 1H), 9.6(br
s, 1H)。 工程3 粗製の(S)−3−t−ブチルジメチルシリルオキシペ
ンタン酸800mg(3.47mmol) をテトラヒ
ドロフラン9ミリリットルに溶解し、氷冷下、N,N’
−カルボニルジイミダゾール860mg(5.30mm
ol) を加えて、室温で20時間攪拌し、イミダゾラ
イドを得た。
【0053】マロン酸モノメチルエステル1.06g(
8.98mmol) をテトラヒドロフラン13.8m
lに溶解し、氷冷下、臭化イソプロピルマグネシウム1
.5 Mテトラヒドロフラン溶液13.2ml(19.
8mmol)を滴下して同温度で30分、室温で30分
、更に45℃で30分間攪拌した。再び氷冷し、前記イ
ミダゾライドを滴下した後、室温で24時間攪拌した。 反応混合物を1N塩酸(50ml) に注ぎ、酢酸エチ
ル(50ml×4)で抽出した。抽出液を水、飽和重曹
水、水、飽和食塩水(各50ml) で順次洗浄後、無
水硫酸マグネシウム上で乾燥した。濾過、溶媒留去し、
粗製の(S)−3−オキソ−5−t−ブチルジメチルシ
リルオキシヘプタン酸メチル780mg を得た。シリ
カゲルカラムクロマトグラフィー(ヘプタン:酢酸エチ
ル  20:1)で精製し、(S)−3−オキソ−5−
t−ブチルジメチルシリルオキシヘプタン酸メチル58
0mg(2.01mmol) を得た。工程1で得られ
た(S)−3−t−ブチルジメチルシリルオキシペンタ
ン酸メチルからの通算収率は58%であった。
【0054】本化合物は 1H NMRチャート解析に
より同定した。 1H NMR(CDCl3)のデータ
を下記に示す。  1H NMR:δ0.0(sx2, 6H), 0.
6−1.1(m, 3H), 0.8(s, 9H),
1.1−1.8(m, 2H), 2.6(ddx2,
 2H), 3.4(s, 2H), 3.7(s, 
3H), 4.1(quint, 1H)。
【0055】工程4 (S)−3−オキソ−5−t−ブチルジメチルシリルオ
キシヘプタン酸メチル350mg(1.21mmol)
 を46%フッ化水素酸−アセトニトリル(5:95)
混合溶液3.1mlに溶解し、氷冷下1時間攪拌した。 反応混合物を氷水(30ml) に注ぎ、酢酸エチル(
30ml×4)で抽出した。抽出液を飽和重曹水、水、
飽和食塩水(各30ml)で順次洗浄後、無水硫酸マグ
ネシウム上で乾燥した。濾過、溶媒留去し、粗製の(S
)−3−オキソ−5−ヒドロキシヘプタン酸メチル30
0mg を得た。次いで、シリカゲルカラムクロマトグ
ラフィー(ヘプタン:酢酸エチル 5:1→3:1)で
精製し、(S)−3−オキソ−5−ヒドロキシヘプタン
酸メチル140mg(0.80mmol)を得た。収率
66%。
【0056】本化合物の 1H NMRチャートは、実
施例1の工程5で得られたものに一致した。 工程5 アセトニトリル1ml、酢酸1mlの混合溶液に(S)
−3−オキソ−5−ヒドロキシヘプタン酸メチル130
mg(0.75mmol) を溶解し、氷冷下テトラメ
チルアンモニウムトリアセトキシボロヒドリド1.04
g(3.95mmol)を加えて同温度で4時間攪拌し
た。反応混合物を飽和重曹水(50ml) に注ぎ、酢
酸エチル(50ml×4)で抽出した。抽出液を飽和重
曹水、水、飽和食塩水(各25ml) で順次洗浄後、
無水硫酸マグネシウム上で乾燥した。濾過、溶媒留去し
、粗製の(3R,5S)−3,5−ジヒドロキシヘプタ
ン酸メチル120mg を得た。
【0057】本化合物の 1H NMRチャートは、実
施例1の工程6で得られたものに一致した。 工程6 粗製の(3R,5S)−3,5−ジヒドロキシヘプタン
酸メチル120mg(0.68mmol) を塩化メチ
レン2mlに溶解し、氷冷下2,2−ジメトキシプロパ
ン2ml(16.4mmol)、PPTS 40mg(
0.16mmol) を加えて室温で4時間攪拌した。 反応混合物を飽和重曹水(50ml) に注ぎ、酢酸エ
チル(50ml×4)で抽出した。抽出液を水、飽和食
塩水(各50ml) で順次洗浄後、無水硫酸マグネシ
ウム上で乾燥した。濾過、溶媒留去し、粗製の(3R,
5S)−3,5−O−イソプロピリデンヘプタン酸メチ
ル130mg を得た。シリカゲルカラムクロマトグラ
フィー(ヘプタン:酢酸エチル20:1)で精製し、(
3R,5S)−3,5−O−イソプロピリデンヘプタン
酸メチル80mg(0.37mmol)を得た。工程4
で得られた(S)−3−オキソ−5−ヒドロキシヘプタ
ン酸メチルからの通算収率は50%であった。
【0058】キャピラリーガスクロマトグラフィーによ
る分析の結果、このものは(3R,5S)−体と(3S
,5S)−体との約9:1混合物であった。本化合物の
 1H NMRチャートは、実施例1の工程7で得られ
たものに一致した。 実施例3 (3S,5R)−3,5−ジヒドロキシヘプタン酸メチ
ル及び(3S,5R)−3,5−O−イソプロピリデン
ヘプタン酸メチルの製造 工程1 実施例1の工程1で得られる(R)−(+)−3−ヘキ
サノイルオキシペンタン酸メチル5.7g、1,2−ジ
クロロエタン48ml、エタノール48ml、硫酸0.
9ml の混合物を40時間還流した後、水、酢酸エチ
ルを加え攪拌した。分離した有機層を飽和重曹水、水で
順次洗浄し、無水硫酸マグネシウム上で乾燥した。濾過
、溶媒留去し、粗製の(R)−(−)−3−ヒドロキシ
ペンタン酸メチル2.8gを得た。蒸留により精製し、
(R)−(−)−3−ヒドロキシペンタン酸メチル1.
8gを得た。Eu(hfc)3をシフト試薬として用い
、NMRにより光学純度を検定したところ約95%ee
であった。本化合物の 1H NMRチャートは良くそ
の構造を支持していた。
【0059】また、物性値は以下の通りであった。 沸点:62.5〜63.5℃/6mmHg比旋光度:−
35.5°(cl.55, CHCl3)。 工程2 (R)−3−ヒドロキシペンタン酸メチル10.12g
(76.6mmol)、3,4−ジヒドロ−2H−ピラ
ン9.76g(116mmol)、塩化メチレン100
ml の混合物に、氷冷下、PPTS2.05g(8.
16mmol)(少量の塩化メチレンに溶解)を加え、
室温で6時間攪拌した。反応混合物を食塩水(100m
l)に注ぎ、酢酸エチル(100ml×4)で抽出した
。抽出液を水、飽和食塩水(各50ml)で順次洗浄後
、無水硫酸マグネシウム上で乾燥した。濾過、溶媒留去
し、粗製の(R)−3−テトラヒドロピラニルオキシペ
ンタン酸メチル16.75gを得た。
【0060】本化合物は 1H NMRチャート解析に
より同定した。 1H NMR(CDCl3)のデータ
を下記に示す。  1H NMR:δ0.9(dt, 3H), 1.3
−2.1(m, 8H), 2.3−2.9(m, 2
H),3.3−4.2(m, 2H), 3.7(s,
 3H), 4.0(quint, 1H), 4.6
−5.0(m, 1H)。 工程3 粗製の(R)−3−テトラヒドロピラニルオキシペンタ
ン酸メチル10.07g(46.6mmol)をメタノ
ール23.3mlに溶解し、氷冷下、10%水酸化カリ
ウム水溶液46.6ml(93.2mmol)を滴下し
た。氷冷下4時間、更に室温で30分間攪拌した。反応
混合物を6N塩酸(14.9ml)で中和した後、塩化
メチレン(150ml×4)で抽出した。抽出液を無水
硫酸マグネシウム上で乾燥、濾過、溶媒留去し、粗製の
(R)−3−テトラヒドロピラニルオキシペンタン酸9
.25gを得た。
【0061】本化合物は 1H NMRチャート解析に
より同定した。 1H NMR(CDCl3)のデータ
を下記に示す。  1H NMR:δ0.9(dt, 3H), 1.3
−2.1(m, 8H), 2.3−2.9(m, 2
H),3.3−3.7(m, 1H), 3.7−4.
2(m, 1H), 4.0(quint, 1H),
 4.6−5.1(m, 1H),9.8(brs, 
1H)。
【0062】工程4 粗製の(R)−3−テトラヒドロピラニルオキシペンタ
ン酸12.84g(63.5mmol)をテトラヒドロ
フラン128ml に溶解し、氷冷下N,N’−カルボ
ニルジイミダゾール15.54g(95.8mmol)
を加えて室温で20時間攪拌し、イミダゾライドを得た
。マロン酸モノメチルエステル15.07g(128m
mol) をテトラヒドロフラン300ml に溶解し
、氷冷下塩化マグネシウム6.91g(72.6mmo
l) を加えた。続いてトリエチルアミン20ml(1
43mmol) を内温が10℃以下に保つように滴下
し、同温度で1時間攪拌した。前記イミダゾライドを滴
下した後、室温で48時間攪拌した。反応混合物を塩化
アンモニウム54gを含む水(300ml)に注ぎ、酢
酸エチル(150ml×4)で抽出した。抽出液を1N
塩酸、飽和重曹水、水、飽和食塩水(各75ml) で
順次洗浄後、無水硫酸マグネシウム上で乾燥した。濾過
、溶媒留去し、粗製の(R)−3−オキソ−5−テトラ
ヒドロピラニルオキシヘプタン酸メチル21.92gを
得た。シリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘプタン
:酢酸エチル10:1→5:1)で精製し、(R)−3
−オキソ−5−テトラヒドロピラニルオキシヘプタン酸
メチル11.53g(44.6mmol)を得た。工程
1で得られた(R)−3−ヒドロキシペンタン酸メチル
からの通算収率は70%であった。
【0063】本化合物は 1H NMRチャート解析に
より同定した。 1H NMR(CDCl3)のデータ
を下記に示す。  1H NMR:δ0.9(dt, 3H), 1.3
−2.0(m, 8H), 2.3−3.0(m, 2
H),3.2−4.2(m, 5H), 3.7(s,
 3H), 4.5−4.8(m, 1H)。 工程5 (R)−3−オキソ−5−テトラヒドロピラニルオキシ
ヘプタン酸メチル9.52g(36.9mmol) 、
メタノール95ml、水47.5mlの混合物に、氷冷
下、p−トルエンスルホン酸1水和物9.13g(48
.0mmol)(少量の水に溶解) を滴下し、同温度
で5時間攪拌した。反応混合物を重曹40gを含む水(
200ml)に注ぎ、酢酸エチル(100ml×4)で
抽出した。抽出液を飽和重曹水、水、飽和食塩水(各5
0ml) で順次洗浄し無水硫酸マグネシウム上で乾燥
した。濾過、溶媒留去し、粗製の(R)−3−オキソ−
5−ヒドロキシヘプタン酸メチル6.20gを得た。
【0064】本化合物は 1H NMRチャート解析に
より同定した。 1H NMR(CDCl3)のデータ
を下記に示す。  1H NMR:δ1.0(t, 3H), 1.3−
1.8(m, 2H), 2.6−2.8(m, 2H
),3.0(brs, 1H), 3.5(s, 2H
), 3.7(s, 3H), 3.8−4.2(m,
 1H)。 工程6 アセトニトリル31ml、酢酸41.4mlの混合溶液
に、氷冷下水素化ホウ素テトラメチルアンモニウム5.
39g(60.6mmol) を少量ずつ加え、室温で
30分間攪拌した。続いて氷冷下、粗製の(R)−3−
オキソ−5−ヒドロキシヘプタン酸メチル6.20g(
35.6mmol) を滴下し、同温度で7時間攪拌し
た。反応混合物を重曹61gを含む水(100ml)に
滴下し酢酸エチル(100ml×4)で抽出した。抽出
液を飽和重曹水、水、飽和食塩水(各50ml) で順
次洗浄後、無水硫酸マグネシウム上で乾燥した。濾過、
溶媒留去し、粗製の(3S,5R)−3,5−ジヒドロ
キシヘプタン酸メチル4.40gを得た。
【0065】本化合物は 1H NMRチャート解析に
より同定した。 1H NMR(CDCl3)のデータ
を下記に示す。  1H NMR:δ0.9(t, 3H), 1.3−
1.9(m, 4H), 2.3−2.7(m, 2H
),3.4−4.0(m,1H), 3.7(s, 3
H), 4.1−4.6(m, 1H) 。 工程7 粗製の(3S,5R)−3,5−ジヒドロキシヘプタン
酸メチル4.40g(25.0mmol)を塩化メチレ
ン30.5mlに溶解し、氷冷下2,2−ジメトキシプ
ロパン30.5ml(250mmol) 、PPTS 
1.31g(5.2mmol) を加えて室温で4時間
攪拌した。反応混合物を食塩水(100ml)に注ぎ、
酢酸エチル(75ml×4)で抽出した。抽出液を水、
飽和食塩水(各50ml) で順次洗浄後、無水硫酸マ
グネシウム上で乾燥した。濾過、溶媒留去して得た残渣
を再び塩化メチレン10mlに溶解し、氷冷下、2,2
−ジメトキシプロパン10ml(82.0mmol)、
PPTS 0.44g(1.8mmol) を加えて、
室温で5時間攪拌した。反応混合物を飽和重曹水(50
ml) に注ぎ、塩化メチレン(75ml×4)で抽出
した。抽出液を水、飽和食塩水(各50ml) で順次
洗浄後、無水硫酸マグネシウム上で乾燥した。濾過、溶
媒留去し、粗製の(3S,5R)−3,5−O−イソプ
ロピリデンヘプタン酸メチル5.69gを得た。蒸留に
より精製し、(3S,5R)−3,5−O−イソプロピ
リデンヘプタン酸メチル3.48g(16.1mmol
) を得た。工程4で得られた(R)−3−オキソ−5
−テトラヒドロピラニルオキシヘプタン酸メチルからの
通算収率は44%であった。
【0066】キャピラリーガスクロマトグラフィーによ
る分析の結果、このものは(3S,5R)−体と(3R
,5R)−体との約9:1混合物であった。本化合物は
 1H NMRチャート解析により同定した。1H N
MR(CDCl3)のデータを下記に示す。  1H NMR:δ0.9(t, 3H), 1.2−
2.0(m, 4H), 1.3(s, 3H), 1
.4(s, 3H),2.5(dd, 1H), 2.
5(dd, 1H), 3.7(s, 3H), 3.
7(quint, 1H), 4.2(quint, 
1H)また、物性値は以下の通りであった。
【0067】沸点:82℃/2mmHg比旋光度:−3
3.3°(cl.106, CHCl3) 。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】  一般式 【化1】 (式中、R1 およびR2 はアルキル基、アルケニル
    基、アルキニル基、アリール基、またはアラルキル基を
    示す。*は不斉炭素を示す。)で表される光学活性3−
    ヒドロキシカルボン酸エステルから、マグネシウムマロ
    ネートを反応させる増炭反応により、光学活性5−ヒド
    ロキシ−3−ケトカルボン酸エステルを得て、この化合
    物から、一般式 【化2】 (式中、R1 およびR4 はアルキル基、アルケニル
    基、アルキニル基、アリール基、またはアラルキル基、
    R3 は水素または一体となってイソプロピリデン基を
    示す。 *は不斉炭素を示す。)で表される化合物を得ることを
    特徴とする光学活性3,5−アンチ−ジヒドロキシカル
    ボン酸エステル誘導体の製造法。
JP3020379A 1991-01-22 1991-01-22 光学活性3,5−アンチ−ジヒドロキシカルボン酸エステル誘導体の製造法 Pending JPH04316538A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009173635A (ja) * 2000-02-04 2009-08-06 F Hoffmann La Roche Ag 3,6−ジアルキル−5,6−ジヒドロ−4−ヒドロキシ−2h−ピラン−2−オンの合成

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JP2009173635A (ja) * 2000-02-04 2009-08-06 F Hoffmann La Roche Ag 3,6−ジアルキル−5,6−ジヒドロ−4−ヒドロキシ−2h−ピラン−2−オンの合成

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